「AFTER PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(154ページ目) - Weblio英語例文検索

The damage of a tip of the sheet is eliminated by rotating and stopping a pair of resist rollers and rotating them reversely based on tip position information of the sheet 22 detected by a sensor 20, and a conveyance distance necessary after the tip of the sheet reaches the resist rollers is made the minimum based on information of a skew detection sensor 23 to shorten a resist process.例文帳に追加

センサ２０で検出したシート２２の先端位置情報に基づいてレジストローラ対の回転，停止，逆転することでシート先端のダメージをなくすると共に、スキュー検出センサ２３の情報に基づいて、シート先端がレジストローラに到達後に必要な搬送距離を最小限にすることによりレジスト工程の短縮をはかる。 - 特許庁

To provide a water-based paint composition capable of forming a coating film excellent in processability and corrosion resistance, good in degassing at a curing process and leaving no bubble in the coating film after curing, and causing no defect in the coating film, and to provide a method for producing the composition.例文帳に追加

本発明は、加工性、耐食性に優れる塗膜を形成し得る塗料組成物であって、塗工後硬化前の塗膜中に泡が存在しても、硬化時の脱泡が良好で、硬化後の塗膜中に泡が残らず、塗膜欠陥が発生しない水性塗料組成物及び該水性塗料組成物の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To arrange a reinforcing member on front and rear surfaces of a wiring member with superior manufacturing efficiency, and to effectively prevent deformation at the time of applying an external force, related to a wiring board and its manufacturing method including a process removing the supporting body after forming the wiring member by laminating a wiring layer and an insulating layer on a supporting body.例文帳に追加

本発明は支持体上に配線層と絶縁層を積層した配線部材を形成した後にこの支持体を除去する工程を有する配線基板の製造方法及び配線基板に関し、配線部材の表面及び裏面に製造効率良く補強部材を配設できると共に外力印加時の変形を有効に防止することを課題とする。 - 特許庁

To provide a washing machine including a wobbling device in which in the washing process, a washing plate part is not rotated, but wobbled in the vertical direction to wash washing and after an enough quantity of washing water is raised by a raising water flow guide by unidirectional rotation of a rotary blade, the washing is dropped to perform washing.例文帳に追加

洗濯行程中、洗濯板部が回転しないで上下方向にウォブリングして洗濯物を洗濯するとともに、回転ブレードの一方向回転により十分な量の洗濯水が上昇水流ガイドにより上昇してから洗濯物に落下するようにして洗濯を行うウォブリング装置を備える洗濯機を提供する。 - 特許庁

Water contained in flue gas discharged from a fuel processor 14 is condensed by a flue gas side heat exchanger 19, is transported to the deaerator 11, and is transported to the recovered water tank 16 after being treated by the deaerator to contact with the discharged air treated by the carbon dioxide absorption process in the carbon dioxide absorption means 111 in the deaerator 11.例文帳に追加

燃料処理器１４から排気される燃焼排ガスに含まれる水分は燃焼排ガス側熱交換器１９で凝縮された後、脱気装置１１に送られ、脱気装置１１において、炭酸ガス吸着手段１１１で炭酸ガス吸着処理を受けた排空気と接触し脱気処理された後、回収水タンク１６に送られる。 - 特許庁

The administrative server 4 reads out address information from a database 5 based on the input identification information, notifies a user to confirm whether or not the user wants to replenish the electronic money, and then proceeds a process to replenish the electronic money on the IC card 10 after receiving an input of an approval order by the user to approve the replenishment of the electronic money.例文帳に追加

管理サーバ４は、入力した識別情報に基づいてデータベース５からアドレス情報を読み出して電子通貨の補充を行うか否かを確認するための通知を行い、その後、電子通貨の補充を許可する許可指令が入力されることによってＩＣカード１０に対する電子通貨の補充を行うための処理を実行する。 - 特許庁

In the sludge treatment method, sewage treatment, night soil treatment, treatment of residues generated in the food processing process, or the like is performed by biological treatment using microorganisms, the dehydration and drying treatment of sludge is performed after the biological treatment, and a microorganism-killing treatment 8 of killing the microorganisms before performing the dehydration and drying treatment.例文帳に追加

本発明の汚泥処理方法は、下水処理、し尿処理、食品加工工程によって生じる残渣処理などを、微生物による生物処理を行い、生物処理の後に汚泥の脱水・乾燥処理を行う汚泥処理方法であって、脱水・乾燥処理を行う前に、微生物を死滅させる微生物死滅処理８を行うことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device using a novel polyorganosiloxane composition which is excellent in photosensitive characteristic to a UV i-line and adhesion to an organic thin film, can be cured at a low temperature of 250°C or less, allows extremely small volume shrinkage in a process of this heat-curing, and also has excellent low degassing property in a resin structure and a resin film after heat-curing.例文帳に追加

ＵＶ−ｉ線での感光特性及び有機薄膜に対する接着性に優れ、２５０℃以下での低温硬化が可能であり、この加熱硬化の過程での体積収縮が極めて小さく、更に加熱硬化後の樹脂構造体および樹脂膜において、低デガス性に優れる新規なポリオルガノシロキサン組成物を用いた半導体装置の提供。 - 特許庁

Further, the manufacturing method is characterized by leveling in which, in a fabrication process of rolling, after forming the caulking part at an initial stage of rolling, parts for the caulking part or an imperfect screw part are rolled again by a dice part having a shape with no interference of the trough diameter compared with an angle shape for usually forming a screw thread.例文帳に追加

更に、この製造方法は、転造時の成形工程においてかしめ部を転造の初期段階にて成形した後に再度かしめ部や不完全ねじ部にあたる部分を通常ねじ山を成形させる山形状よりも谷径が干渉することがない形状となるダイス部で再度転造して矯正加工することを特徴とする。 - 特許庁

This carrier substrate 10 is provided with a metal substrate 12 on which a semiconductor chip is loaded in the manufacturing process of a semiconductor device, a recessed part 16 formed by press working at a position corresponding to the resin protrusion of a resin package of the metallic substrate 1, after plated coating is formed on the metal substrate 12, and the plated coating 14 formed on the inner face of the recessed part 16.例文帳に追加

半導体装置の製造工程で半導体チップが搭載される板状の金属基材１２と、金属基材１２に予めめっき被膜が形成された後、金属基材１２の樹脂パッケージの樹脂突起に対応する位置に、プレス加工によって形成された凹部１６と、凹部１６の内面に形成されためっき被膜１４とを具備する。 - 特許庁

The method for grain side treatment of flesh side of pigskin comprises performing a depilation treatment of untreated hide, applying binder solution to the flesh side of pigskin after tanning process, and subsequently, heating and pressuring the flesh side in which the binder solution is applied, and the pigskin, in which the flesh side is treated by grain side, is produced by the method.例文帳に追加

原皮を脱毛処理し、なめし加工した後の豚革の肉面にバインダー溶液を塗布し、引き続いて前記バインダー溶液が塗布された肉面を加熱・加圧加工することにより、豚皮の肉面を銀面化することを特徴とする豚皮の肉面の銀面化処理方法と、かかる方法により製造された肉面が銀面化されている豚革。 - 特許庁

Then the insulating material layer is removed secondarily by a normal wet etching method or a dry etching method, to a prescribed protruded thickness from the surface of the semiconductor substrate, namely a thickness equal to the insulating material layer which is removed at intermediate treatment process, after removing the CMP cut-off pattern and before forming a gate oxide film is left.例文帳に追加

次に、半導体基板の表面から所定の突出した厚さ、すなわち、ＣＭＰ遮断パターンを除去してからゲート酸化膜を形成する前までの中間処理工程時に除去される絶縁物質層の厚さに該当する厚さが残るまで絶縁物質層を通常のウェットエッチング法またはドライエッチング法により２次的に除去する。 - 特許庁

To allow a smooth operation after the deposition by preventing the supply of a deposition material as much as possible except a pattern forming region corresponding to the panel pattern parts needed to be deposited in one deposition process, and further to enhance the recovery of the deposition material which has not been used effectively by eliminating the wasted use of the deposition material.例文帳に追加

一つの蒸着工程で、蒸着が必要なパネルパターン部に応じたパターン形成領域以外にはできる限り蒸着材料の供給を行わないようにして、蒸着後の作業を円滑に行うことを可能にし、また、無駄な蒸着材料の使用を避けて、有効に使用されなかった蒸着材料の回収率を高める。 - 特許庁

The method of manufacturing the compound semiconductor includes a process wherein, after bonding the surface side of the SiC wafer 1 whereon a compound semiconductor element is formed and a support substrate 2 for supporting the SiC wafer by an adhesive 3 whose softening temperature is above 200°C, the hole 6 is formed by dry-etching from the rear face side of the SiC wafer using a fluorine-contained etching gas.例文帳に追加

化合物半導体素子が形成されたＳｉＣウエハ１の表面側と、このＳｉＣウエハを保持する支持基板２とを、軟化温度が２００℃を超える接着材３により接着した後、上記ＳｉＣウエハの裏面側から弗素を含むエッチングガスを用いてドライエッチングによりバイアホール６を形成する工程を含むようにしたものである。 - 特許庁

The source and drain electrode sections are formed by successively etching an insulating film 13, an ohmic-contact source electrode and drain electrode layer 12, and a low- resistance diamond layer 11 which transmits carriers metallically and has a certain degree of doping concentration in one photolithography process after the diamond layer 11, source electrode and drain electrode layer 12, and insulating film 13 are successively formed on the diamond layer 10.例文帳に追加

ソース及びドレイン電極部は、高抵抗ダイヤモンド層１０の上にキャリアの伝導が金属的である程度のドーピング濃度を持つ低抵抗のダイヤモンド層１１と、オーミック接触性のソース電極及びドレイン電極層１２と、絶縁膜１３とが順次積層された後、一回のフォトリソグラフィにより順次エッチングされて形成されている。 - 特許庁

After the etching stopper film 4 is exposed at the bottoms of the opening parts OP3, anisotropic dry etching shall be continued, and using the etching stopper film as an etching mask, contact holes CH1 penetrating an interlayer insulating film 3 to source, drain regions 11, 13 are formed, thereby obtaining the opening parts OP3 and the contact holes CH1 simultaneously in the same etching process.例文帳に追加

開口部ＯＰ３の底部にエッチングストッパ膜４が露出した後も異方性ドライエッチングを続行し、エッチングストッパ膜４をエッチングマスクとして、層間絶縁膜３を貫通してソース・ドレイン領域１１および１３に達するコンタクトホールＣＨ１を形成することで、開口部ＯＰ３とコンタクトホールＣＨ１とを同じエッチング工程で同時に得る。 - 特許庁

After a color photoresist is applied on a glass substrate 50 where a resin black matrix 51 is already formed, the glass substrate is kept in a horizontally static state and subjected to a flattening process to allow the part of the color photoresist overlapping the resin black matrix to flow and spread to a color pixel portion, and then the substrate is subjected to preliminary drying by a reduced-pressure drying device.例文帳に追加

樹脂ブラックマトリックス５１が形成されたガラス基板５０上に、着色フォトレジストを塗布した後にガラス基板を水平に静止した状態に保ち、樹脂ブラックマトリックス上に重なった部分の着色フォトレジストを着色画素部へ流動、拡がらせる平坦化処理を行い、続いて、減圧乾燥装置による予備乾燥を行うこと。 - 特許庁

Further, the fixing device 5 includes: a separation pawl 51 for separating paper from the surface of the fixing roller 18 after a fixing process; a cleaning sheet 65 movable in contact with the separation pawl 51; and an operation member 61 to which the cleaning sheet 65 is attached and which swings relative to the separation pawl 51, thereby reciprocating the cleaning sheet 65.例文帳に追加

更に、定着装置５は、定着ローラ１８の表面から定着処理後の用紙を分離させる分離爪５１と、この分離爪５１に接触しながら移動可能である清掃シート６５と、清掃シート６５が取り付けられ、分離爪５１に対して揺動することで清掃シート６５を往復動させる作動部材６１とを備える。 - 特許庁

The method of manufacturing the circuit board using the laminate of the metal layer and the polyimide film has a process for cleaning and removing, after a treatment with a chemical etching agent, an altered layer generated by the chemical etching agent and performing treatment with an acid aqueous solution when the polyimide film is subjected to an etching processing.例文帳に追加

金属層とポリイミドフィルムとの積層体を使用しての回路基板の製造方法において、ポリイミドフィルムをエッチング加工する際に、化学エッチング剤での処理後に化学エッチング剤による変性層を洗浄除去し、さらに酸性水溶液で処理するプロセスを有する回路基板の製造方法とこの方法によって得られる回路基板。 - 特許庁

To provide the wall oxide film forming method of a flash memory element, and the element isolation film forming method of the flash memory element using this which can improve element property by preventing dislocation phenomenon in which a silicon substrate of trench inner wall is broken by an oxidation process performed after a formation of trench.例文帳に追加

本発明は、トレンチの形成後に行われる酸化工程によってトレンチ内側壁のシリコン基板が破れるディスロケーション現象を防止して素子特性を向上させることが可能なフラッシュメモリ素子のウォール酸化膜形成方法及びこれを用いたフラッシュメモリ素子の素子分離膜形成方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

After a bottomed cylindrical preform P taken out from a mold for injection molding is received, an arrangement interval of the preform is shortened, a bottom part is protruded downwards, the preform is mounted on a preform pallet 20, cooled by blowing an air upwards toward a bottom part of the preform P from below the preform pallet 20, and discharged by conveying in conformance to the following process.例文帳に追加

射出成形用の金型から取り出された有底筒状のプリフォームＰを受け取った後、当該プリフォームの配列間隔を縮めて底部を下方に突出させてプリフォームパレット２０に搭載し、このプリフォームパレット２０の下方から前記プリフォームＰの底部に向けてエアを上方に吹き付けて冷却し、次工程に合わせて搬送排出するようにする。 - 特許庁

In the X-ray inspection equipment driven by external electric power or power supplied by the internal battery, only an image correction processing is performed when driving power is supplied from the internal battery, and when it is supplied by an external power source, after the image correction, the image processing to make an image for diagnosis is performed, and also the data storing process is performed.例文帳に追加

外部電力、あるいは内部バッテリから供給される電力によって駆動されるＸ線検査装置において、駆動電力が内部バッテリから供給されている場合には、画像補正処理のみを行い、外部から供給されている場合には画像補正後、診断用画像を作成するための画像処理を行って保存する。 - 特許庁

To provide an additive for copper plating in a process for manufacturing a large scale integration circuit, which is not degraded with time after an electrolytic bath has been made up, and adequately embeds copper in a groove and a hole on the circuit even having a finer structure, without producing voids through electrolytic copper plating; a copper plating bath containing the additive; and a copper plating method using the bath.例文帳に追加

高集積化電子回路の製造等において、建浴後の経時的な劣化が殆どなく、且つより微細な構造であっても溝や穴に電解銅メッキによってボイドを生じさせること無く銅を良好に埋め込むことを可能にする、銅メッキ用添加剤、これを含有する銅メッキ浴、及びこれを用いた銅メッキ方法を提供する。 - 特許庁

This game machine executes a temporary stop process for temporarily stopping the rotation of a cum 21 from receiving Pachinko balls in a recess part 22 of the cam 21 till discharging them during the putout control of a ball putout device 16, and discharges the Pachinko balls after attenuating the flipping of the Pachinko balls received in the recess part 22 to approximately uniformize the discharge direction of the Pachinko balls.例文帳に追加

球払出装置１６の払出制御中に、カム２１の凹部２２にパチンコ球を受け入れてから排出するまでの間にカム２１の回転を一時的に停止させる一時停止処理を実行することで、凹部２２に受け入れたパチンコ球の暴れを減衰させた後にパチンコ球を排出してパチンコ球の排出方向をほぼ一定にする。 - 特許庁

To provide an alumina porous ceramic excellent in molding strength without using e.g. an organic matter binding agent, capable of controlling the void rate after the firing in a specific range of not smaller than 5% without using a combustible pore forming agent or the like, low in its load to environment, simple in its manufacturing process, and low in its cost, and its manufacturing method.例文帳に追加

有機質結合剤等の添加剤を使わずに、成形体強度に優れ、更に、可燃性気孔形成剤等の添加剤を使わずに、焼成後の気孔率を５％以上の所定の範囲に調節することができ、環境に対する負荷が小さく、製造工程が簡略、かつ低コストであるアルミナ多孔質セラミックス及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A knocking time transition control section 224b performs a transition process to make an input sign whose reference knocking timing is after the reference knocking timing of the sign with a sash, to be the topmost of input signs controlled so as to be displayed for first and second players at the time when a knocking operation is inputted to the sign with a sash.例文帳に追加

叩打時転移制御部２２４ｂは、たすき付標識に対する叩打操作が入力された場合に、第１プレーヤ用及び第２プレーヤ用にそれぞれ表示制御される入力標識の内、その基準叩打タイミングがたすき付標識の基準叩打タイミング後であって最先となる入力標識に、たすきマークを転移表示させる転移処理を実行する。 - 特許庁

To provide a device which is fitted between a process device and a vacuum device, allows a metal collecting pattern introduced into the design of the device to keep conductance to the maximum and maintains a large housing capacity and removes metallic components from all unreacted metallic/ organic gases after the metallic/organic gases are used in metallic/organic processes.例文帳に追加

プロセス装置と真空装置との間に取り付けることができかつ装置の設計に取り入れられる金属収集パターンがコンダクタンスを最大にすると同時に大きな収集容量を維持できる、金属・有機プロセスで金属・有機ガスを使用した後にあらゆる未反応の金属・有機ガスから金属成分を除去する装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a liquid crystal compound containing no functional group difficult to synthesize, such as an epoxy group or the like, and also to provide a cholesteric aligned liquid crystalline film using the compound which does not require a complicated process, such as photoirradiation in an inert gas atmosphere or the like, and has excellent alignment retaining property and mechanical strength after liquid crystal alignment is fixed.例文帳に追加

エポキシ基のような合成が困難な官能基を含まない重合性の液晶化合物を提供し、該化合物を用いることにより、不活性ガス雰囲気下での光照射のような煩雑な工程を必要とせず、液晶配向固定化後の配向保持能および機械的強度に優れたコレステリック配向液晶フィルムを提供する。 - 特許庁

The gas carburized hardening method of the rolling-formed parts has a process for heating the parts to the temperature of ≥A cm and after rapidly cooling to the temperature range of Ms point to A1 point at the cooling speed for precipitating sorbite from that heating temperature and reheating the parts to the temperature at ≥A1 point and thereafter, applying the hardening, in the gas carburizing treatment.例文帳に追加

本発明の転動部品のガス浸炭焼入れ方法は、ガス浸炭処理において、Ａｃｍ以上の温度に加熱し、その加熱温度からソルバイトが析出する冷却速度でＭｓ点以上Ａ_1点以下の温度範囲まで急冷した後、Ａ_1点以上の温度まで再加熱し、その後に焼入れする工程を有している。 - 特許庁

This production method for the polyurethane molded body, after mixing a polyol ingredient, an isocyanate ingredient and a chain extending agent including water and injecting the mixture into a mold, comprises a molding process for centrifugally molding the mixture over a duration of 10 minutes or more with a centripetal acceleration of 290 m/s^2 or more and at a temperature of 90°C or higher.例文帳に追加

ポリウレタン成型体の製造方法において、ポリオール成分及びイソシアネート成分、並びに水を含む鎖延長剤を混合して型内に注入した後に、求心加速度２９０ｍ／ｓ^２以上で、９０℃以上で１０分間以上遠心成型する成型工程を含むことを特徴とするポリウレタン成型体の製造方法。 - 特許庁

In the pre-treatment for a lowermost-layer electroless Ni plating step, Pd catalyst is deposited on a tungsten sintered wiring body, and the PD catalyst sintered in a micro crack of a ceramic insulating body is removed, so that electroless Ni plating process with superior selectivity and no surplus deposition can be provided, even when the Ni plating is carried out again after heat treatment.例文帳に追加

最下層の無電解Ｎｉめっきの前処理でＰｄ触媒をＷ焼結配線体に析出した後、セラミック絶縁体のマイクロクラックに浸透したＰｄ触媒を除去することにより、熱処理後再度、Ｎｉめっきを施した場合に於いても、余分析出の発生しない選択性の優れた無電解Ｎｉめっきプロセスが提供される。 - 特許庁

Ag, and the balance Cu and inevitable impurities is subjected to cold working for reduction, in the process of this cold working, heat treatment is executed for one or more times, and, after the final heat treatment, cold working is executed to a final wire diameter at ≥90% reduction of area.例文帳に追加

２乃至１４重量％のＡｇを含有し残部がＣｕおよび不可避的不純物からなるＣｕ基合金の鋳造ロッドに縮径のための冷間加工を行い、この冷間加工の途中で１回以上の熱処理を施し、最後に熱処理を施した後に９０％以上の減面率で最終線径にまで冷間加工を行う。 - 特許庁

To provide a calcium measurement method for obtaining a correct quantitative result of each luminescent color from each cell, and observing an expression process of gene derived by calcium and a subsequent aspect of a cell differentiation, after a change in a calcium ion concentration of the same cell has been observed temporally.例文帳に追加

各細胞から各発光色の正確な定量的結果を得ることができ、その結果、同一の細胞についてカルシウムイオン濃度の変化を経時的に観察した後に、カルシウムによって誘導される遺伝子の発現過程およびその後の細胞分化の様子を観察することができるカルシウム測定方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To obtain a decomposition processing method and apparatus wherein an exhaust gas after decomposition process is not high in temperature, and an undecomposed ethylene oxide is not discharged outside a system even if the exhaust gas containing a high concentration ethylene oxide may flow into a decomposition processing means for some reason, when the exhaust gas containing ethylene oxide discharged from a sterilization device or the like is decomposed.例文帳に追加

滅菌装置などからのエチレンオキサイドを含む排ガスを分解処理する際、分解処理後の排出ガスが高温になることがなく、何らかの理由により高濃度のエチレンオキサイドを含む排ガスが分解処理手段に流入しても未分解のエチレンオキサイドが系外に排出されることがない分解処理方法および装置を得る。 - 特許庁

In the method for manufacturing the rubber stopper for medicine/medical goods, in which the rubber stopper is produced through processes of mixing and kneading, molding, cleaning, drying and final inspection in this order, the molding process and the processes after it are performed under the atmosphere stepwisely raised level of air cleanliness.例文帳に追加

配合・混練工程、成形工程、洗浄工程、乾燥工程、及び最終検査工程をこの順に経て医薬・医療品用ゴム栓を製造する方法において、成形工程以降の工程を空気清浄度が段階的に高レベルとなる工程雰囲気下に実施することを特徴とする高度に清浄な医薬・医療品用ゴム栓を製造する方法。 - 特許庁

A motor control device 60 executes the stop process storing an absolute position of the control shaft 21 after completion of rewriting as a final value, rewriting the flag to another value, and stopping electricity supply to the control part 61 when engine stop operation is performed during rewriting of the flag accompanied by engine start operation.例文帳に追加

モータ用制御装置６０は、機関始動操作に伴うフラグの書き換え中に機関停止操作が行われたときには、その書き換えが完了した後、コントロールシャフト２１の絶対位置を終了値として記憶し、フラグを他方の値に書き換え、フラグが一方の値から他方の値に書き換えられると制御部６１への給電を停止する停止時処理を実行する。 - 特許庁

After the betting operation is executed based on loaded tokens, a lottery process is executed (S13) for selecting a jackpot for which a prescribed part of the bet credits is accumulated among a first jackpot, a second jackpot and a third jackpot, and a prescribed credit for the jackpot selected based on the result of the lottery is cumulatively added (S112).例文帳に追加

投入されたコインに基づいてベット操作が行われた後に、ベットしたクレジットの所定割合を累積する対象となるジャックポットを「第１ジャックポット」、「第２ジャックポット」、「第３ジャックポット」の内から選択する抽選処理を行い（Ｓ１３）、抽選結果に基づいて選択されたジャックポットに対して所定クレジットを累積加算する（Ｓ１１２）ように構成する。 - 特許庁

Output signals which are same or different in number from a plurality of input signals are generated by mixing the plurality of input signals by making a signal processing means having a structure specified for matrix operation between an input matrix where the inputted signals are arranged and a mixer conversion matrix after calculations of respective elements, process matrix processing for the matrix operation.例文帳に追加

入力された入力信号を並べた入力行列と各要素を算出後のミキサ変換行列との行列演算を、行列演算に特化した構造を持つ信号処理手段に演算処理させることにより、複数の入力信号をミキシングして同数又は異なる数の出力信号を生成するようにした。 - 特許庁

To provide a mounding agent for a model material with small dimensional increase by moisture absorption, solving problems in a conventional model material obtained by curing a displaying agent that the model deforms due to dimensional increase by moisture absorption, when using it as a master model or an inspection tool after a cutting process, and becomes useless as the inspection tool.例文帳に追加

従来の盛り付け剤を硬化させてなる模型素材では切削加工後、マスターモデルや検査治具として使用する際に吸湿による寸法増加で、該モデルが歪んだり、検査治具としての用をなさなくなるという問題があったため、吸湿による寸法増加の小さい模型素材を与える、模型素材用盛り付け剤を提供する。 - 特許庁

The process for manufacturing a patterned circuit board 4 by applying a mask 3 onto a metal plate 2 and removing the non-masked part by wet etching comprises a step for previously forming a groove 2b in the center of the non-masked part on the metal plate and the wet etching is carried out after the step for forming the groove.例文帳に追加

金属板２上にマスク３を施して、マスクされていない部分をウェットエッチングにより除去してパターンニングされた回路基板４を製造する方法であって、前記金属板上のマスクされていない部分の中央に溝２ｂを予め形成する溝形成工程を有し、該溝形成工程後に、前記ウェットエッチングを行うことを特徴とする。 - 特許庁

Further, a process for producing optically active monatin is also provided, wherein a specific optically active amine and a diastereomer salt are formed from a specific glutaric acid compound having an indolylmethyl group, after separating the diastereomer salt, an alkoxyimino (or hydroxyimino) group is converted into an amino group and the obtained monatin is crystallized by a mixture solvent of water and an organic solvent.例文帳に追加

更に、上記インドリルメチル基を有する特定のグルタル酸化合物から、特定の光学活性アミンとジアステレオマー塩を形成し一方のジアステレオマー塩を分離した後、アルコキシイミノ（又はヒドロキシイミノ）基をアミノ基へ変換し、得られたモナティンを水と有機溶媒の混合溶媒により晶析して光学活性モナティンを製造する方法も提供する。 - 特許庁

The invention relates to the high performance absorbing composite obtained by applying a crimping process to a fiber aggregate 10 composed of tow with a crimping device after supporting monomer of the high performance absorbing polymer with a spray nozzle 11 and then polymerizing the monomer supported on the fiber aggregate 10 by irradiation with UV light from a UV lamp 14.例文帳に追加

トウからなる繊維集合体１０に対し、スプレーノズル１１により高吸収性ポリマーの単量体を含む液を保持させた後、捲縮加工装置１３により捲縮加工を施し、しかる後、紫外線ランプ１４による紫外線照射によって繊維集合体１０に保持された単量体を重合させるようにする。 - 特許庁

A silane compound or the like is introduced into the reaction chamber 10 of a plasma CVD device to form an antireflection SiON film on a wafer 5, and the antireflection SiON film formed on the wafer 5 is thermally treated at a required temperature in an inert gas atmosphere of nitrogen gas or the like so as to be kept stable in KrF laser beam absorption characteristics after a film forming process is finished.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置の反応室１０内にシラン系化合物等を導入してウェハー５上に反射防止ＳｉＯＮ膜を成膜後、該成膜工程終了後に窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で反射防止ＳｉＯＮ膜を所望の温度で熱処理し、反射防止ＳｉＯＮ膜のＫｒＦレーザ光吸収特性を安定化させる。 - 特許庁

To provide a container with a spout which is the container for sealing and packaging contents having fluidity such as a drink, capable of simplifying a production process and reducing cost without requiring the spout with a cap or a straw, and allowing a user to safely and hygienically drink the contents by directly touching a mouth to an opening part after opening the container.例文帳に追加

飲料などの流動性を有する内容物を密封包装する容器であって、キャップ付きの飲み口やストローなどを必要とせず、製造工程の簡略化及びコストの低減が可能で、しかも容器の開封後、開口部に直接口を付けて安全且つ衛生的に内容物を飲用することのできる飲み口付き容器を提供する。 - 特許庁

To provide case hardening steel in which the generation of coarse grains can be stably suppressed in a carburizing and hardening process, the occurrence of strain and bending after the carburizing and hardening can be prevented, further, the generation of coarse grains can be prevented even in high temperature carburizing, and sufficient strength properties such as rolling fatigue strength can be obtained, and to provide a production method thereof.例文帳に追加

浸炭焼入れ工程において粗大粒の発生を安定的に抑制することができ、浸炭焼入れ後の歪みや曲がりの発生を防止することができ、ならびに高温浸炭においても粗大粒の発生を防止し、転動疲労等の十分な強度特性を得ることができ、被削性に優れた肌焼鋼とその製造方法を提供する。 - 特許庁