「FORMATION PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(47ページ目) - Weblio英語例文検索

An improved continuous process for converting methane, natural gas, or other hydrocarbon feedstocks into one or more higher hydrocarbons or olefins by continuously cycling through the steps of alkane halogenation, product formation (carbon-carbon coupling), product separation, and regeneration of halogen is provided.例文帳に追加

アルカンのハロゲン化、生成物の形成（炭素‐炭素カップリング）、生成物の分離、及びハロゲンの再生の工程を通して連続的に循環させることにより、メタン、天然ガス、又は他の炭化水素の供給原料を１つ又は２つ以上の高級炭化水素又はオレフィンに転化する改良型連続転化法が提供される。 - 特許庁

By identifying and selecting specific themes and effectively using the retired personnel of companies with domestic and international networks in these fields to re-evaluate intraregional resources, it would be possible to coordinate the entire collaboration formation process, including the acquisition of partners outside of the region, through matching within the region as a starter.例文帳に追加

一定のテーマが具体的に絞れれば、当該分野で国内外にネットワークを有する企業の退職人材等（新現役人材）をうまく活用しながら、地域内のリソースを再評価し、地域内のマッチングから更に地域外とのパートナー確保も含めた全体をコーディネートしていくことも可能となろう。 - 経済産業省

The liquid crystal display can be manufactured by combining formation of a gettering sink outside a p-channel type TFT region and a process of self-alignedly removing a part of a region, where the elements of a catalyst are gettered that is located outside the TFT region, by a source interconnection or drain interconnection.例文帳に追加

Ｐチャネル型ＴＦＴ領域の外側にゲッタリングシンクを設けることと、触媒元素をゲッタリングさせた領域の内、ＴＦＴ領域の外側に設けられている領域をソース配線あるいはドレイン配線により自己整合的に除去する工程とを組み合わせることにより、上記課題を解決できる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor element capable of preventing overlap of a doped region by cell channel ion implantation with a junction region by source/drain ion implantation and damage of a substrate in isotropic etching for formation of a valve pattern of a valve-shaped recess, improving refreshing characteristics of the element, and stabilizing a process.例文帳に追加

セルチャネルイオン注入によるドーピング領域とソース／ドレインイオン注入による接合領域とのオーバーラップ、及び、バルブ型リセスのバルブパターン形成のための等方性エチング時の基板の損傷を防止し、素子のリフレッシュ特性の改善及び工程の安定化が可能な半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A device structure 13 is formed by growing an epitaxial crystal layer of a compound semiconductor on a circular single crystal substrate 1 according to a vapor growth process, and the orientation flat 20a is formed for the circular substrate 20 after the formation of the device structure 13 by naturally cleaving a periphery thereof at a specific crystal plane.例文帳に追加

円形の単結晶基板１上に気相成長法により化合物半導体のエピタキシャル結晶層を成長してデバイス構造１３を形成し、そのデバイス構造１３が形成された後の円形の基板２０に対し、周辺の一部を特定の結晶面で自然劈開してオリエンテーションフラット２０ａを形成する。 - 特許庁

In the radiation detecting element and the method of manufacturing the element, a part of the whole of the end part of the photoelectric conversion film 4 in a thickness of up to about mm for the radiation detection is tilted, and the counter electrode 5 and the lead wire 3 are connected directly in the formation process of the counter electrode 5.例文帳に追加

放射線検出用のｍｍ程度までの厚い光電変換膜４の端部の一部または全部に傾斜を持たせることにより、対向電極膜５の形成プロセスで対向電極５とリード線３を直接接続することを特徴とする放射線検出素子およびその製造方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of a reaction device utilizing a reaction member equipped with an electrolyte part, a fuel electrode part and an air electrode part and to prevent, during operation, formation of chromia on a surface of an electric connection part with the air electrode part in a conductive member made of stainless steel electrically connected with the air electrode part.例文帳に追加

電解質部、燃料電極部、及び空気電極部を備えた反応部材を利用した反応装置の製造過程、及び作動中において、空気電極部と電気的に接続されたステンレス製の導電部材における空気電極部との電気的接続部分の表面にクロミアが形成されることの抑制。 - 特許庁

To provide a composition for forming a conductive film, and its manufacturing method, as well as, a formation method of the conductive film, capable of forming a conductive film which is mainly constituted of copper, with less voids inside a thin film, and with high film density, and yet eliminating the need for hydrogen gas that presents high hazards, even in a baking process.例文帳に追加

銅を主成分とし、薄膜内部の空隙が少なく、膜密度が高い導電膜が形成可能で、且つ、焼成工程において危険性の高い水素ガスを使用しなくとも導電膜の形成が可能な、導電膜形成用組成物、及びその製造方法、並びに導電膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

An electrolytic solution is well supplied to an electrode, since the graphite powder containing the sulfuric in large quantity generates clacks in the active material in the formation process, and the graphite powder containing the sulfuric in small quantity or the graphite not containing the sulfuric generates clacks in the active material during the float discharging.例文帳に追加

本発明では、硫酸を多量に含有させた黒鉛粉が化成工程で活物質にクラックを生じさせ、硫酸を少量含有させた黒鉛粉或いは硫酸を含有させてない黒鉛粉がフロート充電中に活物質にクラックを生じさせるので電極へ電解液が良好に供給される。 - 特許庁

The method for mixing the gloss-reducing agent comprises blending the reaction product into the molten state ASA or blending the reactant (i) with (ii) under a process condition designed to cause in situ formation of the gloss-reducing agent.例文帳に追加

本発明の組成物への前記光沢低下剤の混合は、溶融状態のＡＳＡに前記反応生成物をブレンドするか或は別法として本発明の光沢低下剤のインサイチュー生成がもたらされるように設計した工程条件下で反応体（ｉ）と（ｉｉ）をブレンドすることにより行なうことができる。 - 特許庁

To provide a forming method of a metal oxide thin film pattern by which distribution of refractive index in an inorg. optical waveguide, photonic band and interference mirror having small transmission loss and excellent heat resistance can be produced and which is advantageous for the surface imaging process in semiconductor microfabrication and for the formation of a fine metal wiring pattern.例文帳に追加

伝搬損失が小さく、耐熱性に優れた無機系の光導波路やフォトニックバンド、干渉鏡などの屈折率分布を形成でき、かつ半導体微細加工における表面イメージング工程や、微細金属配線パターンの形成に有用な、金属酸化物薄膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an n type diffusion layer formation composition, a manufacturing method of an n type diffusion layer, and a manufacturing method of solar cells which form the n type diffusion layer in a desired form at a specific area without forming unnecessary n type diffusion layers in a manufacturing process of the solar cells using crystal silicon substrates.例文帳に追加

結晶シリコン基板を用いた太陽電池セルの製造工程において、不要なｎ型拡散層を形成させることなく特定の部分にｎ型拡散層を、所望の形状に形成可能であるｎ型拡散層形成組成物、ｎ型拡散層の製造方法、及び太陽電池セルの製造方法の提供。 - 特許庁

The formation method includes (1) a step of forming a silicon oxide film 42 by thermally oxidizing a surface of a silicon layer 40 at an atmosphere temperature at which hydrogen atoms terminated on its surface are not detached, and (2) a step of obtaining a silicon nitride oxide film 42A by subjecting the obtained silicon oxide film 42 to a nitriding process.例文帳に追加

シリコン窒化酸化膜の形成方法は、（イ）表面を終端した水素原子が脱離しない雰囲気温度にて、シリコン層４０の表面を熱酸化することによって、シリコン酸化膜４２を形成する工程と、（ロ）得られたシリコン酸化膜４２を窒化処理することによって、シリコン窒化酸化膜４２Ａを得る工程から成る。 - 特許庁

In a first process, slaked lime having the molar ratio of quicklime to water of 1:1 to 1:5 in formation and 0.05-8 wt.% calcium carbonate content is slurried by using a liquid having pH 5.5 to 13.5 into 10-60 wt.% concentration to give a milk of slaked lime.例文帳に追加

第１段工程において、生成時の生石灰と水のモル比が、生石灰：水＝１：１〜１：５の消石灰であり、かつ炭カル含有率が０．０５〜８重量％である消石灰に対して、ｐＨ５．５〜１３．５の液を用い、濃度１０〜６０重量％になるようにスラリー化させ消石灰乳を得る。 - 特許庁

To provide a discharge product decomposition removal device which performs high quality image formation by decomposing and removing a discharge product adhered on an image carrier by easy, small, inexpensive and simple structure, a process cartridge equipped with the discharge product decomposition removal device and an image forming apparatus.例文帳に追加

容易、且つ、小型、低廉で簡単な構成で、像担持体上に付着した放電生成物を分解して除去することにより高品質の画像形成が行われるようにする放電生成物分解除去装置、及び、その放電生成物分解除去装置を具備するプロセスカートリッジ、並びに、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of laminating film to substrate surfaces through the film roll-feeding process in which the lamination is carried out as the film is conveyed to the surface of the substrate in no need of manual handling in the laminator whereby the occurrence of wrinkles and stains, when the film is set, and bubble formation caused by individual difference can be inhibited.例文帳に追加

フィルムロール供給方法において装置内で人手によりフィルムを引き回すことなく基板表面へフィルムを搬送しながらラミネートを行い、フィルムをセットする時に生じる皺や汚れの発生個人差による気泡を防止することが出来るようにしたフィルム貼付方法を提供することにある。 - 特許庁

At the time of carrying out a reaction layer formation process by thermally press-fitting the both of them, the Au thin film 20 on the upper face of the In film 14 is crushed by the hard Ti film 18, a metallic compound is formed of the Au film 12 and the In film 14, and a reaction layer containing the fraction of the Ti film 18 is formed.例文帳に追加

両者を熱圧着することで反応層形成工程を実施すると、硬いＴｉ膜１８によりＩｎ膜１４の上面のＡｕ薄膜２０が破砕され、Ａｕ膜１２とＩｎ膜１４とが金属化合物を形成し、Ｔｉ膜１８の断片を含んだ反応層を形成する。 - 特許庁

This image forming method is provided with a dot data creating process of deciding a dot arrangement in an output pixel group as a plurality of pixels corresponding to input pixels depending on encode data for each of the input pixels and creating dot data indicating the state of the formation of dots formed on a recording medium.例文帳に追加

本願の画像形成方法は、入力画素毎にエンコードデータに応じて入力画素に対応する複数の画素である出力画素群におけるドット配置を決定して、記録媒体上に形成されるべきドットの形成状態を表すドットデータを生成するドットデータ生成工程を備える。 - 特許庁

A metallic coating process is preferably carried out in an integrated processing system that includes both PVD and CVD processing chambers so that once the substrate is introduced into a vacuum environment, the metallic coating of the vias and contacts can be carried out without the formation of an oxide layer over the CVD Al layer.例文帳に追加

金属被覆法は、統合された処理システムで実施されるのが好ましく、そのシステムは、ＰＶＤおよびＣＶＤ処理チャンバの両方を含み、基板が真空環境に入ると、バイアおよび接点の金属被覆が、ＣＶＤによるＡｌ層上に酸化物層を形成することなく行うことができる。 - 特許庁

The formation suppressant of a chlorinated aromatic compound to suppress the formation of the chlorinated aromatic compound in the exhaust gas cooling process from a furnace to a dust collector comprises thiocyanate or thiocyanate and thiourea, preferably comprises thiocyanate (and thiourea) and at least one selected from the group consisting of diatom earth, pearlite, calcium hydroxide, calcium oxide, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, activated clay, acid clay, bentonite and sepiolite, is provided.例文帳に追加

炉から集塵装置までの排ガス冷却過程において塩素化芳香族化合物の生成を抑制する塩素化芳香族化合物の生成抑制剤であって、チオシアン酸塩からなるか、またはチオシアン酸塩およびチオ尿素からなるものであり、好ましくは、チオシアン酸塩（およびチオ尿素）と、ケイソウ土、パーライト、水酸化カルシウム、酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、活性白土、酸性白土、ベントナイトおよびセピオライトからなる群より選ばれる少なくとも１つとからなる。 - 特許庁

When a metal wiring layer connected with a gate layer is formed above the gate layer in order to transmit an electric signal to the gate layer of a MOS transistor formed in a functional circuit region adjacent to the cell formation region of an SRAM memory cell, the metal wiring layer is arranged in a layer different from a wordline layer formed above the gate layer at a metal damascene process using a second metal damascene process.例文帳に追加

ＳＲＡＭメモリセルのセル形成領域に隣接した機能回路領域に形成されるＭＯＳトランジスタのゲート層に電気的信号を伝達するために前記ゲート層と接続される金属配線層を前記ゲート層の上方に形成する場合に、前記ゲート層の上方に金属ダマシン工程で形成されるワードライン層とは互いに異なる層で第２の金属ダマシン工程を用いて前記金属配線層を配置する。 - 特許庁

A plurality of times of engraving can be conducted to the same resin by a photolithographic method by using a positive type photosensitive polyimide resin material to an insulating layer 21, mask formation by a resist in a solder ball forming process and a rear etching process in the manufacture can be omitted, processes can be simplified, and a material used can be decreased, and manufacturing cost can be reduced.例文帳に追加

絶縁層２１にポジ型の感光性ポリイミド樹脂材料を使用することで、フォトリソグラフィー法によって同一の樹脂に対して複数回の製版を行うことが可能であり、従来の製造方法における半田ボール形成工程、裏面エッチング工程時のレジストによるマスク形成を省略することができるので、工程を簡略化でき、かつ使用する材料を減らすことができるので、製造コストの大幅な低減を図ることができる。 - 特許庁

This method for forming the plating resist layer comprises a process for forming an electrolytic latent image on the first resist layer formed on the first metallic conductive layer, a process for forming the second resin layer on the first resist layer at the section equivalent to the circuit non-formation part, and a process for removing the first resist layer equivalent to the circuit formation part.例文帳に追加

貫通孔および／または非貫通孔を有していても良い絶縁性基板表面に第一金属導電層を設け、回路未形成部にめっきレジスト層を形成する工程と、電解めっきを行って第一金属導電層が露出する部分の表面に第二金属導電層を形成する工程と、該めっきレジスト層を除去する工程と、該めっきレジスト層下の第一金属導電層をエッチング除去して回路を形成する工程とからなる回路基板の製造方法において、第一金属導電層上に設けた第一樹脂層上に静電潜像を形成する工程、回路未形成部に相当する部分の第一樹脂層上に第二樹脂層を形成する工程、回路形成部に相当する第一樹脂層を除去する工程により、該めっきレジスト層を形成することを特徴とする回路基板の製造方法。 - 特許庁

The rasterization image processing method of the rasterization unit 200 for converting manuscript image data 100 into raster data suitable for the image formation device 300 having a plurality of recording heads for recording divisions of one recording object by the individual recording heads comprises a dividing process for dividing the manuscript image data 100 into the divisions to be recorded by the recording heads and a rasterization process for rasterizing the divided manuscript image data.例文帳に追加

記録ヘッドを複数有し、一つの記録体上を複数の記録ヘッドが分割して記録する画像形成装置３００に対し、原稿画像データ１００を画像形成装置３００に適したラスターデータへ変換するラスター化装置２００のラスター化画像処理方法であって、原稿画像データ１００を記録ヘッドが記録する領域に分割する分割工程と、分割された原稿画像データをラスター化するラスター化工程とを有することにより上記課題を解決する。 - 特許庁

Disclosed are an ink containing nanoparticles for formation of a thin film of a solar cell and its preparation method, a CIGS thin film solar cell having at least one light absorption layer formed by coating or printing the ink containing nanoparticles on a rear electrode, and a process for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、ナノ粒子を含有する太陽電池の薄膜組成用インクとその製造方法、及び前記ナノ粒子を含有するインクを背面電極上に塗布又は印刷して形成した光吸収層を少なくとも１つ以上包含するＣＩＧＳ薄膜型太陽電池とその製造方法によって本発明の課題を解決する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a magnetoresistance effect element, for increasing efficiency of a hard bias by performing ion milling after lift-off after formation of a hard film in the forming process of the magnetoresistance effect element, and processing the hard film tip part near the uppermost layer of the magnetoresistance effect element.例文帳に追加

本発明は、磁気抵抗効果素子の製造方法に関し、より詳細には磁気抵抗効果素子の形成過程においてハード膜成膜後のリフトオフを行った後にイオンミリングを行い、磁気抵抗効果素子の最上層近辺のハード膜先端部分を加工することによりハードバイアスの効率を高めた磁気抵抗効果素子を製造する方法に関するものである。 - 特許庁

The method for manufacturing the instrument dial includes an asperity pattern formation process for forming a hairline pattern 54 on a second area 50 by crimping a sheetlike member on an upper mold 11 on which an asperity part (a protruded streak part 112 and a recessed streak part 113) is formed to press the asperity part of the upper mold 11 against part of the sheetlike member.例文帳に追加

計器表示板の製造方法は、凹凸部（凸条部１１２および凹条部１１３）が形成された上金型１１にシート状部材を圧着させることにより、シート状部材の一部に上金型１１の凹凸部を押し付けて第２の領域５０にヘアライン模様５４を形成する凹凸模様成形工程を有する。 - 特許庁

Growth is interrupted for a fixed period during formation process or upon completion of a well layer 313b and/or a barrier layer 313a.例文帳に追加

ｍ番目の障壁層を結晶成長させる工程と、ｍ番目の障壁層の上にｍ番目の井戸層を結晶成長させる工程と、ｍ番目の井戸層の上にｍ＋１番目の障壁層を結晶成長させる工程と、をリアクタ内で順に繰り返して、ｎ＋１層の障壁層とｎ層の井戸層とを交互に結晶成長させて発光層を形成する。 - 特許庁

To provide a prepreg which can reduce or prevent the formation of resin films in a punching process to improve the yield of circuit boards, facilitates the control of humidity at places for storing or producing the prepreg, and can realize high quality punching processing to give the circuit boards having high reliability on the connections of circuits and so on.例文帳に追加

穴開け加工工程における樹脂膜の形成を減少あるいは防止して回路基板の歩留まり向上を図ることができ、また、保管や製造場所の湿度管理が安易で、且つ高品質の穴開け加工を実現することにより回路の接続等の信頼性が高い回路基板を得ることができるプリプレグを提供する。 - 特許庁

Quartz glass formed articles formed by heating and melting a quartz glass preform with a thermal formation process are heat-treated in an oxygen-containing environment at a temperature not practically causing the deformation of the quartz glass to react oxygen molecules with Si-Si type oxygen-deficient defects on the surface of the glass so that the Si-O-Si silica glass networks are restored.例文帳に追加

加熱成形加工により石英ガラス母材を加熱溶融させて得た石英ガラス成形品を、酸素含有雰囲気下で、且つ石英ガラスが実質的に変形しない温度下で加熱処理し、ガラス表層部のＳｉ−Ｓｉ型の酸素欠乏欠陥に対し、酸素欠乏欠陥と酸素分子を反応させ、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉシリカガラスのネットワークに復元させる。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for producing a noodle belt scarcely impairing the network structure of gluten in a process forming a noodle belt from dough which is kneaded in a mixing step in the former step and resulted in good formation of the gluten, without causing a rolling-in phenomenon of the dough on rolls in rolling the dough on a rough preparation machine.例文帳に追加

粗整機などのロール上で生地の塊を圧延する際に、生地の巻き込み現象を発生することがなく、また、前段の混合工程で捏ねられて良好なグルテン形成が行われた生地が、麺帯状に成型される過程でグルテンの網目構造を損傷し難くした麺帯の製造方法とその装置を提供すること。 - 特許庁

The second thin film 13 is anisotropically etched through the etching masks 15b for the formation of fine patterns 13a, and after a selective oxidation process is carried out using the fine patterns 13a as an oxidation mask, the fine patterns 13a are selectively removed, the first thin film 12a is eliminated, and then a quantum fine wire 17 is epitaxially grown on a part where the semiconductor substrate 11 is exposed.例文帳に追加

エッチングマスク１５bを介して第２薄膜１３を異方性エッチングすることにより形成された微細パターン１３aを酸化用マスクとして選択酸化した後、微細パターン１３aを選択的に除去すると共に、第１薄膜１２aを除去して、半導体基板１１が露出した部分に量子細線１７をエピタキシャル成長させる。 - 特許庁

To solve such problems that when an image forming process is stopped as a result of a recording material running out due to a relation between a timing of image formation on an image carrier and the paper recording timing of the recording material occasioned by the increase of a speed and coloring and increase the burden of a cleaning device, in an image forming device provided with an addition paper feeding part.例文帳に追加

付加給紙部を設けた画像形成装置において、その高速化やカラー化に伴って、像担持体上での画像形成のタイミングと記録材の給紙タイミングの関係から、記録材が無くなって画像形成工程を停止する際に、不要な画像形成が行われて、クリーニング装置の負担を増す等の種々の問題が生じている。 - 特許庁

In an active layer formation process of the semiconductor device using a ZnO film 40 for an active layer, laser annealing L1 is executed to the ZnO film 40 by a pulse laser of ultraviolet light to reduce resistance thereof, and a specific resistance value of a channel part of the ZnO film 40 excessively reduced in resistance then is increased to a value ≥10^3 Ω cm by an oxidation treatment.例文帳に追加

ＺｎＯ膜４０を活性層に用いた半導体素子の活性層形成過程において、ＺｎＯ膜４０に対して紫外光のパルスレーザによってレーザアニールＬ１を行い低抵抗化し、このとき過度に低抵抗化したＺｎＯ膜４０のチャネル部の比抵抗値を酸化処理によって１０^３Ω・ｃｍ以上にまで上げる。 - 特許庁

A control section 311 is arranged to check the process (operation of an application software 306) of a host computer 300-1 by communication through a network 308 and to control power supply condition to each block required for image formation (a rasterizer section 313, a memory section 312, a printer engine 315, a compressing/expanding section 314, and the like).例文帳に追加

制御部３１１は、ネットワーク３０８を介した通信によりホストコンピュータ３００−１のプロセス（アプリケーションソフトウエア３０６の稼働）を調査して、画像形成に必要な各ブロック（ラスタライザ部３１３，メモリ部３１２，プリンタエンジン３１５，圧縮／伸長部３１４等を含む）への電力供給状態を制御する構成を特徴とする。 - 特許庁

The spacer member 5A includes an introduction hole 6 which is opened in accordance with the arrangement of the lead terminal 3 in order to insert the lead terminal 3 and to pass molten solder material 4 during the bonding process, a portion 7 for storing the solder material 4, and a protrusion 8 for preventing solder bridge formation by forming a clearance between the electronic component and a printed wiring board.例文帳に追加

スペーサ部材５Ａは、リード端子３の配置に合わせて開口して、それぞれリード端子３が挿入されると共に、接合工程で溶融させるはんだ材４が通る導入穴６と、はんだ材４が格納されるはんだ格納部７と、プリント配線板との間に隙間を形成して、はんだブリッジの形成を防止する突起部８とを備える。 - 特許庁

This catalytic liquid-phase process for producing 1233zd comprises bringing 1230za (1,1,3,3-tetrachloro-2-propene) into contact with HF in the presence of a catalyst selected from the group consisting of triflic acid (trifluoromethanesulfonic acid) and preferably TFA(trifluoroacetic acid) under a sufficient condition for forming 1233zd accompanied by the formation of oligomers in an amount smaller than about 3 wt.%.例文帳に追加

１２３０ｚａを、トリフリン酸又は好ましくはＴＦＡから選択した触媒の存在下で、約３重量％未満のオリゴマー形成を伴って１２３３ｚｄを生成するのに十分な条件下でＨＦと接触させることを含む、１２３３ｚｄの製造のための触媒された液相工程を提供することによる。 - 特許庁

To prevent any failure in electrification and deterioration of durability of the electrifying member due to soiling of an electrifying member and generation of a failure in image formation, etc., in an image forming device by securing a good clean state of the electrifying member over a long period of time in a contact type electrifying device and the image forming device or a process cartridge utilizing the electrifying device.例文帳に追加

接触式の帯電装置或いは該帯電装置を用いた画像形成装置もしくはプロセスカートリッジについて、長期に亙り帯電部材の良好な清掃状態を確保することにより、帯電部材の汚れに起因する帯電不良、帯電部材の耐久低下、画像形成装置にあっては画像形成不良等の発生を防止する。 - 特許庁

The method for forming the spiral polyacetylene film in which a main chain has spiral structure has a process of obtaining the spiral polyacetylene film having distribution in refractive indexes by blending the spiral polyacetylene in which the main chain has clockwise spiral structure with the spiral polyacetylene in which the main chain has counterclockwise spiral structure and then by subjecting a mixture to film formation.例文帳に追加

主鎖が螺旋構造を有する螺旋型ポリアセチレンの膜の製造方法であって、主鎖の螺旋構造が右巻きの螺旋型ポリアセチレンと、主鎖の螺旋構造が左巻きの螺旋型ポリアセチレンとを混合した後、成膜して屈折率分布を有する螺旋型ポリアセチレンの膜を得る工程を有する螺旋型ポリアセチレンの膜の製造方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a copper-oxide-based semiconductor thin film that can be manufactured by such a coating process as spin coating, ink-jet printing and screen printing and exhibits fine semiconductor characteristics as a result of the formation of a copper suboxide thin film with high uniform crystallinity.例文帳に追加

本発明は、酸化銅系半導体薄膜の製造方法として、スピンコート法やインクジェット印刷法、スクリーン印刷等の塗布型プロセスにより製造することができ、しかも、均一な結晶性の高い亜酸化銅薄膜を形成することにより、良好な半導体特性を示す酸化銅系半導体薄膜の製造方法を提供することを課題としている。 - 特許庁

To provide a pulverization treatment process of a cement formed product waste material which enables formation of a superfine powder by subjecting a cement formed product waste material containing amorphous silica and/or crystalline silica to pulverization treatment and also recycling of the waste material as at least a part of a raw material for a cement formed product, and also to provide a recycling method of the waste material.例文帳に追加

非晶質シリカ及び／又は結晶質シリカを含むセメント成形品廃材の粉砕処理による超微粉化を可能とし、得られる粉砕処理した粉砕物をセメント成形品の原料の少なくとも一部として再利用可能としたセメント成形品廃材の粉砕処理方法及びリサイクル方法を提供する。 - 特許庁

In this method of manufacturing a saturated polyester through transesterification or esterification and condensation polymerization, an ion group-provided metal compound is added in the process of resin synthesis for metal ions to disperse into or to react with polyester polymeric chains for the formation of crystalline grains therein for the improvement of mechanical properties.例文帳に追加

エステル交換反応またはエステル反応及び縮合重合反応によって飽和ポリエステルを製造する方法において、合成反応の際、金属イオン化合物を添加して金属イオンをポリエステルの高分子鎖内に分散或いは反応させることにより、結晶性の内部粒子を形成させて機械的物性を向上させる。 - 特許庁

Thus, a set value determination unit 20 can further surely determine a set value for the process parameter related to image formation from toner image of an optional color according to the operation amount determined based on a difference between the feed-backed measured value and a preset target value without preliminarily limiting the color of the toner image to be measured.例文帳に追加

よって、設定値決定部２０が、測定するトナー像の色を予め限定せず、任意の色のトナー像から測定値をフィードバックされた測定値と、予め設定されている目標値との差に基づいて決定される操作量に応じて、画像形成に係るプロセスパラメータに対する設定値の決定を、より確実に行うことができる。 - 特許庁

This method of manufacturing a titanium/silicon molecular sieve of large particle diameter includes preparation of a dispersion liquid of a primary crystal particle molecular sieve, formation of an agglomerated particle solution by agglomerating the particles by adding an agglomerating agent and an agglomerating auxiliary agent to the dispersion liquid and carrying out a hydrothermal process by mixing the agglomerated particle solution and a titanium/silicon template synthetic gel.例文帳に追加

１次結晶粒子分子篩の分散液を用意し、前記分散液に凝集剤と凝集助剤を加えることで粒子を凝集させて凝集粒子溶液を形成し、前記凝集粒子溶液とチタン−珪素テンプレート合成ゲルを混合し、水熱工程を行う、ことを含む、大粒子径チタン−珪素分子篩の製造方法 - 特許庁

To provide a toner capable of eliminating formation of coarse particles or fine particles by preventing bubbles generated in a process for aggregating/fusing resin fine particles and colorant particles, preventing generation of a black spot, generation of fogging caused by toner filming and scattering of the toner into a machine, and acquiring high-quality print images continuously; and to provide a method for manufacturing the toner.例文帳に追加

樹脂微粒子と着色剤粒子を凝集・融着する工程で発生する発泡を防止して粗大粒子や微粒子の形成を無くし、黒ポチの発生、トナーフィルミングによるかぶりの発生、機内へトナーが飛散するのを防止し、高品質のプリント画像が継続して得られるトナー及びトナーの製造方法を提供。 - 特許庁