「First Step」に関連した英語例文の一覧と使い方(55ページ目) - Weblio英語例文検索

The error check system in the high-speed switching environment includes a step for receiving a plurality of packets that include the first packet with at least the first and second parts at switch input ports.例文帳に追加

高速スイッチング環境で誤りを検出する方法は、少なくとも第１及び第２部分を有する第１パケットを含む複数のパケットをスイッチ入力ポートで受信することを含む。 - 特許庁

In the first step, an organic peroxide solution is prepared by dissolving the organic peroxide in a first solvent at a temperature of not higher than the 10-hr half-life temperature of the organic peroxide.例文帳に追加

第一工程では有機過酸化物を第１の溶媒中に有機過酸化物の１０時間半減期温度以下の温度で溶解させて有機過酸化物溶液を調製する。 - 特許庁

The processing gas (a first gas) formed of a compound including silicon is introduced into a vacuum chamber to expose a semiconductor substrate 10 arranged in the chamber to a first gas atmosphere (silicon processing step).例文帳に追加

真空チャンバにシリコン含有化合物からなる処理ガス（第１のガス）を導入し、チャンバ内に配された半導体基板１０を第１のガス雰囲気に晒す（シリコン処理工程）。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor film includes a first step of applying a solution containing a first organic semiconductor and a second organic semiconductor on a surface of a substrate.例文帳に追加

半導体膜を製造する方法を提供するものであり、第１の有機半導体及び第２の有機半導体を含む溶液を基板の表面に付与する第１の工程を有する。 - 特許庁

Further, the method includes a step 202 for calculating a first stator positional angle, by using a function including the first estimated stator inductance VSa and the second estimated stator inductance VSb.例文帳に追加

方法は、第一の推定ステータインダクタンスＶＳａと第二の推定ステータインダクタンスＶＳｂとを含む関数を使用して第一のロータ位置角度を計算するステップ２０２と、を含む。 - 特許庁

The method includes a step of forming a first silicon oxide layer overlying at least a portion of the substrate, wherein the first silicon oxide layer includes residual water, hydroxyl groups, and carbon species.例文帳に追加

基板の少なくとも一部を覆う第１の酸化物層を形成するステップであって、該第１の酸化物層が、残留する水、水酸基及び炭素種を含むステップとを含む。 - 特許庁

In a film fitting step, the container 20 and the film are positioned so that the first recess 12a and the first identification mark 23a are in the predetermined positional relationship.例文帳に追加

そしてフィルム装着工程では、第１凹部１２ａと第１識別標記２３ａとが予め定められた位置関係となるように、容器２０とフィルムとの位置決めが行われる。 - 特許庁

When input is performed for a touch pad by a stroke in a process for a step S34, the first locus for the stroke is displayed with a full size in an area with a first space.例文帳に追加

ステップＳ３４の処理において、タッチパッドへのストロークによる入力があった場合、第１の大きさの領域に、ストロークに対して原寸の第１の軌跡が表示される。 - 特許庁

In a plasma etching device, two-system first-step air-core coil simple bodies A(1), A(2) provided on first and second power-feeding lines are concentrically mounted on a bobbin 114A.例文帳に追加

このプラズマエッチング装置では、第１および第２の給電ライン上に設けられる２系統の第１段空芯コイル単体Ａ(1)，Ａ(2)同士が、ボビン１１４Ａに同心状に装着されている。 - 特許庁

Then, the convex part formed by the notched part of the first heater block is pressed by a portion except the notched part of the second heater block, thereby forming the first step difference part.例文帳に追加

そして、第１の段差部は、第１のヒータブロックの切り欠き部によって形成された凸部を第２のヒータブロックの切り欠き部以外の部分で押圧することにより形成される。 - 特許庁

The printing method of the inkjet recording system, in the inkjet recording system using the aqueous ink composition, a first step for delivering a liquid drop of the aqueous ink composition onto the ink-nonabsorptive or ink low absorptive recording medium to form the image on it, and a second step for drying the aqueous ink composition on the recording medium at least one of the first step and after the first step.例文帳に追加

また本発明によるインクジェット記録方式の印刷方法は、上記の水性インク組成物を用いたインクジェット記録方式において、インク非吸収性または低吸収性の記録媒体上に前記水性インク組成物の液滴を吐出して画像を形成する第１の工程と、前記第１の工程時及び前記第１の工程後の少なくとも一方において、前記記録媒体上の前記水性インク組成物を乾燥させる第２の工程と、を含んでいることを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the plated substrate includes a step of providing a catalyst layer 32 in other area than a predetermined pattern on a substrate 10, a step of providing a first metal layer 34 of a predetermined pattern by depositing a metal on the substrate by immersing the substrate in a first electroless plating liquid, a step of removing the catalyst layer, and a step of providing a second metal layer on the first metal layer.例文帳に追加

本発明にかかるめっき基板の製造方法は、基板１０上に所定のパターン以外の領域に触媒層３２を設ける工程と、第１の無電解めっき液に基板を浸漬することにより、基板上に金属を析出させて所定のパターンの第１の金属層３４を設ける工程と、触媒層を除去する工程と、第２の無電解めっき液に基板を浸漬することにより、第１の金属層の上方に第２の金属層を設ける工程と、を含む。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a step of applying SOG(spin-on glass) much containing hydrogen to form a layer insulation film filling gaps between gate electrodes, a step of firstly baking at a first temperature in nitrogen atmosphere, a step of forming contact holes, and a step of secondly baking at a second temperature higher than the first temperature in nitrogen atmosphere or dilute steam after forming the contact holes.例文帳に追加

ゲート電極間を埋め込む層間絶縁膜として、水素を多量に含むＳＯＧ(Spin-on Glass)を塗布する工程と、窒素雰囲気中で第１の温度にて第１の焼成を行う工程と、コンタクトホールを形成する工程と、該コンタクトホール形成後に、窒素雰囲気中もしくは希釈スチーム中で前記第１の温度よりも高温である第２の温度にて第２の焼成を行う工程と、を含む。 - 特許庁

A method for manufacturing an integrated circuit includes: a step of computing fixed scaling factors for a first fabrication process based on a second fabrication process; a step of computing the optionally settable scaling factors for the integrated circuit to be fabricated using the first fabrication process; a step of determining parameters of the integrated circuit based on the optionally settable scaling factors; and a step of manufacturing the integrated circuit using the determined parameters.例文帳に追加

集積回路の製造方法は、第二製造プロセスに基づいた第一製造プロセスの固定スケーリング係数を計算するステップと、第一製造プロセスにより集積回路を製造するため、任意設定スケーリング係数を計算するステップと、任意設定スケーリング係数に基づいて、集積回路のパラメータを決定するステップと、決定されたパラメータにより、集積回路を製造するステップと、からなる。 - 特許庁

The demodulation method includes a step for performing first filtering to an analog reception signal in which a signal for each of a plurality of channels is demodulated, a step for converting a signal obtained by the first filtering step to a digital signal, and a step for simultaneously demodulating the signal for each of the plurality of channels by performing mathematical computation for each channel to the digital signal.例文帳に追加

複数のチャンネル毎の信号が変調されているアナログ受信信号に対して第１のフィルタ処理するステップと、前記第１のフィルタ処理ステップにより得られた信号をデジタル信号に変換するステップと、前記デジタル信号に対してチャンネル毎に数値演算を行って前記複数のチャンネル毎の前記信号を同時に復調するステップとを有することを特徴とする復調方法を提供する。 - 特許庁

The aluminum electroplating method includes a first stage aluminum electroplating step for forming the aluminum plating film on the material to be plated, a non-conducting step for forming an electric insulating layer on the surface of the aluminum plating film and a second stage aluminum electroplating step for forming the aluminum plating film on the surface of the material where the aluminum plating film is not formed in the first stage aluminum electroplating step.例文帳に追加

被めっき物にアルミニウムめっき皮膜を形成する第一段電解アルミニウムめっき工程と、前記アルミニウムめっき皮膜の表面に電気絶縁層を形成する不導体化工程と、第一段電解アルミニウムめっき工程でアルミニウムめっき皮膜が形成されない被めっき物の表面にアルミニウムめっき皮膜を形成する第二段電解アルミニウムめっき工程とを備える電解アルミニウムめっき方法。 - 特許庁

First, in a step of forming a gap material mixture resist layer, a gap material mixture resist layer comprising a mixture of a resist and a gap material to hold the distance between a first substrate and a second substrate to a given value is formed on the first substrate (S10).例文帳に追加

まずギャップ材混在レジスト層形成工程において、第一基板と第二基板との間隔を一定に保持するためのギャップ材とレジストとが混在するギャップ材混在レジスト層を第一基板上に形成する（Ｓ１０）。 - 特許庁

On the basis of the first D range and the second D range, it is then discriminated whether the first D range is appropriate (step S12); and if the first D range is discriminated as being inappropriate, a warning is issued to call reselection of the D range (steps S14, S16).例文帳に追加

そして、第１のＤレンジと第２のＤレンジとに基づいて第１のＤレンジが適切か否かを判別し（ステップＳ１２）、不適切と判別されると、警告を発生してＤレンジの再選択を促す（ステップＳ１４、Ｓ１６）。 - 特許庁

In a first step, light-emitting elements S arranged at each predetermined number of light-emitting elements S formed and arranged on a first substrate 1 are collectively transferred to first transfer areas S1-1-S1-4 set on a second substrate 2.例文帳に追加

第１工程では、第１基板１上に配列形成された発光素子Ｓのうち所定個数置きに配置された発光素子Ｓを、第２基板２上に設定された第１転写エリアＳ１-1〜Ｓ１-4に一括転写する。 - 特許庁

The method further includes a step for removing the reverse direction steam flow through a pipe having a first end of first pressure positioned at a position of the annular space and a second end of second pressure lower than the first pressure.例文帳に追加

本方法はさらに、環状空間の位置にある第１の圧力の第１の端部と該第１の圧力よりも低い第２の圧力の第２の端部とを有するパイプを通して逆向き蒸気流を除去するステップを含む。 - 特許庁

This manufacturing method includes a step for providing a first stationary blade assembly member 28 comprising at least one part of a first platform 12, an airfoil 16 and a first segment 34 of a second platform 14 connected to the airfoil 16.例文帳に追加

この方法は、第１のプラットフォーム（１２）の少なくとも一部分を含む第１の静翼アセンブリ部材（２８）と、エーロフォイル（１６）と、エーロフォイル（１６）に結合された第２のプラットフォーム（１４）の第１セグメント（３４）とを提供するステップを含む。 - 特許庁

The second recessed part 40 includes a first bottom face 42 and a second bottom face 44 arranged at the position deeper inward of the container from the first bottom face 42, and a step difference is formed by the first bottom face 42 and the second bottom face 44.例文帳に追加

第２凹部４０は、第１底面４２と、第１底面４２よりも容器内側方向に深い位置に配置された第２底面４４とを含み、第１底面４２及び第２底面４４により段差が形成される。 - 特許庁

At the same time when the first locus is displayed in the process for a step S33, the display is controlled so that the first locus is superimposed to display the second locus on the area with the second space overlaying on the area with the first space.例文帳に追加

ステップＳ３３の処理において、第１の軌跡の表示と同時に、第１の大きさの領域と重複する第２の大きさの領域に、第１の軌跡に重ねて、第２の軌跡を表示するように表示が制御される。 - 特許庁

The spatially distributed pulse train converting device 20 has first and second mirrors 22, 24, and the first mirror 22 has first and second reflecting surfaces 22a, 22b having a step portion on a boundary line 23 where a part of a surface 22a side body and a part of a surface 22b side body come into contact with each other.例文帳に追加

空間分布パルス列変換装置２０は第１および第２のミラー２２，２４を有し、第１ミラー２２は一部で密接する境界線２３を跨いで段差部を有する第１と第２の反射面２２ａ，２２ｂを有する。 - 特許庁

The speech synthesis method comprises: a step for generating a first synthesized speech data for reading a text in the phrase unit; a step for generating a second synthesized speech data for reading the text in the accent phrase unit; and a step for switching over outputs of the first synthesized speech data and the second synthesized speech data.例文帳に追加

本音声合成方法は、テキストをフレーズ単位で読み上げるための第１の合成音声データを生成するステップと、上記テキストをアクセント句単位で読み上げるための第２の合成音声データを生成するステップと、ユーザからの指示に応じて、第１の合成音声データと第２の音声合成データの出力を切り替えるステップとを含む。 - 特許庁

The manufacturing method for a sol aqueous solution containing the dispersion of basic metal oxide includes a first step of producing an aqueous solution containing an anionic basic inorganic metal complex using a neutralizing reaction of a metal salt and a quarternary ammonium salt and a second step of hydrothermally treating the aqueous solution produced in the first step under a hydrothermal condition of 80-150°C.例文帳に追加

塩基性金属酸化物分散ゾル水溶液の製造方法は、金属塩と第四級アンモニウム塩との中和反応を用いてアニオン性塩基性無機金属錯体を含む水溶液を製造する第１工程と、該第１工程で製造した水溶液を８０〜１５０℃の水熱条件で水熱処理する第２工程と、を有する。 - 特許庁

A image forming method includes: a step of determining whether identification information in a second page and identification information in a first page which is permitted to be duplicated match with each other; and a step of outputting a duplicated matter of the second page if the determination step determines that the identification information in the first page and the identification information in the second page match with each other.例文帳に追加

第２の頁内の識別情報と、複写許可された第１の頁内の識別情報とが一致しているか判定するステップと、判定するステップが第１の頁内の識別情報と、第２の頁内の識別情報とが一致していると判定した場合に、第２の頁の複写物を出力するステップとを含む。 - 特許庁

The method comprises a first step for detecting a focal error signal obtained by condensing and projecting a light beam on a rotating recording medium 1, and a second step for setting focal control gain for controlling position shift between a recording surface of the recording medium 1 and the light beam based on the focal error signal detected in the first step.例文帳に追加

回転している記録媒体１に光ビームを集光照射することで得られるフォーカス誤差信号を検出する第１のステップと、第１のステップで検出したフォーカス誤差信号に基づいて、記録媒体１の記録面と光ビームとの間の位置ずれを制御する際のフォーカス制御のゲインを設定する第２のステップとを含む。 - 特許庁

The method of manufacturing a recess gate of a semiconductor device includes a step of forming a first recess 37 by etching a semiconductor substrate 31, a step of forming a second recess 37A by etching the sidewall and bottom of the first recess 37, and a step of forming a gate insulating film and a gate electrode on the semiconductor substrate 31 on which the second recess 37A is formed.例文帳に追加

本発明の半導体素子のリセスゲートの製造方法は、半導体基板３１をエッチングして第１リセス３７を形成するステップと、第１リセス３７の側壁及び底部をエッチングして第２リセス３７Ａを形成するステップと、第２リセス３７Ａが形成された半導体基板３１上にゲート絶縁膜及びゲート電極を形成するステップとを含む。 - 特許庁

The method of processing signals includes: a step of obtaining a group reference value corresponding to a plurality of data included in one group through first grouping and external grouping relative to the first grouping; a step of obtaining a difference value corresponding to the group reference value; and a step of obtaining the data using the group reference value and the difference value.例文帳に追加

本発明の信号処理方法は、第１グルーピング及び前記第１グルーピングに対する外部グルーピングを通じて一つのグループに含まれる複数個のデータに対応するグループ基準値及び前記グループ基準値に対応する差分値を獲得する段階と、前記グループ基準値及び前記差分値を用いて、前記データを獲得する段階と、を含む。 - 特許庁

The method for operating the combustor 14 includes a step for running compressed working fluid through nozzles 32, 34 into the combustion chamber, a step for running fuel through each nozzle in a first subset of the nozzles into the combustion chamber, and a step for igniting the fuel from each nozzle 32 in the first subset of nozzles 32, 34 in the combustion chamber.例文帳に追加

燃焼器１４を作動させる方法は、ノズル３２、３４を通して燃焼チャンバ内に加圧作動流体を流すステップと、ノズルの第１のサブセットにおける各ノズルを通して燃焼チャンバ内に燃料を流すステップと、ノズル３２、３４の第１のサブセットにおける各ノズル３２からの燃料を燃焼チャンバ内で点火燃焼させるステップとを含む。 - 特許庁

The method of processing the cavity of the core substrate includes: a step of forming a first processing region defined by a circuit pattern on one surface of the core substrate; a step of forming a second processing region defined by a circuit pattern on the other surface of the core substrate; and a step of processing a cavity by removing the first processing region completely from one surface of the core substrate.例文帳に追加

本発明に係るコア基板のキャビティ加工方法は、コア基板の一面に回路パターンにより区画される第１加工領域を形成する工程と、コア基板の他面に回路パターンにより区画される第２加工領域を形成する工程と、コア基板の一面から第１加工領域を全て除去してキャビティを加工する工程と、を含む。 - 特許庁

An end 17e on a blowout port 7 side of a dew pan 17 arranged in a heat exchanger chamber 11 is arranged within a space constituting a frame body of a blowout duct connection tool 8, and the tip 17e is extended upwardly within the space constituting the frame body by a first step part 17f and a second step part 17g protruded from the first step part 17f.例文帳に追加

熱交換器室１１に配置された露受皿１７の吹出口７側の端部１７ｅは、吹出ダクト接続具８の枠体を構成する空間内に配置され、更に、先端部１７ｅは、第一段差部１７ｆと、同第一段差部１７ｆから突出した第二段差部１７ｇにより、枠体を構成する空間内で上方に延設されている。 - 特許庁

The method for treating the waste concrete fine powder has: a first step of mixing 50 mL waste sulfuric acid having about 0.05 mol/L concentration with 2.5g waste concrete fine powder and mixing, and after neutralizing, filtering the mixture to separate it into insoluble residue and a sulfuric acid solution; and a second step of curing the sulfuric acid solution separated in the first step for about all day and night to settle gypsum.例文帳に追加

廃コンクリート微粉末2.5gに対して、略0.05mol/Lの濃度の廃硫酸を略50mlの割合で混合して攪拌して中和した後、混合物をろ過して不溶残分と硫酸溶解液とに分離する第１工程と、第１工程により分離した硫酸溶解液を略一昼夜養生して石膏を沈殿させる第２工程とを有する。 - 特許庁

The method for producing the aminoarylaminoarazole includes a first step of reacting a nitroaryl azole with a nitroaryl iodide compound in an organic solvent by using one or more kinds of catalysts of compounds of metals selected from palladium, rhodium and copper, and a second step of reducing the dinitro compound formed at the first step, to afford a diamine.例文帳に追加

アミノアリルアミノアラゾールの合成法において、ニトロアリルアゾールとヨウ化ニトロアリル化合物とを有機溶媒中、パラジウム、ロジウム、銅から選ばれた1種以上の金属化合物触媒を用いて反応させる第一の工程と、第一の工程で生成したジニトロ化合物を還元してジアミンとする第二の工程とを含むことを特徴とするアミノアリルアミノアラゾールの製造方法。 - 特許庁

The method for producing a thin polarizing film includes: a step for forming a PVA-based resin layer 12 on a thermoplastic resin base material 11 to produce a laminate 10; an alignment reduction step for reducing an alignment of the PVA-based resin layer 12; and a first stretching step for stretching the laminate 10 in the first direction, in this order.例文帳に追加

本発明の薄型偏光膜の製造方法は、熱可塑性樹脂基材１１上にＰＶＡ系樹脂層１２を形成して積層体１０を作製する工程と、ＰＶＡ系樹脂層１２の配向を低下させる配向低下工程と、積層体１０を第１の方向に延伸する第１延伸工程とをこの順で含む。 - 特許庁

First composite RSCPs calculated for each identical spreading code are then summed to calculate a second composite RSCP (step 104), first composite ISCPs calculated for each identical spreading code are summed to calculate a second composite ISCP (step 105), and the ratio between the second composite RSCP and the second composite ISCP is determined as an SIR measurement (step 106).例文帳に追加

同じ拡散符号毎に算出した第１の合成ＲＳＣＰを加算して第２の合成ＲＳＣＰを算出し（ステップ１０４）、同じ拡散符号毎に算出した第１の合成ＩＳＣＰを加算して第２の合成ＩＳＣＰを算出し（ステップ１０５）、第２の合成ＲＳＣＰと第２の合成ＩＳＣＰとの比をＳＩＲ測定値とする（ステップ１０６）。 - 特許庁

The collecting method of the drive information includes: a first step S11 of searching a route up to a destination; and a second step S23 of searching (S22) an electronic program guide (EPG) of a digital broadcast program by using searched route associated information related to the route searched in the first step and particularizing the program including the drive information of the searched route.例文帳に追加

目的地までのルートを探索する第１のステップ（Ｓ１１）と、前記第１のステップで探索したルートに関する探索ルート関連情報を用いて、デジタルテレビ放送の電子番組案内（ＥＰＧ）を検索して（Ｓ２２）、探索したルートのドライブ情報を含んでいる番組を特定する第２のステップ（Ｓ２３）とを含むドライブ情報の収集方法である。 - 特許庁

A method of manufacturing the semiconductor device includes a first step of connecting the emitter 102 of an IGBT element 1 to the emitter circuit 202 of the substrate 2 simultaneously upon connecting of the gate 101 of the IGBT element 1 to the gate circuit 201 of the substrate 2, and a second step of connecting the collector 103 of the IGBT element 1 to the collector circuit of the substrate after the first step.例文帳に追加

ＩＧＢＴ素子１のゲート１０１と基板２のゲート回路２０１とを接続すると同時に、ＩＧＢＴ素子１のエミッタ１０２と基板２のエミッタ回路２０２とを接続する第一の工程と、第一の工程後に、ＩＧＢＴ素子１のコレクタ１０３と基板のコレクタ回路とを接続する第二の工程とで構成される。 - 特許庁

This method comprises: the low temperature high doped layer growing step of doping the dopant while growing a thin film at a specific first temperature; the annealing step of discontinuing the growth of the thin film to anneal the thin film at a predetermined second temperature higher than the first temperature; and the high temperature low doped layer growing step of growing the thin film at the second temperature.例文帳に追加

所定の第１温度において薄膜を成長させながらドーパントをドーピングする低温高ドープ層成長ステップと、薄膜の成長を中断し前記第１温度より高い所定の第２温度において薄膜をアニール処理するアニール処理ステップと、前記第２温度において薄膜を成長させる高温低ドープ層成長ステップとを含む。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device comprises a step (a) of forming a first insulating film 11 on a substrate 12, a step (c) of selectively removing the first insulating film 11 by wet etching, and a step (d) of forming a second insulating film 17 on a region of the substrate 12 having the insulating film 11 removed therefrom.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、基板１２の上に第１の絶縁膜１１を形成する工程（ａ）と、第１の絶縁膜１１をウェットエッチエッチングにより選択的に除去する工程（ｃ）と、基板１２における第１の絶縁膜１１が除去された領域の上に第２の絶縁膜１７を形成する工程（ｄ）とを備えている。 - 特許庁

The rubber composition for tires is obtained by a production method including a first base kneading step of kneading a rubber component and a silica, and a second base kneading step of kneading a kneaded product obtained by the first base kneading step, silica and rice oil, wherein the content of oleic acid in 100 mass% of the constituent fatty acids of the rice oil is ≥48 mass%.例文帳に追加

ゴム成分と、シリカとを混練する第一ベース練り工程と、前記第一ベース練り工程により得られた混練物と、シリカと、米油とを混練する第二ベース練り工程とを含む製造方法により得られ、前記米油の構成脂肪酸１００質量％中のオレイン酸の含有量が４８質量％以上であるタイヤ用ゴム組成物に関する。 - 特許庁

The drying process is divided into a plurality of steps, and in a first step S1, the center temperature of the honeycomb molded object reaches at least the curing start temperature of the binder from the start of drying, wherein the output of the microwave for irradiating the honeycomb molded object in the first step S1 is set higher than the output of the microwave of the subsequent step.例文帳に追加

乾燥工程では、該乾燥工程を複数のステップに分け、乾燥開始からハニカム成形体の中心部の温度が少なくともバインダの硬化開始温度に達するまでを第１ステップＳ１とし、第１ステップＳ１においてハニカム成形体に照射するマイクロ波出力を、その後のステップのマイクロ波出力よりも高く設定する。 - 特許庁

This surface treatment method comprises the first step of removing oxygen atoms from the surface of a substrate, by introducing a hydrogen gas into a vacuum vessel, and reacting the above hydrogen gas with the substrate having pyroelectricity, and the second step of substituting a nitrogen atom for the oxygen atom removed in the above first step, by reacting the substrate with the nitrogen gas.例文帳に追加

真空容器内に水素ガスを導入し、前記水素ガスと焦電性を有する基板を反応させ、前記基板の表面から酸素原子を離脱させる第１工程と、前記基板と窒素ガスとを反応させることで、前記第１工程で離脱した酸素原子を窒素原子で置換する第２工程とを備えることで解決できる。 - 特許庁

The method comprises the first painting step where the natural paint B containing a drying oil or semidrying oil is applied on a surface A1 of wood A and the second painting step where an aqueous solution C containing at least a protein is further applied after a specified time from the above first painting step as a finishing coat on a painted surface B1 with the above natural paint B.例文帳に追加

木材Ａ表面Ａ１に、乾性油又は半乾性油からなる自然塗料Ｂを塗装する第１塗装工程と、上記第１塗装工程から所定時間経過後、上記自然塗料Ｂの塗装面Ｂ１に、少なくともタンパク質を含む水溶液Ｃを更に上塗りする第２塗装工程と、より構成している。 - 特許庁