「AFTER PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(151ページ目) - Weblio英語例文検索

After the charge amount of the canister tank is estimated, a fuel correction amount is calculated based on the estimated charge amount; an amount of the fuel evaporating from the fuel tank is calculated by a fuel evaporation amount calculating unit 407 in accordance with conditions of the engine and a vehicle; and the fuel amount in the canister tank is estimated by the income and outgo of the charging/purging process in the canister tank.例文帳に追加

キャニスタタンクのチャージ量が推定された後は、このチャージ量を元に燃料補正量を計算するとともに、燃料蒸発量計算部４０７によって、エンジン、車両の状況に応じて、燃料タンクから蒸発する燃料量を計算し、キャニスタタンクへのチャージ／パージの収支から、キャニスタタンクの燃料量を推定する。 - 特許庁

To improve the throughput of an image reading process and to shorten the wait time required for a user in image reading with a method and device for reading radiation image information by shortening the time required after the image information is read before the image information is outputted as image data or images of two kinds of characteristics varying from each other.例文帳に追加

放射線画像情報読取方法および装置において、その画像情報を読み取ってから相異なる特性の２種類の画像データあるいは画像として出力するまでに要する時間の短縮化を図ってその画像読取プロセスのスループットを向上せしめるとともにユーザにとっての画像読取に要する待時間をできるだけ短縮する。 - 特許庁

After a dehydrated gypsum layer mainly comprising gypsum is thus formed to a certain degree, a liquid containing particles having relatively small particle sizes is supplied from an absorbent-containing liquid to the dehydrated layer, thus enabling a fine-particle component to be efficiently removed from the process without enlarging the scale of the secondary gypsum dehydration apparatus 13b.例文帳に追加

こうして、石膏を主とした脱水石膏層がある程度形成された後に、この脱水石膏層に吸収剤含有液中の相対的に粒径の細かい粒子を含む液を供給することにより、二次石膏脱水装置１３ｂの規模をさほど大きくすることなく、プロセスからの微小粒径分の除去を効率的に行うことができる。 - 特許庁

In addition, the image processor 109 is provided with a coordinate conversion means 1095 which carries out coordinate conversion for the lattice point coordinates for the original image based on the geometrical conversion relationship between the first and the second projection methods and interpolation means 1091 and 1092 which carry out the interpolation process by switching the interpolation method based on the lattice point coordinates after the conversion by the coordinate conversion means.例文帳に追加

そして、該装置は、原画像の格子点座標に対して、第１及び第２の射影方式間の幾何変換関係に基づいた座標変換を行う座標変換手段１０９５と、座標変換手段による変換後の格子点座標に基づいて、補間手法を切り換えて補間処理を行う補間手段１０９１，１０９２とを有する。 - 特許庁

In the method of purifying natural water with the membrane by using a hollow fiber ultra- or micro-filter membrane module, a backwashing process consisting of an operation backwashing the hollow fiber type filter membrane module by backwashing water containing a sterilizer, and a suspension operation of the filter treatment just after the backwashing, are provided as the method of purifying natural water with the membrane.例文帳に追加

中空糸型の限外または精密濾過膜モジュールを用いて天然水を濾過する天然水の膜浄化方法において、中空糸型の濾過膜モジュールを殺菌剤を含む逆洗水により逆洗する操作と、その直後に濾過処理を休止する操作からなる逆洗過程を設けることを特徴とする天然水の膜浄化方法。 - 特許庁

The accelerator pedal stroke can be obtained by an event dependant filtering process of the raw value of the accelerator pedal stroke, and after the termination of the acceleration pedaling motion, the filtering function is started to attenuate the raw value of the accelerator petal stroke at that time through the presettable time function, in particular, when the accelerator pedal position is approximately constant at least over a presettable time.例文帳に追加

加速ペダルストロークは加速ペダルストローク生値の事象依存的なフィルタ処理によって得られ、この場合、フィルタ機能は加速ペダル運動の終了時、特に加速ペダル位置がプレセット可能な時間に亙って少なくともほぼコンスタントであるときに、スタートし、この時点における加速ペダルストローク生値をプレセット可能な時間関数を介して減衰させる。 - 特許庁

To provide an improved electrostatic chuck member capable of coping with the super-microfabrication of a semiconductor device, improving effects deriving from embossing, a soaking property during wafer work and a dechuck operation after work for instance without complicating the structure and manufacture process of an electrostatic chuck, and also avoiding the generation of particles.例文帳に追加

半導体装置の超微細化に対処することができ、静電チャックの構造や製造工程を複雑にすることなく、エンボスに由来する効果、例えばウエハ加工中の均熱性や加工後のデチャック操作を改善することができ、しかもパーティクルの発生を回避することができるような、改良された静電チャック部材を提供すること。 - 特許庁

To provide a sealing epoxy resin molding material in which warp deformation is made small when the material is used for a collective molding-type one side sealing-type package and a crack of a solder connection caused by a repetitive temperature cycle after a reflow process can be suppressed, and to provide an electronic component device constituted of the combination of a thin substrate and the sealing epoxy resin molding material.例文帳に追加

一括モールド型の片面封止型パッケージに用いた場合に反り変形を小さくし、リフロー工程後の繰り返しの温度サイクルによるはんだ接続部のクラックを抑制できる封止用エポキシ樹脂成形材料、及び薄肉基板と上記封止用エポキシ樹脂成形材料の組み合わせによって構成される電子部品装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which excels in accuracy of thickness and uniformity of height and allows the manufacturing process thereof to be shortened because it has adhesive property after being photocured, and which comprises: a cyclic olefin resin (A) having a photoreactive functional group; an acid generator (B); and a compound (C) capable of curing reaction by the action of an acid generator.例文帳に追加

本発明の目的は、厚さ精度、高さ均一性に優れ、かつ、光硬化後に接着性を有するため、製造工程が短縮できる、光反応性官能基を有する環状オレフィン系樹脂（Ａ）と、酸発生剤（Ｂ）と、酸発生剤の作用により硬化反応可能な化合物（Ｃ）とを含む、感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

A pattern corresponding to a required printing pattern is formed of an image forming resist film 4 by a lithography process on a metal substrate 1', and after the metal of a part except a pattern region on the metal substrate face on which the pattern is formed of the image forming resist film 4 is partly etched, the mesh 3 is formed on the partly etched region by a laser processing method.例文帳に追加

金属基板１’にリソグラフィー法により所望の印刷パターンに対応するパターンを画像形成レジスト膜４で形成し、画像形成レジスト膜４でパターンを形成した金属基板面のパターン領域以外の部分の金属を部分エッチングした後、該部分エッチングされた領域にレーザー加工法により網目３を形成したことを特徴とする。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern includes, in the process of forming a resist pattern by a charged particle beam, a step of fabricating a conductor made of a conductive composition, consisting mainly of a conductive polymer, having a sulfonic acid group and/or a carboxyl group on a resist, and a step of removing the conductor, after irradiating it with a charged particle beam.例文帳に追加

荷電粒子線によるレジストパターン形成時にレジスト上にスルホン酸基および／またはカルボキシル基を有する導電性ポリマーを主成分とする導電性組成物からなる導電体を形成する工程と、荷電粒子線照射後に当該導電体を除去する工程を含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。 - 特許庁

The air drying process is performed in an atmosphere of normal temperature and normal pressure by standing still the sludge incineration ash after the neutralizing treatment.例文帳に追加

多孔質粉体の製造方法は、汚泥焼却灰を酸水溶液と接触させることによる酸処理工程、粉体中和剤による中和処理工程、次いで風乾処理工程を行い、該風乾処理工程を経た後に乾燥処理工程を実施され、特に前記風乾処理工程は、常温常圧の大気中で、中和処理後の汚泥焼却灰を静置することにより実施される。 - 特許庁

The method for producing food includes allowing the spicy food material to react to carbohydrate-related enzyme and using the thus-obtained reaction composition, and further includes a process of deactivating the carbohydrate-related enzyme after enzyme reaction treatment.例文帳に追加

上記課題を解決するために、本発明は、香辛食材を糖質関連酵素と反応させ、得られた反応組成物を用いて食品を製造することを特徴とする食品の製造方法の構成、さらに、前記酵素反応処理後に、糖質関連酵素を失活させる工程を含むことを特徴とする前記記載の食品の製造方法。 - 特許庁

Article 258 Any remuneration to be paid to Representative Beneficiary Certificate Holders, the costs required for such person to process affairs, the interest that accrues on and after the date of the payment of such costs, and compensation for damages incurred by such persons for processing affairs in the absence of negligence shall be borne by the Fiduciary Trust Company, etc., as costs borne in relation to the trust property. 例文帳に追加

第二百五十八条　代表権利者に対して与えるべき報酬、その事務処理のために要する費用及びその支出の日以後における利息並びにその事務処理のために自己の過失なくして受けた損害の賠償額は、信託財産に関して負担する費用として受託信託会社等の負担とする。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

d. When a business process is included in the scope for a reason such as that noted above, after considering the materiality to the financial reporting it may be sufficient to address only certain transactions or events (or certain key business processes), rather than the entirety of the business or operation. 例文帳に追加

ｄ．上記その他の理由により追加的に評価対象に含める場合において、財務報告への影響の重要性を勘案して、事業又は業務の全体ではなく、特定の取引又は事象（あるいは、その中の特定の主要な業務プロセス）のみを評価対象に含めれば足りる場合には、その部分だけを評価対象に含めることで足りる。 - 金融庁

In a pipe connection joint 10 in a cooling cycle used under high temperature and high pressure conditions from an initial stage, seal plane pressure is exerted by sleeve fastening such as caulking of a metal sleeve 3 from an outer periphery side after coating vulcanizing adhering process during vulcanizing treatment of the rubber hose 2, whereby respective sealing property can function at maximum from the initial stage.例文帳に追加

また、初期段階から高温、高圧条件下で使用される冷凍サイクルの配管接続継手１０においては、ゴムホース２の加硫処理時のコーティング加硫接着処理後に金属スリーブ３を外周側からかしめる等のスリーブ締結によるシール面圧付加を行っているので、各々のシール性を初期段階から最大限に発揮できる。 - 特許庁

To provide a method for removing a silicon-containing two-layer resist comprising a first resist layer containing an organic high molecular compound and a photosensitive silicon-containing second resist layer for reworking after the patterning of the second resist layer while suppressing the occurrence of defects on a wafer in removal in a process for producing a device using the two-layer resist on a substrate.例文帳に追加

基板上に有機高分子化合物を含む第１レジスト層と感光性シリコン含有第２レジスト層からなるシリコン含有２層レジストを用いるデバイス製造工程において、第２レジスト層をパターニングした後で、リワーク等のために、レジスト剥離時のウェハ上の欠陥の発生を著しく低減しつつ、上記２層レジストを剥離する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing multilayer printed circuit board in which dummy lands are provided in order to eliminate, during the stacking process, deterioration of flatness of surface, generation of voids, and fall of bonding force and measures are taken so that the dummy lands are no longer left within a product after the boring by drills are performed to form through-holes.例文帳に追加

多層プリント基板の製造において、積層プレス時に表面平滑度の劣化やボイドの発生、接着力の低下などが生じないようにダミーランドを設けると共に、該ダミーランドがスルーホール形成のためのドリル穴開け加工後には製品内に残留していないように工夫された多層プリント基板製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a method comprising arranging a raw material polycrystal 2 in a growth chamber 1 and growing the group II-VI compound semiconductor crystal on a seed crystal 4 by a sublimation method or a halogen chemical transport method, the temperature at the seed crystal 4 side is kept at a higher temperature than that at the grown crystal 3 side in a cooling process after growth of the crystal.例文帳に追加

成長室１中に原料多結晶２を配置し、昇華法またはハロゲン化学輸送法で種結晶４上にＩＩ−ＶＩ族化合物半導体結晶を成長させる方法において、結晶成長後の冷却過程において、種結晶４側の温度を、成長結晶３側の温度より高温に保持する。 - 特許庁

When calling is conducted between a telephone terminal T11 and a telephone terminal T21, the main apparatus BT obtains an IP address and port number information, which come from the telephone terminal T11 and are added to a RTP packet, after an address converting process by a router RT and manages them in a storing portion, corresponding to the telephone terminal T11.例文帳に追加

電話端末Ｔ１１と電話端末Ｔ２１との間で通話を行なう際に、主装置ＢＴにおいて、電話端末Ｔ１１から到来しルータＲＴによるアドレス変換処理後のＲＴＰパケットに付加されるＩＰアドレス及びポート番号情報を取得して記憶部に電話端末Ｔ１１に対応付けて管理するようにしている。 - 特許庁

To provide an image forming method, a process cartridge and an image forming apparatus, wherein a residual toner on an electrostatic latent image carrier is not discarded after recovered but reused, contamination on a charging member for the electrostatic latent image carrier is prevented, the residual toner in a developing step is easily recovered and an excellent image stability is obtained with less degradation in durability.例文帳に追加

静電潜像担持体上に残留したトナーを回収破棄せず、再利用し、さらに静電潜像担持体帯電付与部材の汚染を防止し、現像工程での残留トナーの回収を容易にし、優れた画像安定性の得られる耐久劣化も少ない画像形成方法、プロセスカートリッジ、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes the processes of forming a mark made of a non-single-crystalline reformed layer inside a back surface of a semiconductor wafer by irradiating the semiconductor wafer with laser light from the back surface; and exposing the reformed layer by subjecting the back surface of the semiconductor wafer to polishing or grinding processing after the process of forming the mark.例文帳に追加

半導体ウェーハの背面からレーザ光を照射して、前記半導体ウェーハの背面より内部に非単結晶質の改質層からなるマークを形成する工程と、前記マークを形成する工程の後に、前記半導体ウェーハの背面を研磨或いは研削処理して前記改質層を表出させる工程を設ける。 - 特許庁

Faults of the electrode pattern and their locations are grasped by conducting appearance inspection immediately after formation of the electrode on a glass substrate, correction of the electrode is conducted standing on information obtained with the appearance inspection, then following formation process of each composing layer is executed, followed by a non-contact continuity test is performed as the final inspection before shipment.例文帳に追加

ガラス基板上に電極を形成した直後に外観検査を実施して電極パターンの欠陥及びその位置を把握し、その外観検査で得た情報を基にして電極の修正を実施し、それ以降の各構成層の形成工程を経た後に、出荷前の最終検査として非接触による電極の導通検査を行う。 - 特許庁

The method manufactures a grass-derived organic fermentation fertilizer, in a short period of time of about one month, by fermenting and decomposing grassy species (such as chaff, straw, bamboo chip, etc.) containing plenty of a silicon compound and fibers (such as cellulose, lignin, etc.) as constituents by using completely odorless treating water after a final precipitation vessel in a sewage purification process.例文帳に追加

ケイ素化合物、セルロースやリグニン等繊維質を構成成分として多く含むイネ科植物（籾殻、わら、竹チップなど）を、下水浄化過程における最終沈殿槽以降の全く無臭の処理水を用いて発酵、分解することによって、１ヶ月程度という短期間でイネ科植物由来の有機発酵肥料を製造する方法。 - 特許庁

The manufacturing method should include a process for forming a deposition film on the surface of an aging treatment body, by performing deposition treatment to an aging treatment body after a rare earth-based permanent magnet sintering body having a desired composition is subjected to cutting machining and/or grinding machining, and an obtained machining body is washed for carrying out aging treatment.例文帳に追加

所望する組成の希土類系永久磁石焼結体を切削加工および／または研削加工し、得られる加工体を洗浄してから時効処理を行った後、得られる時効処理体に対して蒸着処理を行うことによって、前記時効処理体の表面に蒸着被膜を形成する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a conductive paste containing conductive metal powder without being easily oxidized in a process of binder removal or baking, and having high dry density after printing, in a conductive paste for an internal electrode used for an electronic part such as a laminated capacitor, and to provide an electronic part having an excellent dielectric characteristic and high reliability.例文帳に追加

積層セラミックコンデンサなどの電子部品に用いられる内部電極用の導電性ペーストにおいて、脱バインダや焼成の過程における導電性金属粉末の酸化が少なく、且つ、印刷後の乾燥密度が高い導電性ペーストを提供するとともに誘電的特性と信頼性に優れる電子部品を提供すること。 - 特許庁

The access authorization system 10 specifies the next service to be provided to a US500 being a client-side communication device after the service currently being provided to the US500, and then executes a process to make an authorization determination in advance regarding the next service with respect to the user of the US500, before the US500 requests the next service.例文帳に追加

本発明のアクセス認可システム１０は、クライアント側の通信装置であるＵＳ５００に現在提供されているサービスの次に当該ＵＳ５００に提供されるべきサービスを特定し、当該ＵＳ５００が当該次のサービスを要求する前に、当該ＵＳ５００のユーザに対する当該次のサービスの認可判定を予め実行する。 - 特許庁

A part of the cement kiln combustion gas is steam-extracted from the cement manufacturing process, the dust contained in the steam-extracted combustion gas is collected, after an incineration ash containing the collected dust, metal aluminum or/and metal iron is dissolved in water, the incineration ash is filtered, thallium is insolubilized while utilizing metal aluminum or/and metal iron in the incineration ash as the reducing agents.例文帳に追加

セメント製造工程からセメントキルン燃焼ガスの一部を抽気し、抽気した燃焼ガスに含まれるダストを集塵し、集塵したダストと、金属アルミニウム又は／及び金属鉄を含む焼却灰とを水に溶解させた後ろ過し、焼却灰中の金属アルミニウム又は／及び金属鉄を還元剤として利用しながらタリウムを不溶化する。 - 特許庁

To provide an easily moldable regeneration inductive sheet giving aimed form and maintaining a necessary strength to secure a regeneration space for a supporting tissue, being degradable and absorbable after passage of a required period and further having an ability to induce efficient regeneration of a mesenchymal tissue and a process for a production thereof.例文帳に追加

目的とする形状に成形し易く、組織が再生されるまでの間、支持組織再生用スペースを確保するだけの強度を保つことができる上に所望の期間経過後は分解吸収される性質を備え、更に効率良く間葉系組織の再生を誘導する能力を備えた間葉系組織再生誘導用シート及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The edge device 2, after establishing theoretical connection with the terminal equipment 1 requesting connection to VPN, acquires the information of VPN to which the terminal equipment 1 belongs from the VPN member management server 3, and performs connection setting process between the terminal equipment 1 and the VPN for which the terminal equipment 1 requests connection, based on the acquired VPN information.例文帳に追加

エッジ装置２は、ＶＰＮへの接続を要求する端末装置１との論理的コネクションを確立した後、端末装置１が属するＶＰＮの情報をＶＰＮメンバー管理サーバ３から取得し、この取得したＶＰＮの情報に基づいて端末装置１と端末装置１が接続を要求するＶＰＮとの接続設定処理を行う。 - 特許庁

The retro-virus and other various bacteria are sterilized by including a process that blood is again refluxed to a patient after leading blood outside of the body from the patient infected with the retro-virus such as HIV, HBV, and HCV and other various bacteria and irradiating this blood via a reflecting mirror with YAG laser beams from outside and by repeating this a plurality of times.例文帳に追加

ＨＩＶ、ＨＢＶ、ＨＣＶ等のレトロウィルスやその他の雑菌に感染している患者より血液を体外へ導出し、これに外部よりＹＡＧレーザービームを反射ミラーを介して照射した後で再び患者に還流させる工程を含ましめ、これを複数回繰り返すことによって、レトロウィルスやその他の雑菌を殺菌する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus and a method in which a digital watermark having strong robustness against geometrical transformation/edit processes such as rotation, scaling, translation, and the like is embedded and the embedded digital watermark can be accurately extracted even after the conversion/edit process such as rotation of an image or the like.例文帳に追加

回転処理、スケーリング処理、平行移動処理等の幾何的な加工編集処理に対して強い耐性を持つ電子透かしを埋め込む画像処理装置及び画像処理方法、並びに画像の回転処理等の加工編集処理後も埋め込まれた電子透かしを正しく抽出することができる画像処理装置及び画像処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printed circuit board in which optical waveguides for a large area in various shapes are formed in a core layer, by performing an exposure process for the core layer using an exposure film formed with an optical waveguide pattern, after the ultraviolet ray setting core layer and clad layer are applied to the printed circuit board, and also to provide the manufacturing method of this board.例文帳に追加

紫外線によって硬化するコア層とクラッド層をプリント回路基板に塗布した後、光導波路パターンが形成された露光フィルムを用いてコア層に対する露光工程を行うことにより、コア層に様々な形状の大面積用光導波路が形成されたプリント回路基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated tube unwinding prevention tape provided in advance for preventing a winding-up section from being unwound when an end of a laminated tube becoming unnecessary after squeezing is wound up, in the process of squeezing the laminated tube from its end to a squeeze opening according to the remaining volume of a cream agent as the content of the laminated tube.例文帳に追加

本発明は、ラミネートチューブ内容物であるクリーム剤等の使用残量に応じラミネートチューブ末端部分より取出し口へ絞り上げる過程において、絞り上げた後の不要となるラミネートチューブ末端部分を順次巻き上げる際、巻き上げ部分の巻き戻り防止のために予め設けるラミネートチューブ巻き戻り防止テープを提供するものである。 - 特許庁

A key sequence generation process is next performed to generate a key sequence, an exclusive OR operation is executed on the generated key sequence and a plaintext to generate a ciphertext, and the generated ciphertext is sequentially input into two divided message authenticator creating memories and a circulation is performed with the plaintext all at zero after the input of the plaintext.例文帳に追加

次いで、鍵系列生成処理を実行し、鍵系列を生成し、生成した鍵系列と平文との排他的論理和演算を実行することにより暗号文を生成し、生成した暗号文を分割した２つのメッセージ認証子作成用メモリに逐次入力し、平文の入力が終了した後も、平文をオールゼロとして空回しを実行する。 - 特許庁

Regarding this point, in order to eliminate an additional measurement step of measuring the workpiece 24, a control unit 18 is formed and programmed in such a method that comparison, between a position coordinates acquired by the control unit 18 after the distance compensation of the laser cutting head 22 is made and the reference coordinates stored in memory, is performed before the laser cutting process is started.例文帳に追加

この点に関して、被加工物２４を測定する追加の測定ステップを避けるために、レーザ切断ヘッド２２の距離補正後に制御ユニット１８によって取得された位置座標とメモリに格納された基準位置座標との比較が、レーザ切断プロセスが開始される前に行われるような方法で、制御ユニット１８が形成かつプログラムされる。 - 特許庁

Manufacturing facilities 30 are equipped with a photoresist coating part 36 which coats a wafer with specific photoresist, a development part 4 which forms a photoresist pattern on the wafer exposed after being coated with the photoresist, and a cross-linking reaction part which submits the photoresist pattern to cross-linking reaction so as to provide a stable flow in a flow process of the photoresist pattern.例文帳に追加

製造装備３０はウェーハ上に特定のフォトレジストを塗布するフォトレジスト塗布部３６、フォトレジストが塗布された後、露光されたウェーハ上にフォトレジストパターンを形成させる現像部４４、及びフォトレジストパターンのフロー工程時、安定されたフローを提供するためにフォトレジストパターンを架橋反応させるための架橋反応部を備えてなる。 - 特許庁

An electrode does not remain on the same potential line 40 after cutting a board even when the same potential line 40 and the electrode are formed to be partly overlaid in a region 41 including a cut line 50 of a TFD array side mother board 100, since it has a process for removing a conductive layer around the same potential line 40, namely the electrode.例文帳に追加

同電位ライン４０の周りの導電層、すなわち電極を除去する工程を有することとしたので、ＴＦＤアレイ側マザー基板１００の切断線５０を含んだ領域４１で同電位ライン４０と電極とが一部重なって形成される場合でも、電極が基板切断後の同電位ライン４０上に残ることは無い。 - 特許庁

The method for manufacturing the functional organic particulates by generating the organic particulates in an aqueous medium comprises reacting a tri- or higher-valent metal ion with an acid group on the surface of the organic particulates after the emulsification or suspension dispersion process; and further, reacting an organic acid or organic acid salt with the metal.例文帳に追加

水系媒体中で有機微粒子を生成する有機微粒子の製造方法において、乳化または懸濁分散工程後に、該有機微粒子表面の酸基に３価以上の金属陽イオンを反応させ、さらに該金属に対し有機酸あるいは有機酸の塩を反応させることを特徴とする機能性有機微粒子の製造方法。 - 特許庁

The luminescent element is provided with a substrate, a transparent electrode, one or more organic compound layers including a luminescent layer and a back electrode, of which, the luminescent layer is an element containing a phosphorescent compound, and at least one of the organic compound layers is one filmed by a wet-process film-forming method with the use of coating liquid after oxidization treatment.例文帳に追加

本発明の発光素子は基材、透明電極、発光層を含む一層以上の有機化合物層及び背面電極を有し、該発光層が燐光発光性化合物を含有する素子であって、有機化合物層の少なくとも一層が、脱酸素処理した塗布液を用いた湿式製膜法により製膜した層であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for peeling a photoresist by which a photoresist film and an etching residue after etching can be effectively removed without using O_2 plasma ashing even in a process of forming a fine pattern on a substrate having at least copper wiring and a low dielectric material layer, no adverse effect is given to the dielectric constant of the low dielectric material layer, and excellent corrosion resistance is obtained.例文帳に追加

少なくとも銅配線と低誘電体層を有する基板上の微細パターン形成において、Ｏ_２プラズマアッシング処理を行わないプロセスにおいても、エッチング後のホトレジスト膜、エッチング残渣物を効果的に剥離することができ、しかも低誘電体層の誘電率への悪影響を及ぼさず、防食性にも優れるホトレジスト剥離方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which can completely remove contamination which may be diffused when it is in contact with the wafer from an edge to be in contact at the time of handling of the wafer, can verify the recognition number of the wafer by a laser reading device, and can progress a manufacturing process by the exchange of the wafer after standard handling is established.例文帳に追加

ウェーハに触れて拡散させるおそれのある汚染をウェーハのハンドリングの際に触れるエッジ部分から完全に除去でき、ウェーハの認識番号が確実にレーザ読取機で確認できて、標準ハンドリングが確立しウェーハを交換して製造工程を進めることが可能な半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

A fabrication process of a Schottky barrier diode comprises a step for forming an n-type SiC layer 10, a step for forming a trench 30 on the surface of the n-type SiC layer 10, and a step for heat treating the n-type SiC layer 10 while supplying silicon and nitrogen to the surface of the n-type SiC layer 10 after the step for forming a trench 30.例文帳に追加

ショットキーバリアダイオードの製造方法は、ｎ型ＳｉＣ層１０を形成する工程と、ｎ型ＳｉＣ層１０の表面にトレンチ３０を形成する工程と、トレンチ３０を形成する工程の後で、ｎ型ＳｉＣ層１０の表面にケイ素と窒素とを供給した状態でｎ型ＳｉＣ層１０を熱処理する工程とを備えている。 - 特許庁

The synchronizing process part 120 comprises detecting parts 121a and 121b for detecting preamble completion time in each base band signal, delay devices 123a and 123b for matching phases of the base band signals according to each completion time, and an adder 125 for adding the base band signals together, of which phases match after passing the delay devices 123a and 123b.例文帳に追加

合成処理部１２０は、各ベースバンド信号中のプリアンブル終了時刻を検出する検出部１２１ａ，１２１ｂと、各終了時刻に応じて各ベースバンド信号相互の位相を合わせるための遅延器１２３ａ，１２３ｂと、各遅延器１２３ａ，１２３ｂを通過して位相が合った各ベースバンド信号相互を加算する加算器１２５とを有する。 - 特許庁

While the registered fingerprint image Go is updated according to aging effect of a fingerprint of a registered person whenever necessary, the registration update is not performed about the collation fingerprint image Gs wherein large displacement is generated in a fingerprint collection position, risk of causing delay of a collation processing time or false decision of person oneself denial or the like in the fingerprint collation process after that time is prevented from occurring.例文帳に追加

登録人物の指紋の経時変化に応じた登録指紋画像Ｇoの随時更新を行う一方で、指紋採取位置に大きなずれが生じた照合指紋画像Ｇsについては登録更新は行わず、これ以降の指紋照合処理で本人拒否などの誤判定や照合処理時間の遅延を招く虞を未然に防止する。 - 特許庁