「Microscope」に関連した英語例文の一覧と使い方(161ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an ocular optical system of a microscope which can increase the degree of freedom of the posture of an observer to an ocular part by preventing a visual field pupil from being vignetted by making the pupil of the ocular optical system follow up the line of sight of the observer.例文帳に追加

本発明の目的とするところは、観察者の視線に接眼光学系の瞳を追従させて、視野瞳の蹴られを防止し、接眼部に対する観察者の姿勢の自由度を高めるようにした顕微鏡の接眼光学系を提供することにある。 - 特許庁

Resultantly, the state of a sample 11 can be easily checked only by taking an eye off the eye contact part of the microscope and turning the eye line downward as shown in 20A of the Fig.1 and the observation of sample images, check of sample state and manipulator operation etc. can be smoothly performed.例文帳に追加

その結果、２０Ａのように顕微鏡の接眼部から眼を離して視線を下方に落とすだけで試料１１の状態を容易に確認することができ、試料像の観察と試料状態の確認やマニュピレータ操作等をスムーズに行うことができる。 - 特許庁

With this arrangement, when the CNT probe, due to distortion or slipping, collides with the sample surface, destruction and deformation of the tip part of the base probe and tip part of the joined part can be prevented to provide the CNT cantilever having high durability for a scanning probe microscope.例文帳に追加

このような構成により、ＣＮＴ探針の撓みや滑りによる試料表面との衝突時にベース探針先端部と接合部先端部の破壊や変形が防止でき、高い耐久性を持った走査型プローブ顕微鏡用ＣＮＴカンチレバーを提供できる。 - 特許庁

To provide a diamond electron source and its manufacturing method wherein one sharp-pointed section as an electron emission point for use in an electron beam device such as an electron microscope is formed at one end of a columnar diamond single crystal having a size where resist coating is difficult in a microfabrication process.例文帳に追加

電子顕微鏡などの電子線機器に用いられる電子放射点として、微細加工プロセスにおいてレジスト塗布が困難なサイズの柱状ダイヤモンド単結晶の片端に、一ヶ所の先鋭部を形成したダイヤモンド電子源及びその方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a sample which can form at once a large quantity of thin piece samples for a crystal defect observing transmission electron microscope in the silicon crystal and which can be simply manufactured in a wide area and to provide the thin piece sample.例文帳に追加

シリコン結晶中の結晶欠陥観察用透過型電子顕微鏡用の薄片試料を、一度に大量に作成することができるとともに簡便に広い面積で作製することを可能とした試料作製方法及び薄片試料を提供する。 - 特許庁

To provide a scanning probe microscope capable of optimally and accurately removing static electricity in a short time and measuring and inspecting samples by stable operation without having to interrupt the approximation of a probe even if the samples are charged in an inline automatic inspection process of wafers etc.例文帳に追加

ウェハ等のインライン自動検査工程でたとえ試料が帯電していたとしても、短時間で最適にかつ正確に除電し、探針の接近を中断することなく、安定した動作で測定・検査を行える走査型プローブ顕微鏡を提供する。 - 特許庁

A joined body 14B joined with an evaluated sample 10 to be evaluated and a standard sample 12 is irradiated with an electron beam E1 of a transmission electron microscope from a side way of the joined body to include the evaluated sample and the standard sample within an irradiation spot 28.例文帳に追加

評価すべき被評価試料１０と標準試料１２とが接合された接合体１４Ｂに、接合体の側方から、被評価試料と標準試料とを照射スポット２８内に含むように透過型電子顕微鏡の電子ビームＥ１を照射する。 - 特許庁

The optical microscope 19 observes a photodetector surface 22a (first object plane) by transmitted light from the partial reflection mirrors 2, 3 and observes the hologram surface 21a (second object plane) by transmitted light after reciprocating between the partial reflection mirror 2 and the partial reflection mirror 3.例文帳に追加

光学顕微鏡１９は、光検出器面２２ａ（第一物面）については部分反射ミラー２，３の透過光により観察し、ホログラム面２１ａ（第二物面）については部分反射ミラー２と部分反射ミラー３との間を往復後の透過光により観察する。 - 特許庁

This invention, preferably used in a confocal fluorescence scanning type microscope method, is relate to a device irradiating sample (1) comprising: one irradiation beam path (2) of one light source (3) and at least another irradiation beam path (4) of another light source (5).例文帳に追加

本発明は、好ましくは共焦点蛍光走査型顕微鏡法において、１つの光源（３）の１つの照射ビーム経路（２）およびさらに別の光源（５）の少なくとも１つのさらに別の照射ビーム経路（４）を有する試料（１）を照射する装置に関する。 - 特許庁

When the cross section of the resin pellet is observed by a polarization microscope, a spherurite can not be observed in the center part, a lubricant is not contained in the resin pellet and the pellets with an angle of repose of ≤23° when the resin pellets are piled are obtained.例文帳に追加

これにより樹脂ペレットの切断面を偏光顕微鏡で観察したとき、中心部において、球晶が観察されず、または樹脂ペレット中に滑剤を含有せず、かつ前記樹脂ペレットを積み上げたときの安息角が２３度以下のペレットを得る。 - 特許庁

To provide measurement in high reliability by confirming errors, evaluating reliability of the measured data, and removing errors for less measurement error when wide-area measurement or long-time measurement in narrow- area scanning is performed with a scanning probe microscope.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡で、広域測定を行うときまたは狭域走査で時間をかけて測定を行うとき、測定誤差を確認し、測定データの信頼性を評価し、測定誤差を除去して測定誤差を低減し、信頼性の高い測定を行えるようにする。 - 特許庁

A size of a magnetic aggregate present in the magnetic layer is 0.5 μm or higher, and the number of magnetic aggregates having magnetic intensity larger by 20 times or more than an average value of magnetization disturbance obtained from a magnetic force image by a magnetic force microscope is 100/2000 μm^2.例文帳に追加

前記磁性層中に存在する磁気凝集体の大きさが0.5μm以上であり、かつ磁気力顕微鏡による磁気力像から得られた磁化乱れの平均値の２０倍以上の磁気強度を有する前記磁気凝集体の個数が100個/2000μm^2以下である。 - 特許庁

The overlapping state of these structures 23a-23d or the interval between the specific parts of the respective structure members is investigated by a microscopic image, and the sample holder of the microscope is controlled, on the basis of the investigated result to make the observation surface of the sample 22 vertical to an optical axis.例文帳に追加

顕微鏡像でこれらの構造体２３ａ〜２３ｄの重なり状態や各構造体の特定部分の間隔等を調べ、その結果に基づいて顕微鏡の試料ホルダーを制御して、試料２２の観察面が光軸に対し垂直となるようにする。 - 特許庁

To provide an electron microscope device in which analysis of spacial configuration is made possible by applying a CT method (computerized tomography method) without segmentizing the test piece and application of the CT method is possible in a general case.例文帳に追加

ＣＴ法を応用することにより試料を切片化することなしに立体構造の解析を可能とし、電子顕微鏡装置に特有の問題を解決して、一般的なケースにおいてＣＴ法の応用が可能である電子顕微鏡装置を提供する - 特許庁

To provide an edge detecting method and a device, wherein the edge can be detected stably by suppressing an effect of noises even in the case of an image having an inferior S/N ratio obtained by a charged particle beam device such as a scanning electron microscope or the like.例文帳に追加

本発明は、走査電子顕微鏡等の荷電粒子線装置によって得られたＳ／Ｎ比の悪い画像であっても、ノイズの影響を抑えて安定してエッジを検出することが可能なエッジ検出方法、及び装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The electronic microscope is provided with a full frame transfer type CCD element 109, captures an image according to a full frame transfer system in the case of photographing a still picture under the control of a CCD control section 110 and captures continuously a moving picture according to a frame transfer system in the case of photographing the moving picture.例文帳に追加

フルフレームトランスファ型ＣＣＤ素子１０９を備え、ＣＣＤ制御部１１０の制御下に、静止画撮像のときにはフルフレームトランスファ方式で画像を取り込み、動画撮像のときにはフレームトランスファ方式で画像の連続取込みを行う。 - 特許庁

An image for defect detection obtained by a confocal microscope 10 is recorded in an image recording part 20, and only a G signal is taken out from RGB signals included in the image for defect detection to detect an abnormal position by an abnormal position detection part 30.例文帳に追加

共焦点顕微鏡１０で得られる欠陥検出用画像を画像記録部２０に記録し、異常個所検出部３０で、欠陥検出用画像に含まれるＲＧＢ信号の中からＧ信号のみを取り出すことにより異常個所を検出する。 - 特許庁

In this method, the creep damage is estimated accurately by observing the metallographic structure of a sample tube extracted from an actual machine by a transmission electron microscope, and by measuring the density of black spots on a strain field generated by deposition of a Cu-enriched phase by the following methods.例文帳に追加

実機から抜管したサンプル管の金属組織を透過型電子顕微鏡で観察し、Ｃｕ富化相の析出によって生じる歪場の黒点の密度を次のような方法で計測することにより、クリープ損傷を精度よく推定する方法。 - 特許庁

Thus, the constitution of slide movement which hardly causes an error resulting from switching the objective lens 500 to form the image singly and which is simple is used, and then accurate observation is achieved while switching magnification according to the state of a subject to be observed by the microscope of the finite correction optical system.例文帳に追加

単独で結像させる対物レンズ５００の切替による誤差が生じにくく簡単な構成のスライド移動の構成を利用でき、有限補正光学系の顕微鏡で被観察物の状態に応じて倍率を切り替えつつ高精度な観察ができる。 - 特許庁

To apply a bias voltage to a sample independently at approach, to cut off sample bias at measurement, to measure the current between probes, and further to reduce the influence of a displacement current, when measuring current at the probe side in a multi-probe microscope.例文帳に追加

本発明が解決しようとする問題点は、マルチプローブ顕微鏡において、アプローチ時に試料に独立してバイアス電圧が印加できず、電流計測時に試料バイアスを切り離し、探針間の電流計測を行ことができなかったという点である。 - 特許庁

In the scanning probe microscope, a method is performed, wherein a relative fine displacement in the lateral direction is applied independently in the orthogonal biaxial directions in the state where a friction is generated between the sample and the probe, and each data related to the friction in the biaxial directions are acquired.例文帳に追加

さらにこの走査型プローブ顕微鏡では、試料と探針の間で摩擦が生じる状態で相対的な横方向の微小変位を直交する２軸方向に独立に加え、２軸方向のそれぞれ摩擦に係るデータを取得する方法が実行される。 - 特許庁

The focal point of the microscope lens 32 is easily focused on the end face 30a of the rod lens 30 by this manner even when the focusing is difficult directly in such a case as a flaw, dust or the like does not exist or is not deposited on the end face 30a of the lens 30.例文帳に追加

このようにすれば、ロッドレンズ３０の端面３０ａにキズやほこり等が付着していない場合など、直接、焦点を合わせにくいような場合であっても、顕微鏡レンズ３２の焦点を、容易に、ロッドレンズ３０の端面３０ａに合わせることができる。 - 特許庁

In the laser scanning microscope scanning an image field 4, the laser beam is deflected to a stop 6 arranged near the image field 4 in order to shut off the laser beam 1 if the laser beam 1 is not intended to be incident on the image field 4.例文帳に追加

結像領域（４）を走査するレーザ走査顕微鏡において、結像領域（４）に対するレーザ・ビーム（１）の入射が意図されなければ該レーザ・ビーム（１）を遮断すべく該ビームは結像領域（４）に近接して配置された絞り（６）に向けて偏向される。 - 特許庁

The nonwoven fabric 13 is mounted on a highly reflective metal-made material 11, fiber structure of the mounted nonwoven fabric 13 is evaluated using a confocal type laser microscope 12 provided with an objective lens 14 arranged opposedly to a highly reflective mounting face of the highly reflective metal-made material 11.例文帳に追加

金属製高反射材１１上に不織布１３を載置し、載置された不織布１３の繊維構造を、金属製高反射材１１の高反射な載置面に対向配置された対物レンズ１４を備えた共焦点型レーザ顕微鏡１２を用いて評価する。 - 特許庁

This controller is provided with detecting means for detecting that at least one of the setting conditions of a microscope for carrying out the in-darkroom observation is set and inhibition means for inhibiting the display of a luminous display section when the detection described above is made by the detecting means.例文帳に追加

暗室内観察を行うための顕微鏡の設定条件の少なくとも１つが整えられたことを検知する検知手段と、前記検知手段により前記検知がなされると、発光表示部の表示を禁止する禁止手段とが備えられる。 - 特許庁

The stylet 5 of a scanning tunneling microscope (STM) is installed in the vicinity of a point where the DNA 3 is taken into the inside of the RNA polymerase 2 and the distance between the stylet and the DNA 3 is kept to be constant to be metered with a tunnel current.例文帳に追加

走査型トンネル顕微鏡の探針５をピエゾスキャナ６とピエゾスキャナ駆動回路７を用いてＤＮＡ３がＲＮＡポリメラーゼ２の内部に取り込まれる個所の近傍に設置し、ＤＮＡ３との距離をトンネル電流が計測できる一定の距離に保つ。 - 特許庁

In the method for inspecting the compound semiconductor substrate, the surface roughness Rms of the compound semiconductor substrate is measured by using an atomic force microscope at pitches of 0.4 nm or less in a visual field in a square of 0.2 μm or less.例文帳に追加

化合物半導体基板の検査方法は、化合物半導体基板の表面の検査方法であって、０．２μｍ以下四方の視野で、０．４ｎｍ以下のピッチで、原子間力顕微鏡を用いて化合物半導体基板の表面粗さＲｍｓを測定する。 - 特許庁

This method is constituted so as to laminate the observation sample 4 by using an existing FIB (focused ion beam) device, and to perform an extracting and sticking work of the laminated sample 4 by using an optical microscope having an existing micromanipulator equipped with an electrostatic pincette 10.例文帳に追加

この発明は、既存のＦＩＢ装置を用いて観察用試料４の薄片化加工を行い、静電ピンセット１０を装備した既存のマイクロマニピュレータ付きの光学顕微鏡を用いて、薄片化試料４の摘出と貼り付け作業を行うように構成される。 - 特許庁

An illumination device (20) for a microscope (40) has a laser unit (24) that generates at least one broadband laser light pulse (30), and light components (71, 72, 73, 74, 75, 76) of different wavelengths of the broadband laser light pulse (30) are temporally offset from one another.例文帳に追加

顕微鏡（４０）の照明装置（２０）は、少なくとも１つの広帯域レーザ光パルス（３０）を生成するレーザユニット（２４）を有し、上記広帯域レーザ光パルス（３０）の異なる波長の光成分（７１、７２、７３、７４、７５、７６）は、互いに時間的にずらされる。 - 特許庁

A microscope for magnifying a sample image by an optical system provided in a body 2 is provided on the back-face when a surface opposed to an observer faces forward during use, and is equipped with a grip 3 located above a center of gravity of the body.例文帳に追加

本体２に設けた光学系によって標本の像を拡大して観察する顕微鏡は、使用の際に観察者と対向する面を正面とするときの背面側に設けられ、本体の重心よりも上方に位置する取っ手３を備えている。 - 特許庁

Next, the humidity-adjusting pin 14 of the measuring cell 8 is loosened to expose the surface of the resin base material 1 of the sample 7 to a high-humidity atmosphere and the surface shape of the same place as a dry state measured first by the atomic force microscope 20 is measured, after a fixed interval.例文帳に追加

次に、測定セル８の湿度調整ピン１４を緩め、試料７の樹脂基材１の表面を高湿雰囲気に晒し、一定時間後に原子間力顕微鏡２０により始めに測定した乾燥状態と同じ箇所の表面形状を測定する。 - 特許庁

To provide a light intensity distribution correction optical system configured so that the intensity distribution of diverging light from a light source is made to be uniform, light utilization efficiency is improved, a difference in NA of the light source is easily absorbed, and cost reduction is achieved, and also to provide an optical microscope using the light intensity distribution correction optical system.例文帳に追加

光源からの発散光の光強度分布を均一化すると共に光利用効率を向上させ、光源のＮＡの違いを容易に吸収し、かつローコストな光強度分布補正光学系およびそれを用いた光学顕微鏡を提供する。 - 特許庁

A crease is generated on the metal layer by applying a tensile stress or a bending stress to the metal layer, and a period of the crease generated at that time is measured directly on the field by an optical microscope or the like, to thereby easily measure the thickness of the thin metal layer.例文帳に追加

金属層に引張応力又は曲げ応力を加えることにより金属層にシワを生成し、このときに発生したシワの周期を光学顕微鏡などで現場で直接測定することにより薄い金属層の厚さを容易に測定することができる。 - 特許庁

The titanium dioxide particles, in which crystal structure is an anatase type, the primary particle diameter by the measurement of the diameter in a fixed direction with an electron microscope is 0.5 to 5.0 μm, and the particle size distribution thereof is ≤3.0 by D90/D10, and the method for producing the titanium dioxide particles are provided.例文帳に追加

結晶構造がアナタース型であり、電子顕微鏡にて定方向径を計測することによる一次粒子径が０．５μｍ〜５．０μｍであり、その粒度分布はＤ９０／Ｄ１０で３．０以下である二酸化チタン粒子、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A microscope device, which is configured to photograph an image for every visual field while horizontally moving the visual field relative to a specimen, includes a focal point-adjusting means for estimating a focal point for every visual field and adjusting the focal point for every visual field based on the result of the estimation.例文帳に追加

標本に対する視野を水平方向に移動しながら視野毎の画像を撮影する顕微鏡装置であって、視野毎の合焦点を予測し、当該予測結果に基づいて視野毎の合焦点を調整する合焦点調整手段を具備する。 - 特許庁

A microscope system 1 is provided with a transmission turret 6 for holding a plurality of filters 5 and for switching an arrangement of the filters 5, a stepping motor 21 for driving the transmission turret 6, and a transmission turret control part 25 for controlling the stepping motor 21 to control the arrangement of the filters 5.例文帳に追加

顕微鏡システム１は、複数のフィルタ５を保持してフィルタ５の配置を切り換える透過ターレット６と、透過ターレット６を駆動するステッピングモータ２１と、ステッピングモータ２１を制御して、フィルタ５の配置を制御する透過ターレット制御部２５を備える。 - 特許庁

A β-type iron silicate has a fluorine content of 400 ppm or less relative to the dry weight and has all or part of iron contained in a β-skeleton structure, provided that crystalline particles of the β-type iron silicate have a dual truncated quadrangle pyramid under a scanning electron microscope.例文帳に追加

乾燥重量に対するフッ素の含有率が４００ｐｐｍ以下、走査型電子顕微鏡観察において結晶粒子が双四角錐台形状である鉄の全部又は一部をβ骨格構造中に含有するβ型鉄シリケートを用いる。 - 特許庁

The surface irregularity measuring device for measuring the irregularity of the surface using a scanning probe microscope is configured to measure the irregularity of the surface of the measured sample, calculate a gray-level histogram of the measured data and perform the calibration of the sample measurement.例文帳に追加

走査プローブ顕微鏡を用いた試料の表面の凹凸を測定する表面凹凸測定装置であって、測定した試料表面の凹凸を測定し、この測定したデータのグレイレベルヒストグラムを算出して試料測定のキャリブレーションを行なうように構成する。 - 特許庁

To sample an outermost-layer from the plane direction extending over a wide range, having no dirt, no damage and excellent reproducibility, at the time of forming a thin film sample for a transmission electron microscope, thereby evaluates structure and deposit of the outermost layer.例文帳に追加

透過型電子顕微鏡用薄膜試料の作成にあたり、汚れや破損のない、広範囲にわたる、再現性の良い、平面方向からの最表層サンプリングを可能にすることであり、また、これによって最表層の組織、析出物評価を可能にすることである。 - 特許庁

The plate 1 for the microscope specimen is constituted, by providing a plurality of the liquid sample coating parts 4 surrounded by interruption parts 3 to the surface of a plate 2, made of a synthetic resin and where liquid sample coating parts 4 are respectively covered independently with cover films 5.例文帳に追加

合成樹脂製板２の表面に、堰止部３により囲まれた液体試料塗沫部４を複数個設けるとともに、該液体試料塗沫部４の各々を独立にカバーフィルム５で被覆したことを特徴とする顕微鏡標本用プレート１である。 - 特許庁

To conform an assigned scanning area with an actual scanning area to allow accurate measurement reduced in an error, by measuring an electrostatic capacity due to temperature variation, and by correcting scanner sensitivity based on the electrostatic capacity, in a temperature-varied scanning probe microscope.例文帳に追加

温度の変化する走査形プローブ顕微鏡において、温度変化による静電容量を測定し、この静電容量によりスキャナ感度を補正することで、指定した走査領域と実際の走査領域を一致させ、誤差の少ない正確な測定を行う。 - 特許庁

A pellet wherein when the cut face of the resin pellet is observed by means of a polarized microscope, no spherulite is observed in the central part and no lubricant is incorporated in the resin pellet and angle of repose is at most 23 degree when the resin pellets are piled up, is obtd.例文帳に追加

これにより樹脂ペレットの切断面を偏光顕微鏡で観察したとき、中心部において、球晶が観察されず、または樹脂ペレット中に滑剤を含有せず、かつ前記樹脂ペレットを積み上げたときの安息角が２３度以下のペレットを得る。 - 特許庁

Since a formula +∞=-∞=1=-1=0 may cause the possibility that "1" equal to the infinite universe, the observation of a hydrogen atom of mass 1 (atomic number 1) with a highly accurate microscope enables the observation of the infinite universe, thereby solving the problem.例文帳に追加

＋∞＝−∞＝１＝−１＝０ の数式から「１」イコール無限大の宇宙である可能性があるので、質量１（元素記号番号１）の水素原子を精度の高い顕微鏡で観察するとそこに無限の宇宙を観察する事ができる事により、この問題を解決する。 - 特許庁

To provide a cross section preparation method and a preparation system capable of acquiring accurately a desired cross section in sample internal structure unobservable by an optical microscope in order to prepare a cross-sectional sample of a SiP type semiconductor package by an ion milling method.例文帳に追加

イオンミリング法によるＳｉＰ型半導体パッケージでの断面試料を作成するために光学顕微鏡では観察できない試料内部構造中の所望の断面を正確に得ることができる断面作成方法及び作成システムを提供する。 - 特許庁

To obtain a pretreating device and method with a processing function for preventing a partially or wholly non-conductive sample from being charged up and contaminated at the time of applying a conductive paste on the surfaces of the sample and obtaining satisfactory images through an electron microscope.例文帳に追加

試料表面に導電性ペーストを塗布する際に、試料の一部またはすべてが非導電性である試料のチャージアップや汚染を防ぎ、良好な電子顕微鏡像が得られるための処理機能を有した前処理装置、ならびに前処理方法を提供する。 - 特許庁