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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > processing surfaceに関連した英語例文

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processing surfaceの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 7705



例文

The face-washing cloth having an arithmetic average roughness Ra on the cloth surface of not greater than 30 μm is obtained by being subjected to buff processing on a fabric containing filament yarns A having a single fiber diameter of 10-1,000 nm.例文帳に追加

単繊維径が10〜1000nmのフィラメント糸Aを含む布帛にバフ加工を施すことにより、クロス表面における算術平均粗さRaが30μm以下である洗顔クロスを得る。 - 特許庁

To perform color correction processing of a projection image using reflection light from a surface to be projected, appropriately in accordance with change in projection area or projection position caused by an input image format or a projection display mode.例文帳に追加

被投射面からの反射光を用いた投射画像の色補正処理を、入力画像フォーマットや投射表示モードによる投射領域や投射位置の変化に対応して適切に行う。 - 特許庁

Then the preheated semiconductor wafer W is irradiated with flash light and a surface temperature of the semiconductor wafer W momentarily rises up to a processing temperature to activate the impurity.例文帳に追加

次に、予備加熱された半導体ウェハーWにフラッシュ光を照射することにより、半導体ウェハーWの表面温度が瞬間的に処理温度にまで昇温して不純物の活性化が行われる。 - 特許庁

To provide a substrate processing method reducing variations in line widths of first and second resist patterns between substrates and in a substrate surface when forming minute resist patterns by double patterning.例文帳に追加

ダブルパターニングにより微細なレジストパターンを形成する際に、基板間及び基板面内での1回目及び2回目のレジストパターンの線幅のばらつきを低減できる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

例文

In a first embodiment (A), weighting processing corresponding to the distance r between a final voxel and a final surface 302 is applied to an echo value e_n of the final voxel, and final voxel calculation is carried out under such a condition.例文帳に追加

第1例(A)では、最終ボクセルのエコー値e_nに対して、そこから終了面302までの距離rに応じた重み付け処理が適用され、その上で最後のボクセル演算が実行される。 - 特許庁


例文

An information processing apparatus 10 acquires image composition information for composing one or a plurality of images to be allocated to the surface of printing paper, and calculates characteristic information for each composition information acquired.例文帳に追加

情報処理装置10は、印刷紙面に割り付ける1又は複数の画像を構成する画像構成情報を取得し、取得される画像構成情報の各々について固有情報を算出する。 - 特許庁

To provide an adhesive tape sticking method and an adhesive tape sticking device that precisely stick an adhesive tape for support on a back surface of a semiconductor wafer although being compact and improved in processing speed.例文帳に追加

小型化で処理速度を向上させつつも支持用の粘着テープを半導体ウエハの裏面に精度よく貼り付ける粘着テープ貼付け方法および粘着テープ貼付け装置を提供する。 - 特許庁

To provide a powder cosmetic material in which the powder component causes no aggregation and the surface powder component causes no caking in press processing even if a large amount of oily component is contained.例文帳に追加

油性成分の配合量を多くしても、粉体成分が凝集を起こすことなく、また、プレスした場合であっても表面の粉体成分がケーキングを起こすことのない粉体化粧料を提供する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic relay which can be produced readily without controlling or restricting the processing conditions, and also the reference dimensions between the magnetic pole surface of the iron-core and the fixed contact can be formed in high precession.例文帳に追加

成形条件の調整や、制限を受けずに容易に製造ができ、しかも鉄心の磁極面と固定接点間の基準寸法を高精度で得ることができる電磁リレーを提供することにある。 - 特許庁

例文

A mold for repairing a tire shape is taken out of the die cast mold and this repairing mold is used as a stamping or discharge processing electrode to repair the design surface of the tire mold.例文帳に追加

ダイキャスト型からタイヤ形状の補修用型を切出し、この補修用型を刻印もしくは放電加工用電極として用いてタイヤ成形用金型のデザイン面補修を行うこともできる。 - 特許庁

例文

To effectively prevent process liquid from sticking again to a front surface of a substrate in a substrate processing apparatus which supplies the process liquid to the substrate and carries out a predetermined treatment on the substrate while rotating the substrate.例文帳に追加

基板を回転させながら基板に処理液を供給して該基板に対して所定の処理を施す基板処理装置において、基板表面への処理液の再付着を効果的に防止する。 - 特許庁

To provide a wallpaper that is excellent in soil resistance, scratch resistance and installability, and has an ionizing radiation curable resin having excellent followability to unevenness and crack resistance by an emboss processing in a surface protective layer.例文帳に追加

耐汚染性、耐傷付性及び施工性に優れ、かつエンボス加工による凹凸追従性及び耐クラック性に優れた電離放射線硬化性樹脂を表面保護層に有する壁紙を提供すること。 - 特許庁

To provide a medium conveyance mechanism capable of holding and lifting a medium having a center hole reliably and with good balance at its inner peripheral surface, and to provide a medium processing device with the same.例文帳に追加

中心孔を有するメディアをその中心孔の内周面で確実かつバランス良く把持して持ち上げることが可能なメディア搬送機構及びそれを備えたメディア処理装置を提供する。 - 特許庁

The spherical head part 23 of the ball stud 18 is formed via a cutting process, and a processing mesh 45 formed on its outside surface extends in the substantially orthogonal direction to the rocking direction D1 of the ball stud 18.例文帳に追加

ボールスタッド18の球頭部23は、切削工程を経て形成されており、その外表面に形成された加工目45は、ボールスタッド18の揺動方向D1に略直交する方向に延びている。 - 特許庁

To attain the high speed of a file processing rate of a disk storage device by using an access arm to which plural heads are attached and performing simultaneously the data-transferring of plural bits to one surface of the disk.例文帳に追加

この発明は複数のヘッドを取り付けたアクセスアームを用い、ディスクの片面に対し複数ビットを同時にデータ転送することにより、ディスク記憶装置のファイル処理速度の高速化を図る。 - 特許庁

To provide an apparatus for laser dicing capable of forming a modified layer in a wafer with high accuracy without damaging devices formed on a surface of the wafer, a method for laser dicing and a method for processing wafer.例文帳に追加

ウェーハの表面に形成されたデバイスを破壊することなく、ウェーハの内部に改質層を精度良く形成することができるレーザダイシング装置及び方法並びにウェーハ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment method capable of improving processing efficiency by generating a remarkable change on a substrate surface in substrate treatment by a treatment fluid, and a substrate treatment apparatus.例文帳に追加

処理流体による基板処理の際に、基板表面上で顕著な変化を生じさせ、これにより、処理効率の向上を図ることができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing stage of an element substrate, the 2nd conductive layer 32b is formed covering the surface of the 1st conductive layer 32a after the 1st conductive layer is formed and before annealing processing is carried out.例文帳に追加

素子基板の製造工程では、第1導電層を形成した後で、アニール処理が行われる前に、その第1導電層32aの表面を覆うように第2導電層32bが形成される。 - 特許庁

To a method of reducing the surface reflection and making the tone change unnoticeable between openings or portions of electrode patterns resulting from integrating processing of a solar cell, thereby improving the appearance quality.例文帳に追加

太陽電池において、表面反射の低減や集積化加工に伴う開孔、電極パターンの部分間での色調変化を目立たなくして、外観品質の向上を図る方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of processing a glass product having a resin coating film by which a clear pattern is formed in a coating film by removing the resin coating film which coats the surface of the glass product.例文帳に追加

ガラス製品の表面に被覆された樹脂コーティング皮膜を除去処理して、皮膜中に鮮明な模様の形成が可能な樹脂コーティング皮膜を有するガラス製品の加工方法を提供する。 - 特許庁

A roller sliding contact surface 7 of at least the outside joint member 1 is formed of a hardened layer of forming a carburized quenching layer by high frequency quenching in oil without performing finishing processing after the high frequency quenching.例文帳に追加

少なくとも外側継手部材1のローラ摺接面7を、高周波焼入れ後の仕上げ加工を行わない油中での高周波焼入れにより浸炭焼入れ層を形成した硬化層とする。 - 特許庁

A bath surface of molten iron in a molten iron ladle immediately after the desulfurization treatment is photographed by an infrared camera and image processing of the photographed image is performed to determine whether a desulfurization condition of the molten iron is properly performed.例文帳に追加

脱硫処理直後の溶銑鍋中にある溶銑の浴面を赤外線カメラで撮影し、撮影した画像の画像処理を行うことにより、前記溶銑の脱硫具合の良否を判定する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus comprises a both surface cleaning equipment 9 for cleaning a central part of a wafer W, and a periphery part cleaning box 300 for selectively cleaning only the periphery part of the wafer W.例文帳に追加

ウエハWの中央部を洗浄するための両面洗浄装置9と、ウエハWの周縁部のみを選択的に洗浄するための周縁部洗浄ボックス300とが備えられている。 - 特許庁

To provide a sliding lifter and its manufacturing method, easy in manufacture, by easily improving processing accuracy in an outer peripheral surface, even when having a rotation preventive projection.例文帳に追加

回止め突起を有していても、外周面の加工精度を容易に向上させることができると共に、製造を簡単にすることができる摺動用リフタ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The lid 49 is provided with an electrolytic water mist processing device 70 which prevents the electrolytic water mist which has lost in a way from being enclosed in the casing 20 when the lid overlaps the top surface exhaust port 25.例文帳に追加

蓋49には、それが天面排気口25に重なったとき、行き場を失った電解水ミストが筐体20内にこもるのを防ぐ電解水ミスト処置装置70が設けられている。 - 特許庁

To provide a duplicating form, to which printing can be executed with a nonimpact printer and a high speed printing processing is made to be executed with the nonimpact printer by so constituting items written on the surface as to be duplicatable.例文帳に追加

ノンインパクトプリンタで印字することができ、表面に記入した事項を複写可能に構成することで、ノンインパクトプリンタで高速に印字処理を行えるようにした複写帳票を提供する。 - 特許庁

At processing a wafer placed on a stage 4 with plasma, the stage 4 comprises a stage body 41 and multiple Peltier elements 5 arrayed on the surface of stage body 41.例文帳に追加

載置台4上に載置されたウエハをプラズマにより処理するにあたり、前記載置台4を、載置台本体41と、載置台本体41表面に配列された多数のペルチェ素子5とにより構成する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and method capable of efficiently removing resist residues on the surface of a substrate by using a sulphuric acid while using a hydrogen peroxide solution which is unstable at a high temperature.例文帳に追加

高温で不安定な過酸化水素水を使用しながら、硫酸を用いて基板表面のレジスト残渣を効率よく除去することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

A layer reformed by processing 13 is introduced into the concave surface of a curved nitride semiconductor crystal 12 grown epitaxially on a different kind of substrate by grinding with diamond abrasives or the like.例文帳に追加

異種基板上にエピタキシャル成長させて得られた湾曲した窒化物半導体結晶12の凹状の面にダイアモンド砥粒などにより研削を行って加工変質層13を導入する。 - 特許庁

The holding part has a lever part 8 capable of being elastically deformed and being projected upward from a processing liquid surface and the filter element 2 is detached by elastically deforming the lever part 8.例文帳に追加

保持部が弾性変形可能かつ処理液面より上方に突出可能なレバー部8を有していて、このレバー部8を弾性変形させることによりフィルターエレメント2を取り外し可能にする。 - 特許庁

The color data (WR, WG, WB) of the water surface object are added to the new color data by translucent processing in a prescribed ratio to generate final color data (NR, NG, NG).例文帳に追加

そして、水面オブジェクトの色データ(WR,WG,WB)と新たな色データとが、半透明処理によって所定の比率で加算されて最終的な色データ(NR,NG,NB)が生成される。 - 特許庁

Because of the processing performed in the inclined plane generating face 1a of the target tilting angle every ring zone, so called, by a formed grind-stone, the diffraction grating configuration is accurate and the surface roughness is also good.例文帳に追加

各輪帯ごとに目標傾斜角度の斜面創成面1aで研削するいわゆる総型の砥石による加工であるため、回折格子形状が正確で表面粗さも良好である。 - 特許庁

The conductive material is manufactured by applying reflow processing after forming an Ni plating layer, and further, a Cu plating layer and an Sn plating layer as needed on the roughened base material surface.例文帳に追加

この導電材料は、粗面化した母材表面に、必要に応じてNiめっき層、さらにCuめっき層及びSnめっき層を形成した後、リフロー処理を行うことにより製造する。 - 特許庁

To provide a processing method for a semiconductor substrate which enables to supply a proper amount of a surfactant uniformly to the surface of the semiconductor substrate and to reduce the total amount for use of the surfactant.例文帳に追加

半導体基板の表面に界面活性剤を均一にかつ適量を供給でき、しかも界面活性剤の使用量の低減が図れる半導体基板の処理方法を提供する。 - 特許庁

The image processing chip carried on a camera 4 photographs a puck P moving on the surface of the field board 21 to drive a motor M based on the information on the movement thereof so that the puck P hits an arm 5.例文帳に追加

カメラ4に搭載してある画像処理チップはフィールド盤21の面を移動するパックPを撮像してその移動情報に基づきモータMを駆動し、それにより、アーム5にパックPが当たるようになる。 - 特許庁

To prevent an atmosphere of solvent vapor generated by smoothing processing for smoothing the surface of a resist pattern from being leaked to the outside, and to facilitate the integration of a smoothing unit into a coating and developing system.例文帳に追加

レジストパターン表面を平滑化するスムージング処理により発生した溶剤蒸気の雰囲気の外部への漏洩を防止し、スムージング処理ユニットの塗布・現像処理システムへの組み込を容易にすること。 - 特許庁

Such a probe substrate for use in LSI inspection is manufactured by forming an inspection circuit on a surface of the insulating resin layer and subjecting bending processing with a die to a tip end of the circuit to form a probe.例文帳に追加

このようなLSI検査用プローブ基板は、絶縁樹脂層の表面に検査用回路を形成し、この回路先端に金型による折曲げ加工を施すことによってプローブを形成して製造する。 - 特許庁

Plasma is generated in the processing chamber 2 by supplying microwaves from a microwave supply device 37 and the surface of the article T is subjected to radical oxidation with oxygen radicals generated from the plasma.例文帳に追加

マイクロ波供給装置37の供給によって,処理容器2内にプラズマを発生させ,それによって発生した酸素ラジカルによって被処理体Tの表面にラジカル酸化処理を行う。 - 特許庁

In this photosensitive material processing device 10 where paper P is carried by a carrying belt 24, the surface of the belt 24 coming in contact with the paper P is constituted of a gel-state member having tackiness.例文帳に追加

ぺーパーPを搬送ベルト24により搬送する感光材料処理装置10において、搬送ベルト24のぺーパーPと接触する面を粘着性を有するゲル状部材で構成する。 - 特許庁

Surface treatment is carried out by immersing the wiring board 1 into the chemical 3 while ejecting the chemical 3 from a nozzle 4 disposed below the liquid level of the chemical 3 in the processing tank 2.例文帳に追加

この際に、処理槽2内の薬液3の液面下に配置されたノズル4から薬液3を噴出しながら、配線用板1を薬液3に浸漬することによって、表面処理を行なう。 - 特許庁

To improve quality and yield by forming a resist film uniformly in a resist film forming device for forming a resist film on a surface during a processing step of a photomask or a wafer.例文帳に追加

本発明は、フォトマスクやウエハの加工工程で表面にレジスト膜を形成するレジスト膜形成装置に関し、レジスト膜形成の均一化を図り、品質向上、歩留り向上を図ることを目的とする。 - 特許庁

Therefore, not only the surrounding portion of the substrate W but its center portion similarly revolves, then, the processing liquid can be contacted with all over the surface of the substrate W.例文帳に追加

したがって、基板Wの周辺部だけでなくその中心部も同様に公転運動をすることになるので、基板Wの全面にわたって処理液を均一に接触させることができる。 - 特許庁

An element control part 240 performs illumination non-uniformity compensating processing for restraining a difference in illuminance of the fourth color component light on the irradiation surface based on the illumination non-uniformity stored in the storage part 230.例文帳に追加

素子制御部240は、記憶部230に記憶された照度ムラに基づいて、照射面上における第4色成分光の照度の違いを抑制する照度ムラ補償処理を行う。 - 特許庁

The installation position of the spray gun 31 can be finely adjusted by the multi-function unit 32 during coating processing, thereby enabling control for maintaining the distance between the surface of a tablet and the spray gun 31 constant.例文帳に追加

マルチファンクションユニット32によって、コーティング処理中にスプレーガン31の設置位置を細かく調整でき、錠剤面とスプレーガン31との距離を一定に保つような制御も可能となる。 - 特許庁

To provide a film processing apparatus capable of reducing its manufacturing cost by reducing the number of parts, and delivering a film to a film scanner while preventing the emulsion surface of the film from being inverted.例文帳に追加

その課題は、部品点数を少なくして製造コストを安価にし、さらに、フィルムの乳剤面が反転せずにフィルムスキャナー側にフィルムを受渡し可能なフィルム処理装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and method capable of efficiently removing resist residues on the surface of a substrate by using a sulphuric acid without using a hydrogen peroxide solution which is unstable at a high temperature.例文帳に追加

高温で不安定な過酸化水素水を使用せずに、硫酸を用いて基板表面のレジスト残渣を効率よく除去することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a toner supply roller in which clogging of an elastic porous body with toner is reduced, grind residue on the surface of the elastic porous body and nonuniform processing are reduced, and a satisfactory image is thereby obtained.例文帳に追加

弾性多孔体におけるトナーの目詰まりを少なくし、また弾性多孔体表面の研磨残りや加工ムラを少なくして、良好な画像が得られるトナー供給ローラを提供する。 - 特許庁

To provide a medical image processor confirming or improving reliability when utilizing a surface model for detection of a lesion candidate or the like, and a medical image processing method.例文帳に追加

表面モデルを病変候補の検出等に利用する場合における信頼性の確認若しくは向上を可能とする医療用画像処理装置及び医療用画像処理方法を提供する。 - 特許庁

The processing unit 10 is provided with a light transmission window 58 on the wall surface of the developer container 54, so that the existence of the toner is detected with light passing through the developing device through the light transmission window 58.例文帳に追加

そして,プロセスユニット10では,現像剤容器54の壁面に光透過窓58が設けられ,その光透過窓58介して現像装置を貫通する光によってトナーの有無を検知する。 - 特許庁

例文

If the gas to be injected into the mold cavity is made oxygen or a mixture consisting of oxygen and a combustible gas, an effect similar to that acquired by applying flame processing can be obtained with regard to the surface of the base material resin.例文帳に追加

また、金型キャビティ内に注入するガスを、酸素、又は、酸素と可燃性ガスの混合ガスにすれば、基材樹脂表面について、フレーム処理したと同様の効果を得ることが可能になる。 - 特許庁




  
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