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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > First Stepの意味・解説 > First Stepに関連した英語例文

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First Stepの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 7096件



例文

At the second step pressed state, if the first button member 62 is made to move to the sink direction, the first button member 62 and the second button member 63 move together to the sinking direction.例文帳に追加

2段押し状態にて、第1のボタン部材62を没入方向に移動させると、第1のボタン部材62と第2のボタン部材63とが一緒に没入方向に移動する。 - 特許庁

In the step (a), a first screen is sampled, and after a preset time interval a second screen is sampled; if the second screen differs from the first screen, the second screen is used as the screen to be measured.例文帳に追加

また、ステップaは、第一画面を採取し、予め設定した間隔時間の後、第二画面を採取し、第二画面が第一画面と異なる場合、第二画面を被測定画面とする。 - 特許庁

Additionally, a physical quantity initial value expressed by a difference between second physical quantity obtained by the second deformation computation and first physical quantity obtained by the first deformation computation is found (step S104).例文帳に追加

そして、第2の変形計算で得られた第2の物理量と、第1の変形計算で得られた第1の物理量との差分で表される物理量初期値を求める(ステップS104)。 - 特許庁

In the first contact step, a first reference face 51 of a pressing means 31 is brought into contact with a part of a plurality of conductors 17 in the component 11 having a defective part.例文帳に追加

第1接触工程は、不良箇所を有する部品11における複数の導体部17のうちの一部の導体部17に、押圧手段31の第1基準面51を接触させる。 - 特許庁

例文

A first etching step employs an etching method in which an etching rate to at least a second film and a third film is high and etching is performed until at least a first film is exposed.例文帳に追加

すなわち、第1のエッチング工程には、少なくとも第2の膜及び第3の膜に対するエッチングレートが高いエッチング方法を採用し、少なくとも第1の膜を露出するまで行う。 - 特許庁


例文

The error check system in the high-speed switching environment includes a step for receiving a plurality of packets that include the first packet with at least the first and second parts at switch input ports.例文帳に追加

高速スイッチング環境で誤りを検出する方法は、少なくとも第1及び第2部分を有する第1パケットを含む複数のパケットをスイッチ入力ポートで受信することを含む。 - 特許庁

In the first step, an organic peroxide solution is prepared by dissolving the organic peroxide in a first solvent at a temperature of not higher than the 10-hr half-life temperature of the organic peroxide.例文帳に追加

第一工程では有機過酸化物を第1の溶媒中に有機過酸化物の10時間半減期温度以下の温度で溶解させて有機過酸化物溶液を調製する。 - 特許庁

The processing gas (a first gas) formed of a compound including silicon is introduced into a vacuum chamber to expose a semiconductor substrate 10 arranged in the chamber to a first gas atmosphere (silicon processing step).例文帳に追加

真空チャンバにシリコン含有化合物からなる処理ガス(第1のガス)を導入し、チャンバ内に配された半導体基板10を第1のガス雰囲気に晒す(シリコン処理工程)。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor film includes a first step of applying a solution containing a first organic semiconductor and a second organic semiconductor on a surface of a substrate.例文帳に追加

半導体膜を製造する方法を提供するものであり、第1の有機半導体及び第2の有機半導体を含む溶液を基板の表面に付与する第1の工程を有する。 - 特許庁

例文

Further, the method includes a step 202 for calculating a first stator positional angle, by using a function including the first estimated stator inductance VSa and the second estimated stator inductance VSb.例文帳に追加

方法は、第一の推定ステータインダクタンスVSaと第二の推定ステータインダクタンスVSbとを含む関数を使用して第一のロータ位置角度を計算するステップ202と、を含む。 - 特許庁

例文

The method includes a step of forming a first silicon oxide layer overlying at least a portion of the substrate, wherein the first silicon oxide layer includes residual water, hydroxyl groups, and carbon species.例文帳に追加

基板の少なくとも一部を覆う第1の酸化物層を形成するステップであって、該第1の酸化物層が、残留する水、水酸基及び炭素種を含むステップとを含む。 - 特許庁

In a film fitting step, the container 20 and the film are positioned so that the first recess 12a and the first identification mark 23a are in the predetermined positional relationship.例文帳に追加

そしてフィルム装着工程では、第1凹部12aと第1識別標記23aとが予め定められた位置関係となるように、容器20とフィルムとの位置決めが行われる。 - 特許庁

When input is performed for a touch pad by a stroke in a process for a step S34, the first locus for the stroke is displayed with a full size in an area with a first space.例文帳に追加

ステップS34の処理において、タッチパッドへのストロークによる入力があった場合、第1の大きさの領域に、ストロークに対して原寸の第1の軌跡が表示される。 - 特許庁

In a plasma etching device, two-system first-step air-core coil simple bodies A(1), A(2) provided on first and second power-feeding lines are concentrically mounted on a bobbin 114A.例文帳に追加

このプラズマエッチング装置では、第1および第2の給電ライン上に設けられる2系統の第1段空芯コイル単体A(1),A(2)同士が、ボビン114Aに同心状に装着されている。 - 特許庁

Then, the convex part formed by the notched part of the first heater block is pressed by a portion except the notched part of the second heater block, thereby forming the first step difference part.例文帳に追加

そして、第1の段差部は、第1のヒータブロックの切り欠き部によって形成された凸部を第2のヒータブロックの切り欠き部以外の部分で押圧することにより形成される。 - 特許庁

The printing method of the inkjet recording system, in the inkjet recording system using the aqueous ink composition, a first step for delivering a liquid drop of the aqueous ink composition onto the ink-nonabsorptive or ink low absorptive recording medium to form the image on it, and a second step for drying the aqueous ink composition on the recording medium at least one of the first step and after the first step.例文帳に追加

また本発明によるインクジェット記録方式の印刷方法は、上記の水性インク組成物を用いたインクジェット記録方式において、インク非吸収性または低吸収性の記録媒体上に前記水性インク組成物の液滴を吐出して画像を形成する第1の工程と、前記第1の工程時及び前記第1の工程後の少なくとも一方において、前記記録媒体上の前記水性インク組成物を乾燥させる第2の工程と、を含んでいることを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the plated substrate includes a step of providing a catalyst layer 32 in other area than a predetermined pattern on a substrate 10, a step of providing a first metal layer 34 of a predetermined pattern by depositing a metal on the substrate by immersing the substrate in a first electroless plating liquid, a step of removing the catalyst layer, and a step of providing a second metal layer on the first metal layer.例文帳に追加

本発明にかかるめっき基板の製造方法は、基板10上に所定のパターン以外の領域に触媒層32を設ける工程と、第1の無電解めっき液に基板を浸漬することにより、基板上に金属を析出させて所定のパターンの第1の金属層34を設ける工程と、触媒層を除去する工程と、第2の無電解めっき液に基板を浸漬することにより、第1の金属層の上方に第2の金属層を設ける工程と、を含む。 - 特許庁

The aluminum electroplating method includes a first stage aluminum electroplating step for forming the aluminum plating film on the material to be plated, a non-conducting step for forming an electric insulating layer on the surface of the aluminum plating film and a second stage aluminum electroplating step for forming the aluminum plating film on the surface of the material where the aluminum plating film is not formed in the first stage aluminum electroplating step.例文帳に追加

被めっき物にアルミニウムめっき皮膜を形成する第一段電解アルミニウムめっき工程と、前記アルミニウムめっき皮膜の表面に電気絶縁層を形成する不導体化工程と、第一段電解アルミニウムめっき工程でアルミニウムめっき皮膜が形成されない被めっき物の表面にアルミニウムめっき皮膜を形成する第二段電解アルミニウムめっき工程とを備える電解アルミニウムめっき方法。 - 特許庁

A method for manufacturing an integrated circuit includes: a step of computing fixed scaling factors for a first fabrication process based on a second fabrication process; a step of computing the optionally settable scaling factors for the integrated circuit to be fabricated using the first fabrication process; a step of determining parameters of the integrated circuit based on the optionally settable scaling factors; and a step of manufacturing the integrated circuit using the determined parameters.例文帳に追加

集積回路の製造方法は、第二製造プロセスに基づいた第一製造プロセスの固定スケーリング係数を計算するステップと、第一製造プロセスにより集積回路を製造するため、任意設定スケーリング係数を計算するステップと、任意設定スケーリング係数に基づいて、集積回路のパラメータを決定するステップと、決定されたパラメータにより、集積回路を製造するステップと、からなる。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a step of applying SOG(spin-on glass) much containing hydrogen to form a layer insulation film filling gaps between gate electrodes, a step of firstly baking at a first temperature in nitrogen atmosphere, a step of forming contact holes, and a step of secondly baking at a second temperature higher than the first temperature in nitrogen atmosphere or dilute steam after forming the contact holes.例文帳に追加

ゲート電極間を埋め込む層間絶縁膜として、水素を多量に含むSOG(Spin-on Glass)を塗布する工程と、窒素雰囲気中で第1の温度にて第1の焼成を行う工程と、コンタクトホールを形成する工程と、該コンタクトホール形成後に、窒素雰囲気中もしくは希釈スチーム中で前記第1の温度よりも高温である第2の温度にて第2の焼成を行う工程と、を含む。 - 特許庁

The demodulation method includes a step for performing first filtering to an analog reception signal in which a signal for each of a plurality of channels is demodulated, a step for converting a signal obtained by the first filtering step to a digital signal, and a step for simultaneously demodulating the signal for each of the plurality of channels by performing mathematical computation for each channel to the digital signal.例文帳に追加

複数のチャンネル毎の信号が変調されているアナログ受信信号に対して第1のフィルタ処理するステップと、前記第1のフィルタ処理ステップにより得られた信号をデジタル信号に変換するステップと、前記デジタル信号に対してチャンネル毎に数値演算を行って前記複数のチャンネル毎の前記信号を同時に復調するステップとを有することを特徴とする復調方法を提供する。 - 特許庁

First, in a step of forming a gap material mixture resist layer, a gap material mixture resist layer comprising a mixture of a resist and a gap material to hold the distance between a first substrate and a second substrate to a given value is formed on the first substrate (S10).例文帳に追加

まずギャップ材混在レジスト層形成工程において、第一基板と第二基板との間隔を一定に保持するためのギャップ材とレジストとが混在するギャップ材混在レジスト層を第一基板上に形成する(S10)。 - 特許庁

In a first step, light-emitting elements S arranged at each predetermined number of light-emitting elements S formed and arranged on a first substrate 1 are collectively transferred to first transfer areas S1-1-S1-4 set on a second substrate 2.例文帳に追加

第1工程では、第1基板1上に配列形成された発光素子Sのうち所定個数置きに配置された発光素子Sを、第2基板2上に設定された第1転写エリアS1-1〜S1-4に一括転写する。 - 特許庁

The method further includes a step for removing the reverse direction steam flow through a pipe having a first end of first pressure positioned at a position of the annular space and a second end of second pressure lower than the first pressure.例文帳に追加

本方法はさらに、環状空間の位置にある第1の圧力の第1の端部と該第1の圧力よりも低い第2の圧力の第2の端部とを有するパイプを通して逆向き蒸気流を除去するステップを含む。 - 特許庁

On the basis of the first D range and the second D range, it is then discriminated whether the first D range is appropriate (step S12); and if the first D range is discriminated as being inappropriate, a warning is issued to call reselection of the D range (steps S14, S16).例文帳に追加

そして、第1のDレンジと第2のDレンジとに基づいて第1のDレンジが適切か否かを判別し(ステップS12)、不適切と判別されると、警告を発生してDレンジの再選択を促す(ステップS14、S16)。 - 特許庁

The second recessed part 40 includes a first bottom face 42 and a second bottom face 44 arranged at the position deeper inward of the container from the first bottom face 42, and a step difference is formed by the first bottom face 42 and the second bottom face 44.例文帳に追加

第2凹部40は、第1底面42と、第1底面42よりも容器内側方向に深い位置に配置された第2底面44とを含み、第1底面42及び第2底面44により段差が形成される。 - 特許庁

At the same time when the first locus is displayed in the process for a step S33, the display is controlled so that the first locus is superimposed to display the second locus on the area with the second space overlaying on the area with the first space.例文帳に追加

ステップS33の処理において、第1の軌跡の表示と同時に、第1の大きさの領域と重複する第2の大きさの領域に、第1の軌跡に重ねて、第2の軌跡を表示するように表示が制御される。 - 特許庁

The spatially distributed pulse train converting device 20 has first and second mirrors 22, 24, and the first mirror 22 has first and second reflecting surfaces 22a, 22b having a step portion on a boundary line 23 where a part of a surface 22a side body and a part of a surface 22b side body come into contact with each other.例文帳に追加

空間分布パルス列変換装置20は第1および第2のミラー22,24を有し、第1ミラー22は一部で密接する境界線23を跨いで段差部を有する第1と第2の反射面22a,22bを有する。 - 特許庁

This manufacturing method includes a step for providing a first stationary blade assembly member 28 comprising at least one part of a first platform 12, an airfoil 16 and a first segment 34 of a second platform 14 connected to the airfoil 16.例文帳に追加

この方法は、第1のプラットフォーム(12)の少なくとも一部分を含む第1の静翼アセンブリ部材(28)と、エーロフォイル(16)と、エーロフォイル(16)に結合された第2のプラットフォーム(14)の第1セグメント(34)とを提供するステップを含む。 - 特許庁

The speech synthesis method comprises: a step for generating a first synthesized speech data for reading a text in the phrase unit; a step for generating a second synthesized speech data for reading the text in the accent phrase unit; and a step for switching over outputs of the first synthesized speech data and the second synthesized speech data.例文帳に追加

本音声合成方法は、テキストをフレーズ単位で読み上げるための第1の合成音声データを生成するステップと、上記テキストをアクセント句単位で読み上げるための第2の合成音声データを生成するステップと、ユーザからの指示に応じて、第1の合成音声データと第2の音声合成データの出力を切り替えるステップとを含む。 - 特許庁

This method of estimating quality of a signal in a first device includes a measuring step to measure a signal transmitted from a second device to a third device, a first determining step to determine the value of a metric from an autocorrelation function of the measured signal, and a second determining step to determine estimation of quality of the signal from the determined metric.例文帳に追加

第1の装置において信号の品質を推定する方法であって、第2の装置から第3の装置へ送信された信号を計測する計測ステップと、計測された信号の自己相関関数からメトリックの値を決定する第1の決定ステップと、決定されたメトリックから、信号の品質の推定を決定する第2の決定ステップと、を有する。 - 特許庁

A recovery method for an ink-jet recording device for forming an image using a recording head with a plurality of nozzles for ejecting ink droplets, comprising a first step of detecting the non-ejection state of the nozzles, and a second step of executing a recovery process, which can vary depending on the non-ejection state of the nozzles detected in the first step, is provided.例文帳に追加

インク滴を吐出するための複数のノズルを有する記録ヘッドを用いて画像を形成するインクジェット記録装置の回復方法であって、前記ノズルの不吐出状態を検出する第1の工程と、前記第1の工程で検出されたノズルの不吐出の状態に応じて異なる回復処理を実行する第2の工程とを備える。 - 特許庁

In this case, a power supply voltage vdd is supplied from a power source terminal to the first and second step-down circuits 1 and 2, and the first step-down circuit 1 outputs the power supply voltage vdd stepped-down to a voltage vdd1, and the second step-down 2 outputs the power supply voltage vdd stepped-down to a voltage vdd2 smaller than a voltage vdd1.例文帳に追加

第1及び第2の降圧回路1、2には、電源端子から電源電圧vddが供給されており、第1の降圧回路1は電源電圧vddを電圧vdd1まで降圧して出力し、第2の降圧回路2は電源電圧vddを電圧vdd1より小さい電圧vdd2まで降圧して出力する。 - 特許庁

The wheelchair stopper 10 is constituted of a step part 11 movable between the first position contacting with a ground face and the second position separated from the ground face, a stay 12 for connecting the step part 11 to a wheelchair 1 body, and moving mechanisms 16, 17 for moving the step part 11 between the first position and the second position via the stay 12.例文帳に追加

車椅子ストッパー10は、地面に接する第1の位置と地面から離れた第2の位置との間に移動可能なステップ部11と、ステップ部11と車椅子1本体とをつなぐステー12と、ステー12を介してステップ部11を第1の位置と第2の位置との間に移動させる移動機構16,17とから構成される。 - 特許庁

The nickel-gold plating method is a method of performing electroless nickel-gold plating on an object, and includes a step of forming a first nickel plating layer on a surface of the object, a step of forming a second nickel plating layer on the first nickel plating layer, and a step of forming a gold plating layer on the second nickel plating layer.例文帳に追加

本発明の一実施形態に係るニッケル−金メッキ方法は、対象物を無電解ニッケル−金メッキする方法であって、対象物の表面に第1ニッケルメッキ層を形成する工程と、第1ニッケルメッキ層上に第2ニッケルメッキ層を形成する工程と、第2ニッケルメッキ層上に金メッキ層を形成する工程とを含む。 - 特許庁

A image forming method includes: a step of determining whether identification information in a second page and identification information in a first page which is permitted to be duplicated match with each other; and a step of outputting a duplicated matter of the second page if the determination step determines that the identification information in the first page and the identification information in the second page match with each other.例文帳に追加

第2の頁内の識別情報と、複写許可された第1の頁内の識別情報とが一致しているか判定するステップと、判定するステップが第1の頁内の識別情報と、第2の頁内の識別情報とが一致していると判定した場合に、第2の頁の複写物を出力するステップとを含む。 - 特許庁

The method for producing the aminoarylaminoarazole includes a first step of reacting a nitroaryl azole with a nitroaryl iodide compound in an organic solvent by using one or more kinds of catalysts of compounds of metals selected from palladium, rhodium and copper, and a second step of reducing the dinitro compound formed at the first step, to afford a diamine.例文帳に追加

アミノアリルアミノアラゾールの合成法において、ニトロアリルアゾールとヨウ化ニトロアリル化合物とを有機溶媒中、パラジウム、ロジウム、銅から選ばれた1種以上の金属化合物触媒を用いて反応させる第一の工程と、第一の工程で生成したジニトロ化合物を還元してジアミンとする第二の工程とを含むことを特徴とするアミノアリルアミノアラゾールの製造方法。 - 特許庁

This method comprises: the low temperature high doped layer growing step of doping the dopant while growing a thin film at a specific first temperature; the annealing step of discontinuing the growth of the thin film to anneal the thin film at a predetermined second temperature higher than the first temperature; and the high temperature low doped layer growing step of growing the thin film at the second temperature.例文帳に追加

所定の第1温度において薄膜を成長させながらドーパントをドーピングする低温高ドープ層成長ステップと、薄膜の成長を中断し前記第1温度より高い所定の第2温度において薄膜をアニール処理するアニール処理ステップと、前記第2温度において薄膜を成長させる高温低ドープ層成長ステップとを含む。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device comprises a step (a) of forming a first insulating film 11 on a substrate 12, a step (c) of selectively removing the first insulating film 11 by wet etching, and a step (d) of forming a second insulating film 17 on a region of the substrate 12 having the insulating film 11 removed therefrom.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、基板12の上に第1の絶縁膜11を形成する工程(a)と、第1の絶縁膜11をウェットエッチエッチングにより選択的に除去する工程(c)と、基板12における第1の絶縁膜11が除去された領域の上に第2の絶縁膜17を形成する工程(d)とを備えている。 - 特許庁

The rubber composition for tires is obtained by a production method including a first base kneading step of kneading a rubber component and a silica, and a second base kneading step of kneading a kneaded product obtained by the first base kneading step, silica and rice oil, wherein the content of oleic acid in 100 mass% of the constituent fatty acids of the rice oil is ≥48 mass%.例文帳に追加

ゴム成分と、シリカとを混練する第一ベース練り工程と、前記第一ベース練り工程により得られた混練物と、シリカと、米油とを混練する第二ベース練り工程とを含む製造方法により得られ、前記米油の構成脂肪酸100質量%中のオレイン酸の含有量が48質量%以上であるタイヤ用ゴム組成物に関する。 - 特許庁

The drying process is divided into a plurality of steps, and in a first step S1, the center temperature of the honeycomb molded object reaches at least the curing start temperature of the binder from the start of drying, wherein the output of the microwave for irradiating the honeycomb molded object in the first step S1 is set higher than the output of the microwave of the subsequent step.例文帳に追加

乾燥工程では、該乾燥工程を複数のステップに分け、乾燥開始からハニカム成形体の中心部の温度が少なくともバインダの硬化開始温度に達するまでを第1ステップS1とし、第1ステップS1においてハニカム成形体に照射するマイクロ波出力を、その後のステップのマイクロ波出力よりも高く設定する。 - 特許庁

This surface treatment method comprises the first step of removing oxygen atoms from the surface of a substrate, by introducing a hydrogen gas into a vacuum vessel, and reacting the above hydrogen gas with the substrate having pyroelectricity, and the second step of substituting a nitrogen atom for the oxygen atom removed in the above first step, by reacting the substrate with the nitrogen gas.例文帳に追加

真空容器内に水素ガスを導入し、前記水素ガスと焦電性を有する基板を反応させ、前記基板の表面から酸素原子を離脱させる第1工程と、前記基板と窒素ガスとを反応させることで、前記第1工程で離脱した酸素原子を窒素原子で置換する第2工程とを備えることで解決できる。 - 特許庁

The method comprises the first painting step where the natural paint B containing a drying oil or semidrying oil is applied on a surface A1 of wood A and the second painting step where an aqueous solution C containing at least a protein is further applied after a specified time from the above first painting step as a finishing coat on a painted surface B1 with the above natural paint B.例文帳に追加

木材A表面A1に、乾性油又は半乾性油からなる自然塗料Bを塗装する第1塗装工程と、上記第1塗装工程から所定時間経過後、上記自然塗料Bの塗装面B1に、少なくともタンパク質を含む水溶液Cを更に上塗りする第2塗装工程と、より構成している。 - 特許庁

The multi-stack package manufacturing method includes a step (a) of forming a first package composed of a first substrate with a bump located and a second package composed of a second substrate with an electrode pad formed corresponding to the bump, a step (b) of applying the solder paste to the bump, and a step (c) of electrically connecting the bump to the electrode pad.例文帳に追加

本発明に従うマルチスタックパッケージの製造方法は、バンプが配置された第1の基板から構成された第1のパッケージと、バンプと対応する電極パッドが形成された第2の基板から構成された第2のパッケージを形成する段階(a)と、バンプにソルダペーストを塗布する段階(b)と、バンプを電極パッドに電気的に連結する段階(c)と、を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the solder sheet containing the metal particles B includes: an arrangement step for disposing the metal particles with a melting point higher than that of the solder between a first sheet S1 and a second sheet S2 mainly composed of solder; and a pressure bonding step for pressure-bonding the first sheet and the second sheet in a reduced pressure atmosphere after the arrangement step.例文帳に追加

金属球Bを含む半田シート製造方法であって、半田を主体とする第1シートS1と第2シートS2との間に半田よりも高融点の金属球を配置する配置工程と、前記配置工程の後に第1シート及び第2シートを減圧雰囲気下で圧着する圧着工程とを含む、半田シート製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing the optical waveguide device is characterized in that it has a step of making a first mold by dicing a substrate on the surface to form grooves thereon, a step of making a second mold for forming a clad by using the first mold, and a step of forming the clad of a high polymer material by using the second mold.例文帳に追加

本発明の光導波路装置の製造方法は、基板の表面をダイシングして、基板の表面に溝を形成した第一の型を作製する工程と、前記第一の型を用いてクラッド成型用の第二の型を成型する工程と、前記第二の型を用いて高分子材料のクラッドを成型する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method for a sol aqueous solution containing the dispersion of basic metal oxide includes a first step of producing an aqueous solution containing an anionic basic inorganic metal complex using a neutralizing reaction of a metal salt and a quarternary ammonium salt and a second step of hydrothermally treating the aqueous solution produced in the first step under a hydrothermal condition of 80-150°C.例文帳に追加

塩基性金属酸化物分散ゾル水溶液の製造方法は、金属塩と第四級アンモニウム塩との中和反応を用いてアニオン性塩基性無機金属錯体を含む水溶液を製造する第1工程と、該第1工程で製造した水溶液を80〜150℃の水熱条件で水熱処理する第2工程と、を有する。 - 特許庁

The method of processing signals includes: a step of obtaining a group reference value corresponding to a plurality of data included in one group through first grouping and external grouping relative to the first grouping; a step of obtaining a difference value corresponding to the group reference value; and a step of obtaining the data using the group reference value and the difference value.例文帳に追加

本発明の信号処理方法は、第1グルーピング及び前記第1グルーピングに対する外部グルーピングを通じて一つのグループに含まれる複数個のデータに対応するグループ基準値及び前記グループ基準値に対応する差分値を獲得する段階と、前記グループ基準値及び前記差分値を用いて、前記データを獲得する段階と、を含む。 - 特許庁

The method for operating the combustor 14 includes a step for running compressed working fluid through nozzles 32, 34 into the combustion chamber, a step for running fuel through each nozzle in a first subset of the nozzles into the combustion chamber, and a step for igniting the fuel from each nozzle 32 in the first subset of nozzles 32, 34 in the combustion chamber.例文帳に追加

燃焼器14を作動させる方法は、ノズル32、34を通して燃焼チャンバ内に加圧作動流体を流すステップと、ノズルの第1のサブセットにおける各ノズルを通して燃焼チャンバ内に燃料を流すステップと、ノズル32、34の第1のサブセットにおける各ノズル32からの燃料を燃焼チャンバ内で点火燃焼させるステップとを含む。 - 特許庁

例文

The method of processing the cavity of the core substrate includes: a step of forming a first processing region defined by a circuit pattern on one surface of the core substrate; a step of forming a second processing region defined by a circuit pattern on the other surface of the core substrate; and a step of processing a cavity by removing the first processing region completely from one surface of the core substrate.例文帳に追加

本発明に係るコア基板のキャビティ加工方法は、コア基板の一面に回路パターンにより区画される第1加工領域を形成する工程と、コア基板の他面に回路パターンにより区画される第2加工領域を形成する工程と、コア基板の一面から第1加工領域を全て除去してキャビティを加工する工程と、を含む。 - 特許庁




  
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