「Light-Line」に関連した英語例文の一覧と使い方(66ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an anisotropic diffusion medium whose linear transmitted light quantity depends upon an angle of incidence even when rotating on an arbitrary straight line as an axis, and its manufacturing method.例文帳に追加

任意の直線を軸に回転した場合においても直線透過光量が入射角依存性を示す異方性拡散媒体、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Each of light-emitting module 35 is fixed to the support part 16 by screwing into the module groove line 19 by passing the module fixing screw 40 through the screw passing part.例文帳に追加

モジュール固定ねじ４０をねじ通し部に通してモジュール用溝条１９にねじ込んで、各発光モジュール３５を支持部１６に固定したことを特徴としている。 - 特許庁

The difference of angle between the light ray a incident on a reflection point Pa on the reflecting face A and a straight line b connecting the reflection point Pa and a first focal point P1 is made δ.例文帳に追加

反射面Ａ上の反射点Ｐａに入射される光線ａと、反射点Ｐａと第１焦点Ｐ１とを結ぶ直線ｂとの角度差をδとする。 - 特許庁

A non-effective display region W1 formed between pixel electrodes along the rubbing direction of a TFT substrate and a declination line formed on the pixel electrodes are interrupted by means of a light-leakage preventing layer 122, thereby interrupting the light leakage occurring at the part where the declination line is formed and preventing a display from being deteriorated in quality.例文帳に追加

ＴＦＴ基板のラビング方向に沿って画素電極と画素電極間に形成された非有効ディスプレー領域Ｗ１及び画素電極上にも形成された転傾線を光漏洩防止膜１２２が遮断して転傾線が形成された部分で発生した光漏洩を遮断してディスプレー品質低下が発生されることを防止する。 - 特許庁

This microscope where observation data are acquired by irradiating an observation object with the deep ultraviolet light has a control part measuring the line width of a pattern provided at the prescribed position of the observation object and stopping the irradiation of the observation object with the deep ultraviolet light when the line width of the pattern attains a prescribed limiting value.例文帳に追加

観察対象に深紫外光を照射して観察データを取得する顕微鏡において、該観察対象の所定の位置に設けられたパターンの線幅を測定し、該パターンの線幅が所定の制限値に達した場合に、該観察対象への深紫外光の照射を停止する制御部を有することを特徴とする。 - 特許庁

The organic EL panel is formed with a light emitting display part 2 having a plurality of first electrodes 5 formed in line shape on a support substrate 1, a functional layer 8 formed on the first electrodes 5 and having at least an organic light emitting layer, and a plurality of second electrodes 9 formed in line shape to intersect the first electrodes 5.例文帳に追加

支持基板１上にライン状に複数形成される第一電極５と、第一電極５上に形成され少なくとも有機発光層を有する機能層８と、第一電極５と交差するようにライン状に複数形成される第二電極９とを有する発光表示部２を形成してなる有機ＥＬパネルである。 - 特許庁

At least, one of a plurality of pattern line rotating members 22 is constituted of a light transmissible member, a first polarized light sheet is fixed to its outer circumferential face or internal circumferential face in such a manner as being visible stacked on a plurality of patterns except for a specific pattern and a lighting means 25 is disposed inside the pattern line rotating means.例文帳に追加

複数の図柄列回転部材２２のうちの少なくとも１つを光透過可能な部材によって構成し、その外周面又は内周面に第１の偏光シートを特定の図柄を除く複数の図柄と重なって見える状態に固定するとともに、この図柄列回転部材の内側に照明手段２５を配置する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness (LER) and good dependence on a density distribution particularly in lithography using electron beams, X-rays or EUV light as an exposure light source, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス（Line edge roughness: LER）、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

When a pixel electrode 131 is formed of a light-transmissive conductive oxide film of ITO, IZO, etc., the inter-substrate connection line 151 is formed on wirings L51 by using the light-transmissive conductive oxide film, the wirings L51 of adjacent array substrates of the multi-unit array substrate are connected to each other by the inter-substrate connection line 151.例文帳に追加

ＩＴＯやＩＺＯ等の光透過導電酸化膜によって画素電極１３１を形成する際に、当該光透過導電酸化膜を利用して配線Ｌ５１上に基板間接続線１５１を形成し、この基板間接続線１５１によって多数個取りアレイ基板内の隣接するアレイ基板間で配線Ｌ５１同士を接続する。 - 特許庁

In the document D3 (See especially description from the 14th line of the column right below in page 2 to the 4th line of the column upper left in page 3 and FIG.2-3) describes a turn signal light mounted on the housing of an external mirror of a vehicle comprising the lens removably positioned on the housing (4) by the bolt (12) and the light source (15) removably plugged in the socket (14). 例文帳に追加

引用文献３（特に、第2頁右下欄第4行－第3頁左上欄第14行及び第2－3図を参照。）には、ハウジングに方向指示燈装置を設けた乗り物用外部ミラーであり、ボルト（12）によりハウジング（4）に取外し可能なレンズ及びソケット（14）に脱着自在に取付けられる電球（15）を備える車両用方向指示装置が開示されている。 - 特許庁

Since patterns PTN1 and PTN2 for supplying power to light emitting diodes vLED1-vLED15 and a dummy pattern PTN3 are provided on a thin transparent plate 1200d which is a printed circuit board so as to constitute the constellation line of Virgo, the constellation line of Virgo is made visible by light emitted by the vLED1-vLED15.例文帳に追加

発光ダイオードであるｖＬＥＤ１〜ｖＬＥＤ１５に電力を供給するパターンＰＴＮ１，ＰＴＮ２及びダミーであるパターンＰＴＮ３が乙女座の星座線を構成するようにプリント基板である薄肉透明板１２００ｄに設けられているため、ｖＬＥＤ１〜ｖＬＥＤ１５が発した光で乙女座の星座線を視認することができる。 - 特許庁

Since the optical axis of an fθ lens is inclined to a horizontal line made a right angle to the rotary shaft of a polygon mirror, a deflected light beam has scanning line curve, which is corrected by reflecting the light beam by using the cylindrical mirror 38 whose bus ML is curved without deforming the mirror 38.例文帳に追加

ｆθレンズは、多面鏡の回転軸に対して直角とされた水平線に対して光軸が傾斜しているので、偏向光ビームは走査線湾曲を持つことになるが、母線ＭＬが湾曲したシリンドリカルミラー３８を用いて反射させることにより、シリンドリカルミラー３８を変形させずに走査湾曲を補正することができる。 - 特許庁

Line image sensors are disposed so that a plurality of photoelectric transducer elements for receiving a reflected light from the conveyed document after being radiated from a light source to the document are arranged in the direction crossing a conveying route, and the conveying error of the conveyed document is detected based on an output signal from the photoelectric transducer elements of the line image sensors.例文帳に追加

光源から照射され搬送される帳票で反射した反射光を受光するための複数の光電変換素子が搬送路を横切る方向に配列されるようにラインイメージセンサーを設け、このラインイメージセンサーの光電変換素子からの出力信号に基づいて搬送される帳票の搬送エラーを検出する。 - 特許庁

Part of the array wiring pattern formed in the light emitting element array board 20 is a plurality of data line patterns sequentially alternately drawn out to both ends of the subsidiary scanning direction B of the light emitting elements of a 2^N array from one end of a main scanning direction A every other pattern and a plurality of data line patterns are connected with the first and second flexible boards 60A and 60B.例文帳に追加

発光素子アレイ基板２０に形成されたアレイ配線パターンの一部は、主走査方向Ａの一端より順次一つおきに、２^Ｎ列の発光素子の各々から副走査方向Ｂの両端の端部に交互に引き出される複数のデータ線パターンであり、複数のデータ線パターンが第１，第２のフレキシブル基板６０Ａ，６０Ｂに接続される。 - 特許庁

In the second step, the pulse laser light whose beam intensity has been adjusted is radiated to the substrate, and the focal point of the pulse laser light is fixed to make scanning along the scheduled division line, so that a plurality of linear process traces which come down to such depth as not reach the surface of the substrate with the reform layer as a start point, are periodically formed along the scheduled division line.例文帳に追加

第２工程は、ビーム強度の調整されたパルスレーザ光を基板に照射するとともに、パルスレーザ光の焦点位置を固定して分断予定ラインに沿って走査し、改質層を起点として基板の表面に到達しない深さまで進行する複数の線状加工痕を分断予定ラインに沿って周期的に形成する工程である。 - 特許庁

The visual line detector has a light receiving means 21 receiving the image of an eyeball of a user, a reading means 22 reading a photoelectric conversion signal from the light receiving means in time series, a computing means 23 processing the photoelectric conversion signal and computing the visual line of the user and a control means operating the reading means and the computing means in parallel.例文帳に追加

使用者の眼球像を受光する受光手段２１と、該受光手段から時系列的に光電変換信号を読み出す読み出し手段２２と、前記光電変換信号を処理し、使用者の視線を演算する演算手段２３と、前記読み出し手段と前記演算手段を並列に実行させる制御手段とを有する。 - 特許庁

Part of light emitted from the semiconductor light-emitting device 26 is shielded with the shielding member 24, emitted to the front through the projection lens 22A, and a part of the horizontal cutoff line CL1 is formed as an upper edge-shaped inversion image of the shielding member 24, and thereby, the fresh horizontal cutoff line CL1 is obtained.例文帳に追加

そして、半導体発光素子２６から出射した後、遮光部材２４によって一部遮蔽された光を、投影レンズ２２Ａを介して前方へ照射することにより、遮光部材２４の上端縁形状の反転像として水平カットオフラインＣＬ１の一部を形成する構成とし、鮮明な水平カットオフラインＣＬ１が得られるようにする。 - 特許庁

Also, the scanning rate measuring device is equipped with a spatial modulation means generating moires on scanning line by means of spatial light intensity modulation at a predetermined period, for light signals modulated temporally and spatially on the scanning line by modulating the illuminant at a predetermined period and a period deriving means deriving the period of moires.例文帳に追加

また、本発明の走査速度測定装置は、光源を所定の時間周期で変調させて走査線上で時間的及び空間的に変調された光信号に対して、所定の空間周期で空間光強度変調して走査線上にモアレを発生させる空間変調手段と、モアレの周期を求める周期導出手段とを有する。 - 特許庁

In correcting the luminance of the optical printing head constituted by arranging an imaging lens above many light emitting elements aligned in a line, the correction value is selected to make uniform a beam diameter of each light emitting element in a main scanning direction and a sub scanning direction of the light emitting element of the optical printing head at a specific slice level.例文帳に追加

直線状に配列されている多数の発光素子上に結像レンズを配置して構成される光プリントヘッドの輝度を補正する際に、特定のスライスレベルにおける、前記光プリントヘッドの各発光素子の主走査方向及び副走査方向の各発光素子のビーム径が均一になるように補正値を選ぶ。 - 特許庁

A method for calibrating a spectroscopic means 2 includes, in a state where a single light source 1 both for measurement and calibration provided in the spectroscopy emits a light with a narrow spectrum line and then conducting photometry; and calibrating the spectroscopic means 2, based the light measurement result.例文帳に追加

分光手段２の校正を行う校正方法であって、分光装置に備えられた測定用と校正用を兼ねた１つの光源１がスペクトル線の幅の狭い光を発している状態で、前記光について測光を行い、前記測光した結果に基づいて、前記分光手段２の校正を行なうようにした。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤160 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm) and to concretely provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when a light source of 157 nm is used and ensuring small line edge roughness, few development defects and little scum.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及びスカムが少ないポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

When the periphery of a place where an image formation apparatus A is set is dark, a calling signal transmitted from an exchange 20 through a telephone line 10 to the image formation apparatus A is inputted to a light generating part 40, and the rays of light are emitted from a light emitting diode 43 in such a status that the power source of the image formation apparatus A is OFF.例文帳に追加

画像形成装置Ａが設置される場所の周囲が暗いとき、画像形成装置Ａが電源ＯＦＦの状態において、交換機２０より電話回線１０を通じて画像形成装置Ａに送られてきた呼出信号が光発生部４０に入力され、発光ダイオード４３から光が放射される。 - 特許庁

When a predetermined specific mode shifts, a system control unit and a line selecting circuit 201 increase a light shielding area indicating an area where pixels are shielded among pixels, as compared with that in a usual state to make the area a specific light shielding pixel area, and selects the specific light shielding pixel area as a detection area.例文帳に追加

システム制御部及びライン選択回路２０１は、予め規定された特定モードの移行があると、画素のうち遮光された画素の領域を示す遮光画素領域を通常状態よりも増加させて特定遮光画素領域とし、この特定遮光画素領域を検出領域として選択する。 - 特許庁

To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that simultaneously satisfies sensitivity, resolution, a pattern form, line edge roughness, resist temporal stability, and dry etching resistance, especially in lithography using electron beam, X-ray, or EUV light as a source of exposure light; and also to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネズ、レジスト経時安定性、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供。 - 特許庁

In a lamp unit 20 of a projector type to form an additional light distribution pattern, a vertical cut-off line is formed in the additional light distribution pattern by shielding a part of an irradiating light from three reflector units 40C, 40L, 40R horizontally arranged, by a shade 28 movable horizontally.例文帳に追加

付加配光パターンを形成するためのプロジェクタ型の灯具ユニット２０において、左右方向に移動可能なシェード２８により、左右方向に配置された３つのリフレクタユニット４０Ｃ、４０Ｌ、４０Ｒからの照射光の一部を遮蔽して、付加配光パターンに鉛直カットオフラインを形成する構成とする。 - 特許庁

The optical wavelength division multiplex communication system includes: a transmitter 1 comprising multimode light sources 13 and 14, single-mode light sources 15 and 16, an optical multiplexer 11, and DM patch fibers 12; a receiver 2 comprising an optical separator 21, DM patch fibers 22 and light receiving circuits 23-26; and a DMF (dual-mode optical fiber) transmission line 3 which optically connects them.例文帳に追加

マルチモード光源１３、１４、シングルモード光源１５、１６、光合波器１１、ＤＭパッチファイバ１２からなる送信器１と、光分波器２１、ＤＭパッチファイバ２２、受光回路２３〜２６からなる受信器２と、両者を光学的に接続するＤＭＦ（デュアルモード光ファイバ）伝送路３とから構成されている。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤160 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to specifically provide an excellent positive resist composition which exhibits satisfactory transmittance when a light source of 157 nm is used, ensures diminished line edge roughness, and has a wide defocus latitude.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、ラインエッジラフネスが抑えられ、デフォーカスラチチュードが広く、優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical amplifying resin composition suitable for a time when an exposure light source at ≤160 nm, in particular, F_2 excimer laser light (157 nm) is used, and specifically, to provide a chemically amplifying resin composition compatible with both excellent sensitivity and line edge roughness characteristics when a light source at 157 nm is used.例文帳に追加

本発明の目的は、１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適な化学増幅型樹脂組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に優れた感度及びラインエッジラフネス特性両立する化学増幅型樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤160 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm) and to concretely provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when a light source of 157 nm is used and ensuring reduced line edge roughness and development defects.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥が著しく軽減されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

By suitably moving a first shade 32, a position of the cut-off line is moved vertically, and by suitably tilting the lighting fixture unit 20 vertically, the whole light distribution pattern is displaced vertically, and by this, the light irradiation is carried out with the light distribution pattern and the irradiation angle corresponding to the traveling situation of the vehicle.例文帳に追加

第１シェード３２を適宜移動させてカットオフラインの位置を上下動させるとともに、灯具ユニット２０を上下方向に適宜傾動させて配光パターン全体を上下方向に変位させ、これにより車両走行状況に応じた配光パターンおよび照射角度で光照射を行う。 - 特許庁

This display apparatus is constituted of: the light sources 2 such as LEDs arranged like a matrix in the case 1; a transparent plate 4 such as glass attached to the front aperture part of the case 1; and louvers 5 arranged along each lateral line of the light sources 2 on the front side of the transparent plate 4 to shield the solar light.例文帳に追加

ケース１内にマトリックス状に配置されたＬＥＤ等の光源２と、前記ケースの前面開口部に取付けられたガラス等の透明板４と、該透明板の前面側において前記光源の各横列に沿って配置された太陽光を遮光するためのルーバー５とから構成した表示装置である。 - 特許庁

Here, an organic light emitting diode OLED is shut off from a power supply line Vdd by the transistor Tr3, therefore, the potential across both ends of the organic light emitting diode OLED is decreased to a value determined by the shut off period, the time constant of the organic light emitting diode, and the potential difference immediately before the shut-off.例文帳に追加

ここで、有機発光ダイオードＯＬＥＤはトランジスタＴｒ３により電源供給線Ｖｄｄと遮断されているため、有機発光ダイオードＯＬＥＤの両端の電位差は、その遮断の期間と有機発光ダイオードＯＬＥＤの持つ時定数と直前の電位差によって決まる値に下がる。 - 特許庁

In the reflecting surface 24a of a reflector 24, a part of a reflective region 24a1 contributing to formation of the opposing lane side horizontal cutoff line of a light distribution pattern for the low beam is formed as a reflecting surface 24e for condensation to reflect light from a light source 22a toward the vicinity of the rear side focus F of a projection lens 28.例文帳に追加

リフレクタ２４の反射面２４ａにおいて、ロービーム用配光パターンの対向車線側の水平カットオフラインの形成に寄与する反射領域２４ａ１の一部を、光源２２ａからの光を投影レンズ２８の後側焦点Ｆ近傍へ向けて反射させる集光用反射面２４ｅとして構成する。 - 特許庁

A sensor comprising an imaging sensor comprising an area sensor or line sensor and a light emission source is used to discriminate surface property of the recording medium and the recording medium is imaged while moved to detect light quantity distribution unevenness of the light emission source without being influenced by the surface property of the recording medium, thereby correcting the distribution unevenness.例文帳に追加

その際、記録媒体検知を行う目的で搬送距離、搬送時間の無駄を作ることなく、かつ記録媒体検知センサ設置場所に自由度を持たせた上で、十分な精度で分布ムラを測定し補正を行うことにより、記録媒体判定の精度を向上させ高画質な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

A curved line shape of the reflection face 31 in a perpendicular face to an axis along the length direction of the substrate 10 is an arc of an ellipse having a first focal point F1 as the light emitting part 21, and a major axis of the ellipse is inclined to a light emitting part fitting face 22a where the light emitting part 21 is fitted.例文帳に追加

基板１０の長手方向に沿った軸に垂直な垂直面における反射面３１の曲線形状は、第１焦点Ｆ１を発光部２１とする楕円の弧であり、楕円の長軸は、発光部２１が取り付けられた面である発光部取付面２２ａに対して傾斜している。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤300 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to specifically provide a positive resist composition which exhibits satisfactory transmittance when the light source of 157 nm is used and ensures little line edge roughness, few development defects, and little scum.例文帳に追加

３００ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及びスカムが少ないポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Also, erase light is emitted to the phosphor sheet 1 with the quantity of light of irradiation controlled on the basis of the output of the line sensor 17 read from the part irradiated with the excitation light of power with which accumulation is not saturated, and an image remaining on the phosphor sheet 1 is thereby eliminated.例文帳に追加

また、蛍光体シート１への励起光の照射後に、上記蓄積が飽和することのないパワーの励起光で照射された部分から読み取られたラインセンサ１７の出力に基づいて制御された照射光量により消去光を蛍光体シート１に照射し、蛍光体シート１に残存した像を消去する。 - 特許庁

To achieve flexible use by the easiest operation in fewest adjusting steps, in terms of a microscope including a light source and a detector device and configured such that the optical path of illuminating light extends between the light source and a specimen and the optical path 2 of a detecting line extends between the specimen and the detector device.例文帳に追加

光源及び検出器装置を有し、光源と試料との間で照明光線光路が、そして試料と検出器装置との間で検出線光路２が延在する顕微鏡に関するものであり、最も少ない調整手数でもってフレキシブルな利用が最も簡単な操作で可能となるように、構成すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤160 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to specifically provide a positive resist composition which exhibits satisfactory transmittance when a light source of 157 nm is used, ensures good pattern profile and line edge roughness, and produces little residue on development (scum).例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、パターンプロファイルとラインエッジラフネスの特性が良好で、現像残渣（スカム）の少ないポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

A gas detector calibrating apparatus 1 which calibrates the gas detector 3 emitting laser light into an atmosphere whose frequency is made stable on a gas absorption line and receiving reflection light of the laser light in order to measure a column density in the atmosphere, is equipped with a gas cell for calibration 6, a reflection means 27 and a purge means 4.例文帳に追加

ガス検知器校正装置１は、雰囲気中にガス吸収線に周波数安定化されたレーザ光を出射し、且つレーザ光の反射光を受光して雰囲気中のコラム密度を測定するガス検知器３の校正を行うもので、校正用ガスセル６、反射手段２７、パージ手段４を具備する。 - 特許庁

Additionally, erasure light is applied to the phosphor sheet 1 for erasing an image that remains on the phosphor sheet 1 by the quantity of irradiation light that is controlled based on the output of the line sensor 17 that is read in accumulation time, where the accumulation is not saturated after applying excitation light to the phosphor sheet 1.例文帳に追加

また、蛍光体シート１への励起光の照射後に、上記蓄積が飽和することのない蓄積時間に読み取られたラインセンサ１７の出力に基づいて制御された照射光量により消去光を蛍光体シート１に照射し、蛍光体シート１に残存した像を消去する。 - 特許庁

In this headlamp device, a second lighting fixture unit is provided to form an additional light distribution pattern PA including an upper region from a cutoff line of a light distribution pattern for a low beam and to increase and decrease luminous intensity to each of a plurality of partial regions constituting a part of the additional light distribution pattern PA.例文帳に追加

前照灯装置において、第２灯具ユニットは、ロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方の領域を含む付加配光パターンＰＡを形成し、それぞれが付加配光パターンＰＡの一部を構成する複数の部分領域の各々への照射光の光度を増減可能に設けられる。 - 特許庁

This image forming apparatus uses an OFS type optical system, wherein the light amount emitted to the surface of the photoreceptor drum when the laser light emitting element is driven at a prescribed duty ratio is measured, and correction data to correct every pixel in a single scanning line to have the prescribed light amount is determined and previously stored.例文帳に追加

本画像形成装置は、ＯＦＳ方式の光学系を採用し、所定のデューティー比でレーザ発光素子を駆動させたときの感光ドラムの表面に照射される光量を測定し、一走査ラインにおける各画素ごとに所定の光量に補正するための補正データを決定し、予め記憶しておく。 - 特許庁

When a signal indicating the occurrence of fog is outputted from a fog detector 30 at night or in the daytime, a light emitting color switching part 15 flickers a blue light emitting diode 4 and radiates blue light from a front display part of the delineator toward a road to guide line of sight of a driver driving a car running on the road.例文帳に追加

夜間或は昼間に、霧検出器３０から霧の発生を示す信号が出力されると、発光色切替部１５は青色系発光ダイオード４を点滅動作させ、視線誘導標の前面表示部から青色系の光を道路に向けて放射させ、道路を走行する運転者の視線誘導を行なう。 - 特許庁

In a light emitting device, a microprocessor 71 for controlling an operating state inside the device, main light emitting element 100a1 for emitting a peculiar ID code to be driven by this microprocessor 71, sub light emitting element 104a11 and photodetector 105a1 for communication composing an optical transmission line connecting devices are provided.例文帳に追加

発光装置内には少なくとも装置内の動作状態をコントロールするマイクロプロセッサ７１と、このマイクロプロセッサによって駆動される固有のＩＤコードを発光する主発光素子１００ａ１と、装置間を結ぶ光伝送路を構成する通信用の副発光素子１０４ａ１と受光素子１０５ａ１とを有する。 - 特許庁