「First layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(486ページ目) - Weblio英語例文検索

A quarter wavelength plate 1 has a function of converting a polarization state of incident light from linear polarization to circular polarization or from circular polarization to linear polarization and has a first wavelength plate 2 and a second wavelength plate 3, both of which are made of a quartz crystal plate having birefringence, joined to each other via a joining layer 4.例文帳に追加

入射光の偏光状態を、直線偏光から円偏光に変換する、または円偏光から直線偏光に変換する機能を有する１／４波長板１は、共に複屈折性を有する水晶板より成る第１の波長板２と第２の波長板３とが、接合層４を介して互いに接合されている。 - 特許庁

Dirt on the concrete structure surface is removed, a transparent polyurethane resin solution is applied to the concrete structure surface, a glass continuous fiber sheet is stuck thereon, the transparent polyurethane resin solution is applied thereon to impregnate the glass continuous fiber sheet with it, and the obtained material is dried and solidified to form a transparent or semitransparent first coating layer.例文帳に追加

コンクリート構造物の表面の汚れを除去し、コンクリート構造物表面に透明ポリウレタン樹脂溶液を塗り付けたのちにガラス連続繊維シートを貼着し、その上から透明ポリウレタン樹脂溶液を塗り付けてガラス連続繊維シートに含侵させ、これを乾燥させることで固化させて透明又は半透明の第一コーティング層を形成する。 - 特許庁

This method includes a first process in which Al or a material layer primarily composed of Al is patterned and a prescribed pattern wiring is formed, and a second process in which a photoresist 100, having a prescribed size of aperture on the wiring is formed and a prescribed area of the wiring is etched with an etching solution including at least nitric acid.例文帳に追加

ＡｌまたはＡｌを主成分とする材料層をパターニングして所定のパターンの配線を形成する第１の工程と、上記配線上に所定の大きさの開口を有するマスク用フォトレジスト１００を形成して、上記配線の所定の領域を少なくとも硝酸を含むエッチング液でエッチングする第２の工程とを含む。 - 特許庁

Wire browser information and a CAN ledger (first design information) obtained by generating a harness connection model and a CAN communication model and a signal name conversion table (second design information) obtained by generating control models are used to generate a connection file defining signal transmission/reception between a plurality of control models in an interface conversion layer computer 30.例文帳に追加

ハーネス結線モデルやＣＡＮコミュニケーションモデルの作成で得られるワイヤブラウザ情報やＣＡＮ台帳（第１の設計情報）と、制御モデルの作成で得られる信号名称変換表（第２の設計情報）とを用いて、インターフェース変換層コンピュータ３０において複数の制御モデル間での信号の送受信を定義した接続ファイルを作成する。 - 特許庁

The liquid crystal panel 100 includes the liquid crystal cell 10, including a liquid crystal layer containing homogeneously aligned liquid crystal molecules in the absence of an electric field; polarizers 20 and 20' arranged on both sides of the liquid crystal cell; a first optical element 30 arranged between one polarizer and the liquid crystal cell; and a second optical element 40 arranged between the other polarizer and the liquid crystal cell.例文帳に追加

液晶パネル100は、電界がない状態でホモジニアス配向させた液晶層を備える液晶セル10と、液晶セルの両側に配置された偏光子20,20'と、偏光子のうちの一方と液晶セル間に配置された第１光学素子30と、偏光子のうちの他方と液晶セルとの間に配置された第２光学素子40とを備える。 - 特許庁

The liquid crystal display 2 with the touch sensor is constituted of a polarizing plate 4, a first quarter wave plate 6, the touch sensor 8, a second quarter wave plate 10 and a liquid crystal display panel 13 which are disposed in this order from a viewer side, and an air layer is formed between the second quarter wave plate 10 and the touch sensor 8.例文帳に追加

本発明のタッチセンサ付き液晶表示装置２は、観察者側から、偏光板４、第１の１／４波長板６、タッチセンサ８、第２の１／４波長板１０、および液晶表示パネル１３がこの順で配置されて構成されており、第２の１／４波長板１０とタッチセンサ８との間に空気層が形成されている。 - 特許庁

The nitride semiconductor laser element having a nitride semiconductor layer that is laminated on a substrate and has a ridge on its surface and an electrode, wherein a first protective film is formed so as to have air gaps in at least a part of regions over surfaces of the nitride semiconductor layers on both sides of the ridge from sides of the ridge.例文帳に追加

基板上に積層され、その表面にリッジを有する窒化物半導体層と、電極とを備えた窒化物半導体レーザ素子であって、前記リッジの側面から、該リッジの両側の窒化物半導体層の表面にわたる領域の少なくとも一部にエアギャップを有するように第１の保護膜が形成されてなる窒化物半導体レーザ素子。 - 特許庁

In an electrophotographic process using electrostatic charge image developing toner and an electrophotographic photoreceptor, the toner comprises at least a binder resin, a colorant and wax and the binder resin is obtained by a first step of polymerizing a long chain (meth)acrylate ester and a second step of polymerizing a vinyl monomer in the presence of the polymer obtained in the first step, and the electrophotographic photoreceptor contains a polyester resin in the outermost surface layer.例文帳に追加

静電荷像現像用トナーと電子写真感光体を使用する電子写真プロセスにおいて、該トナーが少なくとも結着樹脂、着色剤及びワックスを含み、該結着樹脂が長鎖（メタ）アクリル酸エステルを重合する第１工程、第１工程において得られた重合体の存在下にビニル系単量体を重合する第２工程を経て製造されるものであり、且つ該電子写真感光体が、ポリエステル樹脂を最表面層中に含有するものであることを特徴とする、画像形成装置により解決した。 - 特許庁

A second substrate 10B is stuck to the first substrate 10A at a prescribed interval between substrates, a liquid crystal is injected between the first and the second substrates 10A and 10B and a liquid crystal layer wherein liquid crystal molecules are aligned by alignment controlling force is formed.例文帳に追加

画素内に反射領域および透過領域とが並列に配置された第１基板１０Ａにフォトスペーサ２２を形成した後に配向膜１１を塗布し、配向膜１１に対し配向膜１１に吸収される波長帯域の紫外光を照射して、配向膜１１の配向処理を行い、第１基板１０Ａに対し第２基板１０Ｂを所定の基板間隔をもって貼り合わせ、第１基板１０Ａおよび第２基板１０Ｂの間に液晶を注入し、配向制御力により液晶分子が配向された液晶層を形成する。 - 特許庁

The substrate 10 is provided in a gap between the pixel electrodes 15 in at least one direction of the first direction and the second direction, and includes: a first oriented film that horizontally orients liquid crystal molecules in the liquid crystal layer along a longitudinal direction of the gap; and a second oriented film that at least covers the pixel electrodes and vertically orients the liquid crystal molecules along a normal line of the substrate.例文帳に追加

第１方向と前記第１方向に交差する第２方向とに複数の画素電極１５が配置された基板１０と、液晶層と、を備えた液晶装置であって、前記基板１０は、前記第１方向または前記第２方向の少なくとも一方において前記画素電極１５間の隙間に設けられ、前記液晶層中の液晶分子を前記隙間の長手方向に沿って水平配向させる第１配向膜と、少なくとも前記画素電極を覆う、前記液晶分子を前記基板の法線に沿って垂直配向させる第２配向膜と、を有する。 - 特許庁

The polymer electrolyte material has at least a first repeating unit including Si-C bond forming a main skeleton and a second repeating unit including an aromatic ring and a proton conducting group, and the membrane-electrode assembly for the fuel cell has the polymer electrolyte membrane including the polymer electrolyte material and/or the catalyst layer.例文帳に追加

主骨格を形成するＳｉ−Ｏ結合を含む第一の繰り返し単位と、芳香環及びプロトン伝導性基を含む第二の繰り返し単位とを、少なくとも有していることを特徴とする高分子電解質材料、並びに、該高分子電解質材料を含有する高分子電解質膜及び／又は触媒層を備えることを特徴とする、燃料電池用膜・電極接合体。 - 特許庁

A solid state imaging element has a sensor having a second conductivity type semiconductor region 13 formed on the surface of a first conductivity type semiconductor region 12, wherein a second conductivity type semiconductor layer 6 having a less than that of the semiconductor region 13 is formed in the semiconductor region 12 beneath the semiconductor region 13.例文帳に追加

また、第１導電型半導体領域１２の表面に第２導電型半導体領域１３が形成されたセンサ部２を有し、第２導電型半導体領域１３下の第１導電型半導体領域１２内に、第２導電型半導体領域１３より小さい面積の第２導電型半導体層６が形成されて成る固体撮像素子１を構成する。 - 特許庁

Each pixel part 7 has a pixel electrode 15, and a projection part which is provided on the second substrate, overlaps with the reflection area R3, is disposed beyond a peripheral edge of the pixel electrode in the second direction d2, and projects on the first substrate side to make the thickness of the liquid crystal layer opposite the reflection area thinner than that opposite the transmission area R2.例文帳に追加

各画素部７は、画素電極１５と、第２基板に設けられ、かつ、反射領域Ｒ３に重なっているとともに第２方向ｄ２に画素電極の周縁を超えて位置し、かつ、第１基板側に突出して反射領域と対向した液晶層の層厚を透過領域Ｒ２と対向した液晶層の層厚より薄くする突出部と、を有している。 - 特許庁

A first electrode 20a and a second electrode 21 having a three-dimensional structure and being formed in a projecting shape are formed on a substrate 1 as lower layers, an inter-layer insulating film 18 is deposited on the substrate 1, the insulating film 18 is etched and a trench 26 exposing the top face of the second electrode 21 and a side face in at least one direction is formed.例文帳に追加

基板１上に３次元構造で凸形状をなす第１電極２０ａと第２電極２１とを第１電極２０ａを下層として形成した後、基板１上に層間絶縁膜１８を堆積し、この層間絶縁膜１８をエッチングして、第２電極２１の上面および少なくとも一方向の側面を露出させる溝２６を形成する。 - 特許庁

The linear structure bodies are arranged in parallel to each other so that they are electrically insulated from each other through a first insulation line and a second conductor crosses the linear structure bodies, and are brought into electrical contact with the luminous layer structure at intersecting points arranged in matrix, and the linear conductors are electrically insulated from each other through a second insulation part.例文帳に追加

この線状構造体は、互いに電気的に第１の絶縁線で絶縁され、第２の導電体が線状構造体に対して交差するように互いに並列して配置され、マトリックス状に配置された交差位置において前記発光層構造に電気的に接触され、この線状の導電体は、互いに第２の絶縁部によって電気的に絶縁されている。 - 特許庁

The semiconductor structure further comprises a second transition body, such as a transition module, having a smaller lattice parameter at a lower surface overlying the second surface of the first transition body and a larger lattice parameter at an upper surface of the second transition body, as well as a III-Nitride semiconductor layer over the second transition body.例文帳に追加

前記典型的な実施では、遷移モジュール等の第二遷移本体をさらに有し、この第二遷移本体は前記第一遷移本体の前記第二表面に重層する下表面においてより小さい格子パラメータを有し、前記第二遷移本体の上表面においてより大きい格子パラメータを有し、前記第二遷移本体の上方のIII族窒化物半導体層も同様である。 - 特許庁

A strip of thin-film layer 4 is formed at the upper section of the high-breakdown-voltage junction terminator structure for potentially separating the section between first and second reference circuit formation regions 1 and 2.例文帳に追加

第１、第２基準回路形成領域１、２間を電位的に分離する高耐圧接合終端構造上部に帯状の薄膜層４が形成され、この薄膜層４に形成されるツェナーダイオードは、高耐圧ＮＭＯＳ５、高耐圧ＰＭＯＳ６が設けられている箇所やコーナ箇所の曲線部分Ｂと、基準回路形成領域１、２端部と平行している直線部分Ｃとに形成される。 - 特許庁

The anode for the nonaqueous electrolyte secondary battery contains a composite anode active material comprising silicon-containing particles 11, carbon nano-fibers 12, and a catalyst element 13; a first binder 15 made of an acrylic group-containing polymer; and a second binder made of adhesion rubber particles, and has a mix layer arranged on a current collector 1A.例文帳に追加

本発明の非水電解質二次電池用負極は、少なくともリチウムイオンの吸蔵放出が可能な含ケイ素粒子１１とカーボンナノファイバ１２と触媒元素１３とからなる複合負極活物質１４と含アクリル基高分子である第１結着剤１５と粘着性ゴム粒子である第２結着剤１６とを含み集電体１Ａ上に設けられた合剤層とを有する。 - 特許庁

The manufacturing method of the photoelectromotive element includes the stages of: forming a precursor film 102a on a substrate 101; forming a second semiconductor thin film 103 on the precursor film 102a; and forming a first semiconductor thin film 102b by supplying thermal energy using the second semiconductor thin film 103 as a cap layer and then crystallizing the precursor film 102a.例文帳に追加

基板１０１の上に前駆体膜１０２ａを形成する工程と、前駆体膜１０２ａの上に第２の半導体薄膜１０３を形成する工程と、第２の半導体薄膜１０３をキャップ層として熱エネルギーを付与することにより、前駆体膜１０２ａを結晶化して第１の半導体薄膜１０２ｂを形成する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a thin film transistor, a method of manufacturing the same, and a display element which can obtain a gate insulating film with a high dielectric constant by stacking a first gate insulating film of sol-gel type with a high dielectric constant and a second gate insulating film made of amorphous silicon or a polymeric organic substance with a relatively low dielectric constant, so that the gate insulating film having a double layer is formed.例文帳に追加

高い誘電率特性を持つゾル—ゲルタイプの第１ゲート絶縁膜と、多少低い誘電率特性を持つ非晶質シリコンまたは有機高分子物質の第２ゲート絶縁膜とを積層して二重層のゲート絶縁膜を形成することによって、高誘電率のゲート絶縁膜を得ることができる薄膜トランジスタ及びその製造方法、並びにディスプレイ素子を提供する。 - 特許庁

In addition, a plurality of second electrodes 7 are arranged in stripes among the plurality of first electrodes 6 for discharging residual electric charge remaining in the electric charge storage part 11 or the reading photoconductive layer 5 when the erase light L2 is irradiated, and are provided on a plurality of read light shielding films 9 for transmitting the erase light L2 and shielding the read light L1.例文帳に追加

また、消去光Ｌ２が照射されたとき電荷蓄電部１１または読取用光導電層５に残存する残存電荷を放電する、複数の第１線状電極６の間にストライプ状に配列された複数の第２線状電極７が、消去光Ｌ２を透過し読取光Ｌ１を遮光する複数の読取光遮光膜９上の領域に設けられている。 - 特許庁

The method of manufacturing the glass optical device includes obtaining the optical device by press molding a glass base material having a core part comprising optical glass (first glass) having ≥550°C Tg and a covering part covering the surface of the core part and comprising second glass into a lens shape, annealing the resultant press molded product and removing the covering layer existing on the surface of the press molded product.例文帳に追加

転移点が550℃以上である光学ガラス（第一のガラス）からなる芯部と、前記芯部の表面を被覆する第二のガラスからなる被覆部とを有するガラス素材をレンズ形状にプレス成形して得られたプレス成形品をアニールし、次いで、プレス成形品の表面にある被覆層を除去してガラス光学素子を得ることを含む、ガラス光学素子の製造方法。 - 特許庁

A buildup method is applied to the integrally united substrates, buildup layers 3a and 3b are first laminated, a conductor strip 1 having width W smaller than the width CW of the area 4c is arranged at the position on the layer 3a, facing the area 4c, and the normal wiring patterns 2 are arranged as necessary in an area other than the position facing the area 4c.例文帳に追加

そして、一体化された基板に対してビルドアップ工法を実施し、先ず、ビルドアップ層３ａ，３ｂを積層し、そのビルドアップ層３ａの上層の削除領域４ｃに対向する位置に削除領域４ｃの幅ＣＷより小さい幅Ｗを有する導体ストリップ１を配し、削除領域４ｃに対向する位置以外の領域に通常配線パターン２を必要に応じて配する。 - 特許庁

The optical modulator has an optical waveguide 2 extending along a certain surface, a first optical guide part (the array of pits 9) regulating propagation of an optical wave in a direction parallel to the surface and a second optical guide part (a part other than a high refractive index layer 11 in a substrate 1) regulating the propagation of the optical wave in a direction vertical to the surface.例文帳に追加

本発明の光変調素子は、ある面に沿って延びる光導波路２と、光波の伝搬を前記面に平行な方向において規制する第１光ガイド部（ピット９のアレイ）と、光波の伝搬を前記面に垂直な方向において規制する第２光ガイド部（基板１における高屈折率層１１以外の部分）とを有する光変調素子である。 - 特許庁

In the optical fiber cable constituted by forming N or more (N≥2) covering layers on the outer circumferential part of an optical fiber, the first to (N-1)th covering layers from the inside are constituted of thermoplastic resin, and the Nth covering layer from the inside is constituted of: a polymer incorporating ethylene units and tetrafluoroethylene units; or a polymer incorporating the tetrafluoroethylene units and a perfluoroalkoxyethylene unit.例文帳に追加

光ファイバの外周部にＮ層（Ｎ≧２）以上の被覆層が形成されてなる光ファイバケーブルであって、内側から１層目〜Ｎ−１層目の被覆層は熱可塑性樹脂からなり、内側からＮ層目の被覆層はエチレン単位及びテトラフルオロエチレン単位を含む重合体又はテトラフルオロエチレン単位及びパーフルオロアルコキシエチレン単位を含む重合体からなる光ファイバケーブル。 - 特許庁

In the method for fabricating a semiconductor device where silicon insulation films having a different thickness are formed, respectively, in a specified region and other specified region on a substrate, HMDS coating and heating are performed prior to coating of a photoresist layer when photolithographic etching, i.e., boring of an opening 28W, is performed in the process for removing the specified region of a first silicon insulation film 28.例文帳に追加

基板上の特定領域と、他の所定領域において、相互に厚さを異にするシリコン絶縁膜が形成されて成る半導体装置の製造方法であって、第１のシリコン絶縁膜２８の特定領域の除去工程におけるフォトリソグラフィによるエッチング、即ち開口２８Ｗの穿設において、フォトレジスト層の塗布に先立って、ＨＭＤＳ被着と加熱を行うものである。 - 特許庁

In a stacked capacitor 100, an internal electrode layer 7 includes a first internal electrode 20 and a second internal electrode 30, and each internal electrode 20, 30 includes an active electrode portion 21, 31 of a fixed width positioned far from an end face and a lead electrode portion 22, 32 of a fixed width narrower than the active electrode portion 21, 31 and positioned near to the end face.例文帳に追加

本発明に係る積層コンデンサ１００は、内部電極層７が第１の内部電極２０と第２の内部電極３０とを含み、かつ、各内部電極２０、３０が、端面から遠い側に位置する同幅の活性電極部２１、３１と、活性電極部２１、３１より幅狭であり、端面に近い側に位置する同幅の引出電極部２２、３２とを含む。 - 特許庁

The electrooptical element wherein an electrooptical material is interposed between a pair of substrates disposed opposite to each other is provided with a gate line formed on one substrate, a plurality of auxiliary capacitance lines formed in the same layer as the gate line, separated from each other and formed by using a first metal thin film and collectively drawing lines separated from the plurality of auxiliary capacitance lines.例文帳に追加

電気光学素子では、対向配置された一対の基板間に電気光学材料が挟持されており、一方の基板上に形成されたゲート配線と、ゲート配線と同一層で形成され、互いに分離された第１の金属薄膜で形成された複数の補助容量配線と、複数の補助容量配線と互いに分離されている集合引出し配線とを備える。 - 特許庁

The spacer body structure is provided with a support substrate 24 arranged in opposition to the first and the second substrates, equipped with a plurality of electron beam passing holes 26 set in opposition to the respective electron emission sources and coated with an insulating layer 25, as well as a plurality of spacers 30a, 30b erected on at least either surface of the support substrate 24 among the plurality of electron beam passing holes.例文帳に追加

スペーサ構体は、第１および第２基板に対向して配設され、それぞれ電子放出源に対向した複数の電子ビーム通過孔２６を有しているとともに絶縁層２５で被覆された支持基板２４と、複数の電子ビーム通過孔間で、支持基板の少なくとも一方の表面上に立設された複数のスペーサ３０ａ、３０ｂと、を備えている。 - 特許庁

In the semiconductor device having a parallel p-n layer with an n-type drift region 2 and a p-type partition region alternately arranged a plurality of times, an insulating film 16 thicker than a gate oxide film 6 is formed on the surface of a region with no p base region 8 between first p-type partition regions 3a having the p base regions 8 among the p-type partition regions.例文帳に追加

ｎ型ドリフト領域２とｐ型仕切領域とを交互に配置した並列ｐｎ層を有する半導体装置において、ｐ型仕切領域のうちのｐベース領域８が形成された第１ｐ型仕切領域３ａ間の、ｐベース領域８が形成されていない領域の表面に、ゲート酸化膜６より厚い絶縁膜１６が設けられている。 - 特許庁

To provide a wiping board and its manufacturing method that prevent electronic components incorporated into an insulating board from being easily affected by an external electromagnetic wave, at the same time, can reduce influence by noise generated by a circuit being composed of the electronic components, and can stabilize electric characteristics inside the wiring board and continuity with an IC chip or the like that is mounted onto a wiring layer and a first main surface.例文帳に追加

絶縁基板に内臓した電子部品が外部からの電磁波に影響されにくく、且つ上記電子部品が構成する回路が発生するノイズによる影響を低減でき、配線基板内部の電気的特性や配線層および第１主面上に搭載されるＩＣチップなどとの導通を安定させ得る配線基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

This package 1 is constituted mainly of the pressure sensor 11 joined with the first substrate 11a having a fixed electrode, and the second substrate 11b having a movable electrode arranged with the prescribed space with respect to the fixed electrode, a support substrate 12 having an opening part 12a capable of storing the second substrate 11b, and a resin layer 13 for fixing the pressure sensor 11 and the support substrate 12.例文帳に追加

パッケージ１は、固定電極を有する第１基板１１ａと、この固定電極と所定の間隔をおいて配置された可動電極を有する第２基板１１ｂとを接合してなる圧力センサ１１と、第２基板１１ｂを収容可能な開口部１２ａを有する支持基板１２と、圧力センサ１１及び支持基板１２を固定する樹脂層１３とから主に構成されている。 - 特許庁

After implanting an oxygen ion 11 into a silicon wafer 12 where first a polysilicon film 17 is formed on the backside, the wafer 12 is heat-treated to form an embedded oxide film 13 inside the wafer 12, thus manufacturing a SIMOX substrate 16 by forming an SOI layer 14 on the surface of the wafer 12 on the embedded oxide film 13 and further forming an oxide film 18 on the whole surface.例文帳に追加

先ず裏面にポリシリコン膜１７を形成したシリコンウェーハ１２の内部に酸素イオン１１を注入した後に、このウェーハ１２に熱処理を施してウェーハ１２内部に埋込み酸化膜１３を形成することにより埋込み酸化膜１３上のウェーハ１２表面にＳＯＩ層１４を形成してＳＩＭＯＸ基板１６を作製し更に全面に酸化膜１８を形成する。 - 特許庁

The linear structure bodies are arranged in parallel to each other so that they are electrically insulated from each other through a first insulation line, and a second linear conductor intersects the linear structure bodies, and are brought into electrical contact with the luminous layer structure at intersecting points arranged in matrix, and the linear conductors are electrically insulated from each other through a second insulation part.例文帳に追加

この線状構造体は、互いに電気的に第１の絶縁線で絶縁され、第２の導電体が線状構造体に対して交差するように互いに並列して配置され、マトリックス状に配置された交差位置において前記発光層構造に電気的に接触され、この線状の導電体は、互いに第２の絶縁部によって電気的に絶縁されている。 - 特許庁

In a full dot matrix display type liquid crystal display element which is constituted by disposing a first transparent electrode substrate having a plurality of lines of row electrodes and a second transparent electrode substrate having a plurality of lines of column electrodes opposite to each other across a liquid crystal layer and by using each intersection of the row electrodes and the column electrodes as a display element, each display element D is made to be a hexagonal dot pattern.例文帳に追加

複数本の行電極を有する第１透明電極基板と、複数本の列電極を有する第２透明電極基板とを液晶層を挟んで対向的に配置し、行電極と列電極の交点部の各々を表示画素としてなるフルドットマトリクス表示型の液晶表示素子において、各表示画素Ｄを六角形のドットパターンとする。 - 特許庁

In a method for manufacturing a bushing 16 having a sintered alloy part 30 a backing plate part 40, the sintered alloy part 30 is formed at first by sintering metal powder containing copper and iron on a surface of a plate shape backing plate part 40 composed of ferrous material, and the sintered alloy part 30 and the backing plate part 40 are formed on a plate shape bearing material having a double layer structure.例文帳に追加

焼結合金部３０と裏金部４０とを有するブッシュ１６の製造方法において、まず、鉄系材料から成る板状の裏金部４０の表面上で銅及び鉄を含む金属粉末を焼結して焼結合金部３０を成形するとともに、この焼結合金部３０と裏金部４０とを二層構造を有する板状の軸受材料に成形する。 - 特許庁

The method peels the first substrate and the second substrate from the inside or interface of the peeling layer (3) of the multilayer substrate under a negative pressure.例文帳に追加

本発明に係る剥離方法は、剥離層(3)とその上部に形成された半導体素子(55)とを有する第１基板(S1)と、前記第１基板の前記半導体素子形成面と接着層(18)を介して接合された第２基板（S2)とを有する積層基板(S)の剥離方法であって、負圧状態下で、前記積層基板の前記剥離層(3)の層内又は界面から前記第１基板と前記第２基板とを剥離する。 - 特許庁

Each bit constituting each of the layer address signals A13 to A15 is transmitted via at least two through electrodes parallel-connected in each controlled chip among multiple first through electrodes, and each bit constituting the command signal ICMD is transmitted via corresponding one through electrode selected by an output switch circuit and an input switch circuit.例文帳に追加

層アドレス信号Ａ１３〜Ａ１５を構成する各ビットは、複数の第１の貫通電極のうち、被制御チップごとに並列接続された少なくとも２本の貫通電極を経由して伝送され、コマンド信号ＩＣＭＤを構成する各ビットは、出力切り替え回路及び入力切り替え回路によって選択された対応する１本の貫通電極を経由して伝送される。 - 特許庁

The invention also provides a device for measuring deformation, which device comprises the first alumina coating 30 obtained by atmospheric thermal spraying onto the silicon carbide layer covering the substrate of the part after it has been treated by superposing laser impacts, a free filament strain gauge 40 placed on the coating 30, and an additional alumina coating obtained by atmospheric thermal spraying onto the strain gauge.例文帳に追加

本発明はまた、変形を測定する装置を提供し、装置は、レーザー衝突を重ねることによって処理された後、部品の基材を被覆する炭化ケイ素層上の、常圧溶射によって得られた第１のアルミナコーティング（３０）と、コーティング（３０）上に置かれたフリーフィラメントひずみゲージ（４０）と、ひずみゲージ上への常圧溶射によって得られたさらなるアルミナコーティングと、を含む。 - 特許庁

The method of depositing the metallic layer containing metal on the substrate surface has a process step of immersing the substrate in a first solution which contains a depolarizing agent and in which the metal ions do not substantially exist and a process step of immersing the substrate into a second solution containing the metal ions described above while passing an electric current between the substrate and an anode.例文帳に追加

基板表面上に金属を含む金属層を析出させる方法であって、前記基板を、復極剤を含み、かつ、実質的に前記金属イオンが存在しない第一溶液に浸す工程と、その後に、前記基板とアノード間に電流を流しながら、前記基板を、前記金属のイオンを含有する第二溶液に浸す工程を備えることを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the organic electroluminescent display device 1 comprises a microlens forming step of forming a lens pattern corresponding to the microlens 17 that refracts the light from the organic luminescent layer 14 by photolithographic treatment on a first transparent resin deposited on a substrate 11 and forming the microlens 17 by reflow treatment on the lens pattern.例文帳に追加

基板１１上に成膜した第１の透明樹脂に対してフォトリソグラフィ処理を施すことで、有機発光層１４からの光を屈折するマイクロレンズ１７に応じたレンズパターンを形成し、レンズパターンに対してリフロー処理を施すことで、マイクロレンズ１７を形成するマイクロレンズ形成ステップ、を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置１の製造方法。 - 特許庁

(1) This ink is substantially opaque to actinic radiation, in at least one wavelength range effective to cure the photocurable material in the element and substantially has resistance to polymerization in exposure to actinic radiation in the wavelength region and (2) the first major face of the photocurable element includes the protective layer substantially impermeable with respect to the ink.例文帳に追加

但し（１）このインキは該要素内の光硬化性材料を硬化させるのに有効な少くとも１つの波長領域の化学線照射に対して実質的に不透明であり且つその波長領域の化学線への露呈時に重合に対して実質的に耐性があり、また（２）光硬化性要素の第１面はインキに関して実質的に不浸透性の保護層を含む。 - 特許庁

The electro-optical element includes an electro-optical material which is interposed between a pair of substrates that are arranged mutually opposite ; a gate wiring formed on either substrate; a plurality of auxiliary capacitance wiring, formed on the same layer as the gate wiring by a first metal membrane mutually separated; and an aggregated lead out wiring, mutually separated from the plurality of auxiliary capacitance wiring.例文帳に追加

電気光学素子では、対向配置された一対の基板間に電気光学材料が挟持されており、一方の基板上に形成されたゲート配線と、ゲート配線と同一層で形成され、互いに分離された第１の金属薄膜で形成された複数の補助容量配線と、複数の補助容量配線と互いに分離されている集合引出し配線とを備える。 - 特許庁

In this method, the thermal recording medium is manufactured by applying a coating material composed mainly of a binder and a coating material composed mainly of a crosslinking agent to the surface of a thermal recording layer on a support containing a colorless or pale-color electron donative leuco dye and an electron receptive developer, in a first coating part and a second coating part, while the dyes are wet.例文帳に追加

支持体上に設けてある無色ないし淡色の電子供与性ロイコ染料および電子受容性顕色剤とを含有する感熱記録層上に、バインダーを主体とする塗料および架橋剤を主体とする塗料を湿潤状態にあるうちに、第一塗工部および第二塗工部において塗工することを特徴とする感熱記録体の製造方法である。 - 特許庁

The liquid crystal display element has a second liquid crystal layer formed to be brought into contact with the same electrode keeping a third liquid crystal for selecting and reflecting a second wavelength band, and a fourth liquid crystal for selecting and reflecting a third wavelength band different from the first wavelength band and the second wavelength band, and allowing a threshold voltage required for drive to differ from the third liquid crystal arranged in a pixel unit.例文帳に追加

液晶表示素子は、第二波長帯域を選択反射する第三液晶と、第一波長帯域及び第二波長帯域とは異なる第三波長帯域を選択反射し、駆動に要する閾値電圧が第三液晶とは異なる第四液晶とが、画素単位で配置される同一の電極に接して形成される第二液晶層を有する。 - 特許庁