In Processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 50000件
The method of manufacturing the semiconductor device is provided with a cleaning process, in which the surface oxide film 6 formed on the copper interconnection 3, is cleaned and a first process, in which the film 6 is substituted into carboxylate and a second process, in which the generated carboxylate is reduced and removed.例文帳に追加
銅配線3に形成された表面酸化膜6を清浄する清浄工程を有する半導体装置の製造方法であって、清浄工程は、表面酸化膜6をカルボン酸塩に置換する第1の工程と、生成されたカルボン酸塩を還元除去する第2の工程とを有する。 - 特許庁
Further, the alternative method includes a process for supplying the oxygen-enriched air and the copper-concentrate, a process for supplying the pig iron into the slag generated in the furnace and a process for adjusting the copper grade in a mat generated in the furnace to 64-69 wt.%.例文帳に追加
他の銅の製錬方法は、炉内に酸素富化空気および銅精鉱を供給する工程と、炉内で生じるスラグに銑鉄を供給する供給工程と、炉内で生じるマット中の銅品位を64重量%〜69重量%に調整する工程と、を含む。 - 特許庁
The grains to be dried containing a large quantity of moisture and swelled in grain surfaces through a germinating process and a washing process are ventilated in the static condition in an initial drying process to solidify the grains to a degree that damage is hard to be generated by the friction between the grains.例文帳に追加
発芽処理や洗浄処理などにより水分を多く含み、かつ粒表面が膨軟状態となっている被乾燥穀物を、初期乾燥工程では粒を静止状態に保って通風することにより、粒の表面を、粒間摩擦によっても損傷を生じない程度まで固化する。 - 特許庁
In a step S6, variables on a DRAM and a stack area used when a process performed in the cell refreshing process of a RAM started in a step S8 is performed, or when a process responding to a command from an input part carrying out processing is performed are fed to a cache memory.例文帳に追加
ステップS6で、ステップS8で開始されるRAMのセルフリフレッシュ処理中に実行される処理を実行するとき、または処理中の入力部からの指令に対応する処理を実行するとき使用される、DRAM上の変数およびスタックエリアが、キャッシュメモリに読み込まれる。 - 特許庁
The member 2 performs a rough grinding process in which the depth of cut by the wheel 1 is large, a free rotation process in which the member 2 rotates away with the wheel 1 kept separate from the member 2, and a finish grinding process in which the depth of cut by the wheel 1 is small.例文帳に追加
前記軸状部材2の研削は、前記砥石1の切り込み量が大きい粗研削工程と、前記砥石1を前記軸状部材2から離間させて該軸状部材2を空転させる空転工程と、前記砥石1の切り込み量が小さい仕上げ研削工程を行う。 - 特許庁
In this manner, the connection terminal is formed in this order from the bottom in such a manner that a layer is attached to another one by one, while the wire of the circuit section is formed, therefore, the process can be simplified compared with the case where the process of forming the connection terminal is performed after the process of forming the circuit section.例文帳に追加
これにより、回路部の配線形成と同時に、接続端子が一層ずつ継ぎ足す形で下層側から順に形成されるため、接続端子の形成工程を回路部の形成工程の後工程として行なう場合に比べて工程を簡略化できる。 - 特許庁
The method includes identifying a cross-process dimensional change in a web moving through a printing system, comparing the identified cross-process dimensional change to a predetermined threshold, and changing operation of a component in the web printing system in response to the cross-process dimensional change exceeding the predetermined threshold.例文帳に追加
印刷システムを通り抜けるウェブにおける処理交差寸法変化を特定することと、特定された処理交差寸法変化を所定の閾値と比較することと、所定の閾値を超える処理交差寸法変化に応答して、ウェブ印刷システムの構成部品の操作を変化させることとを含む。 - 特許庁
At the time, the subordinate CPU specifies the light emitting element to be newly turned off in the interrupt process (the interrupt process in which an interrupt counter matches a data reflection counter) executed at the extinction timing specified by light emitting parts set in the last light emission control main process.例文帳に追加
それと共に、サブCPUは、前回の発光制御メイン処理にて設定された発光パーツにより特定される消灯タイミングで割り込み実行された割込処理(割込カウンタとデータ反映カウンタが一致するときの割込処理)にて新たに消灯制御する発光素子を特定する。 - 特許庁
When starting the jackpot game, the main CPU, in a subsequent interrupt handling, interrupts to count variation times in the process of the special symbols 1 and the process of the special symbols 2 while executes the process during varying the special symbols even in the interruption.例文帳に追加
そして、メインCPUは、大当り遊技を開始させた場合に、以降のタイマ割込み処理では特別図柄1処理と、前記特別図柄2処理において変動時間のカウントを中断させる一方で、当該中断中であっても特別図柄変動中処理は実行させる。 - 特許庁
A method for producing the processed cooked rice includes: a process of well boiling rice in a modifying aqueous solution containing acid and salt, a process of washing the well boiled rice in water, and a process of filling the washed rice and sterilizing by pressurizing and heating in a bacteriocin-containing solution.例文帳に追加
すなわち、本発明は、米を酸および塩を含有する改質用水溶液中で煮熟する工程、煮熟した米を水で洗浄する工程、洗浄した米を充填し、バクテリオシンを含む溶液中で加圧加熱殺菌をすることを特徴とする加工米飯及びその製造方法である。 - 特許庁
The method of manufacturing a sealing material includes a coating process in which a sealing material consisting of an ultraviolet curing resin is coated on an opposed surface to a front substrate of a rear substrate and also a degassing process in which, in advance of the coating process, the sealing material is heated for a prescribed time under a reduced pressure atmosphere.例文帳に追加
背面基板における前面基板との対向面に、紫外線硬化性樹脂からなる封着材を塗布する塗布工程と、を有し、塗布工程に先立って、封着材を減圧雰囲気下で所定時間加熱する脱ガス工程を有することを特徴とする。 - 特許庁
To efficiently regenerate a NOx storage catalyst by regulating exhaust gas so that it includes more NOx in the first process than in the second process while includes a reducing agent in the second process and carrying out a switch between the first and the second processes according to a NOx signal.例文帳に追加
貯蔵触媒をそれぞれ完全に充填しかつ完全に放出し同時に好ましくないHCエミッションおよびCOエミッションを低減することによりNOx触媒能力を最適に利用するという理想に近いNOxセンサによる貯蔵触媒の再生制御を提供する。 - 特許庁
In the method for producing the semiconductor structure, this method is provided with a process for controlling the SOI wafer having a plurality of active areas thereon, a process for forming the CMOS in the first active area on the wafer, and a process for forming the SiGe HBT in the other active area on the wafer.例文帳に追加
半導体構造を製造する方法は、上に複数の活性領域を有するSOI基板を調整する工程と、基板上の第1の活性領域にCMOSを形成する工程と、基板上の別の活性領域にSiGe HBTを形成する工程とを包含する。 - 特許庁
This culture soil 10 for raising seedlings is obtained by packing ground chaff 12 into a nursery box 14 in a chaff packing process 30, then evenly leveling the surface of the chaff 12 in a leveling process 32 and further compacting the chaff under a fixed pressure in a compacting process 34.例文帳に追加
育苗用培土10は、籾殻充填工程30において粉砕した籾殻12を育苗箱14に充填し、次いで均平工程32において籾殻12の表面を平らに均し、更に鎮圧工程34において所定の圧力で鎮圧して得られる。 - 特許庁
In the first cooling process, the ring is cooled to a first cooling temperature of the M_S point or lower, and in the restraining process, the ring is restrained with a restraining member 30 and in the second cooling process, the ring is cooled while restraining, to a second cooling temperature of lower than the restraining starting temperature.例文帳に追加
第1冷却工程では、軸受軌道輪10が、M_S点以下の第1冷却温度まで冷却され、拘束工程では、拘束部材30により拘束され、第2冷却工程では、拘束開始温度よりも低い第2冷却温度まで、拘束されつつ冷却される。 - 特許庁
(1) The MEA1 for the fuel cell and the manufacturing method of the MEA1 for the fuel cell are such that the catalyst layer is prepared in a sol-gel process, the electrolyte membrane is prepared in a sol-gel process, and the electrolyte membrane and the catalyst layer are jointed into one body when they are prepared in the sol-gel process.例文帳に追加
(1)ゾルゲル法によって触媒層を作製し、ゾルゲル法によって電解質膜を作製し、電解質膜と触媒層とをゾルゲル法による作製時に一体に成形する燃料電池用MEA1の製造方法とそれによる燃料電池用MEA1。 - 特許庁
For example, when an output inhibition pin 16-1 is described in the output inhibition column 16 in the low speed lowering process of a process No. 7, the writing processing of data to be outputted to an output signal address is set so as to be non-executable in the process No. 7 when the stepping program is executed.例文帳に追加
例えば工程No.7の低速下降工程の出力禁止欄16に出力禁止ピン●16−1を記述すると、この歩進プログラムの実行時にはNo.7工程は出力信号アドレスに出力されるデータの書込み処理を非実行に設定される。 - 特許庁
The planar showerhead 44, the upper insulator plate 52 and the lower insulator plate 50 are in a stacked structure, and are also positioned on the shelf 42 in the vicinity of the process space 14 for introducing a process gas into a substrate in the process space.例文帳に追加
たな42は室本体の内壁に設けられ、平らなシャワヘッド44および上方52および下方50絶縁板は積重ねられた構造物として配置され、かつプロセスガスをプロセス空間内の基板に導入するため、プロセス空間14の近傍のたな42の上に設置される。 - 特許庁
Therein, a part of a defect or the like contained in the polarizing film is cut and removed in the cutting process and, moreover, a time delayed by the processing is reduced by adjusting the processing speed of at least the cutting mechanism side among respective processing mechanisms disposed in the cutting process and the attachment process.例文帳に追加
このとき、偏光フィルムに含まれる欠損などの部分を切断工程で切断除去しつつも、この処理により遅延する時間を切断工程と貼合せ工程に備わった各処理機構のうち、少なくとも切断機構側の処理機構の処理速度を調節して短縮する。 - 特許庁
In the drying process, it is dried at 120°C of the drying temperature a, and in the hot press process, it is hot-pressed at 120°C of the heating temperature b, and then, in the heat treatment process, the thermosetting resin composition is heat treated and thermoset at 130°C of the heat treatment temperature c and the positive electrode is manufactured.例文帳に追加
乾燥工程で乾燥温度aを120°Cとして乾燥させ、熱プレス工程で加熱温度bを120°Cとして熱プレスした後、熱処理工程で熱処理温度cを130°Cとして熱硬化性樹脂組成物を熱硬化させて正極を作製した。 - 特許庁
This method of manufacturing the inorganic plate comprises a process in which the raw material mixture comprising the cement, the silicic acid-containing substance and the organic fiber is manufactured, a process in which a mat is manufactured by extruding the resultant raw material mixture and a process in which the mat is autoclave-cured at 140-200°C.例文帳に追加
及び、セメントと、珪酸含有物と、有機繊維とからなる原料混合物を製造する工程と、得られた原料混合物を押出成形し、マットを製造する工程と、マットを140〜200℃でオートクレーブ養生する工程とからなる無機質板の製造方法。 - 特許庁
When the states of the plurality of identifying information pictures stopped and displayed on a display device 32 are changed into a prescribed state included in the failure state in a certain process, the pachinko game machine 10 displays a ready-for-winning state on the display device 32 in the succeeding process of the certain process.例文帳に追加
パチンコ遊技機10は、ある行程において表示装置32上に停止表示された複数の識別情報画像の態様が前記はずれ態様に含まれる所定の態様となった場合には、当該ある行程の次の行程において表示装置32にリーチ態様が表示される。 - 特許庁
To provide a one chamber type vacuum furnace securing cleanliness of the atmosphere in a heating chamber even in a sintering process after a degreasing process, improving durability of the heating chamber itself, and uniformly cooling a material in a short period of time during a cooling process.例文帳に追加
脱脂工程後の焼結工程時においても加熱室内の雰囲気の清浄性を確保することができ、また、加熱室自体の耐久性を向上させることができ、さらに、冷却工程時、材料を短時間で均一に冷却することができる一室型真空炉を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing includes a first ultraviolet irradiation process of irradiating the liquid crystal layer with ultraviolet rays in a wavelength region not including an infrared region and a second ultraviolet irradiation process of irradiating the liquid crystal layer with ultraviolet rays in a wavelength region wider than that in the first ultraviolet irradiation process.例文帳に追加
赤外線領域を含まない波長領域の紫外線を照射する第1紫外線照射工程と、第1紫外線照射工程で照射される紫外線より波長領域の広い紫外線を照射する第2紫外線照射工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁
The oxidation catalyst can be prepared by a method comprising a process for reducing a compound containing a palladium element in an oxidation state by a reducing agent, a process for mixing a compound containing a tellurium element in an oxidation state, and a process for mixing a compound containing a palladium element in an oxidation state.例文帳に追加
この酸化触媒は、酸化状態のパラジウム元素を含む化合物を還元剤で還元する工程、酸化状態のテルル元素を含む化合物を混合する工程、および酸化状態のパラジウム元素を含む化合物を混合する工程を含む方法で製造できる。 - 特許庁
The method for manufacturing the toner has a process of emulsifying the binder resin, containing the polyester in an aqueous medium and a process of adding a water soluble nitrogen compound of ≤350 in molecular weight to the emulsified liquid obtained in this above process to be made flocculate the emulsified particles.例文帳に追加
水系媒体中で、ポリエステルを含有する結着樹脂を乳化する工程、及び前記工程で得られた該結着樹脂の乳化液に、分子量350以下の水溶性含窒素化合物を添加して乳化粒子を凝集させる工程を有するトナーの製造方法である。 - 特許庁
In case of infringement on the right of a process patent owner, referred to in Art. 32, paragraph 2, b), the burden of proof in establishing the fact that the process used to obtain an identical product is different from the patented process shall be incumbent upon to the alleged infringer of said right.例文帳に追加
第32 条第2 段落(b)にいう方法特許の所有者の権利に関する侵害の場合は,同一物を取得するために使用された方法が特許方法とは異なっていることを立証する責任は,当該権利の侵害者と主張されている者の側にある。 - 特許庁
In the method for forming the primer layer on asphalt, a solventless two-component polyurethane resin containing resin component (A), a curing agent component (B) and silica sand is prepared in a process (a) and the mixture of the process (a) is applied to asphalt before curing in a process (b).例文帳に追加
アスファルト上にプライマー層を形成する方法であって、 a)樹脂成分(A)、硬化剤成分(B)および珪砂を含む無溶剤系2成分ポリウレタン樹脂を調製し、 b)次いで、工程a)の混合物を、硬化前にアスファルト上に塗布することを特徴とする、前記方法。 - 特許庁
When it is determined that the latest firmware is not recorded in the camera 4 in a process S23, and it is also determined that the remaining power of a backup power supply 12 is sufficient to transmit the latest firmware to the camera 4 in a process S25, a process to transmit the latest firmware to the camera 4 is carried out.例文帳に追加
最新のファームウェアがカメラ4に記憶されていないことが、S23の処理で判定され、かつ、バックアップ電源12の電力残量が、最新のファームウェアをカメラ4に送信するのに足りるとS25の処理で判定された場合、カメラ4へ最新のファームウェアを送信する処理が行われる。 - 特許庁
In the tenter 64, a first drying process of drying with dry wind from a fan duct while both side ends of the film are held with a pin and expanded in a width direction, and a second drying process of drying the film 62 while giving a tension in a width direction after the first drying process are practiced.例文帳に追加
テンタ64では、フィルムの両側端部をピンで保持して幅方向に拡げながら、送風ダクトからの乾燥風で乾燥する第1乾燥工程と、この第1乾燥工程の後に、フィルム62を幅方向に張力付与しながら乾燥する第2乾燥工程とを実施する。 - 特許庁
This vacuum die casting method contains a process for holding the non-ferrous alloy material in the molten-state into a holding furnace (11), a process for transporting the material having a setting quantity from the holding furnace to the die (18) in an injector and a process for cooling by compressing the material in the die.例文帳に追加
真空ダイカスト方法は、保持炉(11)内に非鉄合金の材料を溶融状態で保持する工程と、設定量の材料をインジェクタにおいて保持炉から金型(18)へ移送する工程と、金型内で材料を圧縮して冷却可能とする工程とを含む。 - 特許庁
The painting process, the transfer process, and the heating process are carried out in an atmosphere of gases supplied by a gas supplying means in which carbon dioxide gas, oxygen gas, or air is filled, that prevents the formation of barium carbonate by the inclusion of CO_2 in the painted film, and restrains the leakage current.例文帳に追加
前記塗布工程、搬送工程及び加熱工程を二酸化炭素ガス、酸素ガスまたは空気が充填されているガス供給手段から供給されるガス雰囲気にて行うことでCO2が塗布膜に取り込まれて炭酸バリウムが生成することが防がれ、リーク電流を抑えることができる。 - 特許庁
In a treatment chamber 16 having a doughnut-shaped portion 16a at its bottom portion, of a vibrational drying machine 12, a paste creating process (1) executed in a stationary state, a condensed lump creating process (2) executed in a vibrated state, and a fine powder creating process (3) executed by vibration and gas injection are performed.例文帳に追加
振動乾燥機12の底部ドーナツ状部16aとされた処理室16内において、静置状態で行うペースト生成工程(1)と、加振状態で行う凝集塊生成工程(2)、及び、加振とガス噴出とにより行う微粉体生成工程(3)とからなる。 - 特許庁
To provide a rice cooker capable of cooking boiled rice including proper moisture by reducing burnt deposit/drying in a boiling process and absorbing and evaporating excessive moisture in the rice cooker cooking the rice in a rice cooking sequence having at least the boiling process and a steaming process.例文帳に追加
少なくとも炊き上げ工程とむらし工程を有する炊飯シーケンスで炊飯する炊飯器において、炊き上げ工程時の焦げ・乾燥を低減し、さらに余分な水分を吸収、蒸発し適正な水分を含んだご飯を炊くことができる炊飯器を提供する。 - 特許庁
The melting point of a portion which is in contact with the first metal layer in the second metal layer 14 is higher than a heating temperature in the alloying process and the portion is composed of metal which does not react with the first metal layer under an environment under which the second metal layer forming process and the alloying process are carried out.例文帳に追加
第2金属層14において第1金属層と接触する部分は、合金化工程での加熱温度より融点が高く、かつ第2金属層形成工程と合金化工程とを実施する環境下で第1金属層と反応しない金属からなる。 - 特許庁
To prevent the generation of fractures, cracks and peeling in the surface of the inner wall of an aluminum alloy cylinder or a plating layer therein, in a casting process, a process of surface treatment such as plating or a process of using the cylinder at high temperature owing to a difference in the material of the aluminum alloy matrix.例文帳に追加
アルミ合金シリンダーの内壁の内壁表面あるいはメッキ層が、鋳造過程、メッキ等の表面処理する過程、若しくはシリンダーを高温で使用する過程において、アルミ合金生地材質に差があることに由来する亀裂、割れ、剥離の発生を防止する。 - 特許庁
To provide a method for monitoring a defective of a roll-shaped workpiece for automatically removing the defective in a whole process by carrying out data processing (data composition processing) from the quality information of each process acquired in an in-line manner even when the roll-shaped workpiece passes through again the same process.例文帳に追加
一度通った工程を再度通る場合でも、インラインで取得した各工程の品質情報からデータ処理(データの合成処理)を施すことにより、全工程の品質不良部を自動で除去するロール状加工品の品質不良部監視方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
A drawing unit 6 generates a progress image by drawing the graphic of the relevant process which is generated by the graphic generation unit 3, in the size determined by the size determination unit 5 on coordinates of each process stored in the process storage unit 2 while superimposing the progress image on a layout image stored in a layout storage unit 1.例文帳に追加
描画部6は、レイアウト記憶部1が記憶するレイアウト画像に重ね合わせて、工程記憶部2が記憶する各工程の座標に、図形生成部3が生成した当該工程の図形を、サイズ決定部5が決定したサイズで描画することで、進捗画像を生成する。 - 特許庁
The manufacturing method may also contain a process in which a metal is plated on conductive paste, the process in which a resin layer is formed from the upper section of the drawn geometric graph, and the process in which the resin layer is formed before the geometric graph composed of conductive paste is formed on the transparent plastic supporter.例文帳に追加
さらに、導電性ペースト上に金属めっきを施す工程、描かれた幾何学図形の上から樹脂層を形成する工程、透明プラスチック支持体上に、導電性ペーストからなる幾何学図形を形成する前に樹脂層を形成する工程をを含んでいてもい。 - 特許庁
This manufacturing method comprises a process in which the metal powder containing titanium powder is mixed and the metal powder is pressure-formed and made to be metal pressed powder, a process in which the metal pressed powder is sintered and made to be a sintered metal member containing titanium or a titanium-iron alloy, and a process of impregnating mercury in the sintered metal member.例文帳に追加
チタン粉末を含む金属粉末を混合し、前記金属粉末を加圧成形して金属圧粉体とする工程と、金属圧粉体を焼結して、チタン又はチタン−鉄合金を含む焼結金属部材とする工程と、焼結金属部材に水銀を含浸させる工程とを備える。 - 特許庁
The process control computer 1 controls driving of carrying devices TA1 to TAn via the carrying device/manufacturing device communication control computer 2 so that an in-process lot may be stored in a shelf of a shelf number corresponding to the process number imparted to the lot, in the buffer station.例文帳に追加
工程管理コンピュータ1は、バッファステーションにおいて、仕掛かりロットを、該ロットに付与された工程番号に対応付けられた棚番号の棚に収納させるように、搬送装置・製造装置通信管理コンピュータ2を介して搬送装置TA1〜TAnの駆動を制御する。 - 特許庁
The forming method of the fuel cell is constituted by including a process, in which catalyst material is prepared, a process, in which a mixed catalyst material is formed by mixing the catalyst material with an ionomer and a water-repellent material, and a process, in which the mixed catalyst material is attached to a backing material of the electrode.例文帳に追加
燃料電池の形成方法を、触媒材料を用意する工程と、その触媒材料をイオノマー及び撥水性材料と混合して混合触媒材料を形成する工程と、その混合触媒材料を電極のバッキング材料に付ける工程とを含んで構成する。 - 特許庁
The wastewater treatment method includes a concentration process for concentrating the organic matter in wastewater using a nano-filter membrane to obtain concentrated water and an electrolytic process for electrolyzing the organic matter contained in the concentrated water obtained in the concentration process using a platinum electrode and/or a conductive diamond electrode as an anode.例文帳に追加
ナノ濾過膜を用いて廃水中の有機物を濃縮して濃縮水を得る濃縮工程と、この濃縮工程で得られた濃縮水に含まれる有機物を陽極に白金系の電極及び/又は導電性ダイヤモンド電極を用いて電気分解する電気分解工程を備えた。 - 特許庁
When the executed instruction is a substitution instruction for substituting data in the process memory space, the computer updates information in a break memory space corresponding to a process memory space which is a substitution destination of the data to break point information in a break memory space corresponding to a process memory space storing the data.例文帳に追加
また、実行された命令がプロセスメモリ空間内でデータを代入する代入命令である場合に、データの代入先となるプロセスメモリ空間に対応するブレークメモリ空間の情報を、データが記憶されているプロセスメモリ空間に対応するブレークメモリ空間のブレークポイント情報に更新する。 - 特許庁
The method for producing ethanol is to separate and take out the algae from the biological carrier in a process 1 for taking out algae or marine plants, take out starch from the taken out algae by heating the algae or the marine plant grown in the sea in a process 2 for taking out starch and send them to a process 3 for producing sugar.例文帳に追加
藻類や海洋性植物取出工程1で生物担持体から藻類を分離して取り出し、取り出した藻類をデンプン質取出工程2で海洋で成長した藻類や海洋性植物を加熱してデンプン質を取り出して糖質生成工程3に搬送する。 - 特許庁
If there is a heating process using gases such as nitrogen in the middle of formation of the multilayer dielectric film SI (for example, a thermal nitriding process for suppressing an incubation time) in the manufacture of the non-volatile semiconductor memory device, the heating process is performed after a nitrogen stop film (41: not shown in the figure) for protecting the peripheral transistor is formed.例文帳に追加
この製造において、積層誘電体膜SIの形成途中に窒素を含むガスを用いた加熱工程(例えばインキュベーション時間抑制のための熱窒化処理)がある場合に、周辺トランジスタを保護する窒素阻止膜(41:不図示)を形成し、当該加熱工程を行う。 - 特許庁
To manage the cleaning between main process steps of the manufacturing process for liquid crystal display devices to solve the substrate contamination, such as cross contamination, which occurs in the regenerating solutions of the chemicals used in the manufacturing process described above and the environment of a clean room, more particularly the instability of the device characteristics occurring in metal contamination.例文帳に追加
液晶表示装置の製造過程、クリーンルームの環境や用いる薬品の再生液で生じるクロスコンタミなどで生じる基板汚染、特に金属汚染が起因するデバイス特性の不安定に対して、前記製造過程の主たる工程間の洗浄を管理する。 - 特許庁
Then, in link layers of data transmission apparatuses 1 which operate in master and normal modes, after the completion of a physical layer initialization process, a link layer initialization process is performed in response to a reset exit process performed by their respective CPUs 4, and then the data transmission apparatuses 1 start data communication using their respective physical layers and link layers.例文帳に追加
次に、マスタおよび通常モードで動作するデータ伝送装置1のリンク層は、物理層初期化処理の終了後、それぞれCPU4のリセット解除処理によってリンク層初期化処理を行い、自装置の物理層およびリンク層を用いてデータ通信を開始する。 - 特許庁
To improve a detergency sufficiently spreading bubbles over the whole laundry in a soak washing process and performing the soak washing in a state of high concentration of detergent in a washing machine having a process of soak washing with a lowered washing level as a preprocess of a washing process.例文帳に追加
洗濯行程の前行程として洗濯水位を下げてつけ洗いする行程を有する洗濯機において、つけ洗い行程にて泡を洗濯物全体に十分行きわたらせ、洗剤濃度が高い状態でつけ洗いを実行することにより、洗浄力を向上する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device in which lowering of impurity concentration in a channel region caused by a sacrificial oxidation process or a gate oxide formation process is suppressed and thereby impurity concentration in the channel region can be controlled easily and a desired Vt can be obtained, and to provide its fabrication process.例文帳に追加
犠牲酸化工程やゲート酸化形成工程に起因するチャネル領域の不純物濃度の低下を抑制し、それによってチャネル領域の不純物濃度の制御が容易で且つ所望のVtを得ることが可能な半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
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