「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(241ページ目) - Weblio英語例文検索

The memory has a plurality of memory cell transistors each comprising a gate insulation film 2 electrically conducting owing to a tunnel effect, a floating gate electrode 21 on the gate insulation film 2, an inter-electrode insulation film 11 formed on the floating gate electrode 21 having a positive charge layer at the layer side of the lower half of a film thickness, and a control gate electrode 24 on the insulation film 11.例文帳に追加

トンネル効果で電気伝導するゲート絶縁膜２と、このゲート絶縁膜２上の浮遊ゲート電極２１と、この浮遊ゲート電極２１上に配置され、膜厚の半分よりも下層側に正電荷層を有する電極間絶縁膜１１と、この電極間絶縁膜１１上の制御ゲート電極２４とを備えるメモリセルトランジスタを複数個配置する。 - 特許庁

The multi-layer sheet comprises laminated three or more sheets including at least two or more sheets consisting of a thermoplastic resin and an inorganic plate-like filler, wherein its laminate form has a concentration distribution of the inorganic plate-like filler in a thickness direction of satisfying a specific relationship, and an average inorganic filler concentration in the multi-layer sheet in total of 3 wt.% or higher.例文帳に追加

熱可塑性樹脂および無機板状充填材からなるシートを少なくとも２枚以上含む３枚以上のシートを積層してなる多層シートであって、無機板状充填材の厚み方向の濃度分布が特定の関係式を満たし、かつ多層シート全体の平均無機充填材濃度が３重量％以上となるような積層形態をとる多層シート。 - 特許庁

To prevent decrease in the sample transmission capacity of electron beams in a STEM observation with decreased acceleration voltage and the bad influence of a damaged layer generated by the application of ion beams, to remove the damaged layer effectively by minimizing the damage to a desired region in a sample, and to prevent processing failure by detecting an optimum processing completion point in time even if the thickness of a thin-film sample is reduced.例文帳に追加

加速電圧を下げたＳＴＥＭ観察での電子ビームの試料透過能力の低下やイオンビームの照射により生じるダメージ層の悪影響を防ぎ、試料の所望の領域への損傷を最小限にしてダメージ層を効果的に除去すること、および薄膜試料の厚さがより薄くなっても最適な加工終了時点を検出して加工失敗を防ぐ。 - 特許庁

In two small areas (i.e., a first small area and a second small area) provided outside the central part within the emitting area, a transparent layer 111A and a transparent layer 111B that are optically transparent dielectric films to reduce a reflectance of each small area lower than that of the central part of the emitting area are formed at an optical thickness of [oscillation wavelength/4].例文帳に追加

また、射出領域内で、該射出領域の中心部から外れた部分に設けられた２つの小領域（第１の小領域、第２の小領域）には、各小領域の反射率を射出領域の中心部の反射率よりも低くする透明な誘電体膜である透明層１１１Ａ及び透明層１１１Ｂが「発振波長／４」の光学的厚さで設けられている。 - 特許庁

This radiological image conversion panel having a stimulable phosphor layer on a support has a characteristic wherein at least one stimulable phosphor layer is formed by a vapor-phase method (namely, a vapor-phase deposition method) so as to have the film thickness of 50μm - 1 mm, the support is constituted of a thermoplastic resin, and a carbon fiber is mixed in the thermoplastic resin.例文帳に追加

支持体上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、少なくとも１層の該輝尽性蛍光体層が気相法（気相堆積法ともいう）により５０μｍ〜１ｍｍの膜厚を有するように形成され、該支持体が熱可塑性樹脂で構成され、熱可塑性樹脂中に炭素繊維が混合されていることを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming a recess 5 or a protrusion on the upper surface of a semiconductor substrate 1, then performing a homoepitaxy on the upper surface of the substrate 1 to form a homoepitaxial film 4 and a defect layer 6, and measuring the thickness of the film 4 based on the measurement of the length dimension of the layer 6 in the off direction.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、半導体基板１の上面に凹部５または凸部を形成した後、半導体基板１の上面にホモエピタキシーを実行してホモエピタキシャル膜４と欠陥層６とを形成し、そして、欠陥層６のオフ方向の長さ寸法を測定することに基づいてホモエピタキシャル膜４の膜厚を測定するように構成したものである。 - 特許庁

(1) In the photosensitive resin laminate with a photosensitive resin layer on the substrate by way of an adhesive layer, the substrate is a polymethyl methacrylate and/or modified polymethyl methacrylate resin of ≥1 mm thickness.例文帳に追加

支持体上に、接着層を介して感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体において、前記支持体が、厚さが１ｍｍ以上のポリメタクリル酸メチル及び／又は変成ポリメタクリル酸メチル樹脂であることを特徴とする感光性樹脂積層体、 接着層が少なくともＡ、Ｂ及びＣ成分を含有する組成物からなることを特徴とする前記 記載の感光性樹脂積層体である。 - 特許庁

The ultrasonic vibrator has a piezoelectric layer and an electrode laminated alternately by three or more layers in a thickness direction, wherein the piezoelectric layer is composed of an organic polymer material and the electrode is made of metal, electrodes being bonded together via an adhesive layer containing a compound having a sulfhydryl group (-SH group) or a disulfide bond (-S-S-) or a reaction product thereof.例文帳に追加

圧電層と電極が交互に厚さ方向にそれぞれ三層以上積層された積層型超音波振動子であって、当該圧電層は有機高分子材料により構成されており、当該電極は金属で構成されており、かつ当該電極同士はメルカプト基（−ＳＨ基）又はジスルフィド結合（−Ｓ−Ｓ−）を有する化合物又はその反応生成物を含有する接着層を介して接着されていることを特徴とする積層型超音波振動子。 - 特許庁

In the planar heating element having a resistor 3 formed on a substrate 1 by screen-printing using ink containing conductive particles, and an insulation coating layer 4 formed to cover the resistor by screen-printing using ink containing heat-resistant resin, the resistor touches at least the insulation coating layer and the surface layer of the resistor in the thickness direction is formed of ink containing carbon particles.例文帳に追加

導電性粒子を含んだインクを用いて、スクリーン印刷によって基材１上に形成された抵抗体３と、耐熱性の樹脂を含んだインクを用いて、スクリーン印刷によって抵抗体を覆うように形成された絶縁被覆層４とを有した面状発熱体であって、前記抵抗体は、少なくとも、絶縁被覆層と接し、かつ、厚み方向の表層部が、カーボン粒子を含んだインクによって形成されていることを特徴とする面状発熱体である。 - 特許庁

Furthermore, the method of manufacturing optical compensation element, having the optical anisotropic layer formed from the composition which contains at least the liquid crystalline compound, comprises a process of changing at least one of the in-plane retardations Re and the retardations Rth in the thickness direction of the optical anisotropic layer by 5 nm or larger, by making a part of liquid crystalline molecules in the optical anisotropic layer elute according to the solution treatment.例文帳に追加

また、少なくとも液晶性化合物を含有する組成物から形成された光学異方性層を有する光学補償素子の製造方法であって、溶液処理によって、前記光学異方性層中の液晶性分子の一部を溶出させて、前記光学異方性層の面内レターデーションＲｅ及び厚み方向のレターデーションＲｔｈのうち少なくとも一方を５ｎｍ以上変化させることを含む光学補償素子の製造方法である。 - 特許庁

To provide an adhesive tape for processing wafer which is laminated on the wafer surface in order to protect the luminous layer or the circuit surface and to allow for grinding the backside of the wafer to a predetermined finish thickness with no problem, in a process of grinding the backside of a brittle wafer, especially a sapphire wafer.例文帳に追加

本発明は、脆性ウェハ、特にサファイアウェハの裏面を研削する工程において、該ウェハ表面に貼合することにより発光層や回路面を保護するとともに、該ウェハの裏面を所定の仕上げ厚さまで問題なく研削することを可能とする、ウェハ加工用粘着テープを提供する。 - 特許庁

When that film is removed by performing cleaning with a fluorine based gas, the film 10 deposited on the surface of the shower plate 2 is not removed entirely but a film 11 of a specified thickness is left so that a fluoride layer of fluorine based gas component is not formed on the surface of the shower plate 2.例文帳に追加

弗素系ガスによるクリーニングを行ってこの堆積した膜を除去する際、シャワー板２の表面に堆積した膜１０の全てを除去しないで、所定の厚さの膜１１を残して、シャワー板２の表面に弗素系ガス成分である弗化層が形成されないようにする。 - 特許庁

To provide a developing device capable of effectively preventing the leakage of developer from an adjacent part between a leakage preventing member and the projecting member of a layer thickness regulating member with simple constitution, and an image carrier device equipped with the developing device and an image forming apparatus.例文帳に追加

漏れ防止部材と層厚規制部材の突出部材との隣接部分からの現像剤の漏れを、簡易な構成により、効果的に防止することのできる現像装置、および、その現像装置が装備される像担持体装置および画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

This golf ball manufacturing method includes a process of molding a cover material mainly composed of thermoplastic resin by heating and pressurization and molding a half shell, and a process of covering two half shells over a core or an intermediate layer by molding by heating and pressurization and forming a cover with a thickness of 0.3-1.5 mm.例文帳に追加

熱可塑性樹脂を主成分とするカバー材料を加熱加圧成形し、ハーフシェルを成形する工程と、該ハーフシェルの２枚を加熱加圧成形によってコアまたは中間層に被覆し、厚み０．３〜１．５ｍｍのカバーを形成する工程とを含むことを特徴とするゴルフボール製造方法。 - 特許庁

The styrenic resin extruded foam has 20-80 kg/m^3 bulk specific gravity of the whole and the bulk specific gravity in the surface layer part from the surface to 2 mm in the thickness direction is higher than the bulk specific gravity of the whole and >50 to ≤105 kg/m^3.例文帳に追加

本スチレン系樹脂押出発泡体は、全体の嵩比重が２０〜８０ｋｇ／ｍ^３であり、表面から厚み方向に２ｍｍまでの表層部における嵩比重が上記全体の嵩比重よりも高くかつ５０ｋｇ／ｍ^３超１０５ｋｇ／ｍ^３以下である。 - 特許庁

To provide a sintering apparatus for ceramic parts that exfoliation of the ceramic part caused by a crack formed in the layer direction is reduced and the lowering of the performance at the time of initial operation of the gas turbine can be prevented by previously forming desired cracks in the thickness direction within a ceramic part such as a turbine shroud or the like.例文帳に追加

タービンシュラウド等のセラミックス部品に予め所望の板厚方向クラックを形成することができ、これにより、層方向クラックによるセラミックス部の剥離を低減し、ガスタービンの初期運転時の性能低下を未然に防止することができる、セラミックス部品の焼結装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image display device capable of improving a manufacturing yield and high reliability by preventing oxidation of a terminal part in a positive electrode oxidation process of a lower electrode (signal line) constituting a thin-film type electron source, and of increasing the thickness of an interlayer insulation layer formed at the same time.例文帳に追加

薄膜型電子源を構成する下部電極（信号線）の陽極酸化処理における端子部の酸化を防止して、製造歩留まりと、高信頼性を向上し、同時に形成する層間絶縁層の厚膜化を実現した画像表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an adhesive spacer for a liquid crystal display apparatus, by which high coating efficiency on surfaces of seed particles and excellent productivity of spacer particles can be obtained, preferable dispersion stability (colloidal stability) after coating is obtained, and the thickness and amount of a coating layer can be easily controlled.例文帳に追加

シード粒子表面への被覆効率が高く、スペーサー粒子の生産性にも優れるとともに、被覆後の分散安定性（コロイド的安定性）も良好で、被覆層の厚みや量を容易に制御できる、液晶表示装置用接着性スペーサーの製造方法を提供する。 - 特許庁

The conductor layer 17 is that with meshes including mesh conductor parts 17W having many holes 17WP formed at the frame part 1W, but each mesh conductor 17W is formed at a position not in a projection area 1WT where the positioning mark 3 is projected along the thickness.例文帳に追加

上記導体層１７は、枠部１Ｗに多数の孔１７ＷＰが形成されたメッシュ導体部１７Ｗを含むメッシュ付き導体層１７であるが、メッシュ導体部１７Ｗは、いずれも位置合わせマーク３を厚さ方向に投影した投影領域１ＷＴ以外の位置に形成されている。 - 特許庁

In the galvannealed steel sheet, an iron-zinc alloy plating phase composed essentially of δ1-phase, being free from ζ-phase at the surface, and having a flat zone is formed at least on one side of a steel sheet and an oxide layer of ≥10 nm thickness is formed on the surface of the flat zone.例文帳に追加

主としてδ_1相からなり、表面にζ相が存在せず、かつ平坦部を有する鉄−亜鉛合金めっき相が少なくとも鋼板の片面に形成され、その平坦部表層に10nm以上の厚さの酸化物層を有する合金化溶融亜鉛めっき鋼板。 - 特許庁

A vapor deposition apparatus for producing an organic light emitting element is equipped with an organic compound layer on a substrate 1 having an electrode, wherein a film thickness correction plate 23 arranged between a vapor deposition source 20 and the substrate 1 is relatively moved in an X direction with respect to the substrate 1 together with the vapor deposition source 20.例文帳に追加

電極を有する基板１上に有機化合物層を備えた有機発光素子を製造する蒸着装置において、蒸着源２０と基板１の間に配置した膜厚補正板２３を蒸着源２０とともに基板１に対してＸ方向に相対的に移動させる。 - 特許庁

To provide a resistor capable of improving reliability of a soldering portion in being subjected to heat shock and the like by ensuring thickness of solder between a land pattern and the rear electrode layer at 50 μm or more, when mounting the resistor on a printed wiring board with the land pattern being reduced.例文帳に追加

ランドパターンを縮小して抵抗器をプリント基板に実装した際にランドパターンと裏面電極層間のはんだの厚みを５０μｍ以上確保して熱衝撃等を受けたときのはんだ付け部の信頼性を向上させることができる抵抗器を提供することを目的とする。 - 特許庁

A photodetector includes a silicon oxide layer whose thickness od 3 to 10 nm formed on a first conductive silicon substrate, a first conductivity-type depletion blocking region formed just under the silicon oxide film, and a second conductivity-type charge accumulation region formed under the depletion blocking region.例文帳に追加

本発明の受光素子は、第１導電型のシリコン基板上に形成された厚さ３〜１０ｎｍのシリコン酸化膜と、この直下に形成された第１導電型の空乏化阻止領域と、空乏化阻止領域の下方に形成された第２導電型の電荷蓄積領域とを有する。 - 特許庁

Electron beams are radiated on an Au-Sn alloy as a first target while an electron beam vapor deposition apparatus is maintained in a vacuum state, a first alloy layer 3a of the thickness d1 (for example, d1 = 1 μm) is deposited on an AlN substrate 1, and the first electron beam radiation is completed.例文帳に追加

電子ビーム蒸着装置を真空に保持した状態で第１のターゲットであるＡｕ−Ｓｎ合金に電子ビームを放射してＡｌＮ基板１上に厚さｄ１（例えばｄ１＝１μｍ）の第１次合金層３ａを被着させて第１の電子ビーム放射を終了する。 - 特許庁

The press cage 1 for a self-aligning roller bearing 2 is manufactured by pressing a cold rolled steel plate SPCC material or a hot rolled steel plate SPHD material and applying soft nitriding to form a nitride layer having a thickness of 1 μm or larger and 20 μm or smaller on the surface of the cage 1.例文帳に追加

冷間圧延鋼板ＳＰＣＣ材又は熱間圧延鋼板ＳＰＨＤ材からプレス成形にて自動調心ころ軸受２用のプレス保持器１を作製し、軟窒化処理を施して、保持器１の表面に厚さ１μｍ以上２０μｍ以下の窒化物層を形成した。 - 特許庁

A second liquid droplet ejecting device ejects second liquid droplets D2 toward a plurality of second lattice points K2 regulated between the first lattice points adjacent to each other in the direction Y to laminate an alignment layer whose film thickness in regions on the streak parts A1 is made to be relatively thin on the transparent electrode.例文帳に追加

そして、第二液滴吐出装置が、Ｙ方向に隣接する第一格子点の間に規定された複数の第二格子点Ｋ２に向けて第二液滴Ｄ２を吐出させ、スジ部Ａ１上の領域の膜厚を相対的に薄くした配向膜を前記透明電極に積層する。 - 特許庁

To provide a multilayer circuit board (motherboard or semiconductor chip mounting board) capable of ensuring high bonding strength between an interlayer insulating layer and wiring without forming an unevenness having a thickness of almost exceeding 1 μm and efficiently transmitting a high-speed electric signal, and to provide a method of manufacturing a semiconductor package or the like.例文帳に追加

配線の表面に１μｍを超す程度の凹凸を形成することなく層間絶縁層と配線の接着強度が確保でき、高速電気信号を効率よく伝送可能な多層回路基板（マザーボード、半導体チップ搭載基板）と半導体パッケージ等の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an SOI substrate and the like capable of obtaining an SOI substrate having a high quality SOI layer with suppressing generation of slip dislocation when a thick SOI substrate having a thickness of a buried oxide film of 3 μm or more is manufactured by a laminating method.例文帳に追加

貼り合わせ法によって、埋め込み酸化膜の厚さが３μｍ以上のように厚いＳＯＩ基板を製造する場合において、スリップ転位の発生を抑制して高品質のＳＯＩ層を有するＳＯＩ基板を得ることができるＳＯＩ基板の製造方法等を提供する。 - 特許庁

The semiconductor device of high reliability can be prepared because electric field formed by drain voltage is relaxed, by allowing the source region or the drain region to contact the side of the island semiconductor film which is the channel formation region, thereby allowing a depletion layer to spread in a film thickness direction and in a lateral direction.例文帳に追加

かつチャネル形成領域である島状半導体膜の側面にソース領域又はドレイン領域が接することにより、空乏層が膜厚方向だけでなく横方向に広がり、ドレイン電圧による電界が緩和されるため信頼性の高い半導体装置を作製することができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a substrate for a magnetic recording medium, which has a satisfactory plating thickness, adhesion, and uniformity and which can form a plating layer having satisfactory smoothness on a nonmagnetic substrate by an electroless plating method, when a glass substrate is used as the nonmagnetic substrate.例文帳に追加

非磁性基板としてガラス基板を用いる場合に、十分な、めっき膜厚、密着性、均一性を有し、かつ、十分な平滑性を有するめっき層を無電解めっき法で非磁性基板上に形成することが可能な磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Selective growth layers 6 and 7, which have thickness that offsets the dependence on opening area of etching rate, are selectively grown in advance in each opening 4 and 5 of the etching mask 3 which has a plurality of openings 4 and 5 having different areas of openings on a semiconductor layer 2 to be etched.例文帳に追加

被エッチング半導体層２上に異なった開口部面積を有する複数の開口部４，５を有するエッチングマスク３の各開口部４，５に、エッチング速度の開口部面積依存性を相殺する厚さの選択成長層６，７をエッチング工程前に予め選択的に成長させる。 - 特許庁

To provide an electronic component module manufacturing method of forming an encapsulation resin layer with a uniform thickness on one face or on each face of a collective substrate by filling gaps between the collective substrate and a plurality of electronic components mounted on the collective substrate with an insulating resin.例文帳に追加

本発明は、集合基板と実装した各種の複数の電子部品との間の隙間に絶縁性樹脂を充填し、集合基板の一方の面、又は両方の面に、厚みが均一な封止樹脂層を形成する電子部品モジュールの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a soil improving method of excellent workability and economic efficiency while securing a positive drain function by completely dispensing with a sand mat, or using the sand mat of thin layer thickness without necessarily requiring sand of good quality even in the case of needing the sand mat in a vertical drain method.例文帳に追加

鉛直ドレーン工法において、サンドマットが全く不要となるか、あるいは必要な場合でも層厚が薄くて済み、必ずしも良質の砂を必要とせず、施工性および経済性に優れ、かつ確実な排水機能が得られる地盤改良工法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for measuring properties of a substance or the like suitable for measuring a sound velocity of a substance having a large attenuation, measuring values corresponding to a sound velocity simply with high precision, and measuring properties of a substance including the degree of compaction of the ground and a layer thickness or the like.例文帳に追加

本発明は、減衰の大きい物質の音速を測定するのに適した物質特性測定装置等に関し、簡便にしかも精度良く音速に対応する値を測定し、その測定した値により地盤の締固め度や層厚等を含む物質の特性を測定する。 - 特許庁

The nonaqueous electrolyte battery is to be provided with a battery element with a cathode and an anode opposed to each other with a separator in-between, a film-like outer package body storing the battery element and electrolyte in an enclosed space, and a resin protective layer formed substantially of constant thickness along the surface of the film-like outer package body.例文帳に追加

正極と負極とがセパレータを介して対向する電池素子と、電池素子と電解質とを密閉空間に収容するフィルム状外装体と、フィルム状外装体の表面に沿って略一定の厚さで形成された樹脂保護層とを備えるようにする。 - 特許庁

The photo spacer constituting the liquid crystal display apparatus of which the cell thickness is 2 to 4 μm is manufactured by forming and patterning a photosensitive resin layer using a photosensitive resin component of which the cross-linking radical density is ≥0.0073 mole/g and then performing heating processing so that a cross-linking reaction rate becomes 86 to 100%.例文帳に追加

セル厚が２〜４μｍである液晶表示装置を構成するフォトスペーサーを、架橋基密度が０．００７３モル／ｇ以上の感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂層を形成してパターニングした後に、架橋反応率が８６〜１００％となるように加熱処理を行なう。 - 特許庁

The spherical aberration including the thickness error of the protective layer of the surface of an optical disk 102, which is formed on the board surface the optical disk 102 is detected by detecting a reflective laser beam which is reflected on the board surface of the optical disk 102 and is diffracted with photodetecting elements 21, 22, 23 and calculating a sum signal.例文帳に追加

光ディスク１０２の盤面にて反射され、回折された反射レーザ光を光検出素子２１，２２，２３にて検出し、和信号を算出することにより、光ディスク１０２の盤面に形成された光ディスク表面保護層の厚み誤差を含む球面収差を検出する。 - 特許庁

A shutter member 4 is extended along in the axial direction of the roller 2, opposed to the attraction area on a more upstream side in the rotating direction of the roller 2 than the member 3, arranged so that a space between the surface of the roller 2 and the member 4 may be varied, and regulates the layer thickness of the attracted developer.例文帳に追加

シャッタ部材４は、現像ローラ２の軸線方向に沿って延び、層厚規制部材３よりも現像ローラ２回転方向の上流側の吸着領域に対向し、その表面との間隔が可変となるように配置され、吸着された現像剤の層厚を規制する。 - 特許庁

The multilayer-structured cloth is composed of two or more cloths laminated, and is characterized in that it contains in the outermost layer a circular knitted fabric having filament yarns A with a monofilament diameter of 10-1,000 nm, having a ≤0.4 mm thickness, and having a yarn length of ≤90 mm per 50 wales.例文帳に追加

２枚以上の布帛が積層されてなる多層構造布帛であって、単繊維径が１０〜１０００ｎｍのフィラメント糸Ａを含み、かつ厚さが０．４ｍｍ以下であり、かつ５０ウエールあたりの糸長が９０ｍｍ以下である丸編地を最外層に含むことを特徴とする多層構造布帛。 - 特許庁

The coating film 20 and the hole injection layer 4 are tungsten oxide layers having a thickness of 2 nm or more deposited under certain deposition conditions, so as to have an electronic state where an occupied level exists in a range of bond energy which is 1.8-3.6 eV lower than the lowest bond energy in a valence band.例文帳に追加

被覆膜２０及びホール注入層４は所定の成膜条件で成膜した膜厚２ｎｍ以上の酸化タングステン層とし、かつ、その電子状態において、価電子帯で最も低い結合エネルギーよりも１．８〜３．６ｅＶ低い結合エネルギーの範囲内に占有準位を存在させる。 - 特許庁

Regarding the lens sheet in which a lens part composed of many lens units is formed on at least either surface of a transparent base material by an active energy ray curable resin, the many lens units are formed on the transparent base material via a buffer layer with a thickness of 1 to 10 μm.例文帳に追加

透明基材の少なくとも一方の面に、活性エネルギー線硬化樹脂により多数のレンズ単位からなるレンズ部が形成されてなるレンズシートにおいて、前記透明基材上に厚さ１〜１０μｍの緩和層を介して多数のレンズ単位が形成されているレンズシート。 - 特許庁

A layer of a nitride of group III elements containing at least Al having ≤1×10^11/cm^2 dislocation density and ≤200 sec half value width of an X-ray rocking curve in a (002) plane is formed on a base material having ≥600 μm thickness to form the epitaxial substrate.例文帳に追加

厚さが６００μｍ以上の基材上に、転位密度が１×１０^１１／ｃｍ^２以下であり、（００２）面におけるＸ線ロッキングカーブ半値幅が２００秒以下であり、少なくともＡｌを含むＩＩＩ族窒化物層を形成してエピタキシャル基板を作製する。 - 特許庁

To provide an electronic ink display panel capable of shielding noises produced on a circuit on the under side of pixel electrodes and reducing an influence of signals on bottom-gate thin film transistors and on scanning lines and data lines, onto the pixel electrodes by controlling the thickness of a dielectric layer disposed between bottom-gate type thin film transistors and pixel electrodes.例文帳に追加

ボトムゲート型薄膜トランジスタと画素電極との間に配設された誘電層の厚みをもって、画素電極下方の回路にて生じたノイズを遮蔽して、ボトムゲート型薄膜トランジスタ上、走査線上およびデータ線上の信号の画素電極への影響を低減する。 - 特許庁

An LED package substrate is in a laminated configuration for which metal foil is attached holding an insulating layer comprising a polyimide resin having a film thickness in the range of 5 μm to 40 μm therebetween onto a metal plate bent to form a planar bottom part and wall parts respectively rising from both sides of the bottom part end.例文帳に追加

ＬＥＤパッケージ基板は、平板状底部と、該底部端の両側からそれぞれ立ち上がる壁部を形成するように曲げ加工した金属プレートの上に、5μm〜40μmの範囲にある膜厚を有するポリイミド樹脂からなる絶縁層を挟んで金属箔を接合した積層構成である。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a sheet-like macromolecular water absorber which is made to have flexibility by reducing its total thickness and by making the permeability and bonding power of a water absorption layer into and to nonwoven sheet-like base cloth sufficient when manufacturing the water absorber, and the subject water absorber.例文帳に追加

シート状高分子吸水体の製造に際し、不織布性シート状基布に対する吸水層の浸透性および結合を十分なものとし、シート全体の厚さを減じて撓み性を付与するシート状高分子吸水体の製造方法およびシート状高分子吸水体を提供する。 - 特許庁