「Wet process」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method of a ceramic electronic component by which liquid is prevented from intruding into a hole of a ceramic element in a wet polishing process and the ceramic electronic component can efficiently be manufactured, and to provide the highly reliable ceramic electronic component manufactured by the method.例文帳に追加

湿式研磨工程においてセラミック素子の空孔に液体が浸入することを防止し、構造欠陥のないセラミック電子部品を効率よく製造することが可能なセラミック電子部品の製造方法および該製造方法により製造される信頼性の高いセラミック電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a positive electrode for a nonaqueous electrolyte battery which can fully demonstrate the merit of a wet process with a lower production cost and obtains the LiCoO_2 layer of ab axis orientation without using an expensive base material like SrTiO_3.例文帳に追加

ＳｒＴｉＯ_３のような高価な基材を用いることなく、ａｂ軸配向性のＬｉＣｏＯ_２層を得ることができ、より製造コストの低い製造方法である湿式法のメリットを充分に発揮させることができる非水電解質電池用正極の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing toner particles by which the drying of wet toner particles obtained by a polymerization process and the addition of an external additive are continuously carried out in a short time in a single step and toner particles having superior characteristics are easily obtained by the uniform drying and addition.例文帳に追加

重合法によって得られた湿潤状態のトナー粒子を短時間で、しかも連続的に、更には単一工程内で乾燥・外添を行い、均一にムラ無く乾燥・外添させることによって優れた特性のトナー粒子が容易に得られるトナー粒子の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

Nickel powder obtained by a wet reduction process and at least one kind of sulfur-containing organic compound selected from triazine thiols and sulfate group-containing groups are added to water or alcohol, so as to be slurry, and, the nickel powder in the slurry is subjected to solid-liquid separation, and is dried in an inert atmosphere.例文帳に追加

湿式還元法で得られたニッケル粉末と、トリアジンチオール類及び硫酸根含有化合物から選ばれた少なくとも１種の硫黄含有有機化合物とを、水中若しくはアルコール中に添加してスラリーし、スラリー中のニッケル粉末を固液分離して、不活性雰囲気中で乾燥する。 - 特許庁

Since the thick first oxide film covering the CMOS section is removed by wet etching and the thick first oxide film remaining on the trench MOSFET is removed by anisotropic etching in the fabrication process, the gate oxide film in the trench does not sink and a high gate breakdown voltage can be ensured.例文帳に追加

その製造方法はＣＭＯＳ部を被覆している厚い第１の酸化膜をウェットエッチングで除去し、トレンチＭＯＳＦＥＴ上に残った厚い第１の酸化膜を異方性エッチングで除去することで、トレンチ内のゲート酸化膜に落ち込みが発生しないために高いゲート耐圧を確保できる。 - 特許庁

To provide a wet developing device which can prevent abnormal current leakage, etc., in an electrophotography process, and improve the stability of image quality after development by uniformly applying a fixed amount of a liquid developer to a developer carrier to keep the image quality stable.例文帳に追加

電子写真プロセスにおける異常な電流漏洩等を防止するとともに、一定量の液体現像剤を均一に現像剤担持体に塗布し、安定した画質を保つことにより現像後の画質の安定性を向上させることができる湿式現像装置を提供する。 - 特許庁

A toner image being a mirror image is formed on a transparent substrate by an electrophotographic process using a toner produced by a wet method and containing wax or a wax-containing toner having the wax substantially not exposing on the particle surface, and a light reflector is stuck on the image carrying surface of the transparent substrate.例文帳に追加

湿式法により製造されワックスを含有するトナー又は粒子表面にワックスが実質的に露出しないワックス含有トナーを用いて電子写真法により鏡像のトナー像を透明基体上に形成し、透明基体の像担持体面に光反射体を貼り合わせる。 - 特許庁

To provide a method for processing silicon, by which the problems found in a wet etching process of the silicon that accurate administration of the etching time is difficult, there is a danger of physical damage caused by sticking on a human body, and the environmental load is large at the time of disposal can be solved.例文帳に追加

シリコンのウェットエッチング方法において、エッチング時間を厳密に管理することが困難であるという問題、使用時の人体への付着による怪我の危険性や廃棄時の環境に対する負荷が大きいという問題を解決するシリコンの加工方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a printing plate material which especially need not be treated by a wet development process and has good on-machine developing properties, excellent fine line reproducibility, flaw resistance and plate wear, and a printing plate manufacturing method using this printing plate material and a printing method using a printing plate obtained by this printing plate manufacturing method.例文帳に追加

特に湿式現像処理を必要とすることなく、良好な機上現像性を有し、細線再現性に優れ、耐傷性に優れ、耐刷性に優れる印刷版材料、それを用いた製版方法及びそれにより得られた印刷版を用いる印刷方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method with high production efficiency of an organic EL element of a multi-layer structure with high light-emitting efficiency by a wet process under atmospheric pressure conditions, as well as an organic EL display device using the organic EL element.例文帳に追加

大気圧条件で湿式法により、高発光効率を有し、高生産効率、材料の選択に自由度を持たせた多層構造の有機ＥＬ素子の製造方法及びこの製造方法により製造した有機ＥＬ素子を使用した有機ＥＬ表示装置の提供。 - 特許庁

A liquid drop of a slurry obtained by wet process pulverization of a raw material compounded with aluminosilicate glass not containing an alkaline component is heated, by which the microhollow glass spherical body of ≤15 μm in average particle size, ≤30 μm in maximum particle size and 0.1 to 1.5 g/cm3 in average particle density is obtained.例文帳に追加

アルカリ成分を含まないアルミノシリケートガラス調合原料を湿式粉砕して得られたスラリーの液滴を加熱して、平均粒子径が１５μｍ以下、最大粒子径が３０μｍ以下、平均粒子密度が０．１〜１．５ｇ／ｃｍ^3である微小中空ガラス球状体を得る。 - 特許庁

In a process of manufacturing the base material for the friction material where segment pieces 3 as part of the wet type friction material 1 are cut out, a step of forming paper making grooves in the surfaces with pressing or cutting work while making paper is first performed, whereby a groove depth can be precisely formed because a paper making body has no elasticity.例文帳に追加

湿式摩擦材１を構成するセグメントピース３が切り出される摩擦材基材の製造工程においては、まず抄紙しながらプレスまたは切削によって表面に抄紙溝を形成する工程が実施され、抄紙体は弾性がないため溝深さ等を精度良く形成できる。 - 特許庁

To provide a multilayered coating film forming method by which the formation of a mixed layer of an intermediate film with a base coating film is prevented and a coating film free from yellowing and having excellent appearance is formed in a 3-wet coating system aiming the reduction of coating process, cost saving and the decrease of environmental load.例文帳に追加

塗装工程短縮、コスト削減及び環境負荷低減を目指す３ウエット塗装システムにおいて、中塗り塗膜とベース塗膜との間の混層を防止し、黄変することなく、優れた外観を有する塗膜を形成することができる多層塗膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing an oxide magnetic body in which remanent magnetic flux density can be enhanced, although it has been difficult hitherto, by improving the defect of dry molding, i.e. so-called "the ratio of remanent magnetization/saturation magnetization" in dry molding having high molding speed as compared with wet molding.例文帳に追加

湿式成形に比べて成形速度が速い乾式成形において、乾式成形の欠点であるといわれる「（残留磁化／飽和磁化）の比」を改善して、従来より困難であるとされていた残留磁束密度を向上させることのできる酸化物磁性体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a recording sheet from being wet and from running of an image formed on the recording sheet, and to maintain that effect for a long time without complicating structure of a device even in the case of forming an image on the recording sheet through a heat fixing process.例文帳に追加

加熱定着処理を経て記録シート上への画像形成を行う場合であっても、装置構成の複雑化等を招くことなく、記録シートの濡れやその記録シート上の形成画像の滲み等を防止することができ、しかもその効果の持続性を高く保てるようにする。 - 特許庁

A polyvinyl alcohol polymer and a halogen-containing polymer are dissolved in a common solvent and the resultant spinning dope is extruded into the coagulation bath through the dry or wet process to produce the objective PVA flame-retardant fiber wherein the particle size of the halogen polymer is adjusted to ≥150 μm on the average and ≤600 μm at a maximum.例文帳に追加

ビニルアルコール系ポリマー及び含ハロゲンポリマーを共通の有機溶媒に溶解して得られる紡糸原液を固化浴に湿式または乾湿式紡糸してＰＶＡ系難燃繊維を製造するにあたり、該ハロゲンポリマーの平均粒径を１５０μｍ以上、最大粒径を６００μｍ以下とする。 - 特許庁

An ink-jet textile printing method for printing a textile with a textile printing ink including a dye by the ink-jet method, comprising the steps of applying to a polyester textile a processing liquid including at least an ink supporting agent and a synthetic resin with a 60 to 130°C glass transitional point, executing the ink-jet printing, and applying a wet heat process, is provided.例文帳に追加

染料を含む捺染用インクによって布帛にインクジェット捺染がされるインクジェット捺染方法において、少なくともインク保持剤とガラス転移温度が６０〜１３０℃の合成樹脂からなる処理液をポリエステル布帛に付与した後、インクジェット印写し、次いで湿熱処理する。 - 特許庁

After a deposition process by a wet type deposition method, if an angle θ between the upper surface of an organic layer and a horizontal surface is 0° when an upper surface of a deposited organic layer is made parallel with the horizontal surface, the upper surface of the organic layer is kept so that it makes an angle θ 0°-100° against the horizontal surface.例文帳に追加

湿式成膜法による成膜工程後、成膜された有機層の上面を水平面と平行に下向きとした時の該有機層の上面と水平面との角度θを０°とすると、該有機層の上面が、水平面に対して０°〜１００°の角度θとなるようにして保管する。 - 特許庁

To provide a method for obtaining a carbon fiber precursor fiber, having a high quality and high definition, being excellent in passing stability in the production process of the carbon fiber, and reducing its production energy, while improving productivity and processability, for wet spinning of a PAN-based carbon fiber precursor fiber.例文帳に追加

ＰＡＮ系の炭素繊維前駆体繊維を湿式紡糸するに際し、生産性およびプロセス性を高めつつ、その製造エネルギーを減じ、高品質で高品位な、かつ、炭素繊維の製造工程においても通過安定性に優れた炭素繊維前駆体繊維を得るための方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lithographic printing plate material which enables recording of an image without necessitating image exposure through the intermediary of a complicated film and which has plate wear resistance and excels in sensitivity and resolution, and a manufacturing method thereof, and to provide an image forming method wherein the image is printed after recorded, without conducting a wet development process.例文帳に追加

複雑なフイルムを介した画像露光を必要とせずに画像を記録ができ、耐刷性があり、感度及び解像度に優れた平版印刷版材料及びその製造方法の提供、又、画像を記録してから湿式現像処理を行わずに印刷する画像形成方法の提供。 - 特許庁

With the first solvent remaining in the compact layer 3a, second electrode particles 12 and second catalyst ink containing a second solvent are applied onto the compact layer 3a by a wet process, and the first and second solvents are evaporated to form an irregular layer 3b.例文帳に追加

次に上記緻密層３ａに第一溶媒が残存している状態で、第二電極粒子１２と第二溶媒とを含有する第二触媒インクを上記緻密層３ａ上に湿式塗布し、上記第一及び第二溶媒を蒸発させることにより、凹凸層３ｂを形成する。 - 特許庁

The method for producing the powdery cosmetic is characterized by blending a resin compound soluble in a solvent while dispersing surface- untreated powder in the solvent and treating the surface-untreated powder to make it hydrophobic during its manufacturing process by using a wet type dispersing machine.例文帳に追加

湿式分散機を用いた粉末化粧料の製造工程中において、溶媒中で表面未処理粉体分散時に、溶媒に可溶な樹脂化合物を配合し、製造工程中に表面未処理粉末が疎水化処理されることを特徴とする粉末化粧料及びその製造方法。 - 特許庁

To provide a process for producing an epitaxial wafer for nitride semiconductor light-emitting diode, in which a moderately roughened surface exhibiting high light take-out efficiency is provided, without bringing about increase in fabrication method and fabrication cost, as in the methods where wet etching or a resist pattern have been used for a long time.例文帳に追加

長時間のウエットエッチングやレジストパターンを用いる方法のように製造工程及び製造コストの増加をもたらすことがなく、光取出し効率の高い適度に荒れた表面を有する窒化物半導体発光ダイオード用エピタキシャルウエハの製造方法を提供する。 - 特許庁

The highly oriented transparent DNA-lipid fiber which completely remains the DNA double helix structure, is obtained by using an organic solvent solution of a DNA-lipid complex comprising the DNA and the lipid which is a cationic surfactant as a spinning dope and spinning in a wet or a dry spinning process and then hot drawing.例文帳に追加

ＤＮＡとカチオン性界面活性剤脂質とのＤＮＡ−脂質複合体の有機溶剤溶液を紡糸ドープとした湿式又は乾式紡糸後熱延伸によってＤＮＡ二重ラセン構造をそのまま残した高配向で透明のＤＮＡ−脂質複合体繊維が得られる。 - 特許庁

To provide a production method of nitrogen gas-dissolved water by which nitrogen gas-dissolved water used for a wet washing process in industries handling electronic materials like semiconductors or liquid crystals can be produced efficiently and economically by reducing an amount of nitrogen used.例文帳に追加

半導体、液晶などの電子材料を扱う産業において行われるウェット洗浄工程に使用される窒素ガス溶解水を、窒素ガスの使用量を低減して、効率的かつ経済的に製造することができる窒素ガス溶解水の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method uses the etching composition which effectively protects a pattern or a storage electrode composed of polysilicon and selectively eliminates the oxidized film in a wet etching process, as a result the oxidized film is eliminated in a high etching ratio and impairment of polysilicon film is inhibited.例文帳に追加

ポリシリコンで構成されたパターン又はストレージ電極を効果的に保護することができるエッチング組成物を用いて、ウエットエッチング工程で酸化膜を選択的に除去するので、高いエッチング選択比で酸化膜を除去できるとともに、ポリシリコン膜の損傷を防止することができる。 - 特許庁

An anti-reflection film is provided to at least one surface of optical surfaces of the first lens group G1 and the second lens group G2, and the anti-reflection film is configured to include a layer formed by using a wet process.例文帳に追加

また、所定の条件を満足し、第１レンズ群Ｇ１および第２レンズ群Ｇ２における光学面のうち少なくとも１面に反射防止膜が設けられ、当該反射防止膜はウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも１層含むように構成することを特徴とする。 - 特許庁

This asphalt roofing material is obtained by impregnating or coating asphalt on a substrate wherein the substrate is composed of a sheet formed of the main material comprising 5-40 wt.% binder, 5-50 wt.% polyester fiber and 30-90 wt.% organic natural fiber in a wet process.例文帳に追加

基材にアスファルトを含浸・塗覆してなるアスファルトル−フィング材であって、前記基材は、バインダ−５〜４０重量％、ポリエステル繊維５〜５０重量％、有機天然繊維３０〜９０重量％の範囲の主原料で湿式製造により抄造したシ−トで構成する。 - 特許庁

To provide a sheet substrate conveying apparatus applicable to not only a wet conveying apparatus such as a development device but also a dry conveying apparatus such as a process device and an inspection device by applying a sheet conveying unit capable of constructing a constitution for periodically and automatically cleaning a substrate contact member at low cost.例文帳に追加

基板接触部材を定期的に自動清掃可能な構成を安価に構築し得る枚葉搬送ユニットを適用することで、現像装置のようなウェット搬送設備だけでなく、プロセス装置、検査装置等のドライ搬送設備へも適用可能な枚葉基板搬送装置を提供する。 - 特許庁

To allow an electrode short circuit to occur by cutting the surface of an HSG silicon layer together with a natural oxidation film and producing HSG grain peeling due to lack of mechanical strength of a lower electrode when a wet etching process is performed before formation of a dielectric film in a manufacturing method of a capacitor utilizing HSG formation.例文帳に追加

ＨＳＧ形成を利用したキャパシタの製造方法で、誘電体薄膜の形成前にウェットエッチング工程を行うと自然酸化膜と一緒にＨＳＧシリコン層の表面も削られて、下部電極の機械的強度不足によりＨＳＧ粒剥がれが発生して電極短絡が起こる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing quartz vibrator preventing out-of-plane vibration that arises at vibration leg even at the absence of angular velocity because of residues of a side surface of the vibration leg of a quartz vibrator for vibration gyro in wet etching process.例文帳に追加

ウエットエッチング加工で製作する振動ジャイロ用水晶振動子の振動脚の側面残渣は、角速度が発生していないときも振動脚に面外振動を生じる原因となるが、そのような面外振動を生じない水晶振動子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer PTC composition of which a paste is obtained by mixing and scattering a conductive powder in a binder containing a crystalline polymer compound in a solvent, and the paste is applied on an electrode plate to produce a polymer PTC element, and which is suitable for a wet process.例文帳に追加

結晶性高分子化合物を含む結合材に導電性粉末を溶媒に混合、分散した高分子ＰＴＣ組成物のペーストを、電極板に塗付して高分子ＰＴＣ素子を製造する、湿式工程に適した高分子ＰＴＣ組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a miniaturizable wet blasting device by a rotor with a simple structure capable of blasting a wide area, carrying out even soft machining, saving energy without using a compressor, and carrying out cleaning work along with a blasting process.例文帳に追加

本発明は広い範囲のブラストができ、ソフトな加工も行え、コンプレッサーを用いずに省エネルギー化出来ると共に構造が簡単で小型化も可能となり、更にブラスト加工を行うと共に洗浄作業も一緒に行うことが可能となるローターによる湿式ブラスト装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

This method for producing the oxide magnetic substance, has a molding process for molding a slurry containing oxide magnetic particles and water in a magnetic field in a wet state to obtain the molded article and is characterized by using a molding slurry containing a dispersant comprising a polyhydric alcohol represented by the general formula: Cn(OH)nHn+2.例文帳に追加

酸化物磁性体粒子と水とを含む成形用スラリーを磁場中で湿式成形して成形体を得る成形工程を有する酸化物磁性体の製造方法において、一般式Ｃ_n（ＯＨ）_nＨ_n+2で表される多価アルコールである分散剤を添加した成形用スラリーを使用する。 - 特許庁

To provide a stable organic semiconductor material, capable of being produced in a simple method of a wet process, having a high carrier mobility, showing a good transistor characteristic having a high on off ratio, and hardly changing with time, and an organic thin film transistor by using the organic semiconductor material.例文帳に追加

ウェットプロセスによる簡便な方法で素子を作製でき、キャリア移動度が高く、オンオフ比の大きい良好なトランジスタ特性を示し、かつ経時変化しにくい安定な有機半導体材料、及び該有機半導体材料を用いた有機薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁

(1) The silica dispersion liquid, prepared by subjecting wet process silica to pulverizing treatment in such a manner that its secondary particle diameter is made into <1 μm in water, contains a substance to form water-insoluble or hardly water-soluble salt by reacting with sulfuric acid ions.例文帳に追加

１）湿式法シリカを水中で二次粒子径が１μｍ未満になるように粉砕処理して作製されたシリカ分散液に於いて、該シリカ分散液が硫酸イオンと反応して水不溶性もしくは水難溶性の塩を形成する物質を含有することを特徴とするシリカ分散液。 - 特許庁

To perform recovery in such a manner that impurities by an amount equal to or above the prescribed one are not included in hematite produced in the case zinc residue treatment in wet type zinc refining is performed by a hematite process and further to effectively separate and recover valuable metals such as gold, silver, copper and lead as well as iron.例文帳に追加

湿式亜鉛製錬の亜鉛残渣処理をヘマタイトプロセスで行なう場合に生ずるヘマタイトに所定以上の不純物が含まれないようにして回収可能にするとともに、鉄以外の金、銀、銅もしくは鉛等の有価金属も効果的に分離・回収することを可能にする。 - 特許庁

The cellulose nanofibers can preferably be obtained by a method including a process for obtaining oxidized cellulose by oxidizing a cellulose-based raw material with an oxidizing agent in the presence of an N-oxyl compound and either one compound selected from a group consisting of a bromide, an iodide and mixtures thereof, and a process for subjecting the oxidized cellulose to wet pulverization to bring the same into cellulose nanofibers.例文帳に追加

また、前記セルロースナノファイバーが、臭化物、ヨウ化物及びこれらの混合物からなる群から選択されるいずれか１つの化合物と、Ｎ−オキシル化合物との存在下で、酸化剤を用いてセルロース系原料を酸化し、酸化されたセルロースを得る工程、及び、前記酸化されたセルロースを湿式微粒化処理してセルロースナノファイバーに解繊する工程を含む方法により得られることが好ましい。 - 特許庁

This method includes the steps of forming a film 2 on a semiconductor substrate 1 and forming an interlayer insulating film 3 thereon, subjecting the film 3 through photolithography to a patterning process to form a hole 4, subjecting the film 3 to wet etching process with use of an etchant having a etching rate larger than that of the film 2 to the film 3, and observing the hole 4 from an open side thereof.例文帳に追加

半導体基板１上に膜２を形成し膜２の上に層間絶縁膜３を形成する工程と、層間絶縁膜３をフォトリソグラフィ法によりパターニングしてホール４を形成する工程と、層間絶縁膜３に対する膜２のエッチング速度の比が大きいエッチング液を使用して層間絶縁膜３をウェットエッチングする工程と、ホール４を開口側から観察する工程とを有する。 - 特許庁

The semiconductor device is fabricated by a process of selectively introducing halogen element or argon to an element region 14 of a silicon substrate 10 and a process of forming a silicon oxide film 24 over an element region 16 and a silicon oxide film 22, which is thicker than film 24, over the element region 14 by wet oxidation of the substrate 10 under the reduced pressure or the diluted atmosphere by nitrogen or rare gas.例文帳に追加

シリコン基板１０の素子領域１４に、ハロゲン元素又はアルゴンを選択的に導入する工程と、シリコン基板１０を、減圧下又は窒素若しくは希ガスにより希釈された雰囲気でウェット酸化することにより、素子領域１６にシリコン酸化膜２４を、領域１４にシリコン酸化膜２４より厚いシリコン酸化膜２２を、それぞれ形成する工程とを有する製造方法により半導体装置を製造する。 - 特許庁

To provide a method of forming an element isolation layer of a semiconductor memory device, capable of filling a fluid first insulating film on the bottom surface of a trench, forming a second insulating film, then performing a dry etching process and a wet etching process and reducing the amount of fluorine (F) included in the second insulating film while expanding the top width of the trench.例文帳に追加

本発明は、トレンチの底面に流動性の第１の絶縁膜を満たし、第２の絶縁膜を形成した後に乾式エッチング工程及び湿式エッチング工程を行ってトレンチの上部の幅を広げながら第２の絶縁膜に含まれるフッ素(Ｆ；fluorine；フローリン)の量を減少させることができる半導体メモリ素子の素子分離膜形成方法を提供することを可能にすることを目的としている。 - 特許庁

The method of manufacturing the laminated structure for the disk driving suspension assembly comprising using the multilayered lamination sheet having the first layer 50 consisting of the metallic spring material, the intermediate second layer 90 consisting of the electrical insulating material and the third layer 70 consisting of the conductive material and performing the dry etching process after wet etching as a process step of molding the second layer 90 and the laminated structure thereof are provided.例文帳に追加

金属ばね材からなる第１層５０と、電気絶縁材からなる中間の第２層９０と、導電材からなる第３層７０とを有する多層合わせシートを使用し、第２層９０の成形工程としてウェットエッチングの後、ドライエッチングプロセスを行うことを特徴とするディスク駆動サスペンションアセンブリ用の積層構造体の製造方法及びその積層構造体を提供する。 - 特許庁

This method for producing Shochu is characterized by comprising a liquidization process for allowing liquidizing enzyme agents comprising a cellulase and an α-amylase in a specific ratio to act on sweet potato subjected to a steaming thermal treatment or a wet heat thermal treatment without using a malt, thus preparing the sweet potato liquid, and a parallel double fermentation process for saccharifying the sweet potato liquid with a saccharifying amylase and simultaneously fermenting the liquid with yeast.例文帳に追加

蒸煮加熱処理又は湿熱加熱処理された薩摩芋に、麹を作用させずに、セルラーゼ及びα−アミラーゼをそれぞれ特定の割合で含有する液化酵素剤を作用させて薩摩芋液化液を調製する液化工程と、この薩摩芋液化液を糖化酵素剤により糖化しつつ酵母で発酵させる並行複発酵工程とから成ることを特徴とする焼酎の製造方法 - 特許庁

This surface roughening method for the electrophotographic photoreceptor base material has a wet process honing step for polishing the surface of the electrophotographic photoreceptor base material by spraying a polishing liquid, having the polishing agent toward the surface of the base material and a washing process step for washing the surface of the base material, by jetting water, towards the surface of the base material from a ring nozzle arranged around the base material.例文帳に追加

研磨剤を含有する研磨液をスプレーノズルから電子写真感光体基材の表面に向けて噴射させて、該基材の表面を研磨する湿式ホーニング工程と、水を前記基材の周囲に配置されたリングノズルから前記基材の表面に向けて噴射させて、前記基材の表面を洗浄する洗浄工程と、を含むことを特徴とする、電子写真感光体基材の表面粗面化方法。 - 特許庁

This additive is produced by a process which includes oxidizing a raw cellulosic material with an oxidizing agent in the presence of (1) an N-oxyl compound and (2) a bromide, an iodide, or a mixture of these to prepare an oxidized cellulose and subjecting the oxidized cellulose to wet pulverization to reduce the cellulose into nanofibers.例文帳に追加

この添加剤は、（１）Ｎ−オキシル化合物、及び（２）臭化物、ヨウ化物又はこれらの混合物の存在下で、酸化剤を用いてセルロース系原料を酸化して酸化されたセルロースを調製し、該酸化されたセルロースを湿式微粒化処理してナノファイバー化させることを含む方法により製造される。 - 特許庁