「dissolution method」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a storage method and fuelization method for organic waste slurry which can inhibit the progress of fermentation and dissolution of organic components contained in organic waste slurry containing livestock excrement, food waste, and the like while preventing sedimentation of solid matters contained in the slurry, and can prevent fermentation causing a decrease of a calorific value as much as possible, and a storage device for biomass fuel and the organic waste slurry.例文帳に追加

家畜排泄物や食品廃棄物等を含有する有機廃棄物スラリー中の固形分の沈降を防ぎつつ、このスラリーに含まれる有機成分の発酵及び溶解の進行を抑制することができ、しかも発熱量の低下を招く発酵をできるだけ防止することができる有機廃棄物スラリーの貯留方法と燃料化方法及びバイオマス燃料並びに有機廃棄物スラリーの貯留装置を提供する。 - 特許庁

In this treating method, the water solution of ammonium fluoride produced in a producing process of tantalum/niobium oxides by a hydrofluoric acid dissolution-solvent extraction method is regenerated into dilute ammonia water by slaked lime.例文帳に追加

フッ酸溶解−溶媒抽出法によるタンタル、ニオブ酸化物の製造工程で生成するフッ化アンモニウム水溶液を消石灰で希アンモニア水に再生させる方法であって、再生工程でフッ化アンモニウム水溶液中のフッ素濃度が０．５〜２ｇ／ｌになるように消石灰を添加し、下記の反応式による反応後、精密ろ過を行うことによりＮＨ_４ＯＨを再生し、得られた希アンモニア水をリサイクルに供することを特徴とするフッ化アンモニウム水溶液の処理方法。 - 特許庁

Preferably, the pharmaceutical composition provides a dissolution rate of naloxone hydrochloride within ±10% to that of oxycodone hydrochloride in vitro tested by USP device I (basket) method in USP XXIV (2000) under 100 rpm in 900 ml of a simulated gastric fluid (SGF) at 37°C for one, four and 12 hours.例文帳に追加

好ましくは、３７℃における９００ｍｌの模擬胃液（ＳＧＦ）中において１００ｒｐｍで、米国薬局方ＸＸＩＶ（２０００年）のＵＳＰ装置Ｉ（バスケット）法によりイン・ビトロで試験したときに、１時間、４時間、及び１２時間において、該オキシコドンハイドロクロライドの溶解速度に対して±１０％の範囲内にある前記ナロキソンハイドロクロライドの溶解速度をもたらす、該医薬組成物。 - 特許庁

This method for producing chitin oxide is characterized by producing the chitin oxide having a structure obtained by oxidizing carbon atom in 6th position in pyranose ring of N-acetylglucosamine which is a constituting monosaccharide of the chitin, and converting it to carboxyl and/or its salt, and is also characterized by using the chitin swollen or dissolution-treated with an alkali as the chitin.例文帳に追加

キチンの構成単糖であるＮ−アセチルグルコサミンのピラノース環中、６位炭素を選択的に酸化し、カルボキシル基及び／又はその塩類に変換した構造を有することを特徴とする酸化キチンの製造方法であって、前記キチンとしてアルカリで膨潤または溶解処理したキチンを用いることを特徴とする酸化キチンの製造方法を提供するものである。 - 特許庁

The method for producing the hydrocracked product comprises a dissolution process in which a plastic-dissolved solution is prepared by heating a mixture comprising chlorine, the plastic, a solvent and a first chlorine-fixing agent and dissolving the plastic and a hydrocracking process in which the hydrocracked product containing the benzenes is prepared by adding a second chlorine-fixing agent to the plastic solution, subsequently reacting the solution with hydrogen.例文帳に追加

塩素と、プラスチックと、溶剤と、第１塩素固定剤とを含有する混合物を加熱して前記プラスチックを溶解し、プラスチック溶解物を得る溶解工程と、前記プラスチック溶解物に第２塩素固定剤を添加した後、水素と反応させ、ベンゼン類を含有する水素化分解生成物を得る水素化分解工程とを具備する、水素化分解生成物の製造方法。 - 特許庁

The method for reprocessing the semiconductor substrate includes selectively removing an embrittlement layer and a semiconductor layer left at a peripheral part of the semiconductor substrate after separation using a mixed solution containing a substance functioning as an oxidizing agent oxidizing a semiconductor, a substance dissolving an oxide of the semiconductor, and a substance functioning as a decelerator for the oxidation of the semiconductor and the dissolution of the oxide of the semiconductor.例文帳に追加

半導体を酸化する酸化剤として機能する物質と、半導体の酸化物を溶解する物質と、半導体の酸化及び半導体の酸化物の溶解の減速剤として機能する物質と、を含む混合溶液を用いて、分離後の半導体基板の周辺部に残存した脆化層及び半導体層を選択的に除去する半導体基板の再生処理方法である。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is used for fabrication processes of semiconductors such as ICs, for manufacturing circuit boards of liquid crystals, thermal heads or the like and other photofabrication processes, the composition being excellent in the dependency on a pattern density, line edge roughness and a pattern profile and improved in the sensitivity in exposure to EUV light and a dissolution contrast; and to provide a pattern forming method using the photosensitive composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、疎密依存性、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルに優れ、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist material, in particular a chemical amplitude negative resist material, which has a high contrast of alkali dissolution rate before and after light exposure, has a high resolution at high sensitivity and small line edge roughness and is especially suitable as a fine pattern forming material in manufacturing a super LSI or in manufacturing a photo mask pattern material and to provide a pattern formation method and a photomask blank using the negative resist material.例文帳に追加

露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist material which has an extremely high alkaline dissolution-rate contrast before and after exposure, a high resolution, a high sensitivity, and good roughness (LWR) after exposure, and further which suppresses acid diffusion rate, in particular, a positive type resist material using a high molecular compound suitable as a base resin of a chemical amplification positive type resist material, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、高感度で、露光後のラフネス（ＬＷＲ）が良好であり、その上特に酸拡散速度を抑制できるポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物を用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A light, thin, short and extremely inexpensive cleaning apparatus excellent in the dissolution of gas/liquid, developing sufficient purifying efficiency against the pollution of a sea area, a water area or a water tank and preventing the clogging a suction port with a gel-like substance or small particles to enable long-time continuous or intermittent operation is developed by employing a microbubble generating method.例文帳に追加

浄化装置はマイクロバブル発生による方法により、気・液の溶解が優れ、海域・水域や水槽等の汚染に対して十分な浄化効率を発現し、ゲル状物質や小さな粒子径が吸気口に詰まらずに長時間の連続及び間欠運転が可能な軽薄短小、操作が簡便にして極めて廉価な装置を開発することによって解決する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition superior in dissolution contrast by simultaneously satisfying high sensitivity, excellent line edge roughness and excellent density independence, and to provide a pattern-forming method using it.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

In the method for producing high-purity terephthalic acid, having a slurrying process, dissolution process, reduction process, crystallization process, separation process, cleaning process and drying process, cleaning waste fluid after cleaning discharged in the cleaning process is kept in a state at ≥120°C and ≤200°C and used as a water solvent in the slurrying process to produce high-purity terephthalic acid.例文帳に追加

スラリー化工程、溶解工程、還元工程、晶析工程、分離工程、洗浄工程、及び乾燥工程を有する高純度テレフタル酸の製造方法において、上記洗浄工程で排出される洗浄後の洗浄排液を、１２０℃以上、２００℃以下の状態を維持させて、上記スラリー化工程の水溶媒として使用して、高純度テレフタル酸を製造する。 - 特許庁

(2) In cases provided for in the preceding paragraph, the Liquidating Membership Company must, within two weeks from the day of the dissolution (or, in the cases provided for in paragraph (2) of the preceding article, of the day when such method of disposition of the assets is prescribed), give public notice of the matters listed below in the Official Gazette and must give notice of the same separately to each known creditor, if any; provided, however, that the period under item (ii) cannot be less than one month: 例文帳に追加

２　前項に規定する場合には、清算持分会社は、解散の日（前条第二項に規定する場合にあっては、当該財産の処分の方法を定めた日）から二週間以内に、次に掲げる事項を官報に公告し、かつ、知れている債権者には、各別にこれを催告しなければならない。ただし、第二号の期間は、一箇月を下ることができない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

The kit for detecting organic phosphorus-based substrate and the method using the kit include a reaction container that contains a fixed amount of 4-(4-nitrobenzyl) pyridine that is filled by evaporating the dissolution liquid of solution after injecting into the container as a dissolved substance in the solution, a container filled with tetraethyrenepentamine, and a container filled with an extracted medium.例文帳に追加

溶液中の溶質として容器に注入された後、該溶液の溶解液を蒸発させることによって充填された一定量の４−（４−ニトロベンジル）ピリジンを含む反応容器、テトラエチレンペンタミンを充填した容器および抽出媒体を充填した容器とを含むことを特徴とする、有機リン系物質を検出するためのキットおよびそれを用いた検出方法。 - 特許庁

There is provided a method including: connecting means for mixing a water-in-oil type emulsion comprising an emulsified cationic or amphoteric water-soluble polymer that is produced by using a high HLB (Hydrophile-Lipophile Balance) surfactant with water to a midway of piping; and adding a dilution obtained by a continuous dissolution to a papermaking stock, in terms of a papermaking stock before papermaking.例文帳に追加

抄紙前の製紙原料において、高ＨＬＢ（親水性親油性バランス）界面活性剤を用いて乳化し製造したカチオン性あるいは両性水溶性重合体からなる油中水型エマルジョンを水と混合する手段を、配管途中に連結し連続溶解した希釈液を製紙原料に添加することにより、上記課題を解決することができる。 - 特許庁

The method for producing copper comprises: a copper powder dissolution step of dissolving the crude copper powder in a liquid containing an oxidizing agent and sulfuric acid to prepare a copper-dissolved solution; a filtration step of filtering the copper-dissolved solution to obtain a filtrate and a primary residue containing the precious metal; and an electrolysis step of using the filtrate as a copper electrolytic solution and electrolyzing the copper electrolytic solution to produce electrolytic copper.例文帳に追加

粗銅粉を、酸化剤及び硫酸を含む液に溶解させて銅溶解液を作製する銅粉溶解工程と、前記銅溶解液を濾過し、濾液と貴金属を含む一次残渣を得る濾過工程と、前記濾液を銅電解液とし、該銅電解液を電解して電気銅を製造する電解工程と、を含むことを特徴とする銅の製造方法である。 - 特許庁

To obtain a copolyester resin pellet that effectively prevents blocking of pellet comprising a poorly crystalline copolyester resin having high adhesiveness and a glass transition point of 40°C as a main component, is safely preserved for a long period of time without blocking for a long period of time and further has excellent solution stability even by dissolution in a general-purpose solvent and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

粘着性が高いガラス転移点が４０℃の貧結晶性共重合ポリエステル樹脂を主成分としたペレットのブロッキングを効果的に防止し、かつ、長期にわたってブロッキングすることなく安全に保存することができ、さらには、汎用溶剤に溶解しても溶液安定性が良好な共重合ポリエステル樹脂ペレットとその製造方法を提供する。 - 特許庁

In addition, the method also has a process of forming a pattern to be a wiring precursor on the substrate using the metal-nanoparticle paste including the coated metal-nanoparticle and the disperse solvent, a process of acting the polar solvent solution including the polar solvent or the dissolution aid to the pattern on the substrate, and a process of drying the substrate to sinter the metal-nanoparticle and to form the wiring.例文帳に追加

また、被覆された金属ナノ粒子と分散溶媒とを含む金属ナノ粒子ペーストを用いて、配線前駆体となるパターンを基板上に形成する工程と、前記基板上のパターンに、極性溶媒または溶解補助剤を含む極性溶媒溶液を作用させる工程と、前記基板を乾燥させて前記金属ナノ粒子を焼結させ、配線を形成する工程とを含む。 - 特許庁

This method for producing the aqueous resin dispersion comprising a modified polyolefin and water is characterized by comprising a dissolution process for dissolving the modified polyolefin in a solvent (a) having solubility of 1.0 to 95.0 wt.% in water at 20°C, a dispersion process for adding water to the solution to disperse the modified polyolefin, and a distillation process for distilling away at least the solvent (a).例文帳に追加

変性ポリオレフィンと水とを含む樹脂分散体の製造方法であって、前記変性ポリオレフィンを２０℃における水の溶解度が１．０〜９５．０重量％である溶媒（ａ）に溶解させる溶解工程、これに水を加えて分散させる分散工程、及び、少なくとも該溶媒（ａ）を留去する留去工程を含む、水性樹脂分散体の製造方法。 - 特許庁

When seeking to obtain approval for the abolishment of the Business of Assuming Commodity Transaction Debts or a resolution of dissolution prescribed in the provisions of Article 183 of the Act, a Commodity Clearing Organization shall attach the following documents to a written application for approval and submit them to the competent minister: (i) a document stating the reasons for the abolishment or dissolution; (ii) the minutes of a general meeting of shareholders (in the case of a Member Commodity Exchange which is approved based on the provisions of Article 173, paragraph 1 of the Act, a general meeting of Members) or another document certifying that the necessary procedures for approval have been followed; (iii) accounting documents, etc. for the most recent business year and detailed statements thereof; (iv) a document stating the method of completion of the Business of Assuming Commodity Transaction Debts. 例文帳に追加

商品取引清算機関は、法第百八十三条の規定による商品取引債務引受業の廃止又は解 散の決議の認可を受けようとするときは、認可申請書に次に掲げる書類を添付して主務大 臣に提出するものとする。 一廃止又は解散の理由を記載した書面 二株主総会（法第百七十三条第一項の規定に基づく承認を受けた会員商品取引所に あっては、会員総会）の議事録その他必要な手続があったことを証する書面 三直前事業年度の計算書類等及びその附属明細書 四商品取引債務引受業の結了の方法を記載した書面 - 経済産業省

In the method of reprocessing the semiconductor substrate, an embrittlement layer and a semiconductor layer remaining on a periphery of the film-separated semiconductor substrate are selectively removed with use of a mixture solution containing a material which functions as an oxidant which oxidizes a semiconductor, a material which resolve an oxide of the semiconductor, and a material which functions as a moderator for oxidation of the semiconductor and for dissolution of the oxide of the semiconductor.例文帳に追加

半導体を酸化する酸化剤として機能する物質と、半導体の酸化物を溶解する物質と、半導体の酸化及び半導体の酸化物の溶解の減速剤として機能する物質と、を含む混合溶液を用いて、分離後の半導体基板の周辺部に残存した脆化層及び半導体層を選択的に除去することを特徴とする半導体基板の再生処理方法である。 - 特許庁

The method for producing a carbon nanostructure comprises the steps of depositing carbon in zeolite pores to form a carbon structure by using the inside of the zeolite pores as a template, removing the zeolite by dissolving it with an acid, and hot-pressing the carbon structure obtained in the step of dissolution removal to reduce the pore size of the carbon structure to obtain the carbon nanostructure.例文帳に追加

本発明に係る炭素ナノ構造体の製造方法は、ゼオライト細孔内部を鋳型として用い、該ゼオライト細孔内部に炭素を積層させて炭素構造体を形成する工程と、該ゼオライトを酸で溶解除去する工程と、該溶解除去工程により得られた炭素構造体をホットプレスすることにより、該炭素構造体の細孔径を縮小させ炭素ナノ構造体を得る工程と、からなることを特徴とする。 - 特許庁

The method includes a resin layer forming process in which an uncured ultraviolet curable resin layer 2 is formed on a substrate 1, a curing process in which beads 3 are immersed in the uncured layer 2 to a prescribed depth to cure the uncured layer 2, and a separation process in which the beads 3 are separated from the cured layer 2 by dissolution or by applying etching and ultrasonic vibration.例文帳に追加

基材１上に未硬化の紫外線硬化樹脂層２を設ける樹脂層形成工程と、複数のビーズ３を未硬化の紫外線硬化樹脂層２に所定の深さまで浸漬してこの未硬化の紫外線硬化樹脂層２を硬化させる硬化工程と、硬化させた紫外線硬化樹脂層２からビーズ３を溶解またはエッチングと超音波振動の付与とにより脱離する脱離工程とを有する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is improved in line edge roughness, pattern profile, EUV light exposing sensitivity, and dissolution contrast, and is used in manufacturing processes of semiconductors such as ICs, circuit boards for such as liquid crystals and thermal heads, and in other photofabrication processes, and also provide a pattern forming method using this composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルが改善され、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This granular detergent composition having high bulkiness comprises granulated substance of protease in which solid casein decomposing activity against a protease derived from alkalophilic bacterium strains of the genus Bacillus is ≥1.5 (at 15°C) and 90% dissolution time (T90) by an enzymatic activity method at 15°C is ≤150 sec and granulated particles of detergent having ≤10,000 Pa particle cohesion parameter at 15°C.例文帳に追加

ＢＡＣＩＬＬＵＳ属の好アルカリ性菌株由来のプロテアーゼに対する固体カゼイン分解活性が１．５以上（１５℃）であるプロテアーゼの造粒物であって、１５℃における酵素活性法による９０％溶解時間（Ｔ９０）が１５０秒以下であるプロテアーゼ造粒物と、１５℃での粒子凝集パラメーターが１０，０００Ｐａ以下である洗剤造粒粒子とを含有する高嵩密度粒状洗剤組成物。 - 特許庁

This method evaluates the particle size by microscopic observation; and further accurately evaluates the particle size of the included organic filler by manufacturing the sample for the microscopic observation for restraining the agglutination of the organic filler by using a solvent having a dissolution parameter value of 8 to 10, and a specific gravity of 1.4 or more for providing the organic filler from the film-like or pasty adhesive.例文帳に追加

顕微鏡観察によって粒径を評価する方法において、フィルム状又はペースト状の接着剤中から、有機充填剤を得るのに，溶解パラメータの値が８以上１０以下であり、かつ，比重が１．４以上である溶媒を用いることによって、有機充填剤の凝集を抑制した顕微鏡観察用試料を作製し、含有されていた有機充填剤の粒径を、より正確に評価する。 - 特許庁

Article 220 In cases where a Specific Purpose Company has violated the provisions of this Act, an order issued under this Act, or a disposition given under either, and said Specific Purpose Company cannot be supervised by any other method, or when the Specific Purpose Company has failed to make a Notification of a New Plan within three years from the day on which it made the notification under Article 10(1), the Prime Minister may order the Specific Purpose Company's dissolution. 例文帳に追加

第二百二十条　内閣総理大臣は、特定目的会社がこの法律若しくはこの法律に基づく命令若しくはこれらに基づく処分に違反した場合であって他の方法により監督の目的を達成することができないとき、又は第十条第一項に規定する届出をした日から三年以内に新計画届出を行わないときは、解散を命ずることができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

In the method and apparatus for supplying the gas-dissolved water for cleaning the electronic part members by using gas-dissolved pure water or ultra-pure water, the supply of the gas-dissolved water is adjusted so that the retention time of the gas dissolved water in gas-dissolved water transfer piping which connects a gas dissolution part with a gas-dissolved water use point is 3 min or below.例文帳に追加

電子部品部材類を、純水又は超純水にガスを溶解せしめたガス溶解水を用いて洗浄するための洗浄用ガス溶解水供給方法において、ガス溶解水の供給を、ガス溶解部とガス溶解水使用点を連接するガス溶解水移送配管内におけるガス溶解水の滞留時間が３分以下となるように行う洗浄用ガス溶解水供給方法及びその装置。 - 特許庁

The method of manufacturing the Ru-Ti-O fine powder composed of an Ru compound and a Ti compound includes a step (A) of mixing the Ru and Ti compounds with a boron oxide or boric acid, a step (B) of heat-treating the obtained mixture, and a step (C) of removing the boron oxide by dissolution from the obtained heat-treated material.例文帳に追加

Ｒｕ化合物とＴｉ化合物からＲｕ−Ｔｉ−Ｏ微粉末を製造する方法であって、Ｒｕ化合物とＴｉ化合物を、酸化ホウ素又はホウ酸と混合する工程（Ａ）、得られた混合物を熱処理する工程（Ｂ）、及び得られた熱処理物から酸化ホウ素を溶解除去する工程（Ｃ）を含むことを特徴とするＲｕ−Ｔｉ−Ｏ微粉末の製造方法などによって提供。 - 特許庁

In the composition, the total in vitro dissolution time which is determined according to the United States Pharmacopeia (USP) XXII basket assembly method in a phosphate buffer of pH 5.8 (50 or 100 rpm), is substantially between 1 and 4 h for at least 90% of the content of levosimendan.例文帳に追加

ａ）治療に効果的な量のレボシメンダン、およびｂ）レボシメンダンの放出を長期間にわたって提供するための薬剤放出制御成分を含む経口投与用制御放出組成物であって、少なくとも９０パーセントのレボシメンダン含有量に対し、リン酸緩衝液ｐＨ５．８（５０または１００ｒｐｍ）における米国薬局方ＸＸIIかご集合法にもとづいて決定された全インビトロ溶解時間が実質的に１時間から４時間のあいだである組成物。 - 特許庁

The method includes: forming a solution by dissolution of a polyolefin in a solvent not containing benzylic hydrogens or secondary hydrogens; forming a reactive mixture by addition, to the solution, of unsaturated carboxylic acid anhydrides, unsaturated carboxylic acids or unsaturated carboxylic acid esters, and a radical initiator; and forming a modified polyolefin by reaction of the reactive mixture under a condition suitable for completion of forming a modified polyolefin.例文帳に追加

ベンジル性水素又は第二級水素を含まない溶剤中にポリオレフィンを溶解して溶液を形成し、 この溶液中に、不飽和カルボン酸無水物、不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸エステル及びラジカル開始剤を添加して、反応混合物を形成し、そして この反応混合物を変性ポリオレフィンと形成せしめる条件下に反応させて変性ポリオレフィンを形成させる工程を含んでなるポリオレフィンを不飽和酸で変性する方法。 - 特許庁

A method for forming a resist pattern includes steps of: forming on a substrate 1 a resist layer 3 containing a polymer of α-chloromethacrylate and α-methylstyrene and not containing a fluorine atom; performing rendering or exposure of a predetermined pattern shape by irradiating the resist layer with an energy beam; and developing the rendered or exposed resist layer with a fluorocarbon-containing developer having a dissolution rate of an insoluble part of less than about 0.5 Å/h.例文帳に追加

基板１上に、α−クロロメタクリレートとα−メチルスチレンとの重合体を含みかつフッ素を含有しないレジスト層３を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターン形状の描画又は露光を行う工程と、非溶解部の溶解速度が１時間あたり約０．５Å未満であるフルオロカーボンを含む現像剤によって、前記描画又は露光されたレジスト層を現像する現像工程と、を含む。 - 特許庁

To provide a dissolution method which does not need to discard a solution of an existing polymer coagulant and redissolve another chemical when the effect of the existing polymer coagulant decreases by a fluctuation in sludge properties and the like, or can cope with the case where a polymer coagulant having different coagulation performance is required due to a change of a model of a dehydrator and in order to reinforce or increase the performance of the existing polymer coagulant.例文帳に追加

汚泥性状の変動などによって既存の高分子凝集剤の効果が低下した場合、既存高分子凝集剤の溶解液を廃棄し、別の薬剤を溶解し直す必要がなく、あるいは既存高分子凝集剤の性能を補強あるいは増強するために、さらに脱水機の機種が変わり異なる凝集性能の高分子凝集剤を要する場合に対応可能な溶解処方を提供する。 - 特許庁

The method for measuring the asphalt amount included in an asphalt mixture comprises: dissolving an asphalt mixture by the asphalt dissolving agent including 60-99 wt.% of toluene and 1-40 wt.% of tetralin; after separating this into a liquid component and a solid component, measuring the weight of the separated solid component; and calculating the asphalt amount from the difference between the weight and the weight of the asphalt mixture before the dissolution.例文帳に追加

トルエン６０重量％〜９９重量％およびテトラリン１重量％〜４０重量％を含有するアスファルト溶解剤でアスファルト混合物を溶解させ、これを液体成分と固体成分とに分離した後、分離された固体成分の重量を測定し、その重量と溶解前のアスファルト混合物の重量との差からアスファルト量を求めることを特徴とするアスファルト混合物中に含まれるアスファルト量の測定方法。 - 特許庁

The method for producing the enteric granules comprises a step for forming the first enteric layer by coating raw granules or granules containing one or more layers for applying the raw granules with an enteric coating agent containing HPMCAS and a step for forming the second enteric layer on the first enteric layer by using an enteric coating agent containing HPMCAS having dissolution pH which is lower than that of the above HPMCAS.例文帳に追加

また、素顆粒又は素顆粒を被覆する一以上の層を含む顆粒を、ＨＰＭＣＡＳを含む腸溶性コーティング剤で被覆して第１腸溶性層を形成する工程と、上記第１腸溶性層の上に、上記ＨＰＭＣＡＳよりも溶解ｐＨが低いＨＰＭＣＡＳを含む腸溶性コーティング剤を用いて第２腸溶性層を形成する工程とを含んでなる腸溶性顆粒剤の製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of a glass component equipped with a fine pattern comprises: an application process of applying a heatless glass 40 on the fine pattern 21 of a replica 20 which is made of a specific material soluble in a specified solvent exhibiting no solubility for glass and has the fine pattern; a curing process of curing the applied heatless glass 40; and a dissolution process of dissolving the replica 20 by the specified solvent.例文帳に追加

本発明のガラス部品の製造方法は、微細パターンを具備したガラス部品の製造方法であって、ガラスに対して溶解性を示さない特定溶媒に溶解可能な特定材料からなり、且つ微細パターンを有するレプリカ２０に対し、当該レプリカ２０の微細パターン２１上にヒートレスガラス４０を塗布する塗布工程と、前記塗布したヒートレスガラス４０を硬化する硬化工程と、前記レプリカ２０を前記特定溶媒により溶解させる溶解工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

This method is substantially different from the dissolution-precipitation sequence of the known technique, and specifically comprises a step of wetting a crystalline anhydrous solvate of paroxetine hydrochloride with water or a mixture of water with a water miscible solvent (preferably 2-propanol or the like) and heating the wet crystalline solvate of the paroxetine hydrochloride at a temperature of 30-60°C to completely convert it into crystalline paroxetine hydrochloride hemihydrate.例文帳に追加

この方法は、既知の技術である溶解−沈殿のシケンスとは実質的に異なっており、具体的には、パロキセチン塩酸塩の結晶性無水溶媒和物を水、又は水の水混和性溶媒（好ましくは２−プロパノール等）との混合物で湿潤化し、そして該パロキセチン塩酸塩の湿潤な結晶性溶媒和物を３０〜６０℃の温度で加熱して、結晶性パロキセチン塩酸塩半水和物に完全に転換する工程を含んでなる製造方法である。 - 特許庁

The manufacturing method for the fluidization treated material includes a slurry density adjusting process for adjusting slurry density by adding moisture, a sludge cake dissolution process for dissolving the sludge cake 11 adjusting the slurry density and a consolidated material addition process forming the fluidization treated material by adding a consolidated material to the dissolved sludge cake 11 after a surface activity lowering accelerator has been added to the sludge cake 11 formed by dewatering the water purification sludge.例文帳に追加

浄水汚泥を脱水してなる脱水ケーキ１１に、表面活性低下促進剤を添加した後、水分を添加して泥水密度を調節する泥水密度調節工程と、前記泥水密度が調節された前記脱水ケーキ１１を溶解させる脱水ケーキ溶解工程と、溶解した前記脱水ケーキ１１に固化材料を添加して流動化処理材料とする固化材料添加工程と、を含むことを特徴とする流動化処理材料の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method of a member with catalyst electrode layer for fuel cell has a gas dissolution process in which using a catalyst electrode layer forming member having an electrolyte layer, the electrolyte layer is softened and a foaming gas is dissolved, and a foaming and fixation process in which the foaming gas dissolved is foamed and air-bubbles are generated in the electrolyte layer and the air-bubbles generated are fixed in the electrolyte layer.例文帳に追加

本発明においては、電解質層を有する触媒電極層形成用部材を用い、上記電解質層を軟化させ、発泡用気体を溶解させる気体溶解工程と、溶解した上記発泡用気体を発泡させることにより、上記電解質層内に気泡を発生させ、かつ、発生した上記気泡を上記電解質層内で固定化する発泡固定化工程と、を有することを特徴とする燃料電池用触媒電極層付部材の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

Article 16 Articles 668 (joint ownership of partnership assets), 669 (responsibility of persons delaying in making cash contribution), 671 though 674 (mutatis mutandis application of provisions for entrustment, resignation or removal of an executor of business, partners' right of inspection of the state of business and assets and proportion in respect of distribution of profits and losses to partners), 676 (restriction on disposal of equity interest by partners and prohibition of split of partnership assets), 677 (prohibition of set-off by debtors to the partnership), 680 (expulsion), 681 (return of equity interest to withdrawing partners), 683 (request for dissolution by partners), 684 (non-retroactiveness of effect of termination), 687 (resignation or removal of partner liquidators) and 688 (authority of liquidators and method of distribution of remaining assets) of the Civil Code (Act No. 89 of 1896) shall apply mutatis mutandis with respect to a Partnership. 例文帳に追加

第十六条　組合については、民法（明治二十九年法律第八十九号）第六百六十八条（組合財産の共有）、第六百六十九条（金銭出資遅滞者の責任）、第六百七十一条から第六百七十四条まで（委任の規定の準用、業務執行者の辞任又は解任、組合員の業務及び財産の状況の検査権並びに組合員の損益分配の割合）、第六百七十六条（組合員の持分処分の制限及び組合財産分割の禁止）、第六百七十七条（組合債務者の相殺の禁止）、第六百八十条（除名）、第六百八十一条（脱退組合員の持分の払戻し）、第六百八十三条（組合員の解散請求）、第六百八十四条（解除の効力の不そ及）、第六百八十七条（組合員である清算人の辞任又は解任）及び第六百八十八条（清算人の職務権限及び残余財産の分割方法）の規定を準用する。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

(7) Where the relevant official of the National Tax Agency or the relevant official of the Tax Office or Regional Taxation Bureau having jurisdiction over a corporation's place for tax payment has requested the corporation to present or submit the books and documents that are considered to be necessary for the calculation of the arm's length price prescribed in paragraph (1) which pertains to a foreign affiliated transaction conducted by the corporation in each business year or copies of such books and documents (in the case where the corporation, instead of preparing or preserving such books and documents, prepares or preserves electromagnetic records (meaning records made in an electronic form, a magnetic form, or any other form not recognizable to human perception, which are used in information processing by computers), such electromagnetic records shall be included; the same shall apply in the next paragraph, paragraph (9) and paragraph (12)(ii)), if the said corporation has failed to present or submit these books and documents or copies thereof without delay, the district director may presume the amount calculated by the method listed in any of the following items (the method listed in item (ii) may be applied only where the method listed in (i) is unavailable) to be the said arm's length price, and thereby make a reassessment prescribed in Article 2(xliii) of the Corporation Tax Act (referred to in paragraph (16) as a "reassessment") or a determination prescribed in item (xliv) of the said Article (referred to in paragraph (16) as a "determination") with respect to the said corporation's amount of income or amount of loss for the relevant business year or the amount of liquidation income arising from its dissolution: 例文帳に追加

７　国税庁の当該職員又は法人の納税地の所轄税務署若しくは所轄国税局の当該職員が、法人にその各事業年度における国外関連取引に係る第一項に規定する独立企業間価格を算定するために必要と認められる帳簿書類（その作成又は保存に代えて電磁的記録（電子的方式、磁気的方式その他の人の知覚によつては認識することができない方式で作られる記録であつて、電子計算機による情報処理の用に供されるものをいう。）の作成又は保存がされている場合における当該電磁的記録を含む。次項、第九項及び第十二項第二号において同じ。）又はその写しの提示又は提出を求めた場合において、当該法人がこれらを遅滞なく提示し、又は提出しなかつたときは、税務署長は、次の各号に掲げる方法（第二号に掲げる方法は、第一号に掲げる方法を用いることができない場合に限り、用いることができる。）により算定した金額を当該独立企業間価格と推定して、当該法人の当該事業年度の所得の金額若しくは欠損金額又は解散による清算所得の金額につき法人税法第二条第四十三号に規定する更正（第十六項において「更正」という。）又は同条第四十四号に規定する決定（第十六項において「決定」という。）をすることができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

Article 183 (1) The provisions of Article 1-3 to Article 5 inclusive (Registry Office; Delegation of Affairs; Suspension of Affairs; Registrar; Disqualification of Registrar), Article 7 to Article 15 inclusive (Prohibition on Carrying Out of Registries and Other Documents; Loss and Restoration of Registries; Prevention of Loss of Registry, etc.; Issuance of Certificate of Registered Matters; Issuance of Documents Specifying Extract of Matters Registered; Inspection of Annexed Documents; Certificate of Seal Impression; Certification of Matters Required for Verification of Measures to Identify the Creator of Electromagnetic Records and Other Matters; Fees; Registration Upon Application by Party; Registration upon Commission), Article 17 to Article 27 inclusive (Method of Application for Registration; Document to Be Attached to Written Application; Electromagnetic Records to be Attached to Written Application; Submission of Seal Impression; Acceptance of Applications; Receipt; Order of Registration; Identity Confirmation by Registrar; Dismissal of Application; Registration to Be Made After Lapse of Period for Filing Action; Change in Administrative Zone, etc.; Prohibition on Registration of Identical Trade Name at Same Location), Article 33 (Cancellation of Registration of Trade Name), Article 34 (Registration of Trade Name of Company), Article 44 and Article 45 (Registration of Company's Manager), Article 46 (excluding paragraph (4)) (General Rules on Documents to be Attached), Article 47(1) (Registration of Incorporation), Article 48 to Article 55 inclusive (Registration to Be Made at Location of Branch Office; Registration of Relocation of Head Office; Registration of Change of Directors and Other Officers; Registration of Change of Person Who is to Temporarily Perform Duties of Accounting Auditors), Article 64 (Registration of Change Due to Share Option Issue), Article 71 (Registration of Dissolution), Article 73 to Article 75 inclusive (Registration of Liquidator; Registration of Change Related to Liquidator; Registration of Completion of Liquidation), and Article 132 to Article 148 inclusive (Correction; Application for Cancellation; Ex Officio Cancellation; Exclusion from Application of the Administrative Procedure Act; Exclusion from Application of the Act on Access Information Held by Administrative Organs; Exclusion from the Application of the Act on the Protection of Personal Information Held by Administrative Organs; Request for Review; Handling of Request for Review Case; Exclusion from Application of the Administrative Appeal Act; Delegation to Ordinance of the Ministry) of the Commercial Registration Act (Act No. 125 of 1963) shall apply mutatis mutandis to the registration of a Specific Purpose Company. In this case, the phrases "to Article 50 inclusive (including the cases where they are applied mutatis mutandis pursuant to Article 95, Article 111 and Article 118)" and "Article 51, paragraphs (1) and (2), Article 52, Article 78, paragraphs (1) and (3), Article 82, paragraphs (2) and (3), Article 83, Article 87, paragraphs (1) and (2), Article 88, Article 91, paragraphs (1) and (2), Article 92, Article 132" in Article 15 of that Act shall be deemed to be replaced with "to Article 50 inclusive" and "Article 132," respectively, the phrase "a document evidencing authority delegated to a privately appointed agent or a transferor's written approval prescribed in Article 30, paragraph (2) or Article 31, paragraph (2)" in Article 24(vii) of that Act shall be deemed to be replaced with "a document evidencing authority delegated to a privately appointed agent," the term "company registry" in Article 34(1) of that Act shall be deemed to be replaced with "Specific Purpose Company Registry," the phrase "the items of Article 930, paragraph (2) of the Companies Act" in Article 48(2) of the Commercial Registration Act shall be deemed to be replaced with "the items of Article 930(2) of the Companies Act as applied mutatis mutandis pursuant to Article 22(4) of the Act on Securitization of Assets (hereinafter referred to as the 'Asset Securitization Act')," the phrase ", representative director or special director (in the case of a company with committees, a director, committee member, executive officer or representative executive officer)" in Article 54(1) of the Commercial Registration Act shall be deemed to be replaced with "or representative director," the phrases "Article 333, paragraph (1) of the Companies Act" and "Article 337, paragraph (1) of said Act" in Article 54(2)(iii) of the Commercial Registration Act shall be deemed to be replaced with "Article 71(1) of the Asset Securitization Act" and "Article 73(1) of the Asset Securitization Act," respectively, the phrase "Article 346, paragraph (4) of the Companies Act" in Article 55(1) of the Commercial Registration Act shall be deemed to be replaced with "Article 76(4) of the Asset Securitization Act," the phrases "Article 478, paragraph (1), item (i) of the Companies Act" and "Article 483, paragraph (4) of said Act" in Article 71(3) of the Commercial Registration Act shall be deemed to be replaced with "Article 167(1)(i) of the Asset Securitization Act" and "Article 171(4) of the Asset Securitization Act," respectively, the phrase "Article 478, paragraph (1), item (ii) or (iii) of the Companies Act" in Article 73(2) of the Commercial Registration Act shall be deemed to be replaced with "Article 167(1)(ii) or (iii) of the Asset Securitization Act," the phrase "Article 928, paragraph (1), item (ii) of the Companies Act" in Article 73(3) and Article 74(1) of the Commercial Registration Act shall be deemed to be replaced with "Article 928(1)(ii) of the Companies Act as applied mutatis mutandis pursuant to Article 179(1) of the Asset Securitization Act," the phrase "Article 507, paragraph (3) of the Companies Act" in Article 75 of the Commercial Registration Act shall be deemed to be replaced with "Article 507(3) of the Companies Act as applied mutatis mutandis pursuant to Article 179(1) of the Asset Securitization Act," and any other necessary technical replacement of terms shall be specified by a Cabinet Order. 例文帳に追加

第百八十三条　商業登記法（昭和三十八年法律第百二十五号）第一条の三から第五条まで（登記所、事務の委任、事務の停止、登記官、登記官の除斥）、第七条から第十五条まで（登記簿等の持出禁止、登記簿の滅失と回復、登記簿等の滅失防止、登記事項証明書の交付等、登記事項の概要を記載した書面の交付、附属書類の閲覧、印鑑証明、電磁的記録の作成者を示す措置の確認に必要な事項等の証明、手数料、当事者申請主義、嘱託による登記）、第十七条から第二十七条まで（登記申請の方式、申請書の添付書面、申請書に添付すべき電磁的記録、印鑑の提出、受付、受領証、登記の順序、登記官による本人確認、申請の却下、提訴期間経過後の登記、行政区画等の変更、同一の所在場所における同一の商号の登記の禁止）、第三十三条（商号の登記の抹消）、第三十四条（会社の商号の登記）、第四十四条、第四十五条（会社の支配人の登記）、第四十六条（第四項を除く。）（添付書面の通則）、第四十七条第一項（設立の登記）、第四十八条から第五十五条まで（支店所在地における登記、本店移転の登記、取締役等の変更の登記、一時会計監査人の職務を行うべき者の変更の登記）、第六十四条（株主名簿管理人の設置による変更の登記）、第七十一条（解散の登記）、第七十三条から第七十五条まで（清算人の登記、清算人に関する変更の登記、清算結了の登記）及び第百三十二条から第百四十八条まで（更正、抹消の申請、職権抹消、行政手続法の適用除外、行政機関の保有する情報の公開に関する法律の適用除外、行政機関の保有する個人情報の保護に関する法律の適用除外、審査請求、審査請求事件の処理、行政不服審査法の適用除外、省令への委任）の規定は、特定目的会社に関する登記について準用する。この場合において、同法第十五条中「第五十条まで（第九十五条、第百十一条及び第百十八条において準用する場合を含む。）」とあるのは「第五十条まで」と、「第五十一条第一項及び第二項、第五十二条、第七十八条第一項及び第三項、第八十二条第二項及び第三項、第八十三条、第八十七条第一項及び第二項、第八十八条、第九十一条第一項及び第二項、第九十二条、第百三十二条並びに」とあるのは「第百三十二条及び」と、同法第二十四条第七号中「書面若しくは第三十条第二項若しくは第三十一条第二項に規定する譲渡人の承諾書」とあるのは「書面」と、同法第三十四条第一項中「会社の登記簿」とあるのは「特定目的会社登記簿」と、同法第四十八条第二項中「会社法第九百三十条第二項各号」とあるのは「資産の流動化に関する法律（以下「資産流動化法」という。）第二十二条第四項において準用する会社法第九百三十条第二項各号」と、同法第五十四条第一項中「取締役、監査役、代表取締役又は特別取締役（委員会設置会社にあつては、取締役、委員、執行役又は代表執行役）」とあるのは「取締役、監査役又は代表取締役」と、同条第二項第三号中「会社法第三百三十三条第一項」とあるのは「資産流動化法第七十一条第一項」と、「同法第三百三十七条第一項」とあるのは「資産流動化法第七十三条第一項」と、同法第五十五条第一項中「会社法第三百四十六条第四項」とあるのは「資産流動化法第七十六条第四項」と、同法第七十一条第三項中「会社法第四百七十八条第一項第一号」とあるのは「資産流動化法第百六十七条第一項第一号」と、「同法第四百八十三条第四項」とあるのは「資産流動化法第百七十一条第四項」と、同法第七十三条第二項中「会社法第四百七十八条第一項第二号又は第三号」とあるのは「資産流動化法第百六十七条第一項第二号又は第三号」と、同条第三項及び同法第七十四条第一項中「会社法第九百二十八条第一項第二号」とあるのは「資産流動化法第百七十九条第一項において準用する会社法第九百二十八条第一項第二号」と、同法第七十五条中「会社法第五百七条第三項」とあるのは「資産流動化法第百七十九条第一項において準用する会社法第五百七条第三項」と読み替えるものとするほか、必要な技術的読替えは、政令で定める。 - 日本法令外国語訳データベースシステム