「Scratch」に関連した英語例文の一覧と使い方(84ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an overprint varnish for lithographic printing that is an overprint vanish having a matting effect to give printed matter a delustering effect, and reduces VOC (volatile organic compound)during printing operation without spoiling printability as an overprint varnish for lithographic printing, moreover improves scratch resistance of printed matter, and suppresses generation of harmful substances such as dioxins in the case of low-temperature incineration.例文帳に追加

印刷物に艶消し効果を付与する艶消し効果のあるオーバープリントニスにおいて、平版印刷用オーバープリントニスとしての印刷適性を損なうことなく印刷時のＶＯＣ（揮発性有機化合物）を低減し、かつ、印刷物の耐擦傷性を向上し、低温焼却時にダイオキシン等の有害物質の生成を抑制できる平版印刷用オーバープリントニスを提供する。 - 特許庁

To provide a diazo photosensitive film suitable as a photo mask and with high durability which shows high scratch resistance and high solvent resistance used as a photo mask of a photosensitive resin and which is not torn even in contact with a non-curing liquid photosensitive resin nor eroded by a monomer or a solvent and on which no photosensitive resin is attached so that the repeating use can be performed.例文帳に追加

感光性樹脂のフォトマスクとして使用した時に、耐傷性と耐溶剤性が十分に高く、未硬化の液状感光性樹脂と接触しても傷が付いたりそのモノマーや溶剤によって侵されることがなく、また感光性樹脂が付着することもない、長時間繰り返し使用することができ耐久性が高いフォトマスクとして好適なジアゾ感光フィルムを提供する。 - 特許庁

A surfacing head slider 4 is manufactured through the step of manufacturing a substrate having stepped parts 21 and 22 formed while a plurality of surfacing head sliders 4 are arrayed, the step of scratch-processing the substrate along the dividing position of the ABS surface 4a side of the surfacing head slider 4, and the step of cutting the substrate along the dividing position to be divided into individual surfacing head sliders 4.例文帳に追加

浮上型ヘッドスライダ４が複数並びながら段差部２１，２２が形成された基板を作製する工程と、基板に対して、浮上型ヘッドスライダ４のＡＢＳ面４ａ側の分割位置に沿って、スクラッチ加工を行う工程と、基板を上記分割位置に沿って切断して個々の浮上型ヘッドスライダ４に分割する工程とにより浮上型ヘッドスライダ４を製造する。 - 特許庁

When magnetic information is magnetically transferred, by pre-recording a particular magnetic pattern 1 (here, obliquely fringed) in a part having no magnetic information containing track information recorded therein, and scanning a magnetic head in the radial direction or in a direction orthogonal to the radial direction, a scratch defect long in a circumferential or radial direction can be detected by rough scanning.例文帳に追加

磁気的情報が磁気転写されるとき、トラック情報を含む磁気的情報が記録されない部分に特定の磁気パターン１（ここでは、斜め縞状）を予め記録しておくことにより、磁気ヘッドを半径方向またはそれと直交する方向に走査することにより、円周または半径方向に長いスクラッチ欠陥の検出を粗い走査で検出可能とする。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor, having high and stable wear and scratch resistances and proper electrical characteristics, and realizing enhanced image quality over a prolonged period of time, a method for manufacturing the electrophotographic photoreceptor, an image forming method using the long-lifetime and high performance photoreceptor, an image forming apparatus and a process cartridge for the image forming apparatus.例文帳に追加

耐摩耗性及び耐傷性が高く安定であり、且つ電気的特性が良好であり、長期間にわたり高画質化を実現した電子写真感光体及び電子写真感光体を提供する製造方法であり、またそれらの長寿命、高性能感光体を使用した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジの提供。 - 特許庁

To provide an aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and a chemical mechanical polishing method using the same which reduce a polishing speed for a low-permittivity insulation film, achieve both high polishing speed and high planarization characteristics for an interlayer insulation film (a cap layer) such as a barrier metal film and TEOS film, and suppress generation of surface defects such as dishing, erosion, scratch, and fang.例文帳に追加

低誘電率絶縁膜に対する研磨速度を低減すると共に、バリアメタル膜およびＴＥＯＳ膜等の層間絶縁膜（キャップ層）に対する高研磨速度と高平坦化特性を両立させ、かつ、ディッシング、エロージョン、スクラッチないしファング等の表面欠陥の発生を抑制できる化学機械研磨用水系分散体、およびそれを用いた化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide an antireflection structure consisting of countless fine asperities and capable of improving the light antireflection property without making those fine asperities too high and excellent in scratch resistance and abrasion resistance, and automobile parts employing such an antireflection structure such as a meter panel and a windshield glass.例文帳に追加

無数の微細凹凸から成る反射防止構造において、微細凹凸の高さをさほど高くすることなく、光の反射防止性能を向上させることができ、耐傷付き性や耐擦傷性に優れた反射防止構造と共に、このような構造を備えた反射防止構造体、さらにはこのような反射防止構造体を適用した自動車用部材、例えばメーターパネルやウインドウガラスなどを提供する。 - 特許庁

To provide a coating material composition which is environment friendly and exhibits excellent defoaming property, to provide a method for manufacturing an antireflection film having excellent antireflection property, which is excellent in productivity, and to provide an image display device having excellent scratch resistance and antireflection property.例文帳に追加

生産性に優れた反射防止フィルムの製造方法であり、煩雑な工程を行わずに環境にやさしく、優れた消泡性を示す塗料組成物、さらに優れた反射防止性を有する反射防止フィルムの製造方法および画像表示装置を提供することにあり、優れた耐擦傷性、更には反射防止性を有する画像表示装置を提供することにある。 - 特許庁

The aqueous scratch composition contains pigment particles with a sealing property and an aqueous emulsion of a resin with an aggregating and flocculating nature, wherein the above pigment particles with a sealing property are aluminum particles of a scaly form or particles of a synthetic resin and the above aqueous emulsion having the aggregating nature is an aqueous emulsion of either a styrene butadiene rubber or a carboxy modified styrene butadiene rubber.例文帳に追加

隠蔽性を有する顔料粒子と、凝集団塊性を有する樹脂の水性エマルションを含む水性スクラッチ組成物であって、 前記隠蔽性を有する顔料粒子が、鱗片状のアルミニウム粒子又は合成樹脂粒子であり、 前記凝集団塊性を有する樹脂の水性エマルションが、スチレンブタジエンゴム又はカルボキシ変性スチレンブタジエンゴムの水性エマルションである。 - 特許庁

To provide a photocurable coating composition excellent in durability, having antistatic property, and sufficient scratch resistance and transparency as a hard coat, and further capable of meeting waterproofness which is required furthermore recently; and to provide an antistatic film having an antistatic layer formed thereon by using the coating composition.例文帳に追加

本発明は、帯電防止性を有すると共に、ハードコートとして十分な耐擦傷性、透明性を備え、さらには、近年、要求の増加している防水性にも応えることができるような耐久性に優れた光硬化性のコーティング用組成物、およびこのコーティング用組成物を用いた帯電防止層を形成してなる帯電防止フィルムを提供する事を目的とする。 - 特許庁

To provide a surface inspection device and its method where a scratch, having various shapes occurring on the surface of a processed object (for example, an insulating film on a semiconductor substrate) and an adhering foreign substance are discriminated and inspected, when the processed object is polished or ground through CMP or the like, in the manufacturing of semiconductors or of magnetic heads.例文帳に追加

半導体製造や磁気ヘッド製造において、被加工対象物（例えば、半導体基板上の絶縁膜）に対してＣＭＰなどの研磨または研削加工を施した際、その表面に生じる様々な形状を有するスクラッチと付着する異物とを弁別して検査することができるようにした表面検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a matted acrylic resin film material for thermoforming having good design characteristics and handleability, generating no fracture in a matting layer even when formed into a molded product in a deep-draw form by performing insert molding or the like, and having scratch resistance, surface temperature, heat resistance, chemical resistance, thermal yellowing resistance, fingerprint adhesion resistance and matting properties usable for vehicle application.例文帳に追加

意匠性、取扱性が良好であり、インサート成形等を施し、深絞り形状の成形品に成形した場合でも、艶消し層に割れが発生しない、かつ車輌用途に用いることができる耐擦傷性、表面硬度、耐熱性、耐薬品性、耐熱黄変性、耐指紋付着性および艶消し性を有する熱成形用艶消しアクリル樹脂フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having good cleaning characteristics and high durability and capable of achieving higher image quality over a long period of time, by forming a photosensitive layer with a clear crosslinked surface layer having high wear and scratch resistances and good electric properties and excellent in film smoothness particularly by uniform curing of the entire crosslinked surface layer.例文帳に追加

耐摩耗性が高く、耐傷性が高く、且つ電気的特性が良好であるほか、特に架橋表面層の全層にわたり均一な硬化による膜の平滑性優れ、クリアな架橋表面層の感光層を形成することにより、クリーニング特性が良好で、高耐久性を有し、かつ長期間にわたり高画質化を実現した電子写真感光体などを提供すること。 - 特許庁

To provide a new maleimide group-containing silicon compound (A) which has a high curing ability / high functions with a practical irradiation quantity of UV rays even when not using a photopolymerization initiator or using the photopolymerization initiator in a smaller amount than conventional amounts, and further can be expected to have improved scratch resistance and heat resistance, to provide a photosensitive resin composition using the same, and to provide a cured product thereof.例文帳に追加

本発明は、光重合開始剤を使用しない、又は従来の使用量より少なく使用しても実用的な照射量の紫外線により硬化高性能・高機能を有し、更には耐擦傷性や耐熱性の向上が期待できる新規なマレイミド基含有ケイ素化合物（Ａ）、及びそれを用いた感光性樹脂組成物並びにその硬化物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pigment dispersing agent capable of imparting sufficient pigment dispersibility and long-term storage stability by adding to a pigment-containing composition curable by active energy ray such as ultraviolet ray to form a coating film and imparting the coating film with luster and color without deteriorating the gasoline resistance, chemical resistance, water resistance, scratch resistance, etc., of the coating film.例文帳に追加

紫外線等の活性エネルギー線で硬化して被膜を形成する顔料含有組成物に添加して十分な顔料分散性と長期保存安定性とを付与できる顔料分散剤であって、得られたその被膜の耐揮発油性、耐薬品性、耐水性、耐擦傷性等の特性を損なわせることなく被膜に光沢性及び着色性を付与する顔料分散剤を提供する。 - 特許庁

To provide a hardcoat film or sheet which has practically allowable adhesion between the hardcoat layer formed on the surface of a plastic film or sheet substrate supporting the hardcoat layer and the substrate, cracks, and curls or the like occurring when the film is bent, and excellent abrasion and scratch resistance with an unprecedent pencil hardness of ≥4H.例文帳に追加

ハードコート層を支持するプラスチックフィルムもしくはシート基材の表面に形成したハードコート層と基材間の密着、フィルム折曲げ時のクラック、フィルムのカール等を実用的に許容できる範囲内に収めることができ、且つ従来の限界を上回る４Ｈ以上の鉛筆硬度値を有する耐引っ掻き性、耐擦り傷性の優れたハードコートフィルムもしくはシートを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide the high-speed mirror surface polishing method of a silicon wafer for improving a mirror surface polishing speed extremely, improving throughput by obtaining a mirror surface quickly with less processes, preventing damage such as scratch marks and a machining deterioration layer to a wafer, and preventing waste liquid problems and the damage to a polishing device and tools.例文帳に追加

鏡面研磨速度が著しく向上し、少ない工程数で短時間に鏡面が得られることによりスループットが向上し、ウエハにスクラッチ傷や加工変質層等のダメージを与えることがなく、しかも廃液処理問題や研磨装置および治具が損傷する不具合も生じることがないシリコンウエハの高速鏡面研磨方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To set the adhesion, crack at the time of film bending or film curling of a plastic film supporting a hard coat layer or the hard coat layer formed on the surface of a sheet base material and the base material to a practically tolerable range and to enhance scratch resistance of a pencil hardness value of 4H or more.例文帳に追加

ハードコート層を支持するプラスチックフィルムもしくはシート基材の表面に形成したハードコート層と基材間の密着、フィルム折曲げ時のクラック、フィルムのカール等を実用的に許容できる範囲内に収めることができ、且つ従来の限界を上回る4H以上の鉛筆硬度値を有する耐引っ掻き性、耐擦り傷性の優れたハードコートフィルムもしくはシートを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a fixing device which is smaller in the number of components and lower in cost, prevents scratch on the surface of a fixing roller, etc., even used for a long period of time, is free from degradation in separation performance and an increase in curling of transfer paper, and also prevents the occurrence of jamming, thereby ensuring high quality image formation without interruption of a fixing operation.例文帳に追加

部品点数が少なく、低コストで、定着ローラ等の表面に経時的に傷を付けることもなく、分離性能も低下することなく転写用紙のカールが大きくなることもなく、ジャムの発生を防止して、定着の動作が中断することもなく高品質の画像形成が行われる定着装置、及び、その定着装置を具備する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a negative image forming material which is the one with a protective layer formed on a photosensitive layer and excels in sensitivity and scratch resistance, from which the protective layer is easily removed, and which can suppress adhesion to an adjacent image forming material or to protector paper (slip sheet) even during storage in piles and can form an image of excellent image quality.例文帳に追加

感光層上に保護層が設けられてなる画像形成材料であって、感度及び耐キズ性に優れ、また、保護層を除去することが容易であり、更には、重ねて保存した場合でも隣接する画像形成材料同士や画像形成材料と保護紙（合紙）との接着を抑制することが可能で、優れた画質の画像を形成しうるネガ型画像形成材料を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition which provides necessary and sufficient adhesiveness when applied under a humidity condition of 25-60% without requiring burning, which can be developed at low alkalinity, excels in temporal stability and reproducibility, and can be developed with a sharp profile without producing residue because high sensitivity is retained, and which provides a very hard resist film having improved scratch resistance in handling before development.例文帳に追加

バーニング不要で湿度が２５〜６０％の条件で塗布して必要十分な密着性が得られ、低いアルカリ強度で現像が可能であり、経時安定性及び再現性に優れ、高感度が保たれ残渣が生じない現像ができて、シャープな輪郭で切れ、レジスト膜が非常に硬くて現像前の取り扱いにおける耐傷性が向上するポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition comprising carbon nanotube which is dispersable or solubilizable without impairing characteristics of the carbon nanotube itself, free from dissociation or coagulation in long time preservation, excellent in conductivity, film forming property, molding property, capable of being easily coated or covered and gives a colorless transparent coated film with excellent water resistance, weather resistance, mechanical strength, scratch resistance and hardness, and to provide its composite.例文帳に追加

カーボンナノチューブ自体の特性を損なうことなく、分散化あるいは可溶化が可能であり、長期保存においても分離、凝集せず、導電性、成膜性、成形性に優れ、簡便に塗布、被覆可能で、その塗膜が無色透明性、耐水性、耐候性、機械強度、耐擦傷性及び硬度に優れているカーボンナノチューブ含有組成物、及び複合体を提供する。 - 特許庁

Therefore, when the molded product or the surface-coated product is painted and the electroformed mask tool 14 is attached to the molded product or the surface-coated product or the electroformed mask tool is detached, the scratch is not formed on the molded product or the surface-coated product since the electroformed metal of the electroformed mask tool 14 is not brought into direct contact with the molded product or the surface-coated product.例文帳に追加

したがって、成形品に対する塗装処理或いは表面被覆処理品への塗装処理時に、成形品或いは表面被覆処理品に電鋳マスク治具１４を取り付ける際、或いは脱型する際に、電鋳マスク治具１４の電鋳金属が直接成形品や表面被覆処理品に触れることがないので、成形品、表面被覆処理品に擦り傷を付けることがない。 - 特許庁

A film having at least a part of a functional group remaining therein in an unreacted state is laminated to a base material of which the toluene insoluble component ratio is 70 wt.% or less and the crosslinking density of the film is increased by reacting the functional group to obtain a laminate excellent in the adhesion with a base material and also excellent in long-term weatherability, scratch resistance, solvent resistance or the like.例文帳に追加

少なくとも官能基の一部が未反応状態で残存するフィルムを、そのトルエン不溶解分率が７０重量％以下で基材の上に積層した後、上記官能基を反応させることによって該フィルムの架橋密度を増加させることで、基材との密着性に優れると共に、長期耐候性や耐擦り傷性、耐溶剤性等に優れる積層体を得ることができる。 - 特許庁

An image processing part 11 acquires the defective area of any scratch or trash from the image information of the infrared area, and calculates the interpolated signal value of each defective pixel based on a plurality of normal pixels existing in the periphery of each defective element in the image information of the visible area, and calculates temporary correction quantity for correcting each defective pixel based on the signal value of each defective pixel and its interpolated signal value.例文帳に追加

画像処理部１１は、赤外域の画像情報から傷、ゴミの欠陥領域を取得し、可視域の画像情報内の各欠陥画素の周辺に存在する複数の正常画素に基づいて、各欠陥画素の補間信号値を算出し、各欠陥画素の信号値とその前記補間信号値とに基づいて、各欠陥画素を補正する仮の補正量を算出する。 - 特許庁

A solvent penetration preventing layer 2 (preferably, composed of polyamide resin) and an outer face protective layer 3 having scratch-resistance are formed in a state of covering an outer peripheral face of the polyolefin resin pipe 1, and the polyolefin resin pipe 1 and the solvent penetration preventing layer 2, and the solvent penetration preventing layer 2 and the outer face protective layer 3 are respectively stacked and integrated through denatured polyolefin resin 4.例文帳に追加

ポリオレフィン系樹脂管１の外周面を覆うように溶剤浸透防止層２（好ましくは、ポリアミド系樹脂からなる）と耐傷性を有する外面保護層３とが設けられ、ポリオレフィン系樹脂管１と溶剤浸透防止層２、及び、溶剤浸透防止層２と外面保護層３とが、変性ポリオレフィン系樹脂４を介して積層一体化されてなる。 - 特許庁

To provide a negative image forming material which is obtained by disposing a protective layer on a photosensitive layer and excels in sensitivity and scratch resistance, from which the protective layer is easily removed, and which can suppress adhesion to an adjacent image forming material or to protector paper (slip sheet) even during storage in piles and can form an image of excellent image quality.例文帳に追加

感光層上に保護層が設けられてなる画像形成材料であって、感度及び耐キズ性に優れ、また、保護層を除去することが容易であり、更には、重ねて保存した場合でも隣接する画像形成材料同士や画像形成材料と保護紙（合紙）との接着を抑制することが可能で、優れた画質の画像を形成しうるネガ型画像形成材料を提供する。 - 特許庁

To provide an aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and a chemical mechanical polishing method using the same which reduce a polishing speed for a low-permittivity insulation film, achieve both high polishing speed and high planarization characteristics for an interlayer insulation film (a cap layer) such as a barrier metal film and TEOS film, and suppress occurrence of surface defects such as dishing, erosion, scratch and fang.例文帳に追加

低誘電率絶縁膜に対する研磨速度を低減すると共に、バリアメタル膜およびＴＥＯＳ膜等の層間絶縁膜（キャップ層）に対する高研磨速度と高平坦化特性を両立させ、かつ、ディッシング、エロージョン、スクラッチないしファング等の表面欠陥の発生を抑制できる化学機械研磨用水系分散体、およびそれを用いた化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coated film obtained by coating an acrylic-urethane resin having excellent scratch resistance, weather resistance, gloss stability, blocking resistance and the like at least as the most outer layer on a thermoplastic resin film, having excellent adhesion between the thermoplastic resin film and the coated film of the acrylic-urethane resin, capable of maintaining the adhesion over a long period, and having excellent weather-resistant adhesion.例文帳に追加

熱可塑性樹脂フィルムに対して、少なくとも最表層として、耐擦傷性や耐候性、光沢安定性、耐ブロッキング性等に優れたアクリルウレタン樹脂を塗工してなる塗工フィルムにおいて、熱可塑性樹脂フィルムとアクリルウレタン樹脂の塗膜との密着性が優れており、しかもその密着性を長期間に亘り維持することのできる、耐候密着性に優れた塗工フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide an organic photoreceptor which has improved surface scratch resistance and wear resistance and improves image deletion and image blurring apt to occur in a high temperature and high humidity environment or the like to allow a high durability and high quality electrophotographic image to be obtained, and an image forming apparatus and a process cartridge which use the organic photoreceptor.例文帳に追加

本発明の目的は、前記した課題を解決することであり、有機感光体の耐表面傷や耐摩耗性を改善すると共に、高温高湿下等で発生しやすい、画像流れや画像ボケを改善し、高耐久で且つ高画質の電子写真画像が得られる有機感光体を提供することであり、該有機感光体を用いた画像形成装置、及びプロセスカートリッジを提供することである。 - 特許庁

To provide a starch-based coating composition which uses biodegradable starch available from natural products, excels in storage stability as one-pack coating, and enables to form a coating film excellent in drying property, finish, pencil hardness, scratch resistance, sticking property, alkali resistance, solvent resistance and weatherability, and a coated article coated with the coating composition.例文帳に追加

本発明の目的は、天然物由来で生分解性を有した澱粉を利用し、一液型塗料として貯蔵安定性に優れ、しかも乾燥性、仕上り性、鉛筆硬度、耐擦り傷性、付着性、耐アルカリ性、耐溶剤性及び耐候性に優れた塗膜を形成できる澱粉系の塗料組成物、およびこの塗料組成物を塗装した塗装物品を提供することにある。 - 特許庁

To provide a level wound coil and a package thereof which cause none of bending, deformation, and scratch of a tube during uncoiling by ETS method, and which achieve a smooth unwinding and cause no discoloration even when the mass of LWC is large, a plurality of LWCs are stacked one upon another, and the number of winding layers of LWC and the number of windings per layer are large.例文帳に追加

ＬＷＣの質量が大きい場合、ＬＷＣが複数積み重ねられている場合、並びにＬＷＣの巻き層数及び１層あたりの巻き数が多い場合においても、ＥＴＳ方式によるアンコイルの際に管の折れ、変形及び擦り疵が発生せず、引っ掛かりなく巻き解くことができ、更に、あんこ変色が発生しないレベルワウンドコイル、レベルワウンドコイルの梱包体を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive lithographic printing plate original plate for an infrared laser that is superior in the balance of developability and scratch resistance, and to provide a method for making a lithographic printing plate using the original plate, in which proper development is performed with an alkaline developer, without having to use an organic solvent which presents hazards to human bodies and environment, and with which superior images can be formed.例文帳に追加

現像性、耐傷性のバランスに優れた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版、及び、それを用いた、人体や環境に対して影響が懸念される有機溶剤を使用することなく、アルカリ現像液により良好な現像が行われ、優れた画像を形成しうる赤外線レーザ用感光性平版印刷版の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide paint for forming a scratch preventing film capable of precluding possibility of vanishing in a baking process to form a phosphor film or the like on a glass base material such as a translucent sealing tube for a fluorescent lamp or the like, and preventing scratches caused by impact from the outside during conveyance of the glass base material or in a manufacturing process from being produced.例文帳に追加

蛍光ランプ用の透光性封止管等のガラス基材に蛍光体膜等を形成する焼成工程等においても消滅する虞が無く、このガラス基材の搬送中あるいは製造工程中における外部からの衝撃等に起因する傷の発生を未然に防止することが可能な傷防止膜を形成するための傷防止膜形成用塗料を提供する。 - 特許庁

This titanium sheet superior in the formability can maintain a lubricity with a die and a tool when being formed, without losing the formability of a raw material, and keeps scratch resistance against the die and the tool, by making a Vickers hardness at a load of 200 gf as 170 or less, and a thickness of an oxide film as 150 Å or more, on the surface of the titanium sheet.例文帳に追加

チタン薄板の表面において、荷重２００ｇｆのビッカース硬さを１７０以下にし、更には酸化皮膜の厚さを１５０Å以上にすることにより、素材の成形性を損なうことなく成形時の金型や工具との潤滑性を維持し、更には金型や工具に対する耐疵付き性を確保した、成形性に優れたチタン薄板を得ることができる。 - 特許庁

To provide a surface inspection device and its method capable of discriminating a scratch having a various shape generated on the surface from adhering foreign matter and inspecting it, when polishing or grinding such as CMP or the like is performed onto a machining object (for example, an insulating film on a semiconductor substrate) in semiconductor production or magnetic head production.例文帳に追加

半導体製造や磁気ヘッド製造において、被加工対象物（例えば、半導体基板上の絶縁膜）に対してＣＭＰなどの研磨または研削加工を施した際、その表面に生じる様々な形状を有するスクラッチと付着する異物とを弁別して検査することができるようにした表面検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a coating composition for producing a coating-type optical film, typically reflection-reducing film, having excellent reflection-reducing ability, stainproof properties and scratch resistance, and suitable for mass-production; to provide the optical film by using the coating composition; and to provide a polarizing plate and an image displaying device using such the optical film.例文帳に追加

反射防止能、防汚性、耐擦傷性に優れ、且つ大量生産に適した塗布型の光学フィルム、代表的には反射防止フィルムなどを製造するための塗布組成物を提供すること、このような塗布組成物を用いて優れた光学フィルムを提供すること、並びにこのような光学フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a sheet for bearing information which need not make a printing plate; can be mass-produced and meet small-lot orders of various kinds on demand; and has a concealed layer of freely changeable size and shape with such usage that a concealed printed image can be made to appear by leaving out the concealed layer by friction or scratching in a coin scratch lottery and the like.例文帳に追加

製版の必要がなく、大量生産に応じることもできる上オンデマンドで少量・多種類の注文にも応じることもでき、しかも、大きさや形状などを自由に変えた隠蔽層を備えた情報担持用シートであって、摩擦、引っ掻きなどにより前記隠蔽層を脱落させて、隠蔽した印刷画像を顕現できるコインスクラッチクジなどに利用可能な情報担持用シートの提供。 - 特許庁

To provide a method for producing a silicon carbide nanoparticle dispersion capable of improving the dispersibility and the dispersion stability by controlling the aggregation of the silicon carbide nanoparticles and the silicon carbide nanoparticle dispersion, and the silicon carbide nanoparticle film excellent in wear resistance, scratch resistance, heat resistance and hardness which is obtained by using this silicon carbide nanoparticle dispersion.例文帳に追加

炭化ケイ素ナノ粒子同士の凝集を抑制することにより分散性及び分散安定性を向上させることが可能な炭化ケイ素ナノ粒子分散液の製造方法及び炭化ケイ素ナノ粒子分散液、この炭化ケイ素ナノ粒子分散液を用いて得られる耐摩耗性、耐擦傷性、耐熱性、硬質性に優れた炭化ケイ素ナノ粒子膜を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an antireflection film capable of improving manufacturing efficiency by forming a multilayer structure with two or more layers in one application process; to provide an antireflection film that is obtained by the manufacturing method and excellent in reflectance, adhesion, scratch resistance, and improvement of planar failure; and to provide a coating composition used in forming the multilayer structure.例文帳に追加

本発明は、１度の塗布工程で２層以上の多層構造を形成することにより製造効率を向上させることができる反射防止フィルムの製造方法、該製造方法により得られる反射率、密着性、耐擦傷性、面状故障の改良の観点で優れた反射防止フィルム、並びに前記多層構造を形成するために用いられる塗布組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

The discharge wire cleaner is arranged to scratch a matter adhering to a stretched discharge wire 5 through contact with a cleaning pad 13 moving along the longitudinal direction of the discharge wire 5 wherein a pan 15 for receiving the adhering matter scratched from the discharge wire 5 by means of the cleaning pad 13 is fixed to a support 11 for supporting the cleaning pad 13.例文帳に追加

張架された放電ワイヤー５への付着物を、該放電ワイヤー５の長手方向に沿って移動する清掃パッド１３との接触によって離脱させるように構成してある放電ワイヤー清掃装置において、清掃パッド１３が放電ワイヤー５に接触しながらの移動によって放電ワイヤー５から離脱した付着物を受け止めて貯留する受け皿１５を、清掃パッド１３を支持する支持体１１に取付ける。 - 特許庁

To provide an ink for inkjet recording suitable to inkjet recording processes, including a plurality of pigments in one kind of ink, excellent in print qualities of records, particularly in glossiness in glossy paper and image fastness such as scratch resistance and marker resistance to general recording media, good in storage stability, and maintaining good and stable response even when ejected at wide range of driving frequency.例文帳に追加

インクジェット記録方法に適し、複数種の顔料を１インク中に含んだインクであり、記録物の印字品質、特には光沢紙における光沢性及び、記録媒体全般に対しての耐擦過性や耐マーカー性といった画像堅牢性に優れ、保存安定性が良好であり、広範囲な駆動周波数で吐出した際にも良好で安定した応答性を維持できるインクジェット記録用インクを提供すること。 - 特許庁

In this security information recording medium 1, the security information code 12 intrinsic to a card is printed on a plastic card medium having a magnetic recording layer 11 thereon so as to correspond to the security information code 12 to the magnetic recording information of the magnetic recording layer, a scratch hiding layer 20 is applied through a protective layer 13 so as to cover the security information code 12.例文帳に追加

磁気記録層１１を有するプラスチックカード媒体上に、該カード固有のセキュリティ情報コード１２が印字され、該セキュリティ情報コード１２と磁気記録層の磁気記録情報が対応しているセキュリティ情報記録媒体１であって、前記セキュリティ情報コード１２を覆うように保護層１３を介してスクラッチ隠蔽層２０が施されているセキュリティ情報記録媒体１としたものである。 - 特許庁

More specifically, the device includes a thin metal film or a metallized surface having peaks and valleys formed therein such that a scratch within the film or surface does not extend completely through to the bottom surface of the valley, thereby maintaining a uniform conductive pathway through the film or surface.例文帳に追加

さらに具体的に言えば、本発明の装置は内部において複数の山頂部および谷部が形成されている薄い金属の皮膜または金属蒸着処理した表面部分を有していて、その皮膜または表面部分内の一定の傷またはスクラッチがその谷部の底面部まで完全に貫通しないようになっており、これにより、その皮膜または表面部分を通る一定の導電性の通路が維持できる。 - 特許庁

To provide a polishing pad and an apparatus and method for polishing capable of speedily eliminating global steps by selectively polishing protrusion of concavity and convexity on the surface of semiconductor wafer in planarization of semiconductor wafer with CPM and obtaining a high quality semiconductor wafer with less concavity such as dishing or thinning and scratch mark or residual dust in the polishing of metal wiring or STI.例文帳に追加

ＣＭＰによる半導体基板の平坦化において、半導体基板表面の凹凸の凸部を選択的に研磨することでグローバル段差が速く解消でき、また、金属配線やＳＴＩにおける研磨においてもディッシングやシンニングなどの凹み量が少なく、かつスクラッチ傷や残存ダストが少ない高品位な半導体基板を得ることが可能な研磨パッドおよび研磨装置および研磨方法を提供するものである。 - 特許庁