「研利」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

第十五条　国は、産業技術力の強化を図るため、国の試験研究機関の研究者がその研究成果を活用する事業を実施する営利を目的とする私企業を営むことを目的とする会社その他の団体（次項において「研究成果利用会社等」という。）の役員、顧問若しくは評議員の職を兼ねることが当該研究成果の事業者への移転の促進にとって重要な意義を有することに配慮しつつ、当該研究成果を活用する事業を実施する事業者に対する支援に必要な措置を講ずるよう努めなければならない。例文帳に追加

Article 15 (1) In order to enhance Industrial Technology Capability, the national government, shall endeavor to take necessary measures to provide support to the business operators who will implement businesses that utilize said research results, taking into account the fact that it has an important meaning in the promotion of transfers of said research results to business operators, for researchers at national Research and Development Institutes to jointly hold positions as officers, advisors or councilors in companies and other organizations whose purpose is to conduct for-profit private enterprise to implement businesses utilizing the results of that research (referred to in the next paragraph as "Research Results Utilizing Companies, etc.").  - 日本法令外国語訳データベースシステム

十　当該委員が当該研修の実施について利害関係を有しないこと及び外国人に対する研修を事業として行い又は研修の在留資格をもつて在留する外国人の受入れを行つている団体に所属していないこと。例文帳に追加

(x) The committee members shall not have an interest in the implementation of the training and not belong to an organization that implements training for foreign nationals as a business or that accepts a foreign national staying in Japan with the status of residence of "Trainee."  - 日本法令外国語訳データベースシステム

本発明は、従来の被加工物のエッジ仕上げにおせるバリ取りと研磨仕上げにおける課題の解決を図り、よって角部の曲率半径の小さな鋭利性の高いエッジの仕上げを、機械的接触研磨と通電による電解研磨を併用して行うエッジ仕上げ工具とその工法を提供する。例文帳に追加

To provide an edge finishing tool and an edge finishing method, which overcome problems in deburring and finishing by polishing in edge finishing of an object to be worked in prior arts, and thereby finishing a sharp edge with a small radius of curvature of a corner using both of mechanical contact polishing and electrolytic polishing by exciting. - 特許庁

また、研磨液の調製装置は、スラリー原液の原液槽（１）、添加剤の添加剤槽（２）、スラリー原液と添加剤を混合する混合槽（３）、研磨液を貯蔵する研磨液槽（４）、超音波音速法を利用した濃度測定装置（３０）などから構成される。例文帳に追加

A polishing liquid preparation device is composed of a slurry undiluted solution bath (1), an additive bath (2), a mixing bath (3) for mixing the slurry undiluted solution and the additives together, a polishing liquid bath (4) for storing the polishing liquid, and a concentration measuring device (30) which takes advantage of an ultrasonic speed method. - 特許庁

被処理基板１に少なくとも水を含む液体を供給しながら被処理基板１の周辺端部２を研磨する際に、研磨すべき膜３とその下地４とにおける液滴５，６の接触角の違いを利用して研磨の終点を検出する。例文帳に追加

When the peripheral edge 2 of a substrate 1 to be processed is polished with liquid including at least water being supplied to the substrate 1 to be processed, the end point of polishing is detected by using the difference in angle of contact between drops 5 and 6 on a film 3 to be polished and its base 4. - 特許庁

研磨工程排水から研磨材を回収して再利用するに当り、塩類や有機物、微小な研磨屑などの不純物を除去するための水洗浄効率を高め、洗浄水の使用量の低減、工程数の削減、装置設備の簡素化等を図る。例文帳に追加

To reduce the quantity of wash water used and the number of steps and simplify system equipment in recovering abrasive from effluent from polishing processes for its reuse purpose, by improving the efficiency of water washing for removal of salts, organic matters and such impurities as fine polishing dust. - 特許庁

薄板化された基板を利用した光変調器の製造に際し、研磨工程中や研磨工程後の基板の検査や状態測定を正確に行えると共に、基板の研磨用冶具からの取外しに際し、基板の損傷を抑制することが可能な光変調器の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing an optical modulator in which inspection of a substrate and state measurement in and after a polishing stage can accurately be performed when the optical modulator using a substrate made into a thin plate is manufactured and damage to the substrate can be suppressed when the substrate is detached from a polishing tool. - 特許庁

このため、運転中は研磨布に検知センサーを当てることができないが、図示のようなリンク機構を利用したセンサー保持手段２３を研磨機扉１１の外側に取り付けることにより、揚送研磨機の休止時に、これを開けて検知可能としてある。例文帳に追加

Therefore, although the detecting sensor is not applied to the abrasive cloth during operation, a sensor holding means 23 using a link mechanism as shown in the drawing is fitted to the outside of the polishing machine door 11, whereby when the lifting polishing machine is paused, it is opened and detected. - 特許庁

本発明は、光学部品のガラスや半導体シリコンウエハのようなワークの両面を、超精密に研削加工する場合に好適な両頭研削装置に関し、従来から両頭研削装置に設けられている厚み測定センサーを利用して、ワークの厚み加工精度の向上を図ることを目的とする。例文帳に追加

To improve the precision in thickness working of a workpiece such as a glass of optical member or a semiconductor silicon wafer, in a double-disc grinding device suitable for super-precise grinding of both sides of the workpiece, by using a thickness measurement sensor provided in a conventional double-disc grinding device. - 特許庁

電気泳動研磨法を利用した研磨加工において、凝集する超微粒砥粒の結合度を調節可能とするとともに、研削から最終表面仕上げにいたる一連の加工を同一加工機械のもとで行うことを可能として、加工能率、加工精度のさらなる向上をはかる。例文帳に追加

To enhance the efficiency and accuracy of a polishing process to be performed using the electrophoretic polishing method whereby it is made practicable to adjust the degree of binding of super-abrasive grains coagulating under the polishing process and allowing the same working machine to perform a series of processes from grinding to final surface finishing. - 特許庁

実施形態は、研磨Ａｌ_2Ｏ_3粒子と、Ａｌ_2Ｏ_3研磨材スラリがＡｌ（ＯＨ）_3研磨副産物によって塊状化するのを防止する約０．０２から約５重量％の界面活性剤とを含むスラリを利用したＡｌ又はＡｌ合金表面のＣＭＰを含む。例文帳に追加

Embodiments include the CMP of an Al or Al alloy surface employing the slurry containing an abrasive Al2O3 particle, and a surfactant of approximately 0.02 to 5 wt.% to prevent Al2O3 abrasive slurry particles from agglomerating with Al(OH)3 polished by-products. - 特許庁

測定対象となる部品を破壊等する必要がなくインラインで研削焼けの全数検査を実施することができ、さらに超音波を利用した方法と比較してヘッド部の小型化を図ることができる研削焼け検出装置および研削焼け検出方法を提供する。例文帳に追加

To provide a grinding burn detection device and a grinding burn detection method capable of executing inline total inspection of grinding burn without requiring breakage of a measuring object component or the like, and miniaturizing a head part in comparison with a method utilizing an ultrasonic wave. - 特許庁

研磨剤と水分を粘結剤、例えば酢酸ビニル樹脂エマルジョン系接着剤で練り合わせた物をウエスの片側から流し込む事によりそれの毛足を結合体の一部に利用した保水研摩布とし、これで塗装面等を研磨する。例文帳に追加

An abrasive and water are kneaded with a caking additive, e.g. a vinyl acetate resin emulsion adhesive, the mixture is poured from one side of waste to obtain water-holding abrasive cloth utilizing the staple length as part of a combination, and the painted face or the like is polished with it. - 特許庁

測定対象となる部品を破壊等する必要がなくインラインで研削焼けの全数検査を実施することができ、さらに超音波を利用した方法と比較してヘッド部の小型化を図ることができる研削焼け検出装置および研削焼け検出方法を提供する。例文帳に追加

To provide a device and a method for detecting grinding burning that dispense with destruction, or the like of components to be measured and can execute total inspection of grinding burning in-line, and further can miniaturize a head section as compared with a method utilizing ultrasonic waves. - 特許庁

ナノテクノロジー・ネットワークは、全国の大学や独立行政法人等が所有する最先端ナノテクノロジー研究設備の利用機会を高度な専門技術・知識と共に研究者に提供することにより、分野横断的な研究開発を戦略的かつ効率的に推進するものである。例文帳に追加

The Nanotechnology Network project promotes cross-sectoral research in a strategic and efficient manner by providing researchers with opportunities to use cutting-edge nanotechnology research facilities owned by universities and incorporated administrative agencies across Japan, as well as advanced technologies and knowledge. - 経済産業省

(18) 保有個人情報研究者等が実施するヒト幹細胞臨床研究に係る個人情報であって、当該研究者等が、開示、内容の訂正、追加又は削除、利用の停止、消去及び第三者への提供の停止を行うことのできる権限を有するものをいう。例文帳に追加

(18) “Stored personal information” refers to personal information obtained by researchers, etc. during the course of human stem cell clinical research for which said researchers, etc. have the right to disclose, amend, add or delete, terminate usage, erase, or stop the provision to third parties thereof. - 厚生労働省

(b) 発明が本法第5条第2段落の規定に従って創作され，かつ，研究契約が，特許を受ける権利は研究を委託した使用者又はそれに係る研究機関の何れか，又はその両者に属するようにする条項を定めることができるときに，その契約の中に，発明者が特許を受ける権利を有する旨の特段の契約条項が存在していない場合。研究契約がそのような条項を定めていない場合は，特許を受ける権利は，研究を委託した使用者に属する。例文帳に追加

b) the invention has been created in compliance with the provisions of Art. 5 paragraph (2) of the Law and there does not exist a contrary contract clause by which the inventor is entitled to the grant of the patent within a research contract, this having the possibility to provide a clause through which the right to the grant of the patent belongs either to the employer that commissioned the research or to the research institutions, or to them both; if the research contract does not provide such a clause, the right to the patent belongs to the employer that commissioned there search; - 特許庁

米国の国立がん研究所が提供している公共サービスで、研究の結果を明確でわかりやすい形態で配信し、利用者のがんに関する個々の質問に対する個人的な返答も行っている。例文帳に追加

the cis is the national cancer institute's link to the public, interpreting and explaining research findings in a clear and understandable manner, and providing personalized responses to specific questions about cancer.  - PDQ®がん用語辞書 英語版

二　放射光専用施設を設置してこれを利用した研究等を行う者に対し、当該研究等に必要な放射光の提供その他の便宜を供与すること。例文帳に追加

(ii) Establish the Dedicated Facilities for Synchrotron Radiation and provide the persons engaged in the Researches, etc. utilizing such facilities with the Synchrotron Radiation and other convenience necessary for such Researches, etc.  - 日本法令外国語訳データベースシステム

一　認定事業者が国から譲渡を受けた特定試験研究機関における技術に関する研究成果に係る特許を受ける権利に基づいて取得した特許権例文帳に追加

(i) Patent rights obtained based on the right to receive a patent pertaining to research results related to technologies of Specified Research and Development Institutes for which a Certified Business Operator has received an assignment from the State  - 日本法令外国語訳データベースシステム

四　その発明が独立行政法人研究者がした職務発明である場合において、その独立行政法人研究者から特許を受ける権利を承継した当該独立行政法人例文帳に追加

(iv) In the case that the invention is an employee invention made by Incorporated Administrative Agency Researcher, said Incorporated Administrative Agency that has succeeded the right to obtain a patent from said Incorporated Administrative Agency Researcher  - 日本法令外国語訳データベースシステム

六　その発明が地方独立行政法人研究者がした職務発明である場合において、その地方独立行政法人研究者から特許を受ける権利を承継した当該地方独立行政法人例文帳に追加

(vi) In the case that the invention is an employee invention made by Local Incorporated Administrative Agency Researcher, said Local Incorporated Administrative Agency which has succeeded the right to obtain a patent from said Local Incorporated Administrative Agency Researcher  - 日本法令外国語訳データベースシステム

八　職員が学術研究の用に供するためその発意に基づき作成し、又は取得する個人情報ファイルであって、記録情報を専ら当該学術研究の目的のために利用するもの例文帳に追加

(viii) Personal Information File prepared or obtained by an employee based on his or her own idea for an academic research purpose, where the Recorded Information is used solely for the said academic research purpose  - 日本法令外国語訳データベースシステム

したがって、研究と利益確保の矛盾する命題を追う過程で、研究と施業の双方で妥協せざるを得ない場面に遭遇することもままあった。例文帳に追加

Therefore, in the process of pursuing the contradictory themes that research had to be done and profits had to be gained as well, compromises had sometimes to be made both in the research and in the business.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

これにより、ドラム表面クリーニング用トナーＬｔとして研磨効果の高い黒色トナーを供給し、これを各色のトナー像形成プロセスにおける感光体ドラム２１表面の研磨に利用することができる。例文帳に追加

Thus the black color toner with high polishing effect is supplied as the toner Lt for cleaning the drum surface and this can be used for polishing the photoreceptor drum 21 surface in a toner image forming process for each color. - 特許庁

酸化セリウム研磨粒子及びその製造方法と、ＣＭＰ用スラリー組成物及びその製造方法と、それらを利用した基板研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide cerium oxide polishing particles and its production process, a slurry composition for CMP and its production process, and a substrate polishing method utilizing it. - 特許庁

希土類酸化物を含む使用済み研磨剤に、塩酸および過酸化水素を添加して加熱することにより得られる溶液から希土類金属の化合物を回収することを特徴とする研磨剤の再利用方法。例文帳に追加

This abrasive material recycling method is characterized by recovering the compound of rare earth metal from a solution obtained by heating after adding hydrochloric acid and hydrogen peroxide to the spent abrasive material containing the rare earth metallic oxide. - 特許庁

ガラス管成形用スリーブシャフトを再利用する際に研削、研磨工程を必要とせず、六価クロムが空気中に飛散するのを防止し、簡便且つ安全なスリーブシャフトの洗浄処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for simply and safely cleaning a sleeve shaft by preventing hexavalent chromium from splashing into air without needing a grinding/polishing stage upon reutilization of a sleeve shaft for forming a glass tube. - 特許庁

半導体や太陽電池などのシリコン製品の製造に際して、シリコンインゴットやシリコンウエハーを研削し、あるいは研磨する際に排出される廃シリコンスラッジを製鉄用副原料として利用する。例文帳に追加

When the silicon product such as the semiconductor, the solar cell is produced, the waste silicon sludge discharged in the case of grinding or polishing the silicon ingot and the silicon wafer is utilized as an auxiliary raw material for manufacturing iron. - 特許庁

また、隔壁形成材料に含まれる成分と同じ研削材を使用し研削くずを回収し、隔壁材料として再利用することができ製造コストを低下させることができる。例文帳に追加

Further, grinding scrap, by being recovered by the use of the same grinding material as a component included in a bulkhead-forming material, can be reused as a bulkhead material, thus manufacturing cost can be reduced. - 特許庁

ろ過装置、温度管理手段及び洗浄手段を設けた研磨液循環装置を備えたＣＭＰ装置の研磨液再利用システムにより、上記課題を解決する。例文帳に追加

The above problems can be solved by a polishing solution recycling system of a CMP device provided with a filtration device, a temperature controlling means, and a washing means. - 特許庁

放電ツルーイング技術を利用した研削加工法において、いっそう優れた放電ツルーイング特性と研削特性を有するメタルボンドホイールを提供することである。例文帳に追加

To provide a metal bond wheel having a more excellent electric discharge truing characteristic and a grinding characteristic, in a grinding method utilizing electric discharge truing technique. - 特許庁

環境への負荷を最小限に抑制することができるとともにコスト的に有利に研磨特性を良好に再生することのできる研磨使用済み液の再生方法を提供すること。例文帳に追加

To provide the regeneration method of polishing spent liquid for minimizing a load to an environment and appropriately regenerating polishing characteristics advantageously in terms of costs. - 特許庁

研削液を研削液槽１に貯留して上澄み水２ができたときは、上澄み水２を汲み出して別途再利用し、残りの残滓３，４のみを掬い出して袋状フィルタ６に入れてもよい。例文帳に追加

When the grinding liquid is reserved in a grinding liquid tank 1 and supernatant 2 is generated, the supernatant 2 is pumped for separate reuse and only remainders 3 and 4 may be scooped and put in the bag-state filter 6. - 特許庁

膨大なデータ管理を必要とせずに、簡便かつ効率的に光学面として利用できる非球面が得られるレンズの研磨装置及び研磨皿を提供する。例文帳に追加

To provide a lens polishing apparatus and a lens polishing tray simply and efficiently obtaining an aspheric surface which can be used as an optical surface without need of management of enormous amount of data. - 特許庁

溶液や廃液中のＳｉＣやＳｉを排水汚濁なく回収可能し、研削材、砥粒、研磨材として利用可能な炭化珪素を製造する。例文帳に追加

To produce silicon carbide usable as a grinding material, abrasive grains, or an abrasive material by making it possible to recover SiC and Si from a solution or a waste liquid to such a degree as to eliminate wastewater pollution. - 特許庁

更に、貫通孔を通過した空気は、分級器２８に導かれ、付着物１４と研削材４０とに分けられることにより、付着物１４及び研削材４０を再利用することも可能となる。例文帳に追加

Moreover, air that has passed through the through-hole is introduced into a classifier 28 and separated into the deposit 14 and the abrasive 40, making it possible to reuse the deposit 14 and the abrasive 40. - 特許庁

研削屑又は研磨屑のクーラント含有率のデータ収集や調整を簡単にし、安定した条件で固形化できるようにし、撹拌装置を有効に利用して固形化を促進する。例文帳に追加

To simplify data collection and regulation of a coolant content rate of grinding chips or polishing chips, solidifying them in a stable condition and promote the solidification by effectively using an agitator. - 特許庁

研磨液の性状を安定に保つことにより、ＣＭＰ装置における半導体ウエハー等の加工表面品質を長期にわたり良好に保つことが出来るＣＭＰ装置の研磨液再利用システムを提供する。例文帳に追加

To provide a polishing solution recycling system capable of keeping the quality of the surface of semi-conductor wafer, or the like in a CMP device excellent for a long time by maintaining the nature of the polishing solution stable. - 特許庁

低ソリで異方性が小さく、耐久性に優れた強化樹脂積層板を得ることができ、さらにこれを用い、ＬＣＤガラス等の研磨に好適に利用できる研磨用樹脂シートを得ることができる。例文帳に追加

To enable obtainment of a reinforced resin laminate having a low warp, small anisotropy and excellent durability and further obtainment of a resin sheet capable of being suitably utilized for polishing an LCD glass or the like by using the reinforced resin laminate. - 特許庁

銅およびｌｏｗ−ｋ絶縁材料の存在下でバリア材料を有する基材を研磨するケミカルメカニカル研磨組成物は、基材上の他の材料よりも有利な選択性で、高いバリア材料除去速度を提供する。例文帳に追加

To provides a high barrier material removal rate with favorable selectivity over other materials on a substrate by using a chemical mechanical polishing composition for polishing a substrate comprising a barrier material in the presence of copper and a low-k dielectric material. - 特許庁

研磨パッド上の不要物をコンディショナ使用直後から効率的に除去することのできるＣＭＰ装置及びＣＭＰ用研磨パッドのイニシャライズ方法及びその利用を経る半導体装置を提供する。例文帳に追加

To provide a CMP system in which unnecessary matters on a polishing pad can be removed efficiently immediately after using a conditioner, and to provide a method for initializing a CMP polishing pad and a semiconductor device utilizing it. - 特許庁

ビーズの偏摩耗を防止して、ビーズの研削面を有効に利用して優れた研削能力を有し、寿命を向上することが可能なワイヤソーを提供する。例文帳に追加

To provide a wire saw which has an excellent grinding ability and an improved service life by preventing eccentric wear of beads and making effective use of a grinding surface of each bead. - 特許庁

研磨装置は、加工物１の空間に装入された磁性体を含む液体状の砥石原料９を、固化若しくはゲル化させた砥石１７を利用して加工物１を研磨する。例文帳に追加

A grinding device grinds a workpiece 1 using a grinding tool 17 made by solidifying or gelatinizing a liquid raw material 9 of a grinding tool including a magnetic body charged in a space of the workpiece 1. - 特許庁

ウエハ研磨用リテーニングアセンブリにおけるバッキングフィルムを還元型で寸法や機械的物性を異なって構成することによって、最終研磨段階におけるウエハの平坦度を補正することができる利点がある。例文帳に追加

The backing film in the retaining assembly for polishing a wafer is configured in a reducing type with different dimensions and mechanical/physical properties, so that the flatness of the wafer can be corrected in the final polishing step. - 特許庁