「thickness line」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

A transparent yttrium oxide sintered body that contains, with yttrium oxide as a main component, at least either one of tantalum or niobium or both thereof and has the in-line transmittance of 60% or more at a thickness of 1 mm in a visible wavelength region in the range of 400 to 800 nm.例文帳に追加

酸化イットリウムを主成分とし、少なくともタンタル若しくはニオイブのいずれか一方又は双方を含有し、厚さ１mm時の可視光帯域波長４００〜８００nmにおける直線透過率が６０％以上であることを特徴とする。 - 特許庁

In a region in the drift layer 12 sandwiched by the p-type body regions 14 and the silicon carbide substrate 11, a plurality of p-type regions 13, which are arranged spaced apart from each other in a direction perpendicular to the thickness direction of the drift layer 12 and whose conductivity types are p type, are formed so as to line up with each other.例文帳に追加

そして、ｐ型ボディ領域１４と炭化珪素基板１１とに挟まれたドリフト層１２の領域には、ドリフト層１２の厚み方向に垂直な方向において互いに分離して配置された導電型がｐ型であるｐ型領域１３が複数並ぶように形成されている。 - 特許庁

To enable many kinds of cells to be cultured in the same layer, to enable the patterning at a line width of a capillary vessel, to enable a structure to be controlled two-dimensionally (in the membrane direction) and three-dimensionally (in the thickness direction) by nano-scale, and to enable only the cells to be separated evenly from a base material.例文帳に追加

本発明の目的は、多種類の細胞を、同一層内で培養を可能にし、毛細血管の線幅でパターニングでき、かつ二次元的（膜面方向）にも三次元的（膜厚方向）にも構造がナノスケールで制御でき、基材から細胞のみを均等に剥離することにある。 - 特許庁

Then the width p of the dielectric body 5 is selected to be twice or over and 20 times or below of the line width w of the transmission lines 4-1, 4-2, and the thickness q of the dielectric body 5 is selected to be equal to or over and 7 times or below the distance y between the transmission lines 4-1, 4-2.例文帳に追加

そして、誘電体５の幅ｐが伝送線路４−１，４−２の線幅ｗの２倍以上２０倍以下に設定され、誘電体５の厚さｑが伝送線路４−１，４−２間の距離ｙの１倍以上７倍以下に設定されている。 - 特許庁

To finely suppress positional deviation between the center of a die and the height center of a slab by maintaining the slab on the pass line even when thickness increases after reduction of the slab width and the tip part or the rear end part of the slab overhangs in a sizing press.例文帳に追加

サイジングプレスにおいて、スラブ幅圧下後に板厚が増加しても、またスラブの先端部若しくは後端部が片持ち支持の状態であってもスラブをパスラインに維持し、金型中心とスラブ高さ中心の位置ずれ量を微少に抑制し得るようにする。 - 特許庁

A slot 112 is provided at the front side of a second substrate 111, while a microstrip line 113 is provided on a rear side, a first substrate 101 and the slot 112 are made to face each other in the direction of case thickness during open slide, and the first substrate 101 and the microstrip line 113 are made to be parallel to each other to connect the microstrip line 113 and the first substrate 101 in a high frequency manner.例文帳に追加

第２の基板１１１の正面にスロット１１２を設ける一方、背面にマイクロストリップ線路１１３を設け、開スライド時に第１の基板１０１とスロット１１２が筐体厚み方向において対向するようにし、また第１の基板１０１とマイクロストリップ線路１１３が平行になるようにして、マイクロストリップ線路１１３と第１の基板１０１とを高周波的に結合させるようにする。 - 特許庁

This screen process printing device comprises a squeegee which fills apertures formed in the thickness direction of a screen process printing mask with a cream solder by moving the squeegee along the surface of the mask, and a line sensor integrally formed with the squeegee for optically reading the surface of the mask.例文帳に追加

その厚み方向に開口が貫通するスクリーン印刷用マスク表面に沿って移動することにより前記開口にクリームはんだを充填するスキージと、前記スキージと一体的に設けられ前記スクリーン印刷用マスク表面を光学的に読み取るラインセンサと、を備えることを特徴とするスクリーン印刷装置。 - 特許庁

A network configuration display panel 10 displays connection relation and inclusion of network components as a network configuration diagram, and a traffic display panel 20 displays the traffic pattern and the traffic amount between the network configuration components as a line segment tying points on a circle and its thickness.例文帳に追加

ネットワーク構成表示パネル１０はネットワーク構成要素の接続関係および包含関係をネットワーク構成図として表示し、トラフィック表示パネル２０はネットワーク構成要素間のトラフィックパターンおよびトラフィック量を円周上の点間を結ぶ直線およびその太さで表示する。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer processing system for improving the manufacturing yield of a semiconductor by drastically making uniform the thickness distribution of a photoresist film on a wafer, for reducing the deviation of the line width of a pattern, and efficiently suppressing the contamination of the wafer in a housing by dust or the like.例文帳に追加

ウェハ上のフォトレジスト膜の厚さ分布が格段に均一になってパターンの線幅の偏差が減少し、しかも塵埃等によるハウジング内におけるウェハの汚染を効率よく抑制することによって、半導体の製造収率を向上させることができる半導体ウェハプロセッシングシステムを提供すること。 - 特許庁

The positive pressure and the negative pressure surfaces 12, 11 have radially corresponding surface characteristics at spanwise local portions of the airfoil 10 that cooperatively define one or more of a camber line C_R and a thickness distribution plot T_R of the airfoil 10 as having a radius of curvature with two or more sign inversion points.例文帳に追加

本翼形部１０のスパン方向局所部分における正圧及び負圧表面１２、１１の半径方向に対応する表面特性は、２以上の符号反転ポイントをもつ曲率半径を有するような該翼形部１０のキャンバ線Ｃ_R及び厚さ分布プロットＴ_Rの１以上を協働して定めるように形成される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of display sheet which enables manufacturing of display sheet with high contrast by arraying micro capsules in a state of contacting one another in a surface direction and arraying them in a line without overlapping in a thickness direction, the display sheet manufactured by the method, a reliable display device, and a reliable electronic device.例文帳に追加

マイクロカプセルを、面方向に対して互いに接触した状態で配列させ、かつ、厚さ方向に対して重なることなく１列に配列させることにより、高いコントラストを有する表示シートを製造することができる表示シートの製造方法、かかる表示シートの製造方法で製造された表示シート、信頼性の高い表示装置、および信頼性の高い電子機器を提供すること。 - 特許庁

To provide a simply structured substrate exposure apparatus capable of reducing variations in a gap between a substrate to be exposed and a photomask, at a proximity exposure without having to prepare special peripheral equipment for correcting the deflection, thereby attaining reduction in the variations in the line width and the film thickness of a pattern formed on the substrate to be exposed.例文帳に追加

構造が単純であり、撓み補正に特別な周辺機材を準備することなく、被露光基板とフォトマスクとの近接露光時のギャップのバラツキを低減させ、それにより被露光基板に形成されるパターンの線幅、膜厚バラツキの低減を図ることを可能とする基板露光装置を提供する。 - 特許庁

A resin layer RN is bonded to a corner of the other end of at least one of the anode electrode A and the cathode electrode K, and no outer edge of the corner of the other end of the other of the anode electrode A and the cathode electrode K is positioned on a straight line parallel to a thickness direction of the electrode and passing through outer edges of the corners.例文帳に追加

アノード電極Ａ及びカソード電極Ｋの少なくとも一方の他端部の角部に、樹脂層ＲＮが接着しており、電極の厚み方向に平行であって、角部の外縁を通る直線上には、アノード電極Ａ及びカソード電極Ｋの他方の他端部の角部の外縁は位置していない。 - 特許庁

A dispersion of line widths of a first pattern and a second pattern occurring due to dispersion occurring in resist patterns (an opening 111, an opening 211) due to dispersion of lithography when forming a first pattern and a second pattern in the first region 110 and the second region 210 of an etching object material 105, respectively, is suppressed by adjusting the thickness of a mask material 106.例文帳に追加

被エッチング材１０５の第１領域１１０、第２領域２１０に、それぞれ第１パターン、第２パターンを形成する際に、リソグラフィのばらつきによりレジストパターン（開口部１１１、開口部２１１）に生じるばらつきに起因して発生する、第１パターン、第２パターンの線幅がばらつき、マスク材１０６の厚みを調整することにより抑制する。 - 特許庁

When the laser light L is applied in the state like this, the crack 17 can become wider in the thickness direction of the working object 1 from the modified area 7 than in such a case that the laser light L is applied in a state in which the polarization direction is set along the line 5 to be cut, even if any external force does not act on the working object 1.例文帳に追加

このような状態でレーザ光Ｌを照射すると、加工対象物１に何ら外力を作用させなくても、例えば偏光方向が切断予定ライン５に沿った状態でレーザ光Ｌを照射する場合に比べ、改質領域７から加工対象物１の厚さ方向に亀裂１７をより伸展させることができる。 - 特許庁

The method for producing the functional film includes a process in which slipperiness is given between the inorganic film 16 and a support 12 and between the inorganic film 16 and the support 12, a laminated film 20 having a center line average roughness (Ra) not exceeding the thickness of the inorganic film 16 is made to intervene between them, and the support 12 is taken up onto a film roll 48 under reduced pressure.例文帳に追加

機能性フィルムの製造方法は、無機膜１６と支持体１２の間に、無機膜１６と支持体１２の間に滑り性を付与し、無機膜１６の厚さ以下の中心線平均粗さ（Ｒａ）を有するラミネートフィルム２０を介在させて、減圧下で支持体１２をフィルムロール４８に巻き取る工程を含む。 - 特許庁

The positioning member 14 is a V block for example: when the pipe is brought into contact with V-shaped contact surfaces 141a and 141b, an ultrasonic probe 21 provided in the wall thickness measurement unit 12 advances along the outer surface of the pipe in the normal line direction by the operation of an actuator 22, and is brought into contact with the pipe in the appropriate direction and at a suitable pressure.例文帳に追加

位置決め部材１４は例えばＶブロックであり、Ｖ字状の当接面１４１ａ，１４１ｂに配管を当接させた状態では、肉厚測定部１２が備える超音波探触子２１が、アクチュエータ２２の動作によって配管の外面の法線方向に沿って進出し、配管に適切な方向および好適な押圧力で当接する。 - 特許庁

In the metallized film constituted by making at least one metal layer overlie a polymer film base material, a conductive organic matter layer overlies the metal layer and the thickness of the conductive organic matter layer is 5-150 nm while the center line average roughness (Ra) of the outermost layer of the conductive organic matter layer is 5-150 nm.例文帳に追加

本発明の金属化フィルムは、高分子フィルム基材上に一層以上の金属層を積層した金属化フィルムにおいて、該金属層上に導電性有機物層が積層されており、該導電性有機物層の厚さが５〜１５０ｎｍであり、かつ該導電性有機物層の最外層の中心線平均粗さ（Ｒａ）が５〜１５０ｎｍであることを特徴とするものである。 - 特許庁

An electroplating soln. is then supplied by the control part from an electroplating soln. feed line 3 to the surface Ws of the substrate W on which the seed layer is formed and held by the mechanism 10, power is supplied between a first electrode 131 and a second electrode 126, and an electroplating layer is formed on the surface Ws of the substrate W in a specified thickness.例文帳に追加

基板Ｗが基板保持機構１０に保持された状態で、制御部は、次に、シード層が形成された基板Ｗの処理面Ｗｓに電解メッキ液供給系３から電解メッキ液を供給するとともに、第１電極１３１と第２電極１２６との間に給電して、基板Ｗの処理面Ｗｓに電解メッキで所定の厚さのメッキ層を形成する。 - 特許庁

Thus, when the valve element 22 of the air current control valve 17 is held in the valve opening position, air flowing in the turning direction with the curve center line Ca as the center by passing through the sub-intake manifolds 13a and 13b, flows in the orthogonal direction to the thickness direction of the valve element 22 toward the air current control valve 17.例文帳に追加

このため、気流制御弁１７の弁体２２が開弁位置に保持されているとき、サブインテークマニホールド１３ａ，１３ｂを通過することで上記湾曲中心線Ｃａを中心とする旋回方向に流れる空気は、気流制御弁１７に向けて上記弁体２２の厚さ方向に対し直交する方向に流れる。 - 特許庁

To break a material through the whole thickness while keeping high positional accuracy and a clean state free from generation of cullet in a brittle material such as glass having on the surface layer a scribing line due to thermal stress induced by heating by irradiation with laser beam and cooling by spraying a cooling liquid.例文帳に追加

レーザビーム照射による加熱と冷却液噴霧による冷却によって惹起される熱応力に起因して、表面層にスクライブ線を発生させたガラスなどの脆性材料において、高い位置精度やカレット発生のないクリーン状態を維持したまま、材料の全厚みにわたってブレークを行うこと。 - 特許庁

The unit for automatically regulating the thickness of a thin film-like element to be continuously manufactured in line and manually operating a plurality of regulators comprises a display unit for displaying thicknesses of positions corresponding to the regulators having a width substantially the same as the entire width of the plurality of the regulators.例文帳に追加

連続で製造される薄膜状体の厚みをインラインで自動測定し、且つ複数の調整具を手動で操作することによってその厚みの調整を行う装置において、該複数の調整具の全幅とほぼ同じ幅のもので、それぞれの調整具とほぼ対応する箇所の厚みが表示される表示具を有するもの。 - 特許庁

When a pen tip of a tablet pen 1 is touched with a specific area corresponding to a mode specification box, and an accessory button 7 is turned on, the state of a drawing element (e.g. the thickness of a line which is a drawing element) is set on the basis of the rotational angle of the tablet pen 1 around the longitudinal axis of the pen 1.例文帳に追加

タブレットペン１のペン先がモード指定ボックスに対応する特定領域に接触され、付属ボタン７がオン操作されている場合に、タブレットペン１の長手方向の軸回りの回転角度に基づいて描画要素の状態（例えば、描画要素である線の太さ）を設定するようにした。 - 特許庁

The surface emitting laser element comprises a GaAs layer 16 having a thickness exhibiting a high reflectivity to an oscillation wavelength and formed on an upper DBR mirror 14, and a recess 42 of a depth exhibiting a low reflectivity to the oscillation wavelength at the GaAs layer 16 directly under a position bridged over the extension line of the boundary between an Al oxide layer 32 and an AlAs layer 31 on the GaAs layer 16.例文帳に追加

上部ＤＢＲミラー１４上に、発振波長に対して高い反射率を示す厚みのＧａＡｓ層１６を形成するとともに、そのＧａＡｓ層１６上であってＡｌ酸化層３２とＡｌＡｓ層３１の境界の延長線上をまたいだ位置に、直下のＧａＡｓ層１６が発振波長に対して低い反射率を示す厚みとなるような深さの窪み４２を形成する。 - 特許庁

A surface 28 to be ground of a thin finished semiconductor wafer 27 is dry-etched by using a mask 29 composed of a resist, and a rib 30 is formed corresponding to a scribe line 24 by leaving the thickness of a substrate 20 behind, and a cavity 31 corresponding to a chip 23 is recessed so as to encircle the cavity with the rib 30.例文帳に追加

薄仕上げ半導体ウエハ２７の被研削面２８にレジストからなるマスク２９を使用してドライエッチングを施し、スクライブライン２４に対応したリブ部３０をサブストレート２０の厚みを残して形成し、チップ部２３に対応した窪み３１をリブ部３０で囲むように陥没させる。 - 特許庁

The fluorescent lamp comprises an arc tube, a plurality of filaments which are provided inside the arc tube and have a different line thickness, a temperature sensor for detecting a temperature of the arc tube, and a lighting control part which, upon receiving a lighting signal instructing lighting, supplies current to the plurality of filaments according to the detection result of the temperature sensor.例文帳に追加

発光管と、発光管の内部に設けられ、線径がそれぞれ異なる複数のフィラメントと、発光管の温度を検出する温度センサと、点灯を指示する旨の点灯信号が入力されると、温度センサの検出結果に応じて複数のフィラメントに電流を供給する点灯制御部と、を有する。 - 特許庁

The conductor of a power supply line 1 using high-frequency current sectionally has spaces 4a, 4b dividing a thickness at least in one direction out of directions vertical to the direction of a magnetic flux generated by the current, constitutes a conductive member comprising a conductor 2 except for the spaces 4a, 4b as a single structure, and arranges an insulator 3 outside the conductive member.例文帳に追加

高周波用給電線１の導体部は、断面視で、電流により生じる磁束の向きに垂直な方向のうち、少なくとも一方向における厚みを分断する空間部４ａ、４ｂを有するとともに、空間部４ａ、４ｂ以外の導体２からなる導体部位を一連となるように形成し、導体部外方に絶縁物３を配してある。 - 特許庁

A fluid for roadworks is applied on a road through the opening sections 98 of a conductive plate 94 in a roadwork device, and the device is constituted of a regulator capable of adjusting the line width and layer thickness of the fluid for the roadworks applied on the road by adjusting the quantity of the fluid for the road works passing through the opening sections passed in a form of the opening sections.例文帳に追加

道路工事用流体を導通板９４の開口部９８を通して道路に塗布する道路工事装置であり、開口部を通る道路工事用流体の通過量を該開口部の形で調節することによって、道路に塗布する道路工事用流体の線幅および層厚を調整出来る調節装置で構成した。 - 特許庁

The noise suppressing sheet is made of Ni-Zn ferrite sintered body having a thickness of 30-400 μm, a volume resistivity of 1.0×10^0 to 1.0×10^3 Ωm, and as a result of an evaluation by microstrip line, having achieved an amount of reflection at 1 GHz of ≤-20 dB and an amount of absorption of ≥25%.例文帳に追加

厚さが３０〜４００μｍであり、体積抵抗率が１．０×１０^０〜１．０×１０^３Ωｍであり、マイクロストリップラインでの評価において、１ＧＨｚでの反射量が−２０ｄＢ以下であって吸収量が２５％以上であるＮｉ−Ｚｎフェライト焼結体からなるノイズ抑制シートである。 - 特許庁

Support members 2 abutting on the mirror outer shell part 1b of a rear view mirror 1 are provided inside this rear view mirror cover A made of synthetic resin formed in almost uniform wall thickness with stream- line cross-sectional shape projected frontward from the mirror outer shell part 1b, and used being fitted to the outer periphery of the mirror outer shell part 1b and bonded with an adhesive double coated tape.例文帳に追加

ドアミラー１のミラー外殻部１ｂよりも前方へ突出した流線形の断面形状で且つ略均一な肉厚に成形され、ミラー外殻部１ｂに外嵌し且つ両面テープで接着して使用するように構成された合成樹脂製ドアミラーカバーＡの内部に、ミラー外殻部１ｂと当接する支持材２を設ける。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which is excellent in roughness performance such as line width roughness, local pattern dimension uniformity, and exposure latitude and capable of suppressing reduction in film thickness (so-called film reduction) at a pattern portion formed by development, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition used in the method, and a resist film.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜の提供。 - 特許庁

The laser beam becomes a condensing beam C, which is positioned at the almost central part of the fragile material 2 and becomes half or above the thickness of the fragile material 2 in focal depth, by the condensing means and, when the condensing beam is moved along a dividing and cutting scheduled line by a moving means 5, a modified region T is formed to a part where the condensing beam passes.例文帳に追加

上記集光手段により、レーザ光は脆性材料２の略中央に位置し、焦点深度が板厚の半分以上となる集光線Ｃとなり、移動手段５が上記集光線を割断予定線に沿って移動させると、集光線が通過した部分に改質領域Ｔが形成される。 - 特許庁

To prevent the reduction of quality of a product and the occurrence of product loss by automatically calculating turret inversion diameter and setting it again if conveyance speed for the whole paper is changed when joining-adding diameter and thickness of the whole paper are inputted to start joining-adding connection securely, improve throughput of the whole line, and reduce cost.例文帳に追加

継ぎ足し径及び原反の厚さを入力しておくと、原反の搬送速度が変更されたとき、ターレット反転径が自動的に算出されて設定し直されるようにして、製品の品質が低下したり、製品ロスが発生したりすることがなく、継ぎ足し接続を確実に開始することができ、ライン全体のスループットが向上し、コストが低下するようにする。 - 特許庁

The electron guns are provided with electrodes arrayed in-line and equipped with three passing holes for electron beam to pass through with their plate thickness of a bridge part made between the adjoining passing holes 1S, 1C and that of a bridge part made between the passing hole 1S and an outer wall formed thinner than that of a parent material of the electrodes.例文帳に追加

インラインに配列され、電子ビームが通過する３個の通過孔を有し、隣接する通過孔１Ｓ、１Ｃの間にできるブリッジ部の板厚、および上記通過孔１Ｓと外壁との間にできるブリッジ部の板厚を電極の母材の板厚より薄く形成した電極を備えたことを特徴とするカラー陰極線管用電子銃。 - 特許庁

To provide a sputter electrode structure having a magnet mechanism in which a sputter target has a truncated-conical side view shape, and is arranged to obtain the line of magnetic force, the film thickness distribution is improved by changing the magnetic field generated by a magnet mechanism of a simple structure, and erosion of the sputter target is uniformized.例文帳に追加

この発明は、スパッタターゲット材が円錐台側面形状をなし、前記円錐台側面形状に沿った磁力線を得るように配されたマグネット機構を有するスパッタ電極構造において、簡易な構造でマグネット機構によって生じる磁界を変化させて、膜厚分布を向上させると共にスパッタターゲットのエロージョンを均一化させることにある。 - 特許庁

To provide a vehicular head light configured to form a predetermined light distribution pattern having a cutoff line on its upper edge by the light irradiation from a plurality of lighting fixture units, optical axes of which units are adapted to be collectively adjusted while the thickness reduction of the lighting fixtures are achieved without complicating the lighting fixture structure.例文帳に追加

複数の灯具ユニットからの光照射により、上端縁にカットオフラインを有する所定の配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、灯具の薄型化を図った上で、灯具構成を複雑化することなく、複数の灯具ユニットの光軸調整を一括して行えるようにする。 - 特許庁

To obtain a translucency lutetium oxide sintered body of which in-line transmittance in a visible wavelength region of 400 to 800 nm at a thickness of 1 mm is 60% or more using a general-purpose raw material instead of a special raw material in which the content of silicon is particularly reduced without using aluminum that readily segregates in grain boundaries of lutetium oxide.例文帳に追加

この発明は、酸化ルテチウム焼結粒界へ析出し易いアルミニウムを用いずに、しかも珪素含有量を特に低減するなど特殊な原料でなく、汎用の原料を用いて厚さ１mm時の可視光帯域波長４００〜８００nmにおける直線透過率が６０％以上となる透光性酸化ルテチウム焼結体を得ようとするものである。 - 特許庁

The wire 17 is constituted by coating the entire of the base material 26 of the wire 17 with dissimilar metal 19 having conductivity different from that of metal serving as the base material 26 into a prescribed thickness, and by melting the dissimilar metal at both ends of the wire 17, the ultrasonic transducers and the signal line 11 are connected electrically through the wire 17.例文帳に追加

ワイヤー１７の基材２６となる金属と異なる導電性の異種金属１９を所定の厚さでその基材２６全体にコーティングすることによりワイヤー１７を構成し、ワイヤー１７の両端部における異種金属を熔解させることによりワイヤー１７を介して超音波振動子と信号線１１とを電気的に接続する。 - 特許庁

To provide a target for magnetron sputtering in which the sputtering rate in the corner part can be made equal to that in the straight line part even when the conventional magnetron sputtering system is used, and which can effectively be consumed at least in the truck-shaped elliptical part, and allows to widen an effective range where film is deposited so as to have a uniform film thickness.例文帳に追加

従来のマグネトロンスパッタリング装置を用いても、ターゲットのコーナー部のスパッタリングレートを直線部のスパッタリングレートと同等のものとし、少なくともトラック状の長円形部分においてはターゲットを有効に消耗させることのできる、また、均一な膜厚に成膜される有効範囲を広くすることのできるマグネトロンスパッタリング用ターゲットを提供すること。 - 特許庁

To solve problems that in a method commonly used for applying a two-liquid mixture material to apply the material in a continuous line from a mixer onto a substrate and to sandwiching the material with another substrate, the polymerization degree differs depending on the coating position in the sandwiching process and this results in irregular film thickness and adverse influences on the beam form during recording/reproducing a hologram.例文帳に追加

２液混合型材料の塗布でよく用いられる、ミキサーより連続した線状に基板上に塗布し、その後もう１枚の基板でサンドイッチする方法では、サンドイッチ時に塗布位置によって重合の程度が異なり、それが膜厚のむらをもたらし、ホログラム記録／再生時の光ビーム形状に悪影響をもたらす。 - 特許庁

The line width of at least one of the common electrode and the pixel electrode is larger than an interval between the common electrode and the pixel electrode, and the film thickness of at least one of the common electrode and the pixel electrode is larger than that of at least one of the scanning signal lines and the video signal lines.例文帳に追加

前記共通電極及び前記画素電極の少なくとも何れか一方の線幅は、前記共通電極と前記画素電極との間の間隙よりも大きく、かつ、前記共通電極及び前記画素電極の少なくとも何れか一方の膜厚は、前記走査信号線及び映像信号線の少なくとも何れか一方の膜厚よりも大きい。 - 特許庁

To enhance precision of belt length, produce an accurate tooth profile and shorten forming time by preparing a belt having a small tooth pitch by reducing variations in rubber thickness and stabilizing the pitch line of a core wire by using a sail cloth having an unvulcanized rubber stuck thereon.例文帳に追加

未加硫ゴムを付着した帆布を使用することによって、ゴム厚みのバラツキを小さくして歯部ピッチの小さいベルトを作製し、また心線のピッチラインを安定化させることによってベルトの長さ精度を向上させ、しかも正確な歯形を出現させ、そして成形時間を短縮することができる両面歯付ベルトの製造方法を提供する。 - 特許庁

The halftone phase shift mask is produced by forming a MoSi-based halftone phase shift film having a film thickness giving a phase difference of ≤135° on a quartz glass substrate and engraving the quartz glass substrate with high perpendicular property and in-plane uniformity by dry etching by magnetic neutral line discharge plasma.例文帳に追加

本発明によるハーフトーン型位相シフトマスクは、石英ガラス基板上に、位相差が１３５°以下となるような膜厚をもつＭｏＳｉ系のハーフトーン位相シフト膜を設け、磁気中性線放電プラズマによるドライエッチングで石英ガラス基板を垂直性よく且つ面内均一性よく掘り込んで構成される。 - 特許庁

The adhesive seal capable of coloring is provided with an adhesive layer outer peripheral edges of which are formed by being fitted to an outer peripheral shape of a desired pattern, a colorant supporting layer formed on the adhesive layer and a contour line which is formed on a surface of the colorant supporting layer, defines contour lines of the pattern and has desired thickness and desired width.例文帳に追加

ぬり絵可能な粘着シールは、外周縁が所望の図柄の外周形状に合わせて形成された粘着層と、該粘着層の上に形成された着色材支持層と、該着色材支持層の表面に形成されていて図柄の輪郭を画成する輪郭線であって、所望の厚さ及び所望の幅を有する輪郭線とを備え - 特許庁

A transparent conductive film 11 and a conductive network 12 composed of a conductive material whose resistivity is lower than that of the transparent conductive film 11, having a line width of ≤50 μm and thickness of ≥200 Å and arrayed like a net use a transparent electrode substrate 1 laminated on a flexible transparent substrate 10 as at least one electrode.例文帳に追加

透明導電膜１１と、透明導電膜１１よりも抵抗率が小さい導電性材料からなる線幅が５０μｍ以下であり、厚みが２００Å以上である網目状に配列した導電ネットワーク１２と、が可撓性透明基板１０の上に積層された透明電極基板１を少なくとも一方の電極としている。 - 特許庁