「line pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(58ページ目) - Weblio英語例文検索

Contaminations deposited on a wiring pattern are removed in-line in a carrier process from a feeding reel 1 to a take-up reel 5 of a semiconductor device tape carrier 2, which is subjected to automatic visual inspection.例文帳に追加

配線パターン上に付着している異物の除去操作を、半導体装置用テープキャリア２の自動外観検査がなされる送出しリール１から巻取りリール５までの搬送過程中においてインラインで行うことを特徴としている。 - 特許庁

To provide a signal transport substrate that is electromagnetically shielded to obtain a much higher degree of freedom when designing a trace pattern or trace width of a signal line and to obtain a much higher degree of freedom also when adjusting a characteristic impedance.例文帳に追加

信号線のトレースパターンやトレース幅などの設計に、より一層の自由度が得られると共に、特性インピーダンスの調整の上でもより一層の自由度が得られる電磁シールドされた信号伝達基板を提供する。 - 特許庁

The waterless lithographic printing plate original has at least a thermosensitive layer or a photosensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate, wherein a center-line-average roughness Ra on the surface of the silicone rubber layer is 0.4 μm or less and is used for the formation of the display pattern and the formation of the wiring pattern.例文帳に追加

基板上に、少なくとも感熱層あるいは感光層とシリコーンゴム層とを有する水なし平版印刷版原版であって、該シリコーンゴム層表面の中心平均粗さ（Ｒａ）が０．４μｍ以下であり、ディスプレイパターン形成用または配線パターン形成用であることを特徴とする水なし平版印刷版原版により達成される。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the composition and a pattern formation method which simultaneously satisfy sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and dry etching resistance in lithography adopting, as an exposure light source, especially an electron beam, x-rays or EUV light.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、ラインエッジラフネス、及びドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Big wins occur when the figures of the same kind line up in the display result derived and shown as the results of the special pattern games or when the figures are odd in kind, big wins with the varying probability occur and thereafter, the states of varying the probability are given to raise the probability of the occurrence of big wins in the special pattern games up to the maximum of 10,000 rounds.例文帳に追加

特図ゲームの結果として導出表示された表示結果が、同じ種類の図柄が揃ったものであれば大当たりとなるが、その図柄の種類が奇数図柄であれば確率変動大当たりとなり、その後、最大１００００回まで特図ゲームでの大当たりの発生確率が高くなる確率変動状態となる。 - 特許庁

In the method for checking, by combining line illuminating means 11 to 14 from four directions in the photographing range 5 in the work 1 and illuminating the work 1 so that the intensity of the light input to the one-dimensional CCD 3 of the light diffused in the pattern to be checked on the work 1 becomes uniform, the proper image of the stereoscopic pattern to be checked is made obtainable.例文帳に追加

ワーク１上の撮像範囲５に対して４方向からのライン照明手段１１〜１４を組み合わせて照明することによりワーク１上の検査対象パターンで拡散した光が１次元ＣＣＤ３に入力する光の強度が均一になるようにし、立体的な検査対象パターンの適正な画像が得られるようにした。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition and a pattern forming method which is excellent in developability and can be restrained the occurrence of surface reticulation after post baking, and to provide a method for manufacturing a color filter having a colored pattern free from surface reticulation, and is excellent in line width sensitivity, linearity and heat resistance, and to provide the color filter and a display device.例文帳に追加

現像性が良好で且つポストベーク後の表面レチキュレーションの発生を抑制し得る着色感光性樹脂組成物及びパターン形成方法、並びに、表面レチキュレーションがなく、線幅感度、直線性及び耐熱性に優れた着色パターンを有するカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a resist pattern improved in the elution of a generated acid, line edge roughness, development defects and generation of scums, less liable to profile degradation, and having proper conformability with an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a pattern forming method that uses the composition.例文帳に追加

発生酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that can simultaneously satisfy the requirements for high sensitivity, high resolution, desirable pattern configuration, desirable line edge roughness and desirable iso/dense bias in especially lithography using an electron beam, X-rays or EUV light as an exposure radiation source, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a filter for a display, which includes an electromagnetic shield material ensuring low electric resistance even when the line width of a pattern is made narrower, preventing an image from being whitened by external light and image light and preventing reduction in image contrast when the convex-pattern-layer-formed side of the electromagnetic shield material is directed toward the display panel; and to provide an image display device using the filter.例文帳に追加

パターンの線幅をより一層微細化しても低い電気抵抗とすることができ、電磁波シールド材の凸状パターン層形成側をディスプレイパネルに向けて設置したときに、外光及び画像光による画像の白化、画像コントラストの低下が防止できる電磁波シールド材を含むディスプレイ用フィルタ及びこれを用いた画像表示装置を提供する。 - 特許庁

By an imaging method using the lithography system, a desired pattern printed onto a substrate is decomposed into at least two constituting subpatterns that can be decomposed optically by the lithography system, and the piled-up body of two sacrifice hard masks is applied onto the substrate at the upper portion of a target layer patterned by a desired dense line pattern.例文帳に追加

リソグラフィ・システムを使用するイメージング方法は、基板上に印刷される所望のパターンを、リソグラフィ・システムによって光学的に分解することが可能な少なくとも２つの構成サブパターンに分解すること、所望の密なライン・パターンでパターニングされる標的層の上部において、２つの犠牲ハード・マスクの積重体を基板にコーティングすることを含む。 - 特許庁

The adhesive seal capable of coloring is provided with an adhesive layer outer peripheral edges of which are formed by being fitted to an outer peripheral shape of a desired pattern, a colorant supporting layer formed on the adhesive layer and a contour line which is formed on a surface of the colorant supporting layer, defines contour lines of the pattern and has desired thickness and desired width.例文帳に追加

ぬり絵可能な粘着シールは、外周縁が所望の図柄の外周形状に合わせて形成された粘着層と、該粘着層の上に形成された着色材支持層と、該着色材支持層の表面に形成されていて図柄の輪郭を画成する輪郭線であって、所望の厚さ及び所望の幅を有する輪郭線とを備え - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition excellent in temporal stability after prepared and showing a small variation in pattern line width due to variation in exposure energy, a color filter excellent in hue and resolution and having a good pattern profile, and a method for producing a color filter by which the above color filter can be produced with high productivity (high cost performance).例文帳に追加

組成物作成後の経時安定性に優れ、かつ露光量変動によるパターン線幅変動の割合が小さい染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、色相及び解像力に優れ、パターン形状が良好なカラーフィルタ及び該カラーフィルタを高い生産性（高いコストパフォーマンス）にて作製し得るカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

An image enhancing mask 6 for pattern formation includes a transmissive substrate which transmits exposure light and a semi-light-shielding portion 8 which is formed on the transmissive substrate and has transmittance allowing the exposure light to be partially transmitted and corresponds to an isolation line pattern, and a phase shifter 9 which is provided at an opening in the semi-light-shielding portion 8.例文帳に追加

パターン形成用のイメージ強調マスク６は、露光光に対して透過性を有する透過性基板７と、透過性基板７上に形成され、露光光の一部分を透過させる透過率を持ち且つ孤立ラインパターンと対応する半遮光部８と、半遮光部８の内部の開口部に設けられた位相シフター９とを備えている。 - 特許庁

A plurality of signals of printed wiring patterns to be comparatively confirmed for line length or the like of wiring-designed printed wiring patterns is designated, and the luminance of pattern or segment information other than a signal related to a signal name selected so that the distance can be visually confirmed is reduced to display a printed wiring pattern related to the selected signal in a visually easy-to-see manner.例文帳に追加

配線設計済みのプリント配線パターンの内,線長などを比較確認したいプリント配線パターンの信号を複数指定しその距離を視覚的に認識できるよう,選択した信号名にかかわる信号以外の図形や線分情報の輝度を下げ,選択した信号に係るプリント配線パターンが視覚的に見やすいように表示する。 - 特許庁

The discontinuous points are formed by proper dimension on the reference potential plane positioned near a wiring pattern formed on a semiconductor chip or a package board configuring the semiconductor device, so that the delay elements having desired characteristics can be equivalently and easily added according to the shape of not the signal line side of the wiring pattern but the reference potential plane side.例文帳に追加

半導体装置を構成する半導体チップやパッケージ基板上で形成された配線パターンに近い位置にある参照電位平面に適切な寸法でこの不連続点を形成して配線パターンの信号線側ではなく、参照電位平面側の形状により、所望の特性を有する遅延素子を等価的に容易に付加することが出来る。 - 特許庁

By performing a filtering processing for extracting or suppressing the spatial frequency components corresponding to a linear cyclic pattern appearing in image signals indicating the image in the predetermined direction of the image, the cyclic pattern components of the image are suppressed, and the frequency characteristics of the filtering processing are changed corresponding to the inclination of the direction of the line and the predetermined direction.例文帳に追加

画像を表す画像信号に現れる線状の周期的パターンに対応する空間周波数成分の抽出または抑制をするフィルタリング処理を画像の所定の方向に施すことにより、画像の周期的パターン成分を抑制し、線の方向と前記所定の方向との傾きに応じてフィルタリング処理の周波数特性を変更する。 - 特許庁

To provide printed matter with image lines partially provided with characters, which enables only a person knowing the following information to recognize the existence of microcharacters on a genuine article, though the mere constitution of a line-drawing pattern is recognized to the naked eye by randomly constituting the microcharacters using some of the image lines, without restrictions on a pattern constituting the printed matter.例文帳に追加

印刷物を構成する模様に制限を掛けず、画線の一部を利用した微小な文字をランダムに構成することで、肉眼では単に線画模様が構成されているように認識されるが、その情報を知っている者に限り、真正品には当該微小文字の存在が認識可能な画線の一部に文字を有した印刷物を提供する。 - 特許庁

The semiconductor device has a device region and a TEG region outside the device region, and a line-and-space pattern 21 in the TEG region 10 has a plurality of reference patterns 12 arrayed regularly at predetermined intervals and a specific pattern 13 arranged near the reference patterns 12.例文帳に追加

本発明にかかる半導体装置は、デバイス領域と前記デバイス領域の外側に設けられたＴＥＧ領域とを備える半導体装置であって、ＴＥＧ領域１０のラインアンドスペースパターン２１は、所定の間隔で規則的に配列された複数の基準パターン１２と、基準パターン１２の近傍に配置された特異パターン１３とを有している。 - 特許庁

When a prescribed variable display pattern is executed when staying in an approach mode, at a liquid crystal display device 640, a single character information column including several kinds of character information corresponding to whether or not a single or a plurality of ready-to-win states are to be stopped on an effective line is variably displayed from a plurality of common decorative pattern columns.例文帳に追加

アプローチモード滞在時に所定の変動表示パターンが実行されると、液晶表示装置６４０には、複数の共通装飾図柄列から有効ライン上に単数または複数のリーチ状態が停止されるか否かに対応する複数種類の文字情報が含まれた単数の文字情報列を変動表示させる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using an electron beam, X-ray or EUV light and simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness, high contrast, prevention of conversion to a negative resist composition, and surface roughness, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

電子線、Ｘ線、あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、高コントラスト、ネガ化防止、表面ラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition used in a process for manufacturing a semiconductor such as IC, in manufacture of a circuit substrate of a liquid crystal, a thermal head or the like, and further in another photofabrication process and a pattern forming method using the same, and to provide a photosensitive composition excellent in resolution and line edge roughness and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

Here, the light-emitting parts 22 are so arranged that major diameters D of adjacent oval shapes of irradiation light overlap each other, so that an outside contour line of the light distribution pattern formed by the irradiation light emitted from each light-emitting part 22 can be formed into a circular shape with smaller unevenness and a circular and uniform light distribution pattern as a whole can be obtained.例文帳に追加

このとき、隣接する長円形状の照明光の長径Ｄ同士が重なるように発光部２２を配置したので、各発光部２２から発せられる照射光により形成される配光パターンの外側輪郭線を、凹凸の少ない円形状とすることができ、全体として円形で均一な配光パターンを得ることができる。 - 特許庁

In a decorative variable display device 90, when starting second decorative variable display corresponding to a second special pattern while first decorative variable display corresponding to a first special pattern is executed, by allocating an effective line set to the first decorative variable display (allocating L3), the second decorative variable display is executed.例文帳に追加

飾り変動表示装置９０において、第１特別図柄に対応する第１飾り変動表示を実行させているときにおいて、第２特別図柄に対応する第２飾り変動表示を開始させるときに、第１飾り変動表示に設定された有効ラインを割当てる（Ｌ３を割当てる）ことにより、第２飾り変動表示を実行させる。 - 特許庁

A vehicular headlight device 10 includes a lighting fixture 20H for high beam which forms a light distribution pattern for high beam including an area above the cut-off line of the light distribution pattern for low beam, and a headlight device control ECU 40 which acquires information from a vehicle detector 150 and a navigation system 144 and controls the irradiation of the lighting fixture 20H for high beam.例文帳に追加

車両用前照灯装置１０は、ロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方の領域を含むハイビーム用配光パターンを形成するハイビーム用灯具２０Ｈと、車両検出装置１５０およびナビゲーションシステム１４４から情報を取得し、ハイビーム用灯具２０Ｈの照射を制御する前照灯装置制御ＥＣＵ４０と、を備える。 - 特許庁

To secure required brightness while forming a light distribution pattern for low beam having a clear cutoff line at its top end part, on the basis of the installation number of luminaire units suppressed, for a headlight for a vehicle structured so as to form a given light distribution pattern by light irradiation from the luminaire units with semiconductor light-emitting elements as light sources.例文帳に追加

半導体発光素子を光源とする灯具ユニットからの光照射により、所定の配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、灯具ユニットの設置個数を少なく抑えた上で、上端部に鮮明なカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成するとともに所要の明るさを確保する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for an electron beam, an X-ray or EUV light simultaneously satisfying requirements for high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, and good line-edge roughness in solving problems associated with performance improving techniques in micro processing of a semiconductor element using the electron beam, the X-ray or the EUV light, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A method for preparing the connected lines wherein two stock lines respectively consisting of a pattern part and blank parts on both sides thereof are synthesized and one connected line with a shape wherein two pattern parts are arranged through a blank part between the lines with a specified width designated being different from a simple synthesized width of a blank part of two stock lines between them is prepared, is provided.例文帳に追加

本発明は、それぞれ模様部とその両側の余白部とからなる２つの素材罫を合成し、２つの模様部がその間に２つの素材罫の余白部の単純合成幅とは異なる指定された所定幅の罫間余白部を介して並置された形の１つの接合罫を作成する接合罫の作成方法に関する。 - 特許庁

In this case, a direction (a connection line direction) in which the back conductor pattern CP2 is connected is the X direction and when attention is paid to a Y direction orthogonal to (intersecting with) the X direction, the width of the back conductor pattern CP2 in the Y direction is smaller than those of the back terminals TEPa, TEPb in the Y direction.例文帳に追加

このとき、裏面導体パターンＣＰ２の接続方向（接続線方向）がＸ方向となっており、このＸ方向と直交する（交差する）Ｙ方向に着目すると、裏面導体パターンＣＰ２のＹ方向の幅は、裏面端子ＴＥＰａのＹ方向の幅や裏面端子ＴＥＰｂのＹ方向の幅よりも小さくなっている。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that satisfies, at a high level, all of high sensitivity, high resolution, good pattern profile and good line edge roughness in an ultrafine region, particularly in electron beam, X-ray or EUV photolithography, and satisfactorily reduces a problem of outgassing during exposure, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガスの問題が充分に低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The dummy pattern 3 is arranged while folded in a rectangular wave shape to the line width of a conventional linear pattern and then the peeling load of the dummy seal 3 per unit area of a glass is improved to obtain the large effect that a serious defect which is seal peeling is hardly caused in a process of cutting the stuck glass to a panel individual piece size.例文帳に追加

また、ダミーパターン３を従来の直線パターンの線幅で矩形波状に折り曲げて配置することにより、ガラスの単位面積当たりのダミーシール３の剥離荷重が向上し、貼り合わせガラスをパネル個片サイズに切断する工程において、シール剥離という重大欠陥を誘発しにくくなるという効果も多大と成りうる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which has high transparency for radiations, has excellent resist fundamental physical properties such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, and pattern formation, and has high resolution performance and small pattern line edge roughness, to provide a polymer capable of being used for the composition, and to provide a new compound used for synthesizing the polymer.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、解像性能が高く、パターンのラインエッジラフネスが小さい感放射線性樹脂組成物、その組成物に利用できる重合体およびこの重合体合成に用いられる新規化合物を提供する。 - 特許庁

A first impurity region 4ad acting line a source region and a second impurity region 4ae acting like a drain region are formed through ion implantation by using a resist pattern for forming a gate electrode of a transistor as a mask, and the gate electrode 9 including lower electrodes 6a, 8a and an upper electrode 7a is formed by using the resist pattern for a mask.例文帳に追加

トランジスタのゲート電極を形成するためのレジストパターンをマスクとしてイオン注入によりソース領域となる第１不純物領域４ａｄとドレイン領域となる第２不純物領域４ａｅが形成され、そのレジストパターンをマスクとして下部電極６ａ，８ａと上部電極７ａを有するゲート電極９が形成される。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition giving good pattern profile particularly free of a defective trailing shape of a line pattern on a glass substrate (SOG substrate) and an overhang shape of a contact hole and having a wide side lobe margin.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、良好なパターンプロファイル、特に、ガラス基板（ＳＯＧ基板）上でのラインパターンの裾形状不良、コンタクトホールの庇形状を生じない、また、広いサイドローブマージンを有するポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

The substrate 11 provided with a transparent electrode pattern 13 arranged in a matrix is irradiated with a band-shaped laser beam from a light projecting part 1 in such a way as to traverse the arrangement of one electrodes 13b between the other electrodes 13a, and diffracted light generated by the pattern arrangement of the electrodes 13b is extracted by a line CCD 10.例文帳に追加

マトリクス配列された透明電極パターン１３を具備する基板１１に対し、投光部１より一方の電極間１３ａ，１３ａに他方の電極１３ｂの配列を横切るような帯状のレーザービームを照射するととともに、前記電極１３ｂのパターン配列によって生じた回折光をラインＣＣＤ１０により抽出する。 - 特許庁

The detection unit includes a marking unit disposed on the travelling surface of the road and including a pattern periodically changing in optical characteristics in the width direction of the road; a line sensor unit for capturing a one-dimensional image having an eyesight of a line shape extending in the width direction; and a counting unit for detecting the number of vehicles travelling in parallel by using the one-dimensional image.例文帳に追加

並走検出部は、道路の走行面に設けられ光学的な特性が道路の幅方向に周期的に変化するパターンを含むマーキング部と、幅方向に延長する線状の視野を有する一次元画像を取得するラインセンサ部と、一次元画像を用いて並走している車両の数を検出する計数部とを備える。 - 特許庁

The liquid crystal display device of a multi-domain homeotropic alignment mode is configured by forming a liquid crystal layer between two substrates, forming a multi-domain pattern to divide one pixel to multi-domains on the surface of the one substrate, forming a plurality of long line type patterns on the surface of the other substrate and dividing the pixel by the long line type patterns and the multi-domains.例文帳に追加

２枚の基板の間に液晶層を形成し、一方の基板は表面には一画素をマルチドメインに分割するマルチドメインパターンを形成し、他の基板は表面に複数の長条形パターンを形成し、該長条形パターンと該マルチドメインによって該画素を分割してマルチドメイン垂直配向モードの液晶表示装置を構成する。 - 特許庁

To provide a signal line and a cable for high speed transmission wherein attenuation of a signal of a low-frequency-component is enhanced, a waveform required for transmission of a high-speed transmission signal is maintained, and an additional element having the same function is not necessary so that the length of the signal line or the cable itself can be extended and a large eye pattern can be attained.例文帳に追加

信号線またはケーブル自身の長尺を可能にし、大きなアイパタンが得られるようにすべく、低周波成分の信号の減衰を大きくし、高速伝送信号の伝送に必要な波形を維持し、別に同様な機能を持った素子を不要にした高速伝送用信号線および高速伝送用ケーブルを提供することにある。 - 特許庁

The frame body 52 is so structured that a first surface 56a on which an image by dispersed reflection light at light irradiation is projected further upward than a cutoff line of the low-beam light distribution pattern has a lower reflection rate than that of a second surface 52b on which an image by dispersed reflection light at light irradiation is projected further downward than the cutoff line.例文帳に追加

枠体５２は、光が照射されたときの拡散反射光による像がロービーム用配光パターンのカットオフラインより上方に投影される第１表面５６ａが、光が照射されたときの拡散反射光による像がカットオフラインより下方に投影される第２表面５２ｂよりも反射率が低くなるよう設けられている。 - 特許庁

In a vehicle headlight, a headlight unit has a first movable shade with a side edge and an upper edge for forming an additional light-distributing pattern PA2 which has a vertical cut-off line CV1 turned to an opposite lane side and a horizontal cut-off line CH1 turned upward, and a position of the side edge is set up at a position separated from an optical axis to a road shoulder side.例文帳に追加

灯具ユニットとして、対向車線側を向いた鉛直カットオフラインＣＶ１および上向きの水平カットオフラインＣＨ１を有する付加配光パターンＰＡ２を形成するための側端縁および上端縁を有する可動式の第１シェードを備えた構成とし、その側端縁の位置を光軸から路肩側に離れた位置に設定する。 - 特許庁

In this mouse pad having a line pattern for detecting the moving direction and distance of an optical mouse, the surface sheet is formed of transparent synthetic resin, and provided with an upper face whose static friction coefficient is not more than 0.38, and line patterns are formed of polymer layers and air layers like grid stripes at the lower side of the surface sheet.例文帳に追加

光学式マウスの移動方向と距離を検出するためのラインパターンを備えたマウスパッドにおいて、その表面シートが透光性の合成樹脂で形成されて静摩擦係数０．３８以下の平滑な上面を備え、この表面シートの下側に上記のラインパターンがポリマー層と空気層とによって格子縞状に形成される。 - 特許庁

To prevent a defect from being transferred onto a wafer substrate, by reducing the thickness of an organic film for correcting an opening-like defect by treatment on a line even when performing a washing treatment at specified timing to suppress the variations in pattern line width after exposure, and by the decreased shielding capability in charged particle beams at the defect portion.例文帳に追加

露光後のパターン線幅の変動を抑えるべく所定タイミングで洗浄処理を行う場合であっても、その線上処理によって開口状欠陥を修正する有機膜の膜厚が減少し、その欠陥部分における荷電粒子線の遮蔽能力低下により、ウエハ基板上へ欠陥が転写されてしまうのを回避できるようにする。 - 特許庁

The antenna includes a dielectric substrate 25 for an antenna including a layer of a planar element 21 having a side edge portion constituted by either one of a curved line and line segments which are connected to each other while their inclinations are changed stepwise, and a substrate 26 on which the dielectric substrate 25 is placed and a ground pattern 22 having a tapered shape with respect to the dielectric substrate 25 is formed.例文帳に追加

側縁部が曲線と傾きが段階的に変更されて接続された線分とのうちいずれかで構成される平面エレメント２１の層を含むアンテナ用誘電体基板２５と、アンテナ用誘電体基板２５が設置されアンテナ用誘電体基板２５に対して先細り形状を有するグランドパターン２２が形成された基板２６とを含む。 - 特許庁

In this case, the semiconductor layer, the data line and the drain electrode or the pixel electrode are patterned using a photosensitive film pattern obtained by exposing and developing a photosensitive film in the exposure process of a photoetching step as a mask, and a boundary line of the gate electrode overlapping with the drain electrode is arranged to be perpendicular to the scanning direction of exposure for the photosensitive film in the exposure process.例文帳に追加

この時、半導体層、データ線及びドレイン電極又は画素電極は、フォトエッチング工程の露光工程で感光膜を露光及び現像した感光膜パターンをエッチングマスクにしてパターニングし、ドレイン電極と重畳するゲート電極の境界線を、露光工程で感光膜を露光するスキャニング方向に対して直交して配置する。 - 特許庁

Since patterns PTN1 and PTN2 for supplying power to light emitting diodes vLED1-vLED15 and a dummy pattern PTN3 are provided on a thin transparent plate 1200d which is a printed circuit board so as to constitute the constellation line of Virgo, the constellation line of Virgo is made visible by light emitted by the vLED1-vLED15.例文帳に追加

発光ダイオードであるｖＬＥＤ１〜ｖＬＥＤ１５に電力を供給するパターンＰＴＮ１，ＰＴＮ２及びダミーであるパターンＰＴＮ３が乙女座の星座線を構成するようにプリント基板である薄肉透明板１２００ｄに設けられているため、ｖＬＥＤ１〜ｖＬＥＤ１５が発した光で乙女座の星座線を視認することができる。 - 特許庁