「heating process」に関連した英語例文の一覧と使い方(57ページ目) - Weblio英語例文検索

A drying method of a precast block characterized by a process, carrying out microwave dielectric heating by mounting the precast block in a metal enclosure and making the inside space of the enclosure as a cavity resonator after making a precast block by casting a monolithic refractory with 3.5 to 8 mass% execution water content in a specific shape, maturing then removing form.例文帳に追加

施工水分量３．５〜８質量％の不定形耐火物を、予め所定形状に流し込み施工し、養生、脱枠しプレキャストブロックとした後、該プレキャストブロックを金属製の囲い内部に載置し、該囲い内部の空間を空洞共振器としてマイクロ波による誘電体加熱を行うことを特徴とするプレキャストブロックの乾燥方法。 - 特許庁

To easily perform disposal processing of an information recording medium in a contactless state without undergoing a great number of process steps by housing the information recording medium in a case for fusion, heating the recording medium and fastening the fused material to the information recording surface side of the information recording medium in discarding the unnecessary information recording medium.例文帳に追加

不要な情報記録媒体の廃棄処理に際して、情報記録媒体を融着用材ケース内に収納して加熱し、当該融着材を情報記録媒体の情報記録面側に固着させることによる多くの工程を経ることなく、非接触状態で簡単かつ容易に情報記録媒体の廃棄処理を行うことを目的とする。 - 特許庁

In the cleaning method for the resistance change type sensor used in an atmosphere low in the concentration of oxygen and containing reductive gas or in the exhaust gas atmosphere of an internal combustion engine and having an element part mainly formed from an oxide ceramic material, a process for heating and cleaning the element part at 900-1,200°C is included.例文帳に追加

低酸素濃度ないし還元性ガスが含まれる雰囲気、若しくは、内燃機関の排気ガス雰囲気で使用されるとともに、酸化物セラミックス系材料から主として形成された素子部を有する抵抗変化式センサのクリーニング方法において、前記素子部を９００〜１２００℃の温度で加熱クリーニングする工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The process for manufacturing the wire wound electronic component 10 comprises a step for winding a coil conductor 2 around a core 1 composed of a ferrite material, a step for applying a resin composition containing magnetic powder and a solvent around the coil conductor 2, a step for drying the resin composition by electromagnetic induction heating, and a step for curing the resin composition.例文帳に追加

フェライト材料から構成されるコア１にコイル導体２を巻き回す工程と、磁性粉末及び溶剤を含む樹脂組成物をコイル導体２の周囲に塗布する工程と、樹脂組成物を電磁誘導加熱により乾燥する工程と、樹脂組成物を硬化する工程と、を備えたことを特徴とする巻線型電子部品１０の製造方法。 - 特許庁

The solar battery manufacturing method includes a process for forming pn-junction by heating after applying a phosphoric acid aqueous solution to the main surface of a p-type crystal silicon substrate, and is characterized by forming a silicon nitride thin film on the main surface of the p-type crystal silicon substrate before being applied with the phosphoric acid aqueous solution.例文帳に追加

ｐ型結晶シリコン基板の主面上にリン酸水溶液を塗布した後に加熱することによりｐｎ接合を形成する工程を備え、前記リン酸水溶液を塗布する前に、前記ｐ型結晶シリコン基板の主面上に薄い窒化シリコン膜を形成することを特徴とする太陽電池の製造方法により、上記の課題を解決する。 - 特許庁

Further, even when introduction conditions of the n type or p type impurities and heating conditions of a semiconductor substrate 1 in well formation are predetermined, the reverse withstand voltage of the diode can optionally be set by adjusting the interval of the border area Ad, so the diode can be formed by using the well forming stage in an ordinary CMOS process.例文帳に追加

またｎ型およびｐ型の不純物の導入条件や、ウェル形成時における半導体基板１の加熱条件が予め決まっている場合でも、境界領域Ａｄの間隔を調節することでダイオードの逆方向耐電圧を任意に設定できるので、通常のＣＭＯＳプロセスでのウェル形成工程を用いてダイオードを形成できる。 - 特許庁

To provide the subject apparatus constituted so as to prevent the transmission of vibration, shaking and an impact to an unwinder or the like at the time of mold clamping or opening of both male and female molds not only to prevent the generation of trouble in the supply of a decorating sheet but also to easily regulate the position of a hot platen at the time of heating process.例文帳に追加

巻出機等に、雄雌両成形型の型締め時や型開き時における振動、揺れ、衝撃等が伝わらないようにして、絵付シート供給上の不具合を生じないようにでき、かつ、熱盤の加熱工程時の位置の調節を容易に行うことができるようにされた射出成形同時絵付装置を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the laminated optical element having a first optical substrate 2 and a second optical substrate (material 3' of the second optical substrate), an internal stress alleviation process for alleviating the internal stress of the first optical substrate 2 while heating the second optical substrate (the material 3' of the second optical substrate) is included.例文帳に追加

第１の光学基材２と第２の光学基材（第２の光学基材の材料３´）とを備える積層光学素子を製造する積層光学素子の製造方法において、第２の光学基材（第２の光学基材の材料３´）を加熱しつつ第１の光学基材２の内部応力を緩和させる内部応力緩和工程を含むようにする。 - 特許庁

To provide a method by which in a process for producing a silver ingot by heating and melting chlorine-containing silver powder in a crucible made of graphite, deoxidizing the obtained molten silver then casting the deoxidized molten silver into a mold, the generation of white smoke caused by the volatilization of silver chloride is prevented to improve a working environment, and further, a silver ingot having a low chlorine content is produced.例文帳に追加

塩素を含む銀粉を黒鉛製坩堝中で加熱熔融し、得られた熔融銀を脱酸素処理に付し、その後、鋳型に鋳造する銀インゴットの製造工程において、塩化銀の揮発による白煙の発生を防止し作業環境を向上するとともに、塩素含有量が低い銀インゴットを製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a release film which keeps the rate of dimensional change under heating/tension when a ceramic sheet is produced excellent in process aptitude and which is excellent in thermal shrinkage balance when ceramic slurry is dried and simultaneously in peeling antistatic properties and can enough satisfy performance required as a release film used when the ceramic sheet is produced.例文帳に追加

セラミックシートを製造する際の加熱張力下における寸法変化率が工程適正に優れるとともに、セラミックスラリーを乾燥する際の熱収縮バランスにも優れ、同時に、剥離帯電防止性に優れ、セラミックシート製造の際に用いられる離型フィルムとして求められる性能を十分に満足することのできる離型フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a melting pretreatment apparatus with which a melting pretreatment process can be simplified, a sorted material has no adhesion of fine ash and fine particles, a special processing device of waste plastics is unnecessary when waste plastics are utilized as a heating source of a melting device, and to provide a melting apparatus using the melting pretreatment apparatus.例文帳に追加

溶融の前処理工程を簡略にすることができると共に、分別物に微細な灰や細粒物の付着を有することなく、廃プラスチック類を溶融設備での熱源に利用する場合にも特別な廃プラスチック類の加工設備を必要としない溶融前処理装置及び該溶融前処理装置を用いた溶融装置を提供すること。 - 特許庁

The retardation of the film can be decreased, then the optical anisotropy, which impairs the high contrast characteristics of a liquid crystal display device, can be decreased by applying a magnetic field on the film material in the process of manufacturing the optical film consisting of cellulose acetate by a flow cast method, or by applying a magnetic field on the optical film consisting of cellulose acetate manufactured by a flow cast method while heating the film.例文帳に追加

酢酸セルロースエステルから成る光学用フイルムを流延法で製造する工程でフイルム材料に磁界をかけたり、流延法で製造された酢酸セルロースエステルの光学用フイルムに加熱しなが磁界をかけると、フイルムのレターデーション値を低下して液晶表示装置の高コントラスト特性を損なう光学的異方性を低くすることができる。 - 特許庁

A pressure cooker provides a cooling fan 21 which is a forced cooling means to cool a cooking pot 3 compulsorily, a heating means 25, a control means 26 which controls the cooling fan 21, and a pressure keeping time setting switch 13d as a pressure keeping time setting means which sets up the time duration of a pressure keeping process to keep the cooking pan 3 hermetically.例文帳に追加

加圧調理器は、調理鍋３を強制的に冷却する強制冷却手段である冷却ファン２１と、加熱手段２５及び冷却ファン２１を制御する制御手段２６と、調理鍋３を密閉状態で保持する保圧工程の継続時間を設定する保圧時間設定手段としての保圧時間設定スイッチ１３ｄとを備える。 - 特許庁

The sample observation method using the electron microscope includes a fixing process for placing the sample 1 on a sample stand 2 and heating the metal joining material 3 while subjecting the same to ultrasonic vibration not only to join and fix the sample 1 and the sample stand 2 but also to electrically connect both of them and the sample 1 is observed using the electron microscope as it remains fixed on the sample stand 2.例文帳に追加

試料台２上に試料１を載置し、金属接合材３を超音波振動させながら加熱することで試料１と試料台２とを金属接合材３により接合して固定すると共に電気的に接続する固定工程を備え、試料台２上に試料１を固定した状態で電子顕微鏡を用いた観察を行う。 - 特許庁

In this leached water treatment method for separating and recovering a very small amount of a pollutant, which is contained in treated water obtained after the leached water of a controlled final disposal plant F is treated to a dischargeable degree, as solid matter, a process (apparatuses 21 and 22) for heating treated water under a vacuum atmosphere to evaporate water is provided.例文帳に追加

管理型最終処分場Ｆの浸出水を放流可能な程度まで処理した後の処理水中に含まれる微量汚染物質を固形物として分離回収する浸出水処理するものであって、処理水を真空雰囲気下で加熱して水分を蒸発させる工程（装置２１、２２）を備えた構成になっている。 - 特許庁

In the process A, a film-forming material is supplied (202) to allow inorganic starting gas to attach to the substrate being unreacted during the heating of the substrate up to a film-forming temperature, and an oxygen radical is supplied to the substrate for performing (203) RPO (remote plasma oxidation) treatment to form the first film layer thereon.例文帳に追加

第１薄膜層形成工程Ａは、基板温度を成膜温度まで昇温させる基板昇温加熱の途中で、有機原料ガスを基板上に未反応のまま付着させる成膜原料供給を行なった後（２０２）、酸素ラジカルを基板上に供給して第１の薄膜層を形成するＲＰＯ（リモートプラズマ酸化）処理を行なう（２０３）。 - 特許庁

In a process of mixing Mg or a Mg alloy raw material with a carbon-based raw material and heating the mixture to produce the Mg-based composite material, the method for producing the magnesium-based composite material includes using a carbon-based raw material having an oxygen-containing compound at least on the surface, as the carbon-based raw material.例文帳に追加

ＭgまたはＭg合金原料と、炭素系原料とを混合体とし、これを加熱してＭg系複合材料とする工程において、該炭素系原料として、少なくとも表面に酸素含有化合物を有する炭素系原料を用いることを特徴とするＭg系複合材料の製造方法により、上記課題が解決される。 - 特許庁

In this cleaning facility for removing the harmful gas discharged from the semiconductor manufacturing process by thermally decomposing the harmful gas by the combustion waste gas or flame obtained by burning the fuel, a side face of the thermal decomposition chamber is a wall having air permeability and heating insulating property, and the oxygen-containing gas is introduced into the thermal decomposition chamber through the wall.例文帳に追加

半導体製造工程から排出される有害ガスを、燃料を燃焼して得られる燃焼排ガスまたは火炎により熱分解して浄化する浄化装置において、熱分解室の側面を通気性及び断熱性を有する壁とし、これを介して酸素含有ガスを熱分解室へ導入する構成を備えた浄化装置とする。 - 特許庁

In a process for manufacturing the glass tube, a glass rod 3 is heated and softened by a heating element 41 placed around it, and a piercing tool 30 is press-fitted into the softened part of the glass rod 3 to gradually mold the glass rod 3 into the glass tube 6.例文帳に追加

本発明のガラス管の製造方法は、ガラスロッド３の周囲に発熱体４１を配置し、発熱体４１によりガラスロッド３を加熱して軟化させ、ガラスロッド３の軟化した領域に穿孔治具３０を圧入することで、ガラスロッド３を漸次ガラス管６に成形する際に、ガラス管６の内周側と外周側に付加される応力をそれぞれ制御する。 - 特許庁

To provide an apparatus for producing a ripened compost in which operating efficiency and the production efficiency of the ripened compost by concentrating manpower within a day shift time and taking a heat treatment time of ≥15 hours in one day of a batch operation and fuel consumption for a heating process is reduced by preventing the temperature from lowering.例文帳に追加

熟成コンポスト様物製造装置の１日のバッチ式運転において、1５時間以上もの加熱処理時間を取りながら、人手による作業を日勤時間内に集中させることにより装置の運転効率、熟成コンポスト様物の生産効率を高めると共に、装置の温度低下を防止して加熱のための燃料消費量を低減する。 - 特許庁

The method for producing the mixing agent comprises a dissolving process of heating a mixture containing powder of organic acid (such as citric acid) having carboxyl-base and/or hydroxyl-base, FeO powder (FeO powder produced by a specific method and hard to oxidize) and water, and dissolving the organic acid powder and FeO powder in water to bring into an aqueous solution.例文帳に追加

また、その製造方法は、カルボキシル基及び／又はヒドロキシル基を有する有機酸（クエン酸等）の粉末と、ＦｅＯ粉末（特定の方法により製造された酸化され難いＦｅＯ粉末等）と、水とを含有する混合物を加熱し、有機酸の粉末及びＦｅＯ粉末を水に溶解させて水溶液とする溶解工程を備える。 - 特許庁

To provide an over film for wall covering, which is excellent in secondary processability such as a heat processing, has heat resistance sufficiently bearing to a drying process in the case of applying print or the like, prevents removal of emboss in the case of applying surface design such as embossing by heating, and is capable of expressing a design having a thin, deep and clear outline.例文帳に追加

熱加工等の二次加工性に優れ、印刷等を付与する場合の乾燥工程にも十分耐えうる耐熱性を有し、熱加工によりシボ加工等の表面意匠を施した場合においても、シボ戻りを防ぎ、細く深い輪郭のしっかりした意匠を表現することができる壁装用オーバーフィルムを提供する。 - 特許庁

The manufacturing method is provided with a heat treatment process for forming an aluminum oxide layer by heating aluminum nitride-based sintered compact at 1,000-1,500°C under a condition adjusted to an atmosphere of 0.0001-0.01 MPa oxygen partial pressure and ≥0.001 MPa water vapor partial pressure to oxidize the surface layer.例文帳に追加

酸素分圧が０．０００１〜０．０１ＭＰａ、水蒸気分圧が０．００１ＭＰａ以上の雰囲気に調整された条件下において、窒化アルミニウム系焼結体を１０００〜１５００℃の温度範囲で熱処理することにより、その表層を酸化させて酸化アルミニウム層を形成させるための熱処理工程を備える製造方法を用いる。 - 特許庁

The process generally entails processing the surface of the substrate 20 to be substantially free of oxides, heating the substrate 20 in a non-oxidizing atmosphere to a carburization temperature, and then contacting the surface of the substrate 20 with a carburization gas mixture comprising a diluted low activity hydrocarbon gas while maintaining the substrate 20 at the carburization temperature.例文帳に追加

このプロセスでは、一般に、基材２０の表面を加工処理して酸化物を実質的に含まないようにし、基材２０を非酸化性雰囲気中で浸炭温度に加熱し、次いで基材２０を浸炭温度に維持しつつ基材２０の表面を希釈された低活性炭化水素ガスを含む浸炭ガス混合物と接触させる。 - 特許庁

To provide an electron emitting element capable of obtaining the even electron emitting characteristic over a large area and being easily manufactured at a low cost and coping with unevenness of the element pitch per each board due to the dimensional change of the board in a heating process, and to provide an electron source having excellent evenness and productivity, to provide an image forming device, and to provide methods of manufacturing them.例文帳に追加

大面積にわたって均一な電子放出特性が得られ、低コストで容易に製造でき、かつ熱プロセスにおける基板の寸法変化に起因する基板ごとの素子ピッチのばらつきにも対応可能な電子放出素子、均一性および生産性に優れた電子源、画像形成装置、およびこれらの製造方法を提供する。 - 特許庁

Quartz glass formed articles formed by heating and melting a quartz glass preform with a thermal formation process are heat-treated in an oxygen-containing environment at a temperature not practically causing the deformation of the quartz glass to react oxygen molecules with Si-Si type oxygen-deficient defects on the surface of the glass so that the Si-O-Si silica glass networks are restored.例文帳に追加

加熱成形加工により石英ガラス母材を加熱溶融させて得た石英ガラス成形品を、酸素含有雰囲気下で、且つ石英ガラスが実質的に変形しない温度下で加熱処理し、ガラス表層部のＳｉ−Ｓｉ型の酸素欠乏欠陥に対し、酸素欠乏欠陥と酸素分子を反応させ、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉシリカガラスのネットワークに復元させる。 - 特許庁

When a solder bump that is formed either a semiconductor device or the connection pad of a wiring board, or both of them is to be connected, a process for applying ultrasonic waves in a plurality of directions or while a circular track is being drawn under pressure, heating, and the contact/melting of the solder bump is provided, thus achieving the flip-bonding without using any flux.例文帳に追加

半導体素子または配線基板の接続パッドのどちらかあるいは両方に形成した半田バンプを接続する際に、加圧、加熱、および半田バンプが接触・溶融した状態で、複数方向または円軌道を描きながら超音波を印加する工程を有することで、フラックスを用いることなくフリップチップボンディングを行う。 - 特許庁

This method for producing the phosphoric acid ester comprises (A) making the phosphoric acid ester contact with an inert gas, after heating the phosphoric acid ester, so as to reduce the amount of the smelling component contained in the phosphoric acid ester, and (B) cooling the phosphoric acid ester of which the amount of the smelling component is reduced by the process (A), and further repeating the processes (A) and (B).例文帳に追加

（Ａ）リン酸エステルを加熱した後、不活性ガスと該リン酸エステルとを接触させ、該リン酸エステルに含有されている有臭成分量を低減する工程、及び（Ｂ）工程（Ａ）で有臭成分量が低減されたリン酸エステルを冷却する工程を繰り返す、有臭成分量が低減されたリン酸エステルの製造法。 - 特許庁

This method for producing the molten salt-free cheese, the cheese food or the food having milk as the main raw material having a calcium content of ≤18 mg/g per protein and texture like process cheese comprises obtaining raw material cheese by blending cheese and/or a casein material having a calcium content of ≤18 mg/g per protein and heating and mixing the product without addition of the molten salt.例文帳に追加

蛋白質あたりのカルシウム含量が18mg/g以下のチーズ及び／又はカゼイン素材を配合して原料チーズとし、溶融塩を添加しないで加熱混合することにより、蛋白質あたりのカルシウム含量が18mg/g以下である、プロセスチーズ様の組織を有する溶融塩無添加チーズ、チーズフード又は乳等を主要原料とする食品を得る。 - 特許庁

A semiconductor layer formation process is performed, where a semiconductor layer 13 made of an n-type low-resistance region having higher impurity concentration than a semiconductor substrate 1 at the scheduled formation part (inside the semiconductor substrate 1 at one surface side of the semiconductor substrate 1) of the electrical heating element 3 at one surface side of the semiconductor substrate 1 made of a p-type silicon substrate.例文帳に追加

ｐ形シリコン基板からなる半導体基板１の一表面側における発熱体３の形成予定部位（半導体基板１の上記一表面側における半導体基板１内）に半導体基板１よりも不純物濃度が高いｎ形の低抵抗領域からなる半導体層１３を形成する半導体層形成工程を行う。 - 特許庁

The fiber reinforced thermoplastic sheet is manufacture by a process wherein the mixed fiber mat 1b is continuously formed while the reinforcing fibers and the thermoplastic resin fibers are mixed and the reinforcing fiber cloth 10a is longitudinally inserted in the gap between the mats 1b and these mats 1b are bonded under heating and pressure to bond the reinforcing fibers by the molten resin of the thermoplastic resin fibers.例文帳に追加

また、強化繊維と熱可塑性樹脂繊維とを混合しながら連続的に混合繊維マット１ｂを形成し、このマット１ｂの間に強化繊維クロス１０ａを長手方向に挿入した後、混合繊維マット１ｂを加熱圧着して強化繊維を熱可塑性樹脂繊維の溶融樹脂で結合するようにして製造した。 - 特許庁

In forming these dot spacers, the positive-type photosensitive resin composition is spread over a base material 1 and dried, thereafter cylindrical projections, for example, are formed by selective irradiation of active energy rays and by a developing process, then they are softened by heating, and thereby a pattern of the edgeless and substantially hemispherical minute projections 3 is formed.例文帳に追加

このようなタッチパネル用ドットスペーサーの形成においては、ポジ型感光性樹脂組成物を基材１上に塗布して乾燥した後、活性エネルギー線の選択的照射及び現像工程により例えば円柱状突起物を形成し、次いでこれを加熱軟化処理することにより、角のない略半球状の微小突起物３のパターンが形成される。 - 特許庁

The process comprises the steps of: providing a semiconductor substrate having high aspect ratio features; contacting the semiconductor substrate with a liquid formulation comprising a low molecular weight aminosilane; forming a film by spreading the liquid formulation over the semiconductor substrate; and heating the film at elevated temperatures under oxidative conditions.例文帳に追加

高アスペクト比の特徴を有する半導体基材を用意する工程、該半導体基材を低分子量のアミノシランを含む液体配合物と接触させる工程、該半導体基材上に該液体配合物を塗布することにより膜を形成する工程、及び該膜を酸化条件下において高温で加熱する工程を含む方法が提供される。 - 特許庁

The process for growing the III-V compound semiconductor layer 5 comprises processes of: heating the substrate 1 so that the temperature of the substrate 1 becomes a value Tsub (2) which is higher than the first value Tsub (1) at formation start time of the III-V compound semiconductor layer 5; and lowering the temperature of the substrate 1 as the III-V compound semiconductor layer 5 grows.例文帳に追加

III−Ｖ族化合物半導体層５を成長させる工程は、III−Ｖ族化合物半導体層５の成長開始時に、基板１の温度が第１の値Ｔｓｕｂ（１）よりも高い第２の値Ｔｓｕｂ（２）になるように基板１を加熱する工程と、III−Ｖ族化合物半導体層５の成長と共に、基板１の温度を低下させる工程とを含む。 - 特許庁

To provide a tape for wafer processing as an adhesive tape for surface protection that can secure processing precision of a wafer while relieving stress during grinding to some extent in a back grinding process, makes wafer warpage small after the back grinding, and less shrinks even when receiving a thermal history in various heating processes after grinding to give no damage to the wafer having been made thin.例文帳に追加

本発明はバックグラインディング工程において研削時の応力をある程度緩和しつつウエハの加工精度も確保することができ、バックグラインディング後のウエハ反りが小さく、研削後の各種加熱工程での熱履歴を受けても収縮が小さく薄化したウエハへのダメージがない表面保護用粘着テープとして好適なウエハ加工テープを提供する。 - 特許庁

It can be produced by applying an aqueous solution of a polyvinyl alcohol to the surface of an SiC whisker preform, heating and drying the solution to obtain a reinforced SiC whisker preform, impregnating a binder solution containing dissolved polycarbosilane into the preform, drying the product, heat-treating at temperature of 700-1700°C in a non-oxidizing atmosphere and forming an SiC coating film by CVD process.例文帳に追加

その製造方法はＳｉＣウイスカープリフォームの表面にポリビニルアルコール水溶液を被着、加熱乾燥して強化したＳｉＣウイスカープリフォームに、ポリカルボシランを溶解したバインダー溶液を含浸し、乾燥した後、非酸化性雰囲気中７００〜１７００℃の温度で熱処理し、次いでＣＶＤ法によりＳｉＣ被膜を形成する。 - 特許庁

A method for producing carbon yarns, comprising heating a precursor fiber bundle in an oxidative atmosphere to subject the precursor fiber bundle to a flame-resisting treatment and then carbonizing the treated precursor fiber bundle, characterized in that in the flame-resisting treatment process, the precursor fiber bundle is allowed to pass through plural fixed guide bars to open and then guided into a flame-resisting oven.例文帳に追加

本発明の炭素繊維の製造方法は、前駆体繊維束を酸化性雰囲気中で加熱して耐炎化処理した後、引き続き炭化処理する炭素繊維の製造方法において、該耐炎化処理を行う工程において、該前駆体繊維束を、複数本の固定ガイドバーを通過させて開繊して耐炎化炉に入れることを特徴とするものである。 - 特許庁

In the process of heating, a water-vapor detection signal can be take in without fail in a non-oscillation period of the magnetron 20, and therefore even if the high-voltage transformer 31 is replaced by one having specifications different from original specifications, noise elements produced due to the oscillation of the magnetron 20 can be surely prevented from superimposing on the water- vapor detection signal.例文帳に追加

これにより、加熱過程において水蒸気検出信号を必ずマグネトロン２０の非発振期間において取り込めるようになるから、仮に高圧トランス３１を当初の仕様と異なる仕様のものに取り替えたとしても、水蒸気検出信号に対してマグネトロン２０の発振に伴い発生するノイズ成分が重畳することを確実に防げる。 - 特許庁

The method of manufacturing the reproduced all-solid battery includes a crystallization process of forming a reproduced solid electrolyte layer by crystallizing amorphous Li ion conductive sulfur glass by heating a solid electrolyte layer before reproduction which includes the amorphous Li ion conductive sulfur glass.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、アモルファス状のＬｉイオン伝導性硫化物ガラスを含む再生前固体電解質層を加熱することにより、上記アモルファス状のＬｉイオン伝導性硫化物ガラスを結晶化し、再生化固体電解質層を形成する結晶化工程を有することを特徴とする再生化全固体電池の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing an electrostatic charge image developing toner includes an aggregation process of heating a mixture dispersion liquid containing at least binder primary particles, coloring agent particles and charge controlling agent particles to obtain aggregated particles.例文帳に追加

少なくとも、バインダー一次粒子、着色剤粒子、及び荷電制御剤粒子を含む混合分散液を、加温することによって凝集粒子を得る凝集工程を有する静電荷像現像用トナーの製造方法において、凝集工程における攪拌時の液面形状が下式（Ｉ）及び式（ＩＩ）を満たすことを特徴とする、静電荷像現像用トナーの製造方法。 - 特許庁

In this manufacturing method of the radiological image conversion panel including a process for forming a phosphor layer by depositing on a substrate a material generated by heating an evaporation source containing a halogen-containing phosphor or its raw material, deposition is performed in a deposition atmosphere having a partial pressure of hydrogen halogenide of 2.0×10^-5 Pa or higher.例文帳に追加

ハロゲン含有蛍光体もしくはその原料を含む蒸発源を加熱して発生する物質を基板上に蒸着させることにより蛍光体層を形成する工程を含む放射線像変換パネルの製造方法において、該蒸着を、ハロゲン化水素の分圧が２．０×１０^−５Ｐａ以上の蒸着雰囲気中で行う。 - 特許庁

The particle 20 is obtained, when, in a state where the particle 10 of nickel hydroxide is suspended in polyols, heating is performed without perfectly reducing the nickel hydroxide particle 10 by finishing the reaction in the process of the reduction, forming many micro-nickel particles 12 in the nickel hydroxide particle 10, and then cracking the nickel hydroxide particle 10.例文帳に追加

この粒子２０は、水酸化ニッケルの粒子１０をポリオール類中に懸濁させた状態で加熱してニッケルに還元する際に、水酸化ニッケル粒子１０を完全に還元させず、還元の途中で反応を終了させて、水酸化ニッケル粒子１０内に多数の微小ニッケル粒子１２を生成させ、次いで水酸化ニッケル粒子１０を解砕して得られる。 - 特許庁

To raise a vapor pressure rapidly to bring the fuel close to a complete combustion by increasing the heat quantity of a single petroleum fuel, and reduce the time for high combustion heating of a boiler to reduce consumption of the fuel, thus attaining prolongation of the service life of the machinery and temperature stabilization in a production process.例文帳に追加

単一石油燃料の燃焼熱量を高くして、速く蒸気圧力を上昇させ完全燃焼に近づける事で排気ガスの清浄化と燃料消費量の軽減をするボイラーの高燃焼加熱時間を短縮し石油燃料の消費量を節約して機械の長寿化と生産工程の温度安定を提供する。 - 特許庁

The inner structure of the syringe comprises special materials, especially glass, plastics, quartz and/or corundum, and the surface is reformed by an etching agent, e.g. acid or caustic alkali solution, especially the chromic acid mixture, uninterruptedly after removal of the etching agent and cleaning of the syringe, and the surface of the syringe inner structure is especially sterilized by a pressurized heating process according to circumstances.例文帳に追加

注射器の内部構造は特別な材料、特にガラス、プラスチック、石英および／またはコランダム、からなり、その表面は特にエッチング剤、例えば酸または苛性アルカリ溶液、特にクロム硫酸で改質され、引き続きエッチング剤の除去と注射器の洗浄後に場合によっては注射器内部構造の表面が、特に加圧熱処理によって、滅菌される。 - 特許庁

In a joining process of membrane-electrode joined body comprising at least a proton exchange membrane, an electrode catalyst layer and an electrode base material, the proton exchange membrane and/or an electrode catalyst layer previously containing a solvent are used, and the solvent is evaporated from the proton exchange membrane and/or the electrode catalyst layer by pressurizing and heating them.例文帳に追加

少なくとも、プロトン交換膜、電極触媒層、電極基材から構成される膜−電極接合体の接合工程において、予め溶媒を含んだプロトン交換膜および／または電極触媒層を用い、加圧および加熱することにより、プロトン交換膜および／または電極触媒層から溶媒を蒸発せしめることを特徴とする。 - 特許庁