「processing step」に関連した英語例文の一覧と使い方(96ページ目) - Weblio英語例文検索

A data normalizing means which is a first processing step, inputs gene expression strength data from an input device, normalizes the gene expression strength data by using order statistics of respective grids, under the assumption that almost genes are not expressed, and outputs normalized gene expression strength data.例文帳に追加

第一処理過程であるデータ規準化手段は、入力装置から遺伝子発現強度データを入力し、大半の遺伝子は発現していないことを前提としてグリッド毎の順序統計量を用いて遺伝子発現強度データを規準化し、規準化した遺伝子発現強度データを出力する。 - 特許庁

To improve the yield of an FPD substrate to be restored, without requiring strict management regarding thickness and density, or the like, of a CVD film in a laser CVD treatment step for reducing the manufacturing cost, in a method for manufacturing the FPD substrate including wiring restoration processing by a laser CVD method of gas window system.例文帳に追加

ガスウィンドウ方式のレーザＣＶＤ法による配線修復処理を含むＦＰＤ基板の製造方法において、レーザＣＶＤ処理工程におけるＣＶＤ被膜の厚さや密度等に関する厳密な管理を要することなく、修復されるＦＰＤ基板の歩留まりを向上させ、それにより製造コストを低減すること。 - 特許庁

This discrimination is conducted by looking at switch data included in user setting data, and when the received image and the communication result report are outputted separately, the communication result report is not outputted in this stage, the processing returns to the step S1, and whether the received image data are in existence is again discriminated.例文帳に追加

この判別は、ユーザ設定データに含まれているスイッチデータを見ることにより行なわれ、受信画像と通信結果レポートとを分けて出力する場合には、この段階で通信結果レポートの出力は行なわれず、ステップＳ１に戻り、再び受信画像データがあるか否かの判別が行なわれる。 - 特許庁

To obtain a method for correcting mask patterns by which the CAD processing time for performing light proximity effect correction of inputted design patterns is reduced, the increase in number of basic figures, when the corrected data is converted into EB data is suppressed and the generation of false defects during the step for inspecting photo masks is suppressed.例文帳に追加

入力された設計パターンに対して光近接効果補正を行う場合のＣＡＤ処理時間を短縮し、補正後のデータをＥＢデータに変換した場合の基本図形数の増加を抑制し、またフォトマスク検査工程における疑似欠陥の発生を抑制するマスクパターン補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum laminating device and a vacuum laminating method that enable one operator to perform an operation for covering a module material with a lid member of silicone rubber and an operation for evacuation, and prevent the lid member from being turned up when the module material moves in each step for laminating processing.例文帳に追加

シリコンラバーの蓋部材でモジュール材料を覆う作業や真空引きを行う作業を１人の作業者で行うことができ、しかもラミネート処理を行う各工程をモジュール材料が移動する際における蓋部材の捲れ上がりを防止できる真空ラミネート装置及び真空ラミネート方法を提供する。 - 特許庁

The load sensor 15e makes contact with a suction nozzle 11 caused by downward movement of the operating rod 15a via the servo motor, and functions to directly detect a load applied to the operating rod 15a when the suction nozzle 11 is pressed down i.e. a load applied to the electronic element 3 positioned to a step processing section 2a.例文帳に追加

この荷重センサ１５ｅは、サーボモータを通じた操作ロッド１５ａの下方移動により吸着ノズル１１と接触することで当該ノズル１１を押し下げる際に操作ロッド１５ａに加わる荷重、すなわち工程処理部２ａに位置決めされる電子部品３に加わる荷重を直接検出する。 - 特許庁

The mobile network connection device has a step of transmitting data or a command to a storage unit or a baseband processing unit on the basis of a logical address in a secure digital (SD) command, and the SD command is a result of conversion of SCSI CDB after a terminal device capsulates the received data or command in the SCSI CDB.例文帳に追加

セキュア・デジタル（ＳＤ）コマンド内の論理アドレスに基づいて、保存ユニット又はベースバンド処理ユニットにデータ又は命令を送信するステップを有し、前記ＳＤコマンドは、端末装置がＳＣＳＩ ＣＤＢに前記受信データ又は命令をカプセル化した後、前記ＳＣＳＩ ＣＤＢを変換した結果である。 - 特許庁

To provide a fiber sizing agent that has excellent scouring properties in a post-processing step after weaving and, in the case of water jet loom weaving, suppresses occurrence of removal of sizing agent, a sized yarn obtained by sizing with the fiber sizing agent and a method for producing a woven fabric performed by using the fiber sizing agent.例文帳に追加

製織後の後加工工程において精練性に優れ、ウォータージェットルーム製織の場合には、落糊の発生が抑制することができる繊維用糊剤と、この繊維用糊剤をサイジングして得られる糊付糸と、この繊維用糊剤を用いて行われる織物の製造方法とを提供することである。 - 特許庁

A voice recognition dictionary creation part of the processing device converts attribute data of the kind having the conversion elapsed time Th below the dictionary updating allowable time KTk into voice recognition information, and creates a voice recognition dictionary by correlating the voice recognition information with the attribute data (step S19, S20, S21).例文帳に追加

そして、処理装置の音声認識辞書作成部は、辞書更新許容時間ＫＴｋ以下となる変換経過時間Ｔｈを有する種類の属性データを音声認識情報に変換し、該音声認識情報と属性データとを関連付けて音声認識辞書を作成する（ステップＳ１９，Ｓ２０，Ｓ２１）。 - 特許庁

The correction function creation step creates the optical condition correction function that corrects a lighting parameter other than an exposure amount to be used in exposure processing onto the first substrate based on exposure coordinates within the first substrate surface on the basis of a substrate in-surface size distribution of a pattern formed on a second substrate.例文帳に追加

補正関数作成ステップでは、第１の基板上への露光処理に用いる露光量以外の照明パラメータを前記第１の基板面内の露光座標に基づいて補正する光学条件補正関数を、第２の基板上に形成したパターンの基板面内寸法分布に基づいて作成する。 - 特許庁

When correcting the auxiliary scanning direction curve of laser scanning lines by image processing, image shift positions for curve correction for each scanning line are randomly moved over one pixel in main scanning for each correction point within a two-dimensional plane, and image data are selected and equalized in an auxiliary scanning direction to make the curve correction step hardly visible.例文帳に追加

画像処理によって、レーザ走査線の副走査方向湾曲を補正する場合に、走査線毎の湾曲補正用画像ずらし位置を、2次元面内の補正点毎に、主走査に１画素を超えてランダム移動させ、副走査方向に画像データを選択・平均化処理することによって、湾曲補正段差を見えにくくなる。 - 特許庁

To provide an adhesive film which can achieve a low dielectric constant and a low dielectric loss in the high-frequency region, has good workability such as tackiness at normal temperature and flexibility of a film in the step of processing the film, and is used in electric and electronic applications and an epoxy resin composition which is used in preparing the adhesive film.例文帳に追加

高周波領域での低誘電率化および低誘電損失化を達成することができ、かつ、常温でのタック性、フィルムの可撓性などフィルムの加工工程における作業性が良好な電気・電子用途の接着フィルム、および、該接着フィルムの作成に用いるエポキシ樹脂組成物の提供。 - 特許庁

When re-recognition is performed by speech re-recognition processing of step S400, beam search is performed while sequentially updating a beam width N so that a word string candidate matching the word string of a correct answer which is already input by a touch panel 210 does not become the trimming object of a search region by the set beam width N.例文帳に追加

ステップＳ４００の音声再認識処理により再認識を行う際、タッチパネル２１０で入力済みの正解の単語列と一致する単語列候補が設定されたビーム幅Ｎによる探索範囲の枝刈り対象とならないために、ビーム幅Ｎを順次更新しつつビーム探索を実行する。 - 特許庁

As shown in a step b1, the number of steps for describing processing is greatly reduced more than the number of the conventional steps so as to execute a snmpwalk command by making all OIDs under an OID of a MIB subtree of a search object as a collecting object so as to collectively collect both OIDs and values.例文帳に追加

ステップｂ１に示すように、検索対象のＭＩＢサブツリーのＯＩＤの配下のＯＩＤすべてを収集対象として、ｓｎｍｐｗａｌｋコマンドを実行してＯＩＤと値の両方を一括して収集してしまうために、その処理を記述するステップ数を、従来のステップ数より大幅に減らすことができる。 - 特許庁

To provide a photosensitive dry film which can be developed with a water-based developer, ensures good surface smoothness, flame retardancy, adhesion and surface hardness of a cured film after an alkali processing step, and avoids bleed-out of a flame retardant from the cured film; and to provide a printed wiring board using the photosensitive dry film.例文帳に追加

本願発明の課題は、水系現像が可能で、アルカリ処理工程後の硬化膜表面平滑性、難燃性、密着性、表面硬度が良好で、かつ、硬化膜からの難燃剤のブリードアウトが発生しない優れた感光性ドライフィルム、及びこれを用いたプリント配線板を提供することにある。 - 特許庁

The method for producing the flexible sheet includes a drawing step for carrying out the drawing processing of a base material sheet 10 in the traveling direction between a pair of grooved rolls 2 and 3 by feeding the base material sheet 10 from a pair of a first driven rolls 42 and 43 to the meshing part of the mutually meshing pair of the grooved rolls 2 and 3.例文帳に追加

本発明の柔軟性シートの製造方法は、基材シート１０を一対の第1駆動ロール４２，４３から互いに噛み合う一対の歯溝ロール２，３の噛み合い部分に供給して、一対の歯溝ロール２，３間で基材シート１０をその流れ方向に延伸加工する延伸工程を備えている。 - 特許庁

To provide a polylactic acid-based block copolymer that has more improved heat resistance, impact resistance and flexibility while having characteristics that conventional polylactic acid-based polymers have, such as biodegradability, safety, and crystallinity, and that has reduced remaining lactide and also a reduced amount of lactide, a by-product, in the mold processing step.例文帳に追加

生分解性、安全性、結晶性など従来のポリ乳酸系ポリマーが有する特性を有しつつも、耐熱性、耐衝撃性、柔軟性がより改善されており、残留ラクチドが少なく、かつ成形加工工程においてもラクチドの副生量が少ないポリ乳酸系ブロック共重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a surface protection polypropylene based resin film roll which excels in heat-resistant dimensional stability and flatness, excels in impact resistance and lamination processability, reduces fish eyes, has good transparency, furthermore does not vary the external appearance, and is suited in each step of pressure-sensitive adhesive application, adhesion processing, and peeling and a surface protection film roll.例文帳に追加

耐熱寸法安定性や平面性に優れ、耐衝撃性や貼り合わせ加工性に優れ、フィッシュアイが少なく、透明性がよく、さらに外観変動がなく、粘着剤塗布・粘着加工・剥離の各工程に適した表面保護用ポリプロピレン系樹脂フィルムロールおよび保護フィルムロールを提供することにある。 - 特許庁

The steps S11-S13 are carried plural times to obtain plural numbers of height data in the same position of the wafer respectively, and a height of the wafer is found by statistical processing in a step S16, so as to measure thereby the flatness reduced in the influences affected by the dust, the fluctuation of air and the like.例文帳に追加

このようなステップＳ１１〜Ｓ１３を複数回行い、スーパーフラットウエハの同一位置の高さデータをそれぞれ複数個取得し、ステップＳ１６の統計処理で、該スーパーフラットウエハの高さを求めることで、ごみや空気のゆらぎ等の影響を軽減したウエハホルダの平坦度を計測することができる。 - 特許庁

The second step of, the method comprises performing frequency sweeping from the high frequency sweeping oscillation circuit 13 in the outside magnetic field of the field of interest, measuring a peak frequency f_h of the reverse directional loss S_12 by the electric power measuring circuit 12A, outputting to the calculation processing circuit 10, and measuring the peak frequency f_h.例文帳に追加

次に、測定対象の外部磁場中において高周波掃引発振回路１３からの周波数掃引を行ない、電力測定回路１２Ａにより逆方向損失Ｓ_１２のピーク周波数ｆ_ｈを測定し、演算処理回路１０に出力して、そのピーク周波数ｆ_ｈを測定する。 - 特許庁

In the resume function, if business in the course of execution and service are recorded in a profile table 18, the state to be resume is determined, and the telegram processing part 17 transmits in a batch transmit telegraphs in the midway of the step for the business and service recorded in the profile table 18 to an information server 7.例文帳に追加

リジューム機能では、プロファイルテーブル１８中に、実行途中の業務、サービスが記録されている場合、リジュームするべき状態であると判断し、電文処理部１７はプロファイルテーブル１８に記録されている該当する業務、サービスの途中ステップの送信電文を、一括して情報サーバ７へ送信する。 - 特許庁

A flowchart denoting outlines of operations of password revision processing includes: a step 54 of accessing inter-network connection apparatuses via the network according to a collection schedule of preset configuration information or a password revision schedule; and steps 54, 55 of automatically revising a password used for accessing each inter-network connection apparatus to enhance the security.例文帳に追加

予め設定されたコンフィギュレーション情報の収集スケジュール若しくはパスワードの変更スケジュールに従って、ネットワークを介してネットワーク間接続装置にアクセスし（ステップ５４）、各ネットワーク間接続装置にアクセスするためのパスワードを自動的に変更する（ステップ５４・ステップ５５）ことで、セキュリティーの向上を図る。 - 特許庁

To provide a high-quality para type wholly aromatic copolyamide ultrafine fiber suppressing scum formed on a guide, etc., in a post-processing step such as yarn twisting or weaving and having excellent adhesiveness as a reinforcing material for a composite using rubber, an epoxy resin, a phenol resin, etc., as a matrix and slight quality unevenness such as fineness unevenness (U%).例文帳に追加

撚糸、製織などの後加工工程でのガイド等で発生するスカムを抑制し、また、ゴム、エポキシ樹脂、フェノール樹脂などをマトリックスとする複合体の補強材として優れた接着性を有し、かつ繊度斑（Ｕ％）などの品質斑が少ない高品質のパラ型全芳香族コポリアミド極細繊維を提供すること。 - 特許庁

An S-D plot correcting means, which is a third processing step, executes S-D conversions, estimates distortions due to the differences in the sensitivities of the fluorescent dyes by using a nonparametric smoothing method and outputs to an output device the gene expression strength data, whose distortions due to the differences in the sensitivities of the fluorescent dyes are corrected.例文帳に追加

第三処理過程であるＳ−Ｄプロットによる補正手段は、Ｓ−Ｄ変換を行い、蛍光色素の感度の違いによる歪みをノンパラメトリック平滑化法によって推定し、蛍光色素の感度の違いによる歪みを補正した遺伝子発現強度データを出力装置に出力する。 - 特許庁

In the correction processing (step S2), a sensor reach time from a time point when a write time passes after the lapse of a return side standby time Tw2 since a first detection signal is outputted while light beams are scanned back and forth to a time point when the sensor detects the return light beam and outputs a second detection signal is obtained.例文帳に追加

この補正処理（ステップＳ２）では、光ビームを往復走査させながら第１検知信号が出力されてから復路側待機時間Ｔw2が経過し、さらに書込時間が経過した時点から復路光ビームをセンサが検知して第２検知信号が出力されるまでのセンサ到達時間が求められる。 - 特許庁

A processing control part retrieves a prescribed number of routes from the present position of own vehicle to a destination to store a proposal route data for specifying the respective retrieved routes, and then generates indicator images for indicating the conditions of the congestion in respective proposal routes, according to the proposal route data and the like (step S31, S32).例文帳に追加

処理制御部は、自車の現在位置から目的地までの経路を所定数探索し、探索した各経路を規定する候補経路データを記憶部に記憶すると、候補経路データ等に従って、各候補経路における渋滞状況を表すインジケータ画像をそれぞれ生成する（ステップＳ３１，Ｓ３２）。 - 特許庁

When a prescribed pattern is not reproduced by the reproduction (N in step S5), since write software discriminates that the optical disk is a copied optical disk wherein dummy data are recorded in place of the prescribed pattern, a series of processes are terminated and processing on the basis of the program recorded on the optical disk is not conducted.例文帳に追加

この再生により所定のパターンが再生されなかったときは（ステップＳ５のＮ）、書込みソフトにより所定のパターンに代えてダミーのデータが記録されたコピーの光ディスクであることが判明するから、一連の処理を終了し、光ディスクに記録されているプログラムに基づく処理を行なわない。 - 特許庁

In the operating step of a plasma treatment device 1, a processing voltage constituted of continuous or intermittent waves is applied between a pair of electrodes 11, 12 by a voltage application circuit 30 to form discharging, treatment gases are introduced between the electrodes and brought into contact with an object W to be treated and plasma treatment of the object W to be treated is performed.例文帳に追加

プラズマ処理装置１の運転工程では、電圧印加回路３０によって連続波又は間欠波からなる処理電圧を一対の電極１１，１２間に印加して放電を形成するとともに、処理ガスを電極間に導入して被処理物Ｗに接触させ、被処理物Ｗのプラズマ処理を行なう。 - 特許庁

When necessary processing is performed on the glass substrate and rough polishing and then finish polishing are performed on the surface of the glass substrate, a finish polishing process comprises an ultra-precision polishing step of polishing the surface of the glass substrate by using a polishing liquid (polishing slurry) comprising colloidal silica abrasive grains produced by hydrolysis of an organosilicon compound.例文帳に追加

ガラス基板に必要な加工処理を施し、表面を粗研磨した後に仕上研磨を行う方法において、その仕上研磨工程の中に、有機ケイ素化合物を加水分解することで生成したコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液（スラリー）を用いて研磨する超精密研磨工程を設ける。 - 特許庁

In step S11, meta-data of content recorded by automatic video-recording from among contents stored in a storage unit, and the stored preference of the user is referred to on the basis of the meta-data, thereby deciding an order of processing target from contents of less preference of the user for the stored content.例文帳に追加

ステップＳ１１で、記憶部に記憶されているコンテンツのうち、自動録画によって記録されたもののメタデータを取得し、このメタデータに基づき、蓄積されているユーザの嗜好度を参照することによって記憶されているコンテンツに対し、ユーザの嗜好度が低いものから順に処分対象の順位を決定する。 - 特許庁

A decision processing step repeats the decision of the predicted tag of each target word from the features of the target word and the peripheral words at the both sides included in unknown document data to be tagged to decide the correct tag by using the plurality of learning results learned by using the features of the target word and the peripheral words.例文帳に追加

判定処理ステップは、対象語及び周辺語の特徴により学習された複数の学習結果を用いて、タグ付け対象となる未知文書データに含まれる対象語及びその両側の周辺語の特徴から各対象語の予測タグの判定を繰り返して正解タグを判定する。 - 特許庁

A method of applying conversion treatment to the valve action metal material having pores to form a dielectric film on the surface of the material includes at least one time of a first conversion treatment step for executing conversion by executing electrifying processing at current density of 1 mA/cm^2-50 mA/cm^2 in an acid solution.例文帳に追加

微細孔を有する弁作用金属材料を化成処理して表面に誘電体皮膜を形成する方法であって、酸性溶液中、１ｍＡ／ｃｍ^2以上５０ｍＡ／ｃｍ^2以下の電流密度で通電処理して化成する第１の化成処理工程を少なくとも１回含むことを特徴とする。 - 特許庁

Parameters, such as temperature, pressure, humidity, a transfer time and the like in the substrate-processing device to have effect on the formation of a resist pattern are selected as environmental conditions around a substrate, and only normal data which enable a required resist pattern to be formed are collected from the above selected parameters (step 11).例文帳に追加

レジストパターンを形成する際に影響を及ぼす基板周囲の環境条件として例えば、装置内の温度や気圧、湿度あるいは装置内の搬送時間等のパラメータを抽出し、これら抽出された複数のパラメータのうち、所望のレジストパターンを形成するときの正常データ値のみを収集する（ステップ１１）。 - 特許庁

The method comprises a step of processing irregularities and a movable part of a semiconductor device with a liquid, substituting the liquid with pure water, substituting the pure water with a solvent, involving a sublimable substance in the solvent, evaporating the solvent to deposit the sublimable substance on the semiconductor device surface, and sublimating the sublimable substance to remove it.例文帳に追加

半導体装置の凹凸部や可動部を液体処理し、この液体を純水で置換した後、純水を溶剤で置換し、この溶剤中に昇華性物質を含ませ、溶剤を蒸発して半導体装置の表面に昇華性物質を析出せしめ、この昇華性物質を昇華により除去することからなる。 - 特許庁

In a primary processing step of the fluid polishing method in which a slurry (7) is supplied by supply devices (2a, 2b) to polish a fine hole on a workpiece (5), the supply devices are stopped before a predetermined fine hole is processed, and a first operating fluid flow rate (Q1) at this time is measured.例文帳に追加

スラリー（７）を供給装置（２ａ，２ｂ）によりに供給して、工作物（５）に微小孔を研磨加工する流体研磨加工方法の１次加工工程においては、所定の微小孔を加工する前の段階で供給装置を停止し、この時点の第１の作動流体流量（Ｑ1）を計測する。 - 特許庁

When the mounting state on the trial substrate is determined to be excellent (106) on the basis of a detection result of a mounting detection device after the trial substrate mounting (104), the standby mode is released (110) on the basis of ON of a production performance flag in a step 108, and the subsequent substrates are sequentially subjected to mounting processing (112).例文帳に追加

試し基板の実装後（１０４）における実装検出装置の検出結果に基いて試し基板への実装状態を良好と判断した場合（１０６）、ステップ１０８で生産実績フラグのオンに基いて待機モードを解除し（１１０）、後続の基板を順次実装処理させる（１１２）。 - 特許庁

In this exposure processor, with which original is scanned and exposure processing for forming the image is performed based on image data obtained by scanning, an exposure data collecting area is decided based on the size of the original, the size of paper where the image is formed and three parameters (step S81 to S83) of copying magnification set.例文帳に追加

原稿を走査し、走査により得られた画像データに基づいて画像形成のための露光処理を行う露光処理装置において、原稿のサイズ、画像形成される用紙サイズ、及び設定された複写倍率の３つのパラメータ（ステップＳ８１乃至Ｓ８３）に基づいて露光データの採取領域を決定する。 - 特許庁

Since a main control part 200 adds power interruption restoration signals for indicating that power interruption or the like is restored to the data backed up in the middle of output and outputs them to the outside at the time of restoration (step S502), the data outputted again after the power interruption restoration processing is performed and the newly outputted data are discriminated.例文帳に追加

主制御部２００は、出力途中でバックアップされたデータに、電断時から復旧した旨を示す電断復旧信号を付加して復旧時に外部に出力するので（ステップＳ５０２）、電断復旧処理が行われて再出力されるデータと新たに出力されるデータとを判別できる。 - 特許庁

Namely, since the image data is recorded in the SDRAM until processing for increasing the recordable amount of the storage medium is performed without expanding a memory (smart media, the SDRAM, etc.), the image data can be recorded in the storage medium (step 112) without erasing the image data nor deteriorating the image quality of the image data.例文帳に追加

即ち、メモリ（スマートメディアまたはＳＤＲＡＭなど）を増設することなく、記憶メディアの記録可能量を増やす処理が行われるまで、該画像データがＳＤＲＡＭに記録されているので、該画像データを消去および該画像データの画像品質を低下させることなく、記憶メディアに記録し得る（ステップ１１２）。 - 特許庁

To provide a method for production of an organyloxy group-containing organosilicone compound that does not have a disadvantage that it needs a higher temperature than that usual at the mixing step, since the reaction time is very long, or needs such a high catalyst concentration that the catalyst must be removed or deactivated in the catalyst treatment and/or processing steps.例文帳に追加

反応時間が非常に長く、そのため混合に際して通常生じる温度より高い温度が必要とされ、もしくは触媒を付加的な処理工程において除去または不活性化させなければならないほど必要とされる触媒濃度が高いという欠点を有さない製造法。 - 特許庁

When a plurality of sectioned regions on a wafer are exposed by the step-and-scan system, a processing for enhancing the precision of alignment between a pattern and an object is performed based on the measurements of the encoder systems for every exposure start point where the measurement error of the encoder system caused by acceleration of the wafer stage WST is reduced.例文帳に追加

すなわち、ウエハ上の複数の区画領域をステップ・アンド・スキャン方式で露光する際に、ウエハステージＷＳＴ体の加速度に起因するエンコーダシステムの計測誤差が小さくなる露光開始点毎に、エンコーダシステムの計測値に基づいてパターンと物体との位置合わせ精度を向上させるための処理が行なわれる。 - 特許庁

To provide an inexpensive rear-face protection sheet for a solar cell that is excellent in environment resistance such as hydrolysis resistance and weather resistance, has good electrical insulation properties and dimension stability, can cope with large modularization, and enables omission of a heat fixation step such as anneal processing; and to provide a solar cell module using the same.例文帳に追加

本発明は、耐加水分解性や耐候性などの耐環境性に優れ、電気絶縁性また寸法安定性が良く、大型モジュール化にも対応でき、アニール加工などの熱固定工程を省略することができる安価な太陽電池用裏面保護シートおよびそれを用いた太陽電池モジュールを提供することを目的とする。 - 特許庁

The presence or absence of a defect in a wiring pattern is confirmed by visual observation, image processing, or the like; defect information on the position, coordinates, size, or the like is confirmed, and the type of the defect is determined; when the defect is detected; and a machining method and machining conditions are set according to the type and state of the defect (step S1).例文帳に追加

目視又は画像処理等により配線パターンの欠陥の有無を確認し、欠陥を検出した場合は、その位置、座標及び大きさ等の欠陥情報を確認すると共に欠陥の種類を判定し、欠陥の種類及び状態に応じて加工方法及び加工条件を設定する（ステップＳ１）。 - 特許庁

In a step (d), a porous polysilicon layer 5 is formed by performing positive electrode oxidation processing with a constant current while performing light irradiation on the exposed polysilicon layer 3 by using the silicon oxide layer 4 as a mask material layer, and by using an electrolytic solution that is prepared by mixing 55 wt.% of hydrogen fluoride aqueous solution and ethanol with a ratio of 1:1, and cooled at 0°C.例文帳に追加

酸化シリコン層４をマスク材料層として５５ｗｔ％のフッ化水素水溶液とエタノールとを１：１で混合し０℃に冷却した電解溶液を用い、露出したポリシリコン層３に光照射を行いながら定電流で陽極酸化処理を行い多孔質ポリシリコン層５を形成する（図１（ｄ））。 - 特許庁

Since a timing when a copper thin film layer Cu is exposed at a hole formation position is detected on the basis of the detected output from photo sensors 75 and 76, the supply of a UV laser beam UL for processing is stopped without damaging the layer Cu at the step of exposing the layer Cu on the bottom of the VIA hole.例文帳に追加

フォトセンサ７５、７６の検出出力に基づいてホール形成位置に銅薄膜層Ｃｕが露出するタイミングを検出するので、銅薄膜層ＣｕがＶＩＡホール底部に露出した段階で銅薄膜層Ｃｕにダメージを与えることなく加工用の紫外レーザ光ＵＬの供給を停止させることができる。 - 特許庁