「Resolving Power」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an optical element holding device, an exposure device, a device manufacturing method and a device therefor, that bring about a desired optical performance by reducing an aberration caused by the dead weight deformation of an optical element, which becomes the deterioration of image-forming performance, and that realize a projection optical system having high resolving power.例文帳に追加

結像性能の劣化となる光学素子の自重変形による収差を低減することで所望の光学的性能をもたらし、高解像力を有する投影光学系を実現する光学素子保持装置、露光装置、デバイス製造方法及びデバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having high sensitivity and high resolving power in the production of a semiconductor device, having a rectangular shape, ensuring low edge roughness of a line pattern and causing a small size shift, in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高感度であって高解像力を有し、しかも矩形形状を有し、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、更に酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

Iraqi's expectation to International governments and companies, has been shifted from supporting its reconstruction efforts to the investment for their diversification of industries and support industrial development, attracting foreign companies and infrastructure resolving bottlenecks to moving in to the fields of electric power, petrochemical, agriculture, and so forth.例文帳に追加

イラク側の海外政府・企業への期待は、これまでの復興支援から産業多角化を見据えた投資誘致、産業育成支援にシフトしており、海外企業誘致やボトルネック解消に向けたインフラ、電力、石油化学、農業等の分野への進出が強く期待されている。 - 経済産業省

In the inspection of photographing resolving power, adjustment to change the tightening of either of two screws 81 and 82 is performed to incline the frame 71 to the lens barrel 73, so that the optical axis of the lens 18 is aligned with that of a rear group lens 19.例文帳に追加

撮影解像力検査では、２つの螺子８１，８２のうちの何れか一方の螺子の締め付けを変える調整を行うことで、鏡胴７３に対して保持枠７１を傾け、したがって、後群レンズ１９の光軸に前群レンズ１８の光軸を一致させることができる。 - 特許庁

To provide an inspection method of a film carrier tape for electronic component mounting which enables rapid and accurate quality inspection such as the electrical disconnection and short circuit of a wiring pattern without raising resolving power, even if stain exists on the surface of the film carrier tape for electronic component mounting, and to provide an inspection device therefor.例文帳に追加

配線パターンの電気的な断線、短絡などの品質検査を、分解能を上げることなく、しかも、電子部品実装用フィルムキャリアテープの表面のシミが存在していても、迅速で正確な品質検査を実施することができる電子部品実装用フィルムキャリアテープの検査方法およびそのための検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition for exposure with far UV adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source in production of a semiconductor device, ensuring improved dimensional uniformity of a resist pattern and excellent also in various properties as a resist, such as resolving power, focal depth and development defects.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、レジストパターンの寸法均一性が改善され、さらに解像力、焦点深度、現像欠陥などのレジスト諸特性にも優れた遠紫外線露光用ポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an MRI apparatus which can obtain a T1 emphasis image in which T1 contrast and SNR per unit time are raised and image resolving power per unit time is raised in a tissue imaging method having an almost single T1 value like a TOF-MRA method and an ASL method.例文帳に追加

ＴＯＦ−ＭＲＡやＡＳＬ法のように、ほぼ単一のＴ１値を有する組織イメージング法において、単位時間当たりのＴ１コントラストおよびＳＮＲを向上させ、かつ、単位時間当たりの画像分解能を向上させたＴ１強調像を得ることが可能なＭＲＩ装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a laser emission spectral analyzing method which enables reconcilation of high wavelength resolving power and a wide measuring wavelength region at the time of laser emission spectrum analysis, and a rapid and precise measurement of a concentration of a component element in a steel material even on a machine side of analysis marked in fluctuations of a measuring environment.例文帳に追加

レーザ発光分光分析に際し、高い波長分解能と広い測定波長域を両立でき、しかも測定環境の変動が著しい機側分析に際しても、鉄鋼材料中の成分元素の濃度を、迅速かつ精度良く測定することができるレーザ発光分光分析法を提案する。 - 特許庁

To provide a fuel supply system for a gas engine, suppressing turbulence in fuel or separation thereof in a fuel supply passage, and sufficiently ensuring a desired control area and a desired resolving power when controlling a fuel flow rate even if a different kind of fuel is used.例文帳に追加

燃料供給通路内における燃料の乱れや剥離等を抑制することができると共に、種類の異なる燃料を使用する場合でも、燃料流量を制御するに当たって所望の制御範囲、所望の分解能を十分に確保することができるガスエンジン用燃料供給装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type silicone-containing photosensitive composition adaptable to exposure in the far UV region with ArF or KrF as a light source in the production of a semiconductor device, having high resolving power and giving a resist pattern excellent in density dependency and margin for exposure particularly in a fine pattern of ≤0.18 μm.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、高い解像力を有し、更に、特に０．１８μｍ以下の微細パターンにおける疎密依存性、および露光マージンに優れたレジストパターンを与えるポジ型シリコーン含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type silicon-containing photosensitive composition adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source and having high resolving power in the production of semiconductor device and giving a resist pattern excellent in density dependency particularly in a fine pattern of ≤0.18 μm and in margin for exposure.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、高い解像力を有し、更に、特に０．１８μｍ以下の微細パターンにおける疎密依存性、および露光マージンに優れたレジストパターンを与えるポジ型シリコン含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition for exposure with far UV adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source, ensuring improved line edge roughness and excellent also in various characteristics as a resist such as resolving power, resist shape and the depth of a focus when a semiconductor device is produced.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、ラインエッジラフネスが改善され、さらに解像力、レジスト形状、焦点深度などのレジスト諸特性にも優れた遠紫外線露光用ポジ型感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a laminator for continuously performing lamination treatment with high productivity, and a plastic sheet manufacturing apparatus for continuously manufacturing a plastic sheet of high resolving power with high productivity using a conventional electgrophotographic device as an image forming means without remodeling the same largely.例文帳に追加

高い生産性で連続してラミネート処理が可能なラミネート装置を提供することができると共に、画像形成手段として従来の電子写真装置を大きく改造することなく用い、高解像度のプラスチックシートを高い生産性で連続して製造することができるプラスチックシートの作製装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive-type photosensitive composition for exposure with far-UV, adaptable to exposure in the far UV region with ArF or KrF as a light source in the production of a semiconductor device, ensuring improved line edge roughness and excellent in various characteristics as a resist, such as resolving power, resist shape and the depth of a focus.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、ラインエッジラフネスが改善され、さらに解像力、レジスト形状、焦点深度などのレジスト諸特性にも優れた遠紫外線露光用ポジ型感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition for forming a pattern satisfying demands for high sensitivity, high resolution (for example, high resolving power, an excellent pattern profile and small line edge roughness (LER)) and good dry etching durability, and to provide a resist film, a resist-coated mask blank, a resist pattern forming method and a photomask using the composition.例文帳に追加

高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及びフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a displacement amount-measuring apparatus having a mobile body and an optical laser displacement gage for measuring a dynamic displacement of the mobile body which has a wide displacement range where a move amount of the mobile body can be measured and has a high measurement resolving power for a move distance (displacement amount) for every predetermined time of the mobile body.例文帳に追加

移動体と、その移動体の動的変位を計測する光学式レーザ変位計とを有する変位量計測装置において、移動体の移動量の計測可能変位範囲が広く、しかも移動体の所定時間毎の移動距離（変位量）の計測分解能の高い変位量計測装置を提案する。 - 特許庁

To obtain a positive type photoresist composition having high sensitivity and high resolving power of ≤0.2 μm in the production of a semiconductor device, giving a photoresist of a rectangular shape and less liable to cause a dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step when the composition is used as the upper layer resist of a two- layer resist system.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高感度で0.2μｍ以下の高解像力を有し、かつ矩形形状のフォトレジストを与え、また二層レジストシステムの上層レジストとして使用した場合、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが少ないポジ型フォトレジスト組成物を得る。 - 特許庁

To provide a stimulus sensitive composition having high sensitivity and high resolving power and exhibiting good profile, to provide a photosensitive composition having high sensitivity at ≤200 nm, particularly at exposure wavelength of F_2 laser light (157 nm), and also to provide a new compound which generates an acid or a radical under an external stimulus so as to provide these compositions.例文帳に追加

高感度、高解像力で、良好なプロファイルを示す感刺激性組成物、また、２００ｎｍ以下、特にＦ_２レーザー光（１５７ｎｍ）の露光波長において高感度の感光性組成物、更には、これらの組成物を提供すべく、外部からの刺激により酸またはラジカルを発生する新規な化合物を提供する。 - 特許庁

In the thermal transfer sheet having on a substrate a photothermal conversion layer containing a resin and a photothermal conversion substance at least, a water content in the photothermal conversion layer is 0.1-5% in an environment of 23°C and 70% RH and recording is conducted with a resolving power of 2400 dpi or above.例文帳に追加

支持体上に少なくとも樹脂と光熱変換物質を含む光熱変換層を有する熱転写シートにおいて、その光熱変換層中の含水率が２３℃７０％ＲＨの環境で０．１〜５％であり、２４００ｄｐｉ以上の解像力で記録を行うことを特徴とする熱転写シート。 - 特許庁

This non-crystalline (per)fluorinated polymer contains an ionic terminal group comprising COF, COOH, an amide derivative thereof, an ester or a salt, in an amount less than 0.05 mmol/kg polymer when a Nicholet (a registered trademark) nexus FT-IR apparatus (256 scanning, a resolving power of 2 cm^-1) is used for detecting terminal groups.例文帳に追加

末端基の検出に用いる方法がニコレット(登録商標)ネクサスＦＴ-ＩＲ装置(２５６スキャンニング、分解能２ｃｍ^-1)であるとき、次のイオン性末端基：ＣＯＦ、ＣＯＯＨ、それらのアミド誘導体、エステルまたは塩のそれぞれを、０.０５ミリモル/ｋｇポリマーより少ない量で含む非晶質の(パー)フッ素化されたポリマー。 - 特許庁

To provide a biological imaging apparatus constituted so that: (1) the intensity of a photoacoustic signal is enhanced by collecting the photoacoustic signal to enhance an image contrast; (2) the uniformity of resolving power is kept by sequential detection; and (3) the image at the deep position of a living body is obtained using the wavelength arriving at the deep part of the living body.例文帳に追加

本願発明の生体画像化装置では、（１）光音響信号を集音することにより、光音響信号の強度を向上し画像コントラストを高め、（２）逐次検出により解像度の均一性を保ち、（３）生体の深い部分へ到達する波長を使用して、生体の深い位置の画像を得る、ことを目的とする。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having high resolving power in the production of a semiconductor device, having evaluation with the same light exposure near the margin of resolution by which the size in which a nondense pattern vanishes and the marginal resolution size of a dense pattern show approximate values closer to each other and ensuring low surface roughness of a line pattern.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、しかも解像限界あたりにおいて、同一露光量の評価で、疎パターンが消失してしまう寸法と密パターンの限界解像寸法の二者がより近い近似値を示し、更にラインパターンの表面ラフネスが小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide immersion oil for a microscope whose fluorescence producing amount by the excitation of ultraviolet rays is small, which exerts an adverse influence on environment and the human body extremely little, which has other excellent characteristics required for the immersion oil for the microscope such as a refractive index, an Abbe number, viscosity and resolving power, and especially which is suitable for a fluorescence microscope.例文帳に追加

紫外線励起による蛍光発生量が小さく、また、環境や人体への悪影響が極めて少なく、しかも屈折率、アッベ数、粘度、解像力など顕微鏡用液浸油に要求される他の諸特性も良好であり、特に蛍光顕微鏡用として好適な顕微鏡用液浸油を提供すること。 - 特許庁

To provide a simple method for measuring the lattice strain of a crystal laser material with high spatial resolving power and to adapt this method to the manufacture of a micro-device to enhance the characteristics and reliability of the micro-device.例文帳に追加

局所格子歪測定方法とそれを利用した微小な装置の製造方法に関し、結晶基材の格子歪を高い空間分解能で測定する簡単な方法を提供するとともに、この方法を微小な装置の製造に適用することによって装置の特性及び信頼性を向上させることを目的とする。 - 特許庁

To provide an aligner having a multilayer film reflector in the optical system, with reflectance improved for radiating light in the wavelength domain of UV or less and with resolving power consequently improved in the projection optical system, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加

露光装置を構成する光学系に用いられる多層膜反射鏡を使用した露光装置において、露光光、特に、紫外波長領域以下の露光光に対する反射率の向上および、それに伴う投影光学系における解像力の向上等を可能とする露光装置、ならびに、半導体デバイスを提供する。 - 特許庁

In an optical system of a general exposure stepper, a one phase shift filter is given to the rear focused surface of a first projection lens, or a shifter and an attenuator are given respectively thereto, thereby making the edge to be vertical in the distribution of intensity of transmitting light and improving the image formation resolving power for a silicon wafer.例文帳に追加

一般の露光ステッパの光学系において、第一投影レンズの後ろ合焦面に一つの位相シフト濾波器を加え、或いは、シフターと減衰器とをそれぞれに加えることによって、透過する光強度分布は縁が垂直である図形となり、シリコンウェーハの結像解像力を向上させる。 - 特許庁

To solve problems on a technique adaptable to reduction in the thickness of a film for lithography using far ultraviolet light and to provide a radiation sensitive resin composition capable of reproducing a desired resist pattern which retains satisfactory intrasurface uniformity, has high resolving power and collapses hardly even in a thin film process.例文帳に追加

遠紫外光を使用するリソグラフィの薄膜化に対応する技術課題を解決することであり、具体的には薄膜プロセスにおいても十分な面内均一性が保持され、高解像力でパターン倒れの少ない、所望のレジストパターンを再現し得る感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

In the transient absorption measuring instrument for measuring the transient absorption of a substance, steady light is used as a probe light source and an avalanche diode is used as a light detection means to measure the transient absorption over the wide region from the ultraviolet region to the near infrared region with high measuring precision and high time resolving power.例文帳に追加

物質の過渡吸収を測定する過渡吸収測定装置において、プローブ光源として定常光を、光検出手段としてアバランシェフォトダイオードを使用することにより、紫外領域から近赤外領域まで幅広い領域において高い測定精度かつ高い時間分解能で過渡吸収測定が可能である。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having satisfactory sensitivity and resolving power and giving a resist pattern free from residue on development and having no density dependency even when an acid decomposable resin containing an introduced alicyclic hydrocarbon part is used in micro- photofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light of 193 nm wavelength.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光（波長１９３ｎｍ）を使用するミクロフォトファブリケ−ションにおいて、脂環式炭化水素部位が導入された酸分解性樹脂を用いたときでも、十分な感度及び解像力を有し、現像残査及び疎密依存性のないレジストパターンを与えるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

In the moving display processing of the game machine, the CPU 101 for display control extracts the preparatory image data from the ROM and the odd lines and even lines of data respectively from many lines of data arrayed in the direction of the display resolving power doubling that in the preparator image data to generate the first and second display image data.例文帳に追加

移動表示処理において、表示制御用ＣＰＵ１０１は、ＲＯＭから準備画像データを抽出し、準備画像データにおける２倍の表示解像度とされている方向に配置された複数ラインのデータから、奇数ラインと偶数ラインのデータをそれぞれ抽出して第１表示画像データと第２表示画像データとを生成する。 - 特許庁

To provide a positive acting resist composition which is suitably used in a super-microlithography process and other photofabrication processes of manufacturing a VLSI and a high-capacity microchip and has excellent line edge roughness and further a positive acting resist composition which has superior resolving power, defocusing latitude, and an exposure margin in contact-hole pattern formation.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインエッジラフネスが良好なポジ型レジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

When performing movement correction for electrically correcting a movement of an imaging apparatus body at a correction interval below one pixel, to provide, for example, a correction mode that takes a value which does not change resolution as a set value of the correction interval, and a correction mode that takes a value which subdivides resolving power of movement correction as a set value of the correction interval.例文帳に追加

撮像装置本体のぶれを電気的に１画素以下の補正間隔で補正するぶれ補正を行うに際し、例えば、前記補正間隔の設定値として、ぶれ補正によって画像の解像度が変化しないような値をとる補正モードと、前記補正間隔の設定値としてぶれ補正の分解能が細かくなるような値をとる補正モードとを設ける。 - 特許庁

To provide a semiconductor inspection device and method that minimize damage to a semiconductor substrate due to illumination light (UV light) in the ultraviolet range thereby achieving inspection or observation using an image of high resolution or resolving power, and achieving efficient inspection etc., using UV light suitable to a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

紫外領域の照明光（ＵＶ光）による半導体基板へのダメージを最小限に抑え、分解能または解像度の高い画像での検査または観察を行うことを可能とし、半導体製造工程に適した効率的なＵＶ光による検査等を行なうことが可能な半導体検査装置および方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an ink jet recording sheet having high glossiness on its recording surface, excellent in ink absorbability, capable of obtaining a high density image of high resolving power, capable of stably holding an image without generating blur with the elapse of time in the case of long-time preservation under a high temperature and high humidity condition after printing, reduced in curling and excellent in printer feed properties.例文帳に追加

記録面が高い光沢性を有し、インク吸収性に優れ高解像度で高濃度の画像が得られ、かつ印画後、高温高湿環境下に長時間保存された場合に経時にじみを生ずることなく安定に画像を保持でき、更にカールが少なくプリンター搬送性に優れるインクジェット記録用シートを提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having high sensitivity characteristics in the wavelength range of 380-500 nm, free of fatigue deterioration due to light and excellent in durability and to provide an image forming apparatus using the photoreceptor, using laser light in the wavelength range of 380-600 nm as a light source for exposure, having high sensitivity and high resolving power and giving stable image quality.例文帳に追加

３８０〜５００ｎｍの波長域で高い感度特性を有し、光によって疲労劣化しない耐久性に優れる電子写真感光体、および該感光体を用いて３８０〜６００ｎｍの波長範囲のレーザ光を露光光源とし、高感度かつ高解像力を有して安定した画質が得られる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The biological imaging apparatus is constituted so that only the photoacoustic signal radiated in the whole direction from the measuring target part in a specimen is reflected by a reflecting part and collected to be detected as the photoacoustic signal of large amplitude and the image of the concentration distribution of the components in the specimen is obtained with high resolving power.例文帳に追加

本願発明の生体画像化装置は、前記被検体の内部の測定対象とする部分から全方向へ放射される前記光音響信号のみを前記反射部により反射させて集めることにより、大きい振幅の前記光音響信号として検出し、高解像度で前記被検体の内部の成分の濃度分布の画像を得る - 特許庁

The control device 20 measures the exposure energy of each LED and adds the sum of the error between the exposure energy after the correction of the adjacent LED and ideal exposure energy and the previously calculated error to the value of this exposure energy and determines correction data so that the value after addition becomes the range of correction resolving power centering around the ideal exposure energy.例文帳に追加

制御装置２０は、各ＬＥＤの露光エネルギーを測定し、この露光エネルギーの値に、隣接するＬＥＤの補正後の露光エネルギーと理想露光エネルギーとの誤差と、前回算出した誤差との和を加算し、加算後の値が理想露光エネルギーを中心として補正分解能の範囲内になるように補正データを決定する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having high sensitivity characteristics in the wavelength range of 380-500 nm and so excellent in durability as not to cause fatigue deterioration due to light and to provide an image forming apparatus using laser light in the wavelength range of 380-500 nm as a light source for exposure, having high sensitivity and high resolving power and giving stable image quality.例文帳に追加

３８０〜５００ｎｍの波長域で高い感度特性を有し、光によって疲労劣化しない耐久性に優れる電子写真感光体、および該感光体を用いて３８０〜５００ｎｍの波長範囲のレーザ光を露光光源とし、高感度かつ高解像力を有して安定した画質が得られる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In the radar signal processor, when a plurality of targets approach each other to be present in the minium resolving power of the distance, azimuth and elevation of a radar, pulses are transmitted within beam while changed in transmission frequency and the phase correction processing corresponding to a transmission frequency change at every pulse is applied to a received signal to perform pulse Doppler processing to perform the judgment of the number of machines.例文帳に追加

複数目標が互いに近接し、レーダの距離，方位及び仰角の最小分解能内に存在する場合に、ビーム内でパルスを送信周波数を変えて送信し、受信した信号にパルス毎の送信周波数変化分の位相補正処理を行って、パルスドップラー処理を行ない、機数判定を行なうようにした。 - 特許庁

To provide a resist composition which is suitably used in a super-microlithography process and other photofabrication processes such as manufacture of VLSIs and high capacity microchips and whose surface roughness in etching is reduced, and further a resist composition which has superior characteristics of sensitivity, resolving power, a profile, a pattern fall, a side lobe margin, roughness and fineness dependency, etc.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、エッチング時の表面荒れが低減されたレジスト組成物、また更には、感度、解像力、プロファイル、パターン倒れ、サイドローブマージン、疎密依存性などの諸特性にも優れたレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

While the infrared ray-cut filter 1 is placed at a position in front of the solid-state imaging device 3, when the relation of position between the lens 2 and the solid-state imaging device 3 is determined so as to match the focus by using the visible light, after the infrared ray-cut filter 1 is removed, conditions to obtain required resolving power are obtained by using an infrared ray.例文帳に追加

赤外光カットフィルタ１を固体撮像素子３の前方の位置に配置した状態で可視光を用いてピントが合うようにレンズ２と固体撮像素子３との位置関係が定められているときに、赤外光カットフィルタ１を取り外した後に赤外光を用いて必要な解像力を得るための条件を求めた。 - 特許庁

When such a chart is watched on a television monitor and the critical resolving power of camera set and lens unit thereof is 450 TV, for example, moire stripes or color blurring occur at the 450 TV position of the wedge chart 11 on the monitor but concerning this chart, since they occur at 450 TV positions on the respective left and right charts 11, moire stripes upward to right occur on the monitor.例文帳に追加

本チャート１１をテレビモニタで見たときにそのカメラセット及びレンズユニットの限界解像力が例えば４５０ＴＶ本であった場合には、モニタ上のくさびチャート１１の４５０ＴＶ本位置にはモアレ縞や色にじみ等が発生するが、本チャートにおいては左右のチャート１１にそれぞれ４５０ＴＶ本位置に発生するため、モニタ上では右上がりにモアレ縞が発生することとなる。 - 特許庁

To provide the composition of an antireflection film material for a photoresist which enables the formation of an antireflection film having high absorbance with respect to light of wavelengths used for exposure and the reduction in the adverse effect of standing waves caused by the reflection from a substrate, to improve the limit resolving power of the photo resist and to obtain a good resist profile and also to provide a resist pattern forming method using the composition.例文帳に追加

露光に用いられる波長の光に対して吸光度が高い反射防止膜が形成され、基板からの反射により発生する定在波の悪影響を低減することができ、その結果、フォトレジストの限界解像力が向上し、良好なレジストプロファイルが得られるフォトレジスト用反射防止膜材料組成物及びそれを用いたレジストパターン形成法を提供すること。 - 特許庁

In the electronic brake device to operate a brake caliper 4 via a controller 20 based on the signals according to the brake request by a driver, a first pressure sensor 28A and a second pressure sensor 28B to detect the brake request quantity are provided, and the detection resolving power and the detection range of the first pressure sensor 28A and the second sensor 28B are different from each other.例文帳に追加

ドライバーのブレーキ要求に応じた信号に基づき、コントローラ２０を介してブレーキキャリパ４を作動させる電子ブレーキ装置において、ブレーキ要求量を検出する第１圧力センサ２８Ａ、第２圧力センサ２８Ｂを設け、各第１圧力センサ２８Ａ、第２圧力センサ２８Ｂの検出分解能と検出レンジとがそれぞれ異なることを特徴とする。 - 特許庁

In the surface inspection method for detecting the surface flaw of the strip by irradiating the surface of the fed strip with light, detecting the reflected light from the surface of the strip to convert the same to an image signal and subjecting the image signal to image processing, the feed speed of the strip is detected and the image processing resolving power is altered corresponding to the feed speed.例文帳に追加

搬送される帯状体の表面に対して光を照射し、前記帯状体の表面からの反射光を検出して画像信号に変換し、その画像信号を画像処理することにより前記帯状体の表面欠陥を検出する表面検査方法において、前記帯状体の搬送速度を検出し、その搬送速度に対応して、画像処理分解能を変更する。 - 特許庁