「line pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(55ページ目) - Weblio英語例文検索

Terminal adaptors 11, 12 can connect analog terminals 21-24 to a digital leased line 5 and are provided with a means that transmits/receives pseudo call control information utilizing pattern data depending on a combination of PB signals.例文帳に追加

アナログ端末２１〜２４をデジタル専用線５に接続可能とするターミナルアダプタ１１、１２であって、ＰＢ信号の組合せによるパターンデータを利用した擬似的な呼制御情報を送受信する手段を有する。 - 特許庁

Further, various elements, such as the pattern width, height, pitch, shape, material, etc., of each signal line on the flexible printed board 13, determining the rigidity are set axially symmetrical holding the width center of the flexible printed board 13.例文帳に追加

さらにフレキシブルプリント基板１３における各信号線のパターン幅、高さ、ピッチ、形状、材質など、剛性を決める諸々の要素を、フレキシブルプリント基板１３の幅中心を挟んで線対称となるように設定した。 - 特許庁

A replacement part 24C determines a replacement pattern on the basis of the length obtained by calculating and carries out replacement of dots to a different size for black pixels (L dots) continuous along the longitudinal direction or horizontal direction straight line.例文帳に追加

置換部２４Ｃは、計算して得られた長さに基づき、置換パターンを決定して、縦方向または横方向の直線に沿って連なる黒色画素（Ｌドット）について、ドットの異なるサイズへの置換を行う。 - 特許庁

Thus, contrast to x-ray with wavelength shorter than about 8 Å-9 Åis improved further than the contrast of the mask pattern of 50 nm line and space cycle, consequently, a high quality optical image can be obtained.例文帳に追加

これにより、約８Å〜９Åより短波長のＸ線に対するコントラストが５０ｎｍライン＆スペース周期マスクパターンのコントラストよりも向上するため、高品質な光学像を得ることができる。 - 特許庁

Next, anodic oxidation is performed by using the data line as a feeder to form a thick second tantalum oxide film 7b constituting an oxide film 72 for the holding capacitor only on the surface side of the second tantalum pattern 6b.例文帳に追加

次に、データ線２を給電線として用いて、陽極酸化を行い、第２のタンタルパターン６ｂの表面側のみに、保持容量用酸化膜７２を構成する厚い第２のタンタル酸化膜７ｂを形成する。 - 特許庁

An alignment pattern 10 is substantially formed in parallel to the scanning direction of the rays of light to scan in exposure in one scribe line 6 positioned at the rightmost end of the exposure region 4 of a semiconductor wafer 1.例文帳に追加

半導体ウェハ１の露光領域４の最右端に位置する１本のスクライブライン６に、露光時に走査される光の走査方向に対して実質的に平行にアライメントパターン１０が形成されている。 - 特許庁

It is possible to connect the horizontal transfer registers 115, 116 with the linear transfer poly silicon electrodes 101, 102 by the drive method above so as to simplify the electrode pattern and reduce the bus line part.例文帳に追加

このような駆動方法により、直線状の転送用ポリシリコン電極１０１、１０２で各水平転送レジスタ１１５、１１６をつなぐことが可能となり、電極パターンを簡素化し、バスライン部の縮小が可能となる。 - 特許庁

The integrated revariation is performed in the state of maintaining the combination of each of special picture patterns in the condition of rotating a cylindrical stereoscopic base object displaying each of the special picture pattern around the axial line.例文帳に追加

一体再変動は、各特別図柄が表示された円筒状の立体ベースオブジェクト８０が、その軸線周りに回転する態様により、各特別図柄がその組み合わせを維持した状態で行われる。 - 特許庁

The edge position determined from a light quantity distribution pattern of fresnel diffraction detected by a line sensor is corrected according to the thickness δ of the object in the optical axis direction of monochrome parallel light and detection distance (z).例文帳に追加

ラインセンサにて検出されたフレネル回折の光量分布パターンから求められるエッジ位置を、単色平行光の光軸方向における物体の厚みδ、およびその検出距離ｚに応じて補正する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which can be suitably used for microphotofabrication using far UV rays, in particular ArF excimer laser light and which eliminates problems of line edge roughness and pattern collapse.例文帳に追加

遠紫外光、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用したミクロフォトファブリケーションに於いて好適に使用することができる、ラインエッジラフネス、パターン倒れの問題が解消されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

In the output circuit 1, a conductive mechanical bar 2 for connecting the cathodes of the rectifier diodes 7, 8 differently from a line made of a circuit pattern for connecting the cathodes of the rectifier diodes 7, 8.例文帳に追加

出力回路１では、整流ダイオード７，８のカソードを互いに接続する回路パターンなどからなる線路とは別に、整流ダイオード７，８のカソード同士を接続する導電性機構バー２が設けられている。 - 特許庁

To provide an apparatus for continuously hot-dip plating a steel strip which improves productivity and reduces production costs because continuous embossing can be performed in a continuous hot-dip plating line, and which can form a clean and clear uneven pattern.例文帳に追加

連続溶融めっきライン内で連続的にエンボス加工できて生産性の向上、生産コストの低減を図れ、また鮮明、明瞭な凹凸模様付けを可能にする鋼帯の連続溶融めっき装置を提供する。 - 特許庁

In a 1st operation pattern, a line voltage is inputted to a transformer T1 and a DC power supply level for a control circuit is generated by a Zener follower (Z1, Z2 and Q1) and a series regulator (U1, Q2 and Q3).例文帳に追加

第１の実施の形態では線電圧を変圧器Ｔ１に入力し、ツェナー・ホロワＺ１、Ｚ２、Ｑ１と直列の調節器Ｕ１、Ｑ２、Ｑ３により制御回路用のＤＣ電源レベルを生成する。 - 特許庁

The GND electrode 5 of the mounting face of the elastic surface wave device 1 (high frequency device) of the dielectric board 2 is connected to a conductor pattern 11 by a conductor line 14, and connected to a rear face GND 7 through a through hole 9.例文帳に追加

誘電体基板２の弾性表面波デバイス１（高周波デバイス）の実装面のＧＮＤ電極５を導体線路１４で導体パターン１１に接続し、スルーホール９を介して裏面ＧＮＤ７に接続する。 - 特許庁

In the high-frequency module 22, one end of a parallel capacitor CG6 of an output matching circuit 26 is connected to an RF signal line 54b and the other end is connected to a second ground connection pattern 53.例文帳に追加

本発明の高周波モジュールは、高周波モジュール２２において、出力整合回路２６の並列キャパシタＣＧ６の一端はＲＦ信号線路５４ｂに接続し、他端は第２のグランド接続パターン５３に接続した。 - 特許庁

Noise leakage to the commercial power supply through stray capacitance between the heat sink 32 to which the elements 3 and 22 are attached and the AC line pattern of the circuit board and between the heat sink 32 and the semiconductor rectifying element 3 can be reduced.例文帳に追加

素子３と２２を組み付けたヒートシンク３２と基板のＡＣラインパターンの間、及びヒートシンク３２と半導体整流素子３間の浮遊容量を介した商用電源への雑音漏洩が低減される。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which enables formation of a resist pattern excellent in sensitivity, resolution, line width roughness (LWR) and etch resistance, and a method of forming resist patterns using the radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

感度、解像性、ＬＷＲ及び耐エッチング性に優れるレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物並びにこの感放射線性樹脂組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。 - 特許庁

And, for an error at a position regarded as non-problematic (because of line width equal to or greater than required width) on a mask or a substrate due to roundness of corner part among errors caused by the correction pattern, the design device determines that the error is a pseudo error.例文帳に追加

そして、設計装置は、補正パターンによるエラーのうち、コーナー部の丸まりによりマスク上又は基板上において問題とならない（線幅が規定以上となる）箇所のエラーは、疑似エラーと判定する。 - 特許庁

The obtained correction time is obtained for each unit by an operation and pseudo-pattern data large enough to give an enough amount of accumulated scattering electrons for correcting a change of the line width caused by a loading effect are formed.例文帳に追加

補正時間は、各ユニットごとに演算により求められ、この求められた補正時間から、ローディング効果による線幅変化を補正するだけの蓄積散乱電子量を与える大きさの擬似パターンデータを作成する。 - 特許庁

A data block obtained by correlating each data obtained by dividing compressed encoded data with a flag indicating whether the data contain a line boundary is stored in a sprite pattern memory without any space.例文帳に追加

上記圧縮符号化データを分割して得られる各データとそのデータにライン境界が含まれているか否かを示すフラグとを対応付けて得られるデータブロックを隙間を空けることなくスプライトパターンメモリに格納する。 - 特許庁

The light diffracted and scattered by the circuit pattern or flaw on the wafer 1 is condensed to a line sensor 6 by an image forming optical system 5 to be converted to a digital signal and the flaw of the wafer 1 is detected by a signal processing part 7.例文帳に追加

ウェハ１上の回路パターンや欠陥により回折、散乱された光は、結像光学系５でラインセンサ６に集光され、ディジタル信号に変換され、信号処理部７で欠陥が検出される。 - 特許庁

A contact hole 16 for bit line contacts self-matchingly narrows to a width B at a concave portion 14e of the silicon nitride film 14 against a width of pattern A, and a hole lower part 16b is formed to surly form a contact plug 17.例文帳に追加

ビット線コンタクトのコンタクトホール１６は、パターン幅Ａに対して、シリコン窒化膜１４の凹部１４ｅで自己整合的に幅Ｂに狭められホール下部１６ｂが形成され、確実にコンタクトプラグ１７を形成できる。 - 特許庁

Here, a guide display control part 11 causes a guide pattern template as an auxiliary line prepared, in advance, to be imposed and displayed on the display screen of the electronic finder so as to refer to it at determining of the composition and the framing.例文帳に追加

この際、ガイド表示制御部１１は、予め準備された補助線としてのガイドパターンテンプレートを、構図およびフレーミング等の決定に参考とすべく、電子ファインダ表示画面に重畳表示させる。 - 特許庁

To provide a conductive paste composition capable of obtaining a highly conductive electrode pattern by using conductive powder having particle diameters of about 0.01 to 1.5 μm and by low-temperature calcination in a range of 350 to 600°C, with precision, and without line disorder, as well as a manufacturing method of an electrode using the composition.例文帳に追加

粒径が０．０１〜１．５μｍ程度の導電性粉末を使用し、かつ、３５０〜６００℃の範囲内での低温焼成によって導電性の高い電極パターンを得ることが可能である。 - 特許庁

To provide an image forming method excellent in ink repellency on an upper face (exposed face opposite to a face contacting a substrate), excellent in resolution and tightness to the substrate, and capable of forming a pattern image with a line width restrained from being dispersed.例文帳に追加

上面（基板に接する面の反対側の露出面）の撥インク性に優れ、解像度及び基板との密着性に優れ、線幅ばらつきが抑えられたパターン画像を形成できる画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vehicular lighting lamp using a light-emitting element as a light source, which is reduced in size, and forms a light distribution pattern having a clean cutoff line while enhancing utilization efficiency of light source luminous flux.例文帳に追加

発光素子を光源とする車両用照明灯具において、灯具のコンパクト化を図るとともに、光源光束の利用効率を高めた上で、鮮明なカットオフラインを有する配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁

To provide a method for producing by melt extrusion an optical film which is uniform in thickness over the entire width of the film and has no die line, no gear mark, and no other striped pattern and in which retardation and its dispersion are small.例文帳に追加

フィルムの全幅に亘り厚み変動がなく、ダイライン、ギヤーマークやその他の縞模様がなく、リターデーションとそのバラツキも小さい、光学用に適したフィルムを溶融押出により製造する方法を提供する。 - 特許庁

Since each dot is shifted alternately in the x direction and the y direction in a dot pattern where adjacent information dots on an imaginary lattice line are arranged to be shifted alternately in the x direction and the y direction, every other information dots are arranged on an identical lattice line without fail.例文帳に追加

仮想的な格子線上において隣接する情報ドット毎にｘ方向、ｙ方向へのずれを交互に生じるように配置したドットパターンとすることにより、ドット毎にｘ方向、ｙ方向へのずれが交互に生じているため、１個おきの情報ドットは必ず同一の格子線上に配置されることになる。 - 特許庁

By delivering ink from a plurality of nozzles moving in the moving direction to form dot lines in line regions along the moving direction, a pattern constituted of a plurality of the dot lines formed in a plurality of the line regions arranged in the direction intersecting the moving direction is formed on a medium by a specified resolution.例文帳に追加

本発明では、移動方向に移動する複数のノズルからインクを吐出して移動方向に沿う列領域にドット列を形成することにより、前記移動方向と交差する方向に並ぶ複数の前記列領域に形成された複数の前記ドット列から構成されるパターンを所定解像度で媒体に形成する。 - 特許庁

A rectangular pattern 50 with a central perpendicular grid line 51 passing through the geometrical center 55 thereof, right and left perpendicular grid lines 52, a central horizontal grid line 53 and top and bottom horizontal grid lines 54 is provided so that the geometrical center 55 coincides with a gaze point through eyeglass lenses 10.例文帳に追加

矩形模様５０であって、その幾何学的中心５５を通る中心の垂直格子線５１および左右の垂直格子線５２と、中心の水平格子線５３および上下の水平格子線５４とを備えた矩形模様５０を、眼鏡用レンズ１０を通して、幾何学的中心５５が注視点に一致するように設ける。 - 特許庁

Namely, the analysis part 11 performs a process for putting pieces of attribute information on respective retrieval object words together into one line by using a repetition pattern since the format of attribute information on a retrieval object appears repeatedly in the retrieval result at a one-object one-line constitution part.例文帳に追加

すなわち、検索結果解析部11では、入力された検索結果が一対象一行化部において、検索対象に関する属性情報の書式は検索結果の中で繰り返し出現するので、この繰り返しパタンを用いて、各検索対象語との属性情報を一行にまとめる処理を行う。 - 特許庁

A narrow-width decorative seal layer 5 having a narrow width along the rod axial line is formed on the coated layer 4 of a rod material, and an undercoating guide layer 6, having width equal to the width of the decorative seal layer 5 along the rod axial line and having a color or pattern applied to the decorative seal is formed inside of the decorative seal layer 5.例文帳に追加

竿素材の塗装層４上に竿軸線方向に沿った幅が狭い小幅の装飾シール層５、装飾シール層５の内側に、装飾シール層５の竿軸線方向に沿った幅と同幅、かつ、装飾シールに施された色彩又は模様を施した下塗ガイド層６を形成する。 - 特許庁

If a structure making the axial line C1 of the lance 2 eccentric downwardly with respect to the axial line Cs of the sheath pipe 3 is set, the excessive flow of air under the powder nozzle is suppressed even in a suction state not only to minimize the influence on a coating pattern but also to obtain balance enhancing the removal effect on adhering paint.例文帳に追加

鞘管の軸線Ｃ_Sに対してランスの軸線Ｃ_1を下方に偏心させた構造にすれば、吸引状態にあっても粉体ノズル下部の過剰なエアーの流れが抑制されて塗装パターンへの影響を最小限に抑さえると同時に、付着した塗料除去の効果を向上させるバランスが得られる形態となる。 - 特許庁

The spiral inductor includes a tabular insulating substrate and the spiral conductive patterns formed at least on one surface of a tabular insulating substrate, and the spiral conductive pattern is formed in such a manner that the width of the line differs along the longitudinal direction of the conductive line forming the spiral.例文帳に追加

本発明は、平板形状の絶縁基板と、上記絶縁基板の少なくとも一面に形成されるスパイラル形態の導電パターンを含み、上記導電パターンはスパイラルを成す導線の長さ方向に従って線幅が異なるように形成されることを特徴とするスパイラルインダクタを提供する。 - 特許庁

In a communication system wherein a first communication device 10 and a second communication device 20 perform communication through an optical transmission line 30 with feeble light as a medium, the first communication device 10 divides transmission data by frame of a fixed length and transmits them to the optical transmission line together with a frame pattern provided on a fixed position of each frame.例文帳に追加

微弱強度の光を媒体として第一通信装置１０と第二通信装置２０とが光伝送路３０を介して通信を行う通信システムにおいて、第一通信装置１０は、固定長のフレームごとに送信データを分割し、各フレームの固定位置に設けられたフレームパタンとともに光伝送路へ送信する。 - 特許庁

A word line WL which functions as the gate electrode of the selective MISFET of a DRAM is made on the main surface of a semiconductor substrate, and then, plugs (a connecting plug BP and a plug made in a pattern SNCT) to be connected with the source and drain regions of the MISFET are made in the insulating film covering the word line WL.例文帳に追加

半導体基板の主面上にＤＲＡＭの選択ＭＩＳＦＥＴのゲート電極として機能するワード線ＷＬを形成した後、ワード線ＷＬを覆う絶縁膜にＭＩＳＦＥＴのソース、ドレイン領域と接続するプラグ（接続プラグＢＰおよびパターンＳＮＣＴに形成されるプラグ）を形成する。 - 特許庁

In branch point detection processing that finds a branch point of a line element within an original image 15a including an irregular linear pattern composed of linear elements of an irregular shape, a binarized image 15b is obtained from the original image 15a, and padding processing that eliminates noises in the line element is subsequently performed to obtain a padding image 15c.例文帳に追加

不規則形状の線要素より構成される不規則線状パターンを含む原画像１５ａ内の線要素の分岐点を求める分岐点検出処理において、原画像１５ａより２値化画像１５ｂを得た後に線要素内の野路図を除去する穴埋め処理を行って穴埋め画像１５ｃを得る。 - 特許庁

Thereby, a low beam light distribution pattern P is formed such that a horizontal cutoff line CL1 on the oncoming lane side formed by reflected light from its own lane side reflective area 20aR is lowered relatively to a horizontal cutoff line CL2 on its own lane side formed by reflected light from an oncoming lane reflective area 20aL.例文帳に追加

これにより、対向車線反射領域２０ａＬからの反射光により形成される自車線側の水平カットオフラインＣＬ２に対して、自車線側反射領域２０ａＲからの反射光により形成される対向車線側の水平カットオフラインＣＬ１が段下がりとなったロービーム配光パターンＰを得る。 - 特許庁

The pattern 62 is formed on the subfield 42 and has a line width L selected, so that the line width L/space width becomes S≤1, 1/2, and 1/4 for L larger than 500 nm, L in the range of 400 nm to 500 nm, and L less smaller than 400 nm, respectively.例文帳に追加

実デバイスパターン６２はサブフィールド４２に形成され、線幅が５００ｎｍを越えるパターンの場合には線幅Ｌ／スペース幅Ｓ≦１、線幅が４００ｎｍ〜５００ｎｍのパターンの場合には線幅Ｌ／スペース幅Ｓ≦１／２、線幅が４００ｎｍ未満のパターンの場合には線幅Ｌ／スペース幅Ｓ≦１／４であるデバイスパターンとする。 - 特許庁

Then, the exuding portion of the sealing material from the seal chip pattern 2-6A does not cross the splitting line 2-8 of the counter substrate and, therefore, the splitting stress is liable to be applied evenly on the splitting line 2-8 and eventually, the splitting property is improved and the splitting defects in the splitting process may be decreased.例文帳に追加

したがって、シールチップパターン２−６Ａからのシール材の浸み出し部分が対向基板の割断ライン２−８を横切らないため、割断応力は割断ライン２−８上に均等にかかり易くなり、その結果割断性は向上し、割断工程における割断不良を減少することが可能となる。 - 特許庁

The data transmitting device of the receiving side transmits a "restart-channel" message to the data transmitting device of the transmitting side (S8) when the data of the prescribed pattern received through the excluded line is determined to be normal (S7), and the data transmitting device of the transmitting side adds the excluded line to the target of the multilink communication (S9).例文帳に追加

受信側のデータ伝送装置は、除外された回線を介して受信される所定パターンのデータが正常であると判定した場合（Ｓ７）に“Restart-Channel”メッセージを送信側のデータ伝送装置宛に送信し（Ｓ８）、送信側のデータ伝送装置は、除外した回線をマルチリンク通信の対象に付加する（Ｓ９）。 - 特許庁

A semiconductor wafer before a dicing comprises a silicon substrate 50 with its surface divided into a element forming region 42 and a scribing line region 43, with a passivation film 55 and a polyimide film 56 covering the element forming region 42, and with the accessary pattern 53 comprising a top layer interconnection layer 52 exposing to the scribing line region 43.例文帳に追加

ダイシング前の半導体ウェーハは、シリコン基板５０上が素子形成領域４２とスクライブ線領域４３とに分けられ、パッシベーション膜５５及びポリイミド膜５６が素子形成領域４２を覆い、最上層配線層５２からなるアクセサリパターン５３がスクライブ線領域４３に露出しているものである。 - 特許庁

To provide a method by which such a printed wiring board can be manufactured that fine irregularities can be formed easily on the surface of a circuit through a simple step and, even when a fine pattern having narrow line widths and line intervals is formed, the deficit, such as the edge chipping, etc., of the circuit can be suppressed.例文帳に追加

回路の表面に簡易な工程にて容易に微細な凹凸を形成することができ、更に、ライン幅及びライン間隔が狭いファインパターンを形成する場合であっても、回路の表面に凹凸を形成するにあたり、回路の角落ち等の欠損を抑制することができるプリント配線板の製造方法を提供する - 特許庁

In a charged particle beam system for measuring the line width or the like of a pattern formed on a sample based on secondary electrons emitted from a sample by scanning on the sample with a charged particle beam, interval of the scanning line of the charged particle beam is set not to exceed an irradiation density determined based on the physical properties of the sample.例文帳に追加

荷電粒子線を試料上で走査し、試料より放出された二次電子に基づいて、試料上に形成されたパターン等の線幅等を測長する荷電粒子線装置において、試料の物性に基づいて決定される照射密度を上回らないように前記荷電粒子線の走査線間隔を設定する。 - 特許庁

Then, a data line 133, a source electrode 117 electrically connected to the data line 133, a drain electrode 119 which is arranged being separated from the source electrode 117, and a semiconductor pattern which is arranged above the gate electrode 118 and between the source electrode 117 and the drain electrode 119, are formed on the gate insulating film 126.例文帳に追加

続いて、ゲート絶縁膜１２６上にデータライン１３３、データライン１３３に電気的に接続されるソース電極１１７、ソース電極１１７と離隔されて配置されるドレイン電極１１９、及びゲート電極１１８上でソース電極１１７とドレイン電極１１９との間に配置される半導体パターンを形成する。 - 特許庁