「top-layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(62ページ目) - Weblio英語例文検索

A physical part 50 of the atomic oscillator has a heater 25, an optical element layer 15, a Peltier element 21, and an inclined member 35, stacked in this order, outside one window part 2 of the gas cell 10, and a VCSEL 30 and a photosensor 40 are arranged on inclined surfaces formed from a top of inclination of the inclined part 35 to both sides.例文帳に追加

原子発振器の物理部５０は、ガスセル１０の一方の窓部２の外側にヒータ２５、光学素子層１５、ペルチェ素子２１、傾斜部材３５がこの順に重ねられ、傾斜部材３５の傾斜の頂部から両側に形成された傾斜面にＶＣＳＥＬ３０およびフォトセンサ４０が配置されている。 - 特許庁

The protecting surface of a weather-resistant steel is coated with a colored organic-inorganic composite top-coating layer having a gloss retention of ≥85% after the accelerated weathering test with a sunshine weather meter for 300 hr and a dried film thickness of 20-40 μm.例文帳に追加

耐候性鋼表面に、（１）１分子中に１個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂と、エポキシ基と反応し得るアミノ基と、ケイ素原子に直接結合している加水分解性基とを有する有機ケイ素化合物とを反応させて得られる加水分解性基含有エポキシ樹脂（成分Ａ）と、一般式（１）、 Ｒ^1_nＳｉ（ＯＲ^2）_4-n 〔式中、Ｒ^1は、炭素数１〜８の有機基であり、Ｒ^2は、炭素数１〜５のアルキル基であり、ｎは、１又は２である。 - 特許庁

A conductive substrate, semiconductor particulates in which a photosensitized colorant is occluded, a lamination body including a charge transfer layer and a counter electrode are sealed with a sealing agent to compose the photo-electrochemical battery, and a tube is mounted in a hole provided in the photo-electrochemical battery and a top end and/or an inner portion of the tube is sealed by using glass frit.例文帳に追加

導電性基板、光増感色素を吸着させた半導体微粒子、電荷移動層及び対極を含む積層体を、封止剤で封止してなる光電気化学電池において、光電気化学電池に設けられた穴に管が装着されており、管の先端及び/又は内部がガラスフリットを用いて封止されていることを特徴とする光電気化学電池。 - 特許庁

In a ceramic multilayer substrate consisting of a laminate 33 having a surface electrode 30 on the main surface thereof, constraint layers 26 are formed inside the laminate 33 one on top of another as viewed from a laminated direction of the laminate 33, the area of the main surface of each constraint layer 26 being twice or less that of the surface electrode 30.例文帳に追加

表面電極３０を主面に備えた積層体３３からなるセラミック多層基板において、表面電極３０に対して、積層体３３の積層方向から見て重なるように積層体３３の内部に拘束層２６が形成されており、拘束層２６の主面の面積は、表面電極３０の主面の面積の２倍以下である。 - 特許庁

A strap body is made up of a polygonal soft plate, featuring stacking of adhesive layers on the surface of the strap body, a plurality of magnet pieces storing holes are provided in all top directions of the strap body, magnet pieces are stored in the holes, and a release sheet is layered over the surface of the adhesive layer.例文帳に追加

絆創膏主体は多角形状に形成された軟質板からなり、該絆創膏主体の表面には粘着剤層を積層してあり、該絆創膏主体の各頂部方向の位置に複数個の磁石片収容孔を穿設して、該各収容孔にそれぞれ磁石片を収容すると共に、前記粘着剤層の表面に剥離シートを被覆していることを特徴とする磁気治療用絆創膏。 - 特許庁

The method for forming a multi-layer coating film wherein the primer, intermediate, and top coating films are successively applied to a material having a rough surface texture or a material having a partially worsened surface texture caused by a molding process or the like, employes an active energy beam curable paint as a primer paint.例文帳に追加

表面形状の粗い素材、または成形加工等により部分的に表面形状が悪化した素材に対し、プライマー塗膜、中塗り塗膜及び上塗り塗膜を順次形成する複層塗膜形成方法において、プライマー塗料として活性エネルギー線硬化型塗料を用いることを特徴とする複層塗膜形成方法。 - 特許庁

To provide a method for vapor growth of nitride semiconductors, which solves the conventional problem to be caused by excessive supply of material in the top of a growth layer which is generated at the time of selective growth, and is used for manufacturing a nitride semiconductor element wherein element characteristic like light emitting characteristic is superior, and to provide a nitride semiconductor element manufactured by the method.例文帳に追加

選択成長の際に生ずる成長層の頂上部では原料供給過多に起因する従来の問題を解決し、発光特性などの素子特性の優れた窒化物半導体素子を製造するための窒化物半導体を気相成長する方法と、それによって製造される窒化物半導体素子を提供する。 - 特許庁

To provide an organic electroluminescence display device having a gas vent groove through which residual gas is discharged on a pixel definition film at the top part of a first electrode to prevent malfunction that a donor film is not transcribed to a transcription area due to condensed gas remaining in the pixel in case that a luminous layer is formed with the laser transcription process when manufacturing the organic electroluminescent display device.例文帳に追加

有機電界発光表示装置の製造に際して，発光層をレーザ転写法で形成する場合，画素の内部に残留する凝縮ガスに起因して，転写領域にドナーフィルムが転写されない不良を防止するために，第１電極の上部の画素定義膜に，残留ガスが排出されるガスベント溝が形成された有機電界発光表示装置を提供すること。 - 特許庁

In this furnace operating method for recovering molten metal by blowing the raw material containing halogen into the dry smelting furnace having at least a plurality of two-staged upper and lower tuyeres for blowing high-temperature air into a filling layer of carbon solid reducing agent, soda ash slag and/or soda ash itself generated in another smelting step is charged from the furnace top of the dry smelting furnace.例文帳に追加

炭素系固体還元剤の充填層に高温空気を吹き込む上下少なくとも２段に設けられた複数の羽口を有する乾式製錬炉に、ハロゲン元素を含む原料を吹き込み、溶融金属を回収する乾式製錬炉の操業方法において、前記乾式製錬炉の炉頂から、他の精錬工程で発生したソーダ灰系スラグ及び／又はソーダ灰自体を装入する。 - 特許庁

The TFT element has a top gate structure in which a gate electrode layer 17 is arranged on a channel region, a TFT channel is protected by the gate electrode, and the TFT element is never turned ON by a back gate effect even if a potential varies corresponding to the output of the sensor discrete electrode so that the TFT element can be set stable in characteristics.例文帳に追加

ＴＦＴ素子のゲート電極層１７をチャネル領域の上に配置するトップゲート構造として、ＴＦＴチャネル部をゲート電極で保護し、センサ個別電極の出力に応じた電位変動があっても、ＴＦＴ素子がバックゲート効果によりＯＮすることなく、安定したＴＦＴ特性を得る。 - 特許庁

When a hydrogen radical is discharged from a nozzle 25e at a stage where all via holes are formed at necessary places on a substrate W by a laser drill main body 13, the hydrogen radical reduces the bottoms of the respective via holes, so the top surface of a metal conductive layer of Cu, etc., oxidized by desmearing in drill machining is reduced and purified to form a metal surface.例文帳に追加

レーザドリル本体１３によって基板Ｗ上の必要箇所にすべてのビアホールを形成した段階で、ノズル２５ｅから水素ラジカルを吐出させると、水素ラジカルが各ビアホールの底部を還元するので、ドリル加工中のデスミヤに際して酸化されたＣｕ等の金属導電層の表面を還元・純化して、金属表面とすることができる。 - 特許庁

The sealing material is provided with a band like body 30 capable of slidably contacting the side seal, and a thermoplastic adhesive layer 32 integrated with a whole bottom area of the band like body, not melting in ordinary temperature, and capable of adhering the band like body to the top face of the guide rail by melting when heated to a temperature of melting point or more.例文帳に追加

このシール材は、サイドシールに摺接可能な帯状体３０と、この帯状体の下面全域に一体化されており、常温では溶融せず、融点以上の温度で加熱することで溶融して案内レールの上面に帯状体を接着可能とする熱可塑性の接着層３２とを備えている。 - 特許庁

A light shining coating layer 23 is formed by dispersing many light shining members made of fine glass beads 25 on the reverse surface of a light-transmissive dial main body part 22 and many convex microlens bodies 24 of 100 to 200 μm in diameter and ≥5 μm in thickness are arrayed in matrix on the top surface of the dial main body part 22.例文帳に追加

光透過性を有する文字板本体部２２の下面に微小なガラスビーズ２５などからなる光輝部材を多数分散させた光輝塗膜層２３を形成すると共に、前記文字板本体部２２の上面に凸状で直径が１００〜２００μｍ、厚みが５μｍ以上の微小レンズ体２４を多数マトリックス状に配列させた。 - 特許庁

Further, the semiconductor storage has a third contact plug 17, so formed extendedly through between the first and second upper-layer insulating hydrogen barrier films 15a, 15b present in the interlayer insulating film 16 as not to come into contact it with the films 15a, 15b, and as to connect its lower end with the top surface of a semiconductor substrate 1.例文帳に追加

層間絶縁膜１６における第１の上層絶縁性水素バリア膜１５ａと第２の上層絶縁性水素バリア膜１５ｂとの間を貫通して延びると共に、第１及び第２の上層絶縁性水素バリア膜１５ａ及び１５ｂと接触しないように形成されており、下端が半導体基板１の上面と接続する第３のコンタクトプラグ１７とを備える。 - 特許庁

When a wiring groove 8 and a contact hole 6 are formed on a substrate 1 with different depth using a dual damascene method, a first stopper film 9 is formed on the top layer of the film, and a second stopper film 4 is formed at such position as depth of the bottom part of the wiring groove 8, with formation of the wiring groove 8 performed in separate 2-stage processes.例文帳に追加

デュアルダマシン法を用いて、基板１上の膜に配線溝８及びコンタクトホール６をそれぞれ深さを異ならせて形成するにあたって、前記膜の最上層に第１のストッパー膜９を形成し、配線溝８の底部深さ位置に第２のストッパ膜４を形成し、配線溝８の形成を２段階の工程に分けて行う。 - 特許庁

A band-shaped conductive material is diced to form an irregular conductive member 4 having concaves 2a and 2b on top and bottom surfaces a and b and having convexes 3c and 3d on side surfaces c and d, and a molten solder is supplied to concaves 2a and 2b of the irregular conductive member 4 to form a flat molten solder plating layer 5.例文帳に追加

帯板状導電材をダイス加工することによって、上下面ａ、ｂには凹面２ａ、２ｂを有すると共に側面ｃ、ｄには凸面３ｃ、３ｄを有する凹凸導電材４を形成し、凹凸導電材４の凹面２ａ、２ｂに溶融はんだを供給して溶融はんだめっき層５を平坦に形成した。 - 特許庁

A composition containing a hydrophilic polymer having a photoactive group in at least a side chain or an end is brought into contact with the top of a hydrophobic support, energy is imagewise imparted to fix the hydrophilic polymer on a hydrophobia polymer-containing layer, thereby forming a hydrophilic pattern, and then a coloring material is stuck to the hydrophilic pattern or to a hydrophobic region with no imparted energy.例文帳に追加

疎水性支持体上に、少なくとも側鎖又は末端に光活性基を有する親水性ポリマーを含有する組成物を接触させ、画像様にエネルギーを付与して、疎水性ポリマー含有層上に該親水性ポリマーを固定化して親水性パターンを形成し、該親水性パターン、或いはエネルギーを付与されていない疎水性領域のいずれかに色材を付着させることを特徴とする。 - 特許庁

The multilayer wiring board consists of a resin laminate, made by stacking a plurality of build-up layers, each comprising an insulation layer and a wiring pattern; first and second solder resist layers formed on the top and bottom faces of the resin laminate, respectively; and electrode pads formed on the first and second solder resist layers, respectively; and the first and second solder resist layers contain glass cloth.例文帳に追加

多層配線基板は、各々絶縁層と配線パターンよりなる複数のビルドアップ層を積層した樹脂積層体と、前記樹脂積層体の上面および下面に形成された第１および第２のソルダレジスト層と、前記第１および第２のソルダレジスト層の各々に形成された電極パッドとよりなり、前記第１および第２のソルダレジスト層は、ガラスクロスを含む。 - 特許庁

This manufacture comprises the steps of forming a bottom silicon oxide film HTO1 on a polycrystalline or amorphous silicon layer by high-temperature chemical vapor deposition(HT-CVD), forming an intermediate silicon nitride film SiN on the bottom silicon oxide film HTO1 by chemical vapor deposition(CVD) and forming a top silicon oxide film HTO2 on the intermediate silicon nitride film SiN by HT-CVD.例文帳に追加

多結晶または非晶質のシリコン層上に、ボトム酸化シリコン膜ＨＴＯ１を高温化学的気相堆積（ＨＴ−ＣＶＤ）により成膜する工程と、ボトム酸化シリコン膜ＨＴＯ１上に、中間窒化シリコン膜ＳｉＮを化学的気相堆積（ＣＶＤ）により成膜する工程と、中間窒化シリコン膜ＳｉＮ上に、トップ酸化シリコンＨＴＯ２をＨＴ−ＣＶＤにより成膜する工程とを有する。 - 特許庁

A fiber mount device 2 includes a fiber sub-mount body 31 comprising ceramic transmitting a laser beam of prescribed wavelength, a bonding pad 33 provided on the top face of the fiber sub-mount body 31, and a laser absorption layer 32 provided on at least part of undersurface of the fiber sub-mount body 31 and for absorbing the laser beam of prescribed wavelength.例文帳に追加

ファイバマウント装置２は、所定波長のレーザ光を透過するセラミックから成るファイバサブマウント本体３１と、ファイバサブマウント本体３１の上面に設けられるボンディングパッド３３と、ファイバサブマウント本体３１の下面の少なくとも一部に設けられ、所定波長のレーザ光を吸収するレーザ吸収層３２と、を備える。 - 特許庁

The multilayer coating film forming method is carried out by applying a base coat coating material (A) containing a flake like luster pigment, applying a matte clear coating material (B) containing a gloss adjusting agent on the resultant film and applying a top clear coating material as a coating material forming an uppermost layer.例文帳に追加

本発明は、基材上に鱗片状光輝性顔料を含んでなるベースコート塗料（Ａ）を塗装して得られた塗膜上に、さらに艶調整剤を含んでなる艶消しクリヤー塗料（Ｂ）を塗装して得られた塗膜上に、最上層を形成する塗料としてトップクリヤー塗料を塗装する複層塗膜形成方法及び塗装物品に関するものである。 - 特許庁

A first element isolating insulation film is provided which is buried in an element isolation groove provided on the semiconductor substrate, and the bottom face of which is lower than the height of a face at which the semiconductor substrate and the tunnel insulation film are contacted and the top face of which is lower than the height of a face at which the charge storage layer and the block insulation film are contacted.例文帳に追加

前記半導体基板に設けられた素子分離溝部に埋め込まれ、底面が前記半導体基板と前記トンネル絶縁膜の接する面の高さよりも低く、かつ上面が前記電荷蓄積層および前記ブロック絶縁膜の接する面の高さよりも低い第１の素子分離絶縁膜が設けられる。 - 特許庁

This method of treating oil component-containing waste liquid comprises: a flowing-in process of causing the oil component-containing waste liquid to flow into a trap tank; an agitation process of agitating only an upper part of an aqueous solution layer in the trap tank; and an oil oxidizing agent supply process of supplying the oil oxidizing agent saponifying the oil component from the top of the trap tank.例文帳に追加

油成分を含有する廃液を処理する方法であって、油成分を含有する廃液がトラップ槽内に流入する流入工程と、前記トラップ槽内の水溶液層の上層部のみを攪拌させる攪拌工程と、前記油成分を石鹸化する脂肪酸化剤を前記トラップ槽の上から供給する脂肪酸化剤供給工程とを具備する。 - 特許庁

A light emitting device includes: a light emitting element 20 that emits light by being supplied with power; a light reflection portion 30 formed around the light emitting element 20 excluding the top surface; a wavelength conversion layer 40 formed so as to cover all of the light emitting element 20 and the light reflection portion 30; and a submount element 50 protecting the light emitting element 20 from excessive voltage.例文帳に追加

電源が供給されることで発光する発光素子２０と、発光素子２０の天面を除く周囲に形成された光反射部３０と、発光素子２０および光反射部３０の全体を覆うように形成された波長変換層４０と、過度な電圧から発光素子２０を保護するサブマウント素子５０とを備えた。 - 特許庁

Holes 16, which penetrate a conductor pad 15 and an insulating layer on the top surface of a multilayer wiring substrate 12 having the conductor pad 15, are provided on the conductor pad part 15 of the multilayer wiring substrate 12 where a flip chip is mounted, the bump of a flip chip 11 is press fitted into the holes 16, and the flip chip 11 is mounted on the multilayer wiring substrate 12.例文帳に追加

フリップチップが取付けられる多層配線基板の導体パッド部にこの導体パッドと導体パッドが形成されている多層配線基板の最表面の絶縁層とを貫通する穴を設け、この穴にフリップチップのバンプを圧入してフリップチップを多層配線基板に取付けるものである。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a laminate with high accuracy which prevents the deterioration of parallelism between top and bottom of the laminate and the occurrence of collapsing layer stacking, which are caused by variation in thickness among sheets, and/or which are not affected by variation in thickness among sheets in manufacturing the laminate, by stacking multiple sheets and dowel crimping these layers into one plate body.例文帳に追加

複数枚の単板を積層し、その積層間をダボかしめて一体化することによって積層体を形成する積層体の製造方法において、単板の板厚偏差による積層体の上下面の平行度の悪化や座くずれなどの発生を防止し、板厚偏差の大小に影響されない高精度の積層体の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a process in which the photosensitive resin film 2 is adhered to the top face of ribs 13 in a state to cover the dielectric layer 12 of the rear substrate 1, a process in which openings 21 for applying the phosphor paste 4 on the photosensitive resin film 2 are formed, and a process in which the phosphor paste 4 is applied from the openings 21.例文帳に追加

感光性樹脂フィルム２を、背面基板１の誘電体層１２を覆うように、リブ１３の上面と接着させる工程と、感光性樹脂フィルム２に蛍光体ペースト４を塗り込むための開口部２１を形成する工程と、この開口部２１から、蛍光体ペースト４を塗り込む工程と、を有する方法としてある。 - 特許庁

The heatsink includes a first radiating fin 4 bonded to the top of a high heat generating LSI 3, an inner layer pattern which is formed in a printed board 1 with the high heat generating LSI 3 disposed on the printed board 1 and dissipates heat from the high heat generating LSI 3, and a second radiating fin 25 bonded on the printed board 1 to dissipate heat transmitted from the inner pattern.例文帳に追加

高発熱ＬＳＩ３の上部に接着された第１の放熱フィン４と、高発熱ＬＳＩ３がその上に搭載されているプリント板１の内部に高発熱ＬＳＩ３の熱を逃がす内層パターンと、該内層パターンから伝達された熱を放熱するために、プリント板１上に接着された第２の放熱フィン２５と、を設けて構成される。 - 特許庁

In the silver halide photographic emulsion containing a dispersion medium and silver halide grains, when the average silver iodide content of the principal plane part and side part of the top layer is represented by I1 (mol%) and I2 (moil%), respectively, plate-like silver halide grains which satisfy I1>I2 are contained by ≥50% by number and the emulsion is sensitized by reduction.例文帳に追加

分散媒とハロゲン化銀粒子を含むハロゲン化銀写真乳剤において、最表層の平均沃化銀含有率を主平面部でＩ_1（モル％）、側面部でＩ_2（モル％）としたとき、Ｉ_1＞Ｉ_2である平板状ハロゲン化銀粒子を５０％以上（個数）含有し、かつ還元増感されていることを特徴とするハロゲン化銀写真乳剤。 - 特許庁

This seismic isolation structure has dampers made by elastic members arranged radially between an inner frame and an outer frame which are placed at several places of mat foundation having a flat bottom surface; also a mat foundation with a strut inserted to an inner frame of the dampers are formed on a flat top surface below the mat foundation and gravel having similar grading is laid in one layer in this seismic isolation structure.例文帳に追加

下面が平面であるベタ基礎の所要箇所に、内枠と外枠の間に弾性部材を放射状に配設して成るダンパーを内蔵させ、また、前記ベタ基礎の下方には、その上面を平面とし、且つ、前記ダンパーの内枠に嵌入する支軸を立設した基盤を形成し、該基盤と前記ベタ基礎の間には、略等粒の玉砂利を一層にして敷きつめて成る構成の免震構造とする。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel including a top-gate TFT as a switching element and a light shielding film shielding the TFT from light, which prevents disappearance of the light shielding film due to over-etching even when Mo is used as a material of the light shielding film and a coating insulating layer of the light shielding film is dry-etched to expose a surface of Mo.例文帳に追加

スイッチング素子としてのトップゲート式ＴＦＴと、前記ＴＦＴを遮光するための遮光膜とが設けられた液晶表示パネルにおいて、遮光膜の材料としてＭｏを採用し、遮光膜の被覆絶縁層にドライエッチング処理を施してＭｏの表面を露出させる場合にも、オーバーエッチングによる遮光膜の消失を防げるようにした液晶表示パネルを提供すること。 - 特許庁

This polyimide film 4 is formed over the entire surface of a substrate including a metal layer (pad electrode) 1 made of an aluminum film, which is exposed from a passivation film 3 and has a cap metal 2, made of a titanium nitride film, stacked on the top surface, and a resist film formed on the polyimide film 4 is used as a mask to remove the polyimide film 3 on the pad electrode 1.例文帳に追加

パッシベーション膜３から露出し、その上面にチタンナイトライド膜から成るキャップメタル２が積層されたアルミニウム膜から成る金属層（パッド電極）１を含む基板全面にポリイミド膜４を形成し、前記ポリイミド膜４上に形成したレジスト膜をマスクにして前記パッド電極１上のポリイミド膜３を除去する。 - 特許庁

Cross-shaped notches 5 to 8, rectangular slots 9 to 12, and a square slot 13 are provided on a radiating conductor 1 disposed on the top surface of a dielectric layer 3 in such directions as to elongate the path of a current flowing on the surface of the radiating conductor 1, by which a microstrip antenna can be reduced in resonant frequency and size.例文帳に追加

誘電体層３の上面に配置された放射導体１面上を流れる電流１４の経路を長くする方向に、十字状の切り込み５〜８及び長方形状のスロット部９〜１２と正方形状のスロット部１３を設ける構成とすることにより、共振周波数を下げ、小型化を図る。 - 特許庁

The two-layer graphene films contributing to a conduction is used for the channel, a fixed electric charge is introduced to the channel, and also a top gate or dual gate type gate electrode is configured so that an electric field can be applied to a vertical direction to the channel, to form a field-effect type transistor of an inverting type or normally-on type operation.例文帳に追加

伝導に寄与する二層のグラフェン膜をチャネルとし、該チャネルに固定電荷を導入し、かつ該チャネルに垂直方向に電界を印加可能のように、トップゲートあるいはヅアルゲート型のゲート電極を構成し、反転型あるいはノーマリ・オン型動作の電界効果型トランジスタとする。 - 特許庁

A chuck top conductive layer is formed on the surface of a ceramic substrate, a guard electrode and/or a ground electrode is formed inside the ceramic substrate, and a through-hole is formed so as to be electrically connected with one or both the guard electrode and the ground electrode, and so as to be electrically connected with an outside terminal so that a ceramic substrate to be used for a wafer prober can be constituted.例文帳に追加

セラミック基板の表面にはチャックトップ導体層が形成され、前記セラミック基板の内部には、ガード電極および／またはグランド電極が形成されてなるとともに、前記ガード電極と前記グランド電極の一方または両方と電気的に接続し、かつ、外部端子と電気的に接続するスルーホールを有することを特徴とするウエハプローバに使用されるセラミック基板。 - 特許庁

In an in-mold coating technique in which a thermosetting resin 1 is press-molded in top and bottom molds 2 and 3 to form a base material 4, and in the midway of curing the thermosetting resin 1, a surface coating material is injected to obtain a surface decorative layer 5, the outer peripheral end part of the bottom mold 2 is cooled just before the base material 4 is molded.例文帳に追加

熱硬化性樹脂１を上下金型２、３でプレス成形して基材４を形成し、前記熱硬化性樹脂１の硬化途中で表面コート材を注入して表面化粧層５を得るインモールドコーティング工法において、基材４成形直前に下金型２の外周端部を冷却する。 - 特許庁

The optical film whose surface shape is in the range of the 0.05-1.0 μm center-line average roughness (Ra) and in the range of the 20-180 μm average top and bottom interval (Sm) and which has ruggednesses in the uppermost surface, and the protective film stuck together on the optical film through an adhesive layer are provided.例文帳に追加

表面形状が中心線平均粗さ（Ｒａ）で０．０５〜１．０μｍ、平均山谷間隔（Ｓｍ）で２０〜１８０μｍの範囲となる凹凸を最表面に有する光学フィルムと、その光学フィルム上に粘着剤層を介して張り合わされた保護フィルムとを備え、前記粘着剤層の厚みをｘ［μｍ］、弾性率をｙ［Ｍｐａ］とするとき、下記式（１）を充足することを特徴とする。 - 特許庁

The organic EL display panel of this invention includes: a substrate; a plurality of banks extended in parallel mutually on the substrate at an interval and having a top face, a bottom face and two side faces with a cross-section in a lateral direction in a tapered shape; and an electrode layer formed covering between the adjacent banks and side faces of the two adjacent banks facing each other.例文帳に追加

本発明の有機ＥＬ表示パネルは、基板と、前記基板上に間隔をおいて互いに平行に延設され、短手方向の断面がテーパ状となる上面と底面と２つの側面を有する複数のバンクと、隣り合う前記バンク間及び該２つの隣り合うバンクの対面する側面を覆って形成された電極層と、を含む。 - 特許庁

In the drain label to be stuck, in which an adhesive layer 3 is formed on a rear face and a plurality of projection sections 5 are formed on a front face, the projection section 5 is composed of a flat section 6 in which a top section is formed flat and a ridge line section 7 which is formed in a downward slanted linearly from the flat section 6.例文帳に追加

裏面に粘着剤層３が形成され、表面に複数の突起部５が形成された被貼付用の水切りラベルであって、突起部５は、頂点部分が平らに形成された平坦部６と、この平坦部６より直線状の下り勾配で形成された稜線部７と、を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

In a near field light probe 1 that is made of a high refraction material and has a projection 3 having a hole smaller than the light wavelength of the light source on the light transmissive substrate 2 provided at the top, an anti-reflection film 7 is provided on the first boundary surface 6 where the light 8 from the light source enters the transmissive substrate 2 through the air layer 5.例文帳に追加

高屈折率材料で形成され、先端に光源の波長より小さな開口部を有する突起部３を透光性基板２上に形成してなる近接場光プローブ１において、光源からの入射光８が空気層５から透光性基板２に入射する第１境界面６に反射防止膜７を形成させた。 - 特許庁

A thin plate-shaped terminal member 1 is penetrated or adhered in the lamination direction on the stripping cushion material 7 in which a stripping sheet 5 is adhered detachably and in laminated state through an adhesive layer 4 provided on the surface of a cushion material 3, and the top end portion 1A of the terminal positioned on the stripping sheet 5 side is adhered on the stripping sheet 5.例文帳に追加

クッション材３の表面に設けられた粘着層４を介して剥離シート５が着脱自在に且つ積層状態に貼着されている剥離クッション体７に対して、薄板状の端子部材１を積層方向に貫通又は添設して、剥離シート５側に位置する端子先端部分１Ａを剥離シート５上に添設する。 - 特許庁

This image sheet with a three-dimensional effect is constituted by expressing the image 2 with a highly translucent part 2a and a low translucent part 2b on the top surface or undersurface of a transparent film 1, and forming a white layer 3 in a part corresponding to the highly translucent part of the image on the undersurface of the transparent film.例文帳に追加

透明フィルム１の上面又は下面に透光性の高い部分２ａと透光性の低い部分２ｂとを有する画像２を表し、前記透明フィルムの下面の前記画像の透光性の高い部分に対応する部分に白色層３を形成して三次元効果を有する画像シートを構成する。 - 特許庁

In the semiconductor wafer, a device region 10a for creating therein the semiconductor device is formed and partitioned; and on the top surface of the semiconductor layer 200 positioned in a scribing region 10b which serves as a cutting margin region when dicing the semiconductor wafer, an alignment mark 30 (first oxide film) is so formed as to expose it to the outside.例文帳に追加

半導体デバイスが作製される領域であるデバイス領域１０ａを区画形成するとともに、当該半導体ウエハのダイシング時に切り代となる領域であるスクライブ領域１０ｂに位置する半導体層２００の上表面に、アライメントマーク３０（第１酸化膜）が露出するように形成されている。 - 特許庁

The article 10 comprises a substrate 12 formed of a silicon-comprising material, and further comprises an environmental barrier layer 16, e.g., an alkaline earth metal aluminosilicate, and a top coat 18 comprising zirconia or hafnia stabilized with up to about 10 mol% of an oxide of a metal selected from the group consisting of magnesium, calcium, scandium, yttrium, and lanthanide metals, and mixtures thereof.例文帳に追加

ケイ素含有材料からなる基材１２を含み、さらに、環境バリヤー層１６（例えば、アルカリ土類金属アルミノケイ酸塩）と、マグネシウム、カルシウム、スカンジウム、イットリウム及びランタニド金属及びこれらの混合物からなる群から選択される金属の酸化物１０モル％以下で安定化したジルコニア又はハフニアを含むトップコート１８とを含む物品１０。 - 特許庁

The plasma display panel includes a substrate (211) having a plurality of substrate recesses (217a, 217b) formed having predetermined spaces, a plurality of electrodes (212, 213) disposed between the substrate recesses (217a, 217b), and a dielectric layer (214) formed on top of the plurality of electrodes (212, 213) and the substrate (211).例文帳に追加

本発明によるプラズマディスプレイパネルは、所定間隔で形成された複数の基板陥没部（２１７ａ、２１７ｂ）を含む基板（２１１）と、基板陥没部（２１７ａ、２１７ｂ）の間に位置する複数の電極（２１２、２１３）及び複数の電極（２１２、２１３）の上部及び基板（２１１）上部に形成された誘電体層（２１４）を含む。 - 特許庁