「R-W」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

A manufactured steering wheel W is so constructed that synthetic resin cover portions 6F and 6B of different volumes are injection-molded simultaneously around a core bar 4 of an annular ring portion R to be handled for steering and in interspaced relation along the circumference of the ring portion R in the plan.例文帳に追加

製造するステアリングホイールＷは、体積を異ならせた合成樹脂製の被覆部６Ｆ・６Ｂが、操舵時に把持する円環状のリング部Ｒの芯金４の周囲に、リング部Ｒの平面周方向に沿って分断されて配置されるとともに、射出成形により一括して形成される。 - 特許庁

A steering wheel W comprises hard portions 6 of a hard synthetic resin and soft portions 12 of a synthetic resin softer than the hard synthetic resin, about a core bar 4 of an annular ring portion R to be handled for steering and along the circumference of the ring portion R in the plan.例文帳に追加

ステアリングホイールＷは、操舵時に把持する円環状のリング部Ｒの芯金４の周囲に、リング部Ｒの平面周方向に沿うように、硬質合成樹脂からなる硬質部６と、硬質部６より軟質の軟質合成樹脂からなる軟質部１２と、が配置されて構成される。 - 特許庁

Since the rotor plate 35a, 35b, unlike a shutter plate of a conventional rotary shutter mechanism, has a rotation axis R in a direction crossing the propagation direction of the exposure light and has a width W in a direction perpendicular to the rotation axis R, smaller than the optical path diameter of the exposure light, rotation of the shutter can be rapidly started and stopped.例文帳に追加

回転板３５ａ，３５ｂは、従来の回転式シャッター機構のシャッター板とは異なり、露光光の進行方向と交わる方向に回転軸Ｒを有し、回転軸Ｒと直交する方向の幅Ｗが露光光の光路径より小さいので、回転を急速に開始及び停止することができる。 - 特許庁

Before starting a transfer and exposure operation on a reticle R circuit pattern on a wafer W, the stationary image formation characteristics and scanning image formation characteristics are measured, at least when one of a stop of illumination 68 and the reticle R is replaced.例文帳に追加

ウエハＷ上へのレチクルＲの回路パターンの転写露光に先立って、照明絞り６８及びレチクルＲの少なくとも一方が交換されたときには、静止状態での静止結像特性と走査状態での走査結像特性とを測定する。 - 特許庁

When the first and the second color wheels are laid with the first combination, the wavelengths of visible R, G, B and W light beams are selectively transmitted through the color wheels, and when the first and the second color wheels are laid with the second combination, R, G, B and non-visible light beams are transmitted.例文帳に追加

第１および第２のカラーホイールが第１の組合せにあるとき、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｗの可視光の波長が選択的に透過され、第１および第２のカラーホイールが第２の組合せにあるとき、Ｒ、Ｇ、Ｂ、非可視光が透過される。 - 特許庁

This sun visor includes a sun visor body 1 in which one side edge 11 is jointed with a cabin ceiling R along an upper edge of a front window W so as to rotate freely, and the other edge 12 advances and rotates to a lower usage position from a housing position along the cabin ceiling R in use.例文帳に追加

一側縁１１がフロントウインドウＷ上縁に沿った車室天井Ｒに回動可能に結合されて、使用時には他側縁１２を車室天井Ｒに沿った収納位置から下方の使用位置へ進出回動できるようにしたサンバイザー本体１を備える。 - 特許庁

The depth-displaying area 30 is displayed as if the ceiling surface, floor surface and both wall surfaces of a room R constituted the same plane, and the display image-projecting area 20 is displayed so that the user may have the illusion that the area 20 is located farther away from him than from the wall surface W of the room R.例文帳に追加

奥行き表示領域３０は、部屋Ｒの天井面、床面、両側壁面とそれぞれあたかも同一平面をなすかのように表示されており、表示画像投影領域２０は、ユーザが、部屋Ｒの壁面Ｗよりもユーザから離れた位置にあると錯覚するように表示されている。 - 特許庁

A lubricating part 11A of this automatic oil applying device 1 for the rail is formed with a nozzle 21 for jetting oil toward the side face S of a rail head part H abutting on a flange part F of a wheel W at the side of a rail R, in a position away from the rail R below the upper face of the rail head part H.例文帳に追加

自動レール塗油装置１の注油部１１Ａは、レールＲの側方で、かつレール頭部Ｈの上面よりも下方におけるレールＲから離れた位置にて、車輪Ｗのフランジ部Ｆに接するレール頭部Ｈの側面Ｓに向けて油を噴出するノズル２１を設けて形成されている。 - 特許庁

When a wheel speed VW/R* of rear wheels RL and RR gets slower than a predetermined threshold value SH comparing to an estimated vehicle speed SPD during braking of a vehicle, front wheel cylinder pressure is continued to be intensified, and a distribution control is performed to retain rear wheel cylinder pressure.例文帳に追加

車両制動中に、後輪ＲＬ，ＲＲの車輪速Ｖ_W/R*が推定車体速度ＳＰＤに比して所定のしきい値ＳＨを越えて小さくなった場合、前輪ＦＬ，ＦＲのホイルシリンダ圧の増圧を継続すると共に、後輪ＲＬ，ＲＲのホイルシリンダ圧を保持する配分制御を実行する。 - 特許庁

This rock wool air-bone construction method is characterized by collecting the dust generated in the blending place by using suction air to an air blower 3, when spraying the raw material R on a construction surface by injecting the raw material from a spray nozzle 7 together with liquids C and W, by force-feeding the raw material R to the spray nozzle 7 by the air blower 3.例文帳に追加

ロックウール吹付け工法は、エアブロア３により原料（Ｒ）を吹付ノズル７へ圧送し、原料（Ｒ）を液体（Ｃ，Ｗ）と共に吹付ノズル７から噴射して施工面に吹付ける際に、エアブロア３への吸気を用いて配合場で発生する粉塵を集塵することを特徴としている。 - 特許庁

The dicing machine 1 has a shield plate 71 structured to be movable between a shield position F and an escape position R, such that the plate 71 is positioned at the shield position during machining of a work W and returned to the escape position R when a rotary blade 21 is exchanged.例文帳に追加

ダイシングマシン１の遮蔽板７１を、遮蔽位置Ｆと退避位置Ｒとの間で進退可能な構造として、ワークＷの加工時は前記遮蔽板７１を遮蔽位置に位置付け、回転刃２１を交換する時には退避位置Ｒに後退させるように構成した。 - 特許庁

A core layer 23, which is formed by bonding woody materials W by a thermoplastic resin R, is reinforced by a surface layer 24 and/or a back layer 25 formed by fixing a layer, which is formed by orienting needle-like woody materials SW in a long or short direction, by the thermoplastic resin R.例文帳に追加

木質材料Ｗを熱可塑性樹脂Ｒによって結着した芯層２３を、針状木質材料ＳＷを長尺方向または短尺方向に配向した層を熱可塑性樹脂Ｒで固定した表層２４および／または裏層２５によって補強する。 - 特許庁

A mass-adding resist film 19 for adding a mass is formed on a counter region E1 of a piezoelectric thin film resonator 1 contained in a wafer W, so that the resonance frequency F_R of the piezoelectric thin film resonator 1, being initially surpassing a target frequency F_T, comes to be the target frequency F_T or lower.例文帳に追加

ウエハＷに含まれる圧電薄膜共振子１の対向領域Ｅ１の上に、質量を付加する質量付加膜となるレジスト膜１９を形成し、当初は目標周波数Ｆ_Tを上回っていた圧電薄膜共振子１の共振周波数Ｆ_Rを、目標周波数Ｆ_T以下に低下させる。 - 特許庁

When display luminance is increased by adding the sub-pixels of W to ordinary sub-pixels of the three colors R, G, and B, the sub-pixels of B are sacrificed in many cases, and then regions of the sub-pixels of B decrease relatively to regions of R and G, so that displayed white becomes yellowish white.例文帳に追加

通常のＲＧＢ３色のサブ画素にＷのサブ画素を追加して表示輝度を上げる場合には、Ｂのサブ画素を犠牲にする場合が多いが、そうするとＢのサブ画素の領域がＲ、Ｇに対して相対的に減少し、表示される白色が黄色がかった白色となってしまう。 - 特許庁

A pixel region R corresponding to red is constructed by superimposing a magenta color filter pixel 2M on a yellow color filter pixel 2Y formed on a transparent substrate 1 and besides a void part W, in which no color out of cyan, magenta and yellow is present, is provided in the pixel region R corresponding to red.例文帳に追加

赤色、緑色、青色に相当する画素領域（Ｒ，Ｇ，Ｂ）が、赤色、緑色、青色の各々の補色であるシアン色２Ｃ、マゼンタ色２Ｍ、イエロー色２Ｙの内の２色の重ね合わせで構成され、且つ赤色、緑色、青色に相当する画素領域内に、白抜け部Ｗを有すること。 - 特許庁

Then, a section wherein a degree exceeds a prescribed threshold W in the luminance histogram h is extracted as a recording object section R, and the image data belonging to the recording object section R are detected as ground color image data due to the ground color of the original.例文帳に追加

そして、輝度ヒストグラムｈにおいて度数が所定の閾値Ｗを超えた区分を記録対象区分Ｒとして抽出し、当該記録対象区分Ｒに属する画像データを原稿の地色に起因する地色画像データとして検出する。 - 特許庁

In a processing method of granulated blast furnace slag intended for waste molten slag W, aluminum in the slag W is brought into contact with a fluid R capable of readily forming film to form a film so that hydrogen gas is hardly generated from the surface of aluminum.例文帳に追加

廃棄物溶融スラグＷを対象として処理する水砕スラグ処理方法において、スラグＷ中のアルミニウムに、皮膜形成自在な流体Ｒを接触させてアルミニウム表面から水素ガスが発生し難い皮膜を形成する。 - 特許庁

The inclined plane 82 is in a parallel position relation configured such that the plane is parallel with a straight line S when it is assumed that the straight line S is perpendicular to a straight line R passing the substrate support 8 from the center of the substrate W and parallel with a principal plane of the substrate W.例文帳に追加

この傾斜面８２は、基板Ｗの中央から基板支持体８を通る直線Ｒに垂直であって、かつ、基板Ｗの主面とは平行である直線Ｓを想定すると、その直線Ｓに対して平行な面である、平行な位置関係にある。 - 特許庁

A method for manufacturing a device includes a step of placing a wafer stage 12 movably on a wafer base 14, installing a wafer table 11 for holding a wafer W on the wafer stage 12 via Z-axis actuators 13A, 13B, 13C, and transferring of a pattern of a reticle R on the wafer W via a projection optical system PL.例文帳に追加

ウエハベース１４上に移動自在にウエハステージ１２を載置し、ウエハステージ１２上にＺ軸アクチュエータ１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃを介してウエハＷを保持するウエハテーブル１１を設置し、ウエハＷ上に投影光学系ＰＬを介してレチクルＲのパターンを転写する。 - 特許庁

This projection optically system PL projects the image of a reticle R (first object) illuminated by a lighting optical device IS onto a wafer W (second object) and has aperture stops AS1 and AS2 for determining the NA at a plurality of positions near a pupil position in optics.例文帳に追加

照明光学装置ＩＳにより照明されたレチクルＲ（第１物体）の像をウエハW（第２物体）上に投影する投影光学系ＰＬにおいて，投影光学系ＰＬは光学内の瞳位置近傍の複数の位置にＮＡを決定する開口絞りＡＳ１，ＡＳ２を有する。 - 特許庁

Exposure light EL is irradiated to each different lighting area on the reticle R by an illumination optical system ILS, then the exposure light passing through each of the lighting areas is guided onto the wafer W by a projection optical system PL, by which different patterns are doubly exposed simultaneously on the wafer W.例文帳に追加

照明光学系ＩＬＳによってレチクルＲ上の異なる照明領域にそれぞれ露光光ＥＬを照射し、照明領域の各々を介した露光光を投影光学系ＰＬでウェハＷ上に導くことにより、ウェハＷ上には異なるパターンが同時に二重露光される。 - 特許庁

The frame 4 is composed of a main frame 10 forming a side part at one side R in the width direction W of the frame 4, and a sub- frame 11 projecting to the other side L in the width direction W from a lower part of the main frame 10 to form the other side L of the frame 4.例文帳に追加

上記フレーム４が、その幅方向Ｗの一側方Ｒにおける側部を形成する主フレーム１０と、この主フレーム１０の下部から上記幅方向Ｗの他側方Ｌに突出して上記フレーム４の他側部を形成する副フレーム１１とを備える。 - 特許庁

In this sensor, a working electrode W which is composed of Au or Pt containing Au, a reference electrode R which is composed of Pt, and a counter electrode C which is composed of Pt are formed on a gas diffusion membrane 3, and the distance between the working electrode W and the counter electrode C is separated at 1 mm or higher.例文帳に追加

ガス拡散膜３上に、ＡｕまたはＡｕ含有Ｐｔからなる作用極Ｗと、Ｐｔからなる参照極Ｒと、Ｐｔからなる対極Ｃとを形成し、作用極Ｗと対極Ｃの電極間距離を１ｍｍ以上に離す。 - 特許庁

The lithographic apparatus further comprises: a substrate table WT for holding a substrate W; a projection system PL for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate W; and a condenser which is structured to transmit a radiation R, received from a first radiation source SO, to the illumination system IL.例文帳に追加

この装置は、基板Ｗを保持するための基板テーブルＷＴと、パターンの形成されたビームを基板Ｗのターゲット部分に投影するための投影装置ＰＬと、第１の放射源ＳＯから受け取った放射Ｒを照明装置ＩＬへ送るように構成された集光器Ｋとをさらに有する。 - 特許庁

In the expression, t is a radial thickness of the wire; w is the axial width of the wire; I is a current amount through the coil; B is flux density applied to the wire in the innermost periphery of the coil; and the stress (σ) is B×I×r_max/(w×t).例文帳に追加

ｒ_ｍａｘ＜σ_wire×ｗ×ｔ／（Ｂ×Ｉ） （前記式中、ｔ：線材の径方向の厚さ、ｗ：線材の軸線方向の幅、Ｉ：コイルの電流量、Ｂ：コイル最内周の線材に印加される磁束密度、応力（σ）：Ｂ×Ｉ×ｒ_ｍａｘ／（ｗ×ｔ） - 特許庁

Whereupon, by setting R1=R, the center O of the main shaft is positioned on the locus of turn of the axis of the work W, so that the work W enters between the rocking arms 14, 14 to automatically position the axis O in the center O of the main shaft.例文帳に追加

すると、Ｒ１＝Ｒの設定により、ワークＷの軸心Ｏ２の旋回軌跡上に主軸中心Ｏが位置することとなるから、ワークＷは揺動アーム１４，１４間に進入して自動的に軸心Ｏ２が主軸中心Ｏに位置決めされる。 - 特許庁

The rear end rotating radius R is set to the added value of the half dimension of the vehicle width dimension W (W/2), the margin M of the difference between the road width dimension W0 and the vehicle width dimension W, and the protruding dimension A according to the inclination of a slope.例文帳に追加

そして、この後端旋回半径Ｒは、車幅寸法Ｗの半分の寸法（Ｗ／２）、道路幅寸法Ｗ0 と車幅寸法Ｗとの差によるマージンＭおよび斜面の傾斜に応じた突出寸法Ａを加えた値に設定する。 - 特許庁

The sheet pasting machine 10 comprises a pressing roll R which rolls on an adhesive sheet H arranged on a surface W1 of the semiconductor wafer W to provide a pressing force, so that the adhesive sheet H is pasted on the surface W1 of the semiconductor wafer W.例文帳に追加

シート貼付装置１０は、半導体ウエハＷの表面Ｗ１に配置される接着シートＨ上を転動して押圧力を付与し、半導体ウエハＷの表面Ｗ１に接着シートＨを貼付する押圧ロールＲを含んで構成される。 - 特許庁

The laser peaning apparatus comprises a liquid holding head 1 for forming and holding the liquid R for enclosing plasma on the local surface of a workpiece W, and a laser radiating head 2 for irradiating the surface of the workpiece W with a laser beam via the liquid held by the liquid holding head 1.例文帳に追加

本発明のレーザピーニング装置は、被加工物Ｗの局所の表面上にプラズマを閉じ込める液体Ｒを形成保持する液体保持ヘッド１と、液体保持ヘッド１に保持された液体を介して被加工物Ｗの表面にレーザを照射するレーザ照射ヘッド２とを備える。 - 特許庁

This exposure system includes an exposure unit 1 provided with a wafer stage WST for placing a wafer holder WH for holding a wafer W and exposing a pattern DP of a reticle R on the wafer W, a measurement unit 2, and a carrying apparatus 3.例文帳に追加

本発明の露光システムは、ウェハＷを保持するウェハホルダＷＨを載置するウェハステージＷＳＴを備え、レチクルＲのパターンＤＰをウェハＷ上に露光する露光ユニット１と、計測ユニット２と、搬送装置３とを含んでなる。 - 特許庁

As a result, air zones along the right and left width directions W are formed on the circuit formation surface R, the treatment liquid S is sandwiched by the air zones for regulating, and a channel along the right and left width directions W is formed for making flow and performing of a specific treatment, and then the treatment liquid S flows down from both the left and right sides.例文帳に追加

もって、回路形成面Ｒについて、左右の幅方向Ｗに沿ったエアーゾーンが形成され、処理液Ｓは、このエアーゾーンにて挟まれ規制されて、左右の幅方向Ｗに沿った流路を形成して流れつつ所定の処理を行った後、左右両サイドから流下する。 - 特許庁

With respect to the sub-pixels 20, for example in the case they are assigned to R, G, B, and W colors respectively, reflective display is ensured while dramatically increasing the aperture ratio of a color transmissive display region, for example, by assigning the reflection region 204 to a sub-pixel 20w of the color W, and consequently the power consumption is reduced.例文帳に追加

例えば、サブ画素２０は、例えばＲ，Ｇ，Ｂ，Ｗの色に割り当てられている場合、反射領域２０４をＷのサブ画素２０ｗに割り当てることで、カラー透過表示の領域の開口率を飛躍的に拡大しつつ、反射表示ができ、消費電力の低減を図ることができる。 - 特許庁

The central position of the inlet port 121 located on the endmost side in the measuring gas-side cover 12 is set within the range of a diameter W based on the central axis 20 of the pipe 2, and the W is set to 1/3 or less of the diameter R of the pipe.例文帳に追加

被測定ガス側カバー１２において最も先端側に位置する導入穴１２１の中心位置が上記配管２の中心軸２０を基準とした直径Ｗの範囲内にあり，かつ上記Ｗは配管の直径Ｒの１／３以下である。 - 特許庁

A cylindrical part 111a, whose inner wall side radius of curvature R at both ends in the direction of the major diameter W of the tube 111 becomes substantially 1/2 of a dimension B in the direction T of the inner wall side minor diameter at the substantially central part (straight part 111b) in the direction W of the major diameter, is provided.例文帳に追加

チューブ１１１の長径方向Ｗ両端部における内壁側曲率半径Ｒが、長径方向Ｗ略中央部（ストレート部１１１ｂ）における内壁側短径方向Ｔの寸法Ｂの１／２以上となるような円筒部１１１ａを設ける。 - 特許庁

An ECU 20 determines the type of a trouble occurring in the cooling system in accordance with a cooling liquid temperature T_W which is acquired from a liquid temperature sensor provided in the circuit 10 near the inlet for the cooling liquid to the inverter 18 and an actual rotating speed R of the water pump 12.例文帳に追加

ＥＣＵ２０は、循環路１０においてインバータ１８への冷却液の入口付近に設けられた液温センサから取得した冷却液温Ｔ_Wと、ウォータポンプ１２の実回転数Ｒと、に基づいて、冷却システムにおいて発生した異常の種類を判断する。 - 特許庁

The allowable reaction R in the operation of the boring machine 1 is a value (W x L_2/L_1) which can be obtained by dividing a product of the own weight (W) of the boring machine and a length (L_2) from the fulcrum P to the gravity center by a length (L_1) from the fulcrum P to the excavation rod 5.例文帳に追加

ボーリングマシン１の運転において許容し得る反力Ｒは、ボーリングマシン１の自重（Ｗ）に、支点Ｐから重心までの長さ（Ｌ_２）を乗じた値を、支点Ｐから掘削用ロッド５までの長さ（Ｌ_１）で除して得られる値（Ｗ×Ｌ_２／Ｌ_１）である。 - 特許庁

V-phase teeth 25 of a V-phase stator piece 12 are inserted into a cross 33 along a diametrical direction R, U-phase teeth 24 are attached at a U-phase opening 34U along the axial direction P, and W-phase teeth 26 are attached at a W-phase opening 34W along the axial direction P.例文帳に追加

交差部３３内にＶ相ステータ片１２のＶ相ティース２５を径方向Ｒに沿って挿入し、軸線方向Ｐに沿ってＵ相開口部３４ＵにＵ相ティース２４を装着し、軸線方向Ｐに沿ってＷ相開口部３４ＷにＷ相ティース２６を装着する。 - 特許庁

The projection optical system projecting an image on a first plane (R) onto a second plane (W) is equipped with a first light-transmitting member (Lp) arranged nearest to the second plane (W), and a second light-transmitting member (Lb) arranged adjacent to the first light transmitting member (Lp).例文帳に追加

第１面（Ｒ）の像を第２面（Ｗ）に投影する本発明の投影光学系は、最も第２面側に配置された第１光透過部材（Ｌｐ）と、この第１光透過部材に隣接して配置された第２光透過部材（Ｌｂ）とを備えている。 - 特許庁

Before really reading a document 12, the gray reference board 13 is read, the gain (value [A]) of the amplifier circuit 16 is found to make the photoelectric converted output of the image sensor 15 the said value [W], and a gain R=A×G/W in the real read of the document 12 is found.例文帳に追加

そして、実際の帳票１２の読み取り時前に、灰色基準板１３を読み取って、画像センサ１５の光電変換出力が上記で求めた値［Ｗ］となるように増幅回路１６の利得（値［Ａ］）を求め、実際の帳票１２を読み取り時における利得Ｒ＝Ａ×Ｇ／Ｗを求める構成とした。 - 特許庁

A main control system 24 finds out the appropriate movement speed of the pattern of a reticle R to be transferred to a shot area on a wafer W according to the synchronous movement direction SD of each of shot areas that is set on the wafer W, and it outputs the result to driving control units 35 and 41 and sets it.例文帳に追加

主制御系２４は、ウェハＷに設定された各ショット領域の同期移動方向ＳＤにおける大きさに応じてレチクルＲのパターンをウェハＷ上のショット領域に転写する際の最適な移動速度を求め、駆動制御ユニット３５，４１に出力して設定する。 - 特許庁

In the workpiece delivery method, the turret 11 is moved to a position where the workpiece W on the temporary receiving base 12 enters the turning radius R of the delivery member 31 by the turning of the turret 11, and the turret 11 is turned so that the workpiece W on the temporary receiving base 12 is delivered on the chute 13 at the position by the delivery member 31.例文帳に追加

ワーク払出方法は、タレット11の旋回による払出部材31の旋回半径Ｒ内に仮受台12上のワークＷが入る位置までタレット11を移動させ、その位置で仮受台12上のワークＷが払出部材31によってシュート13上に払出されるようにタレット11を旋回させるものである。 - 特許庁

When, through the feed of the wire W, the wire W wound around the reel R is decreased to a given wire thickness T, the running part W1 of the wire makes contact with the electrode rod 20, and a current flowing to the electrode rod 20 is detected by the controller 42 and outputted by the output means 40.例文帳に追加

ワイヤＷの繰出しによって、リールＲに巻回されたワイヤＷが所定のワイヤ厚みＴまで減少すると、ワイヤの走行部分Ｗ１が電極棒２０に接触し、電極棒２０に流れる電流がコントローラ４２で検知されて、出力手段４０で出力される。 - 特許庁

The resist (r) is removed from the wafer W, the unevenness of the wafer W is measured along a crossing line Lm crossing the test line Le at right angles by using a probe type shape measuring instrument S, and the etching profile of a lot is derived by calculation.例文帳に追加

ウェハＷからレジストｒを除去し、触針式形状測定器Ｓを使用して、テストラインＬｅと直交する横断ラインＬｍに沿ってウェハＷの凹凸を測定し、計算によりロットのエッチングプロファイルを導き出す。 - 特許庁

In the method of plastic working in which drawing is applied to a workpiece W with drawing rollers R by arranging a mandrel M on the spindle 3 and fitting the workpiece W on the mandrel M, the load value of the spindle 3 is measured and the working speed is controlled on the basis of the measured load value.例文帳に追加

主軸３にマンドレルＭを配設し、該マンドレルＭにワークＷを外嵌し、絞りローラＲによってワークＷに絞り加工を施す塑性加工方法において、主軸３の負荷値を計測し、計測した負荷値に基づいて加工速度を制御する。 - 特許庁

Before storing gas or liquid into a cavity 2, water W is injected into the cavity 2 in advance, a water pressure P is operated on bedrock R that surrounds the cavity 2, and then the water W in the cavity 2 is discharged, and the gas or liquid is stored.例文帳に追加

空洞２内に気体または液体を貯蔵するに先立ち、予め空洞２内に水Ｗを注入し、水圧Ｐを空洞２を囲む岩盤Ｒに作用させ、その後、空洞２内の水Ｗを排出して、気体または液体の貯蔵を行うようにした。 - 特許庁