「line pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(60ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a synchronism measuring instrument that can measure skew between a plurality of data transmission lines without complicating an internal circuit by using a PN signal or a fixed pattern signal used for bit error detection in a conventional single data transmission line.例文帳に追加

本発明は、従来単一のデータ伝送路におけるビット誤り検出を行うＰＮ信号あるいは固定パターン信号を用いて複数のデータ伝送路間のスキュー測定を内部回路を複雑化させることなく測定することを可能とする。 - 特許庁

Electrical characteristics of a high-frequency circuit are adjusted by changing characteristics of a distributed constant line with a conductor block 19 connected to a conductor wiring pattern 14 on a dielectric substrate 1 and is mounted, in contact with the dielectric substrate 1.例文帳に追加

誘電体基板１上の導体配線パターン１４に接続され、誘電体基板１上に接するように実装された導体ブロック１９により、分布定数線路の特性を変化させて、高周波回路の電気特性の調整を行う。 - 特許庁

The sector mold is split into a plurality of the sectional parts along a dividing line extending in a tire width direction, traversing a plurality of recessed parts surrounded by projecting strips formed in a mold face in order to form the tread pattern of an outer peripheral face of a tire.例文帳に追加

タイヤ外周面のトレッドパターンを形成するために金型面に形成された凸条によって囲まれた複数の凹部を横切るようにタイヤ幅方向に延在する分割線に沿ってセクター金型を複数の分割金型に分割する。 - 特許庁

To provide an organic developing process method and an organic developing process device capable of stabilizing a fine line width in a circuit pattern and improving throughput without using a rinsing liquid and without being influenced by a time difference in an organic developing process.例文帳に追加

リンス液を用いずに、かつ有機現像処理の時間差の影響を受けずに回路パターンの微細線幅の安定化及びスループットの向上を図れるようにした有機現像処理方法及び有機現像処理装置を提供すること。 - 特許庁

The tracking pattern data in which the information such as the model or serial number of the image forming apparatus is encoded are stored in a register 56, and are sequentially read from the register 56 in a timing synchronized with a line/page start signal and outputted to a data mask circuit 66.例文帳に追加

画像形成装置の機種や製造番号等の情報をコード化した追跡パターンデータはレジスタ５６に記憶されており、ライン／ページ開始信号に同期したタイミングでレジスタ５６から順次読み出されてデータマスク回路６６へ出力される。 - 特許庁

In such a pattern drawing apparatus 100, the line beam in which positional variation is reduced is introduced to a modulation element 537 by the amount of light adjustment unit 550, and thereby exposure in which variation in the amount of light is reduced among pixels can be obtained.例文帳に追加

パターン描画装置１００によれば、光量調節部５５０によって、位置によるバラツキが低減されたラインビームが変調素子５３７に導入されることとなり、結果、画素間の光量バラツキが低減された露光を実現できる。 - 特許庁

In the decal for model having carbon fiber tone, a line pattern technique according to a screen printing method is used, light reflection is controlled by combining ink properties and design and, thereby, the stereoscopic effect and texture effect of genuine carbon fibers can be expressed.例文帳に追加

本発明はスクリーン印刷法で万線技術を用い、インクの物性や図柄を組み合わせて光の反射をコントロールすることにより本物のカーボン繊維の持つ立体感や質感のある模型用デカールを作製する事を可能にした。 - 特許庁

To accurately calculate a coordinate position of each line and a pixel position of a liquid crystal panel even when an uneven width occurs between frames in shrinkage, expansion, or the like of a picked-up image (a signal image) obtained from frame sampling of a display pattern.例文帳に追加

表示パターンのフレームサンプリングから得られた撮像画像（シグナルイメージ）の収縮、膨張等のフレーム間の幅に不均等な部分が生じた場合であっても、各ラインの座標位置を正確に算出し、液晶パネルのピクセル位置を正確に算出する。 - 特許庁

An image game is executed in a variable display device 30 based on the entry of a ball to a start winning port 20, and in the case that ready display appears in the middle, a winning pattern appears together with a special line L by a prescribed probability thereafter.例文帳に追加

始動入賞口２０への球の入賞に基づき、可変表示装置３０で画像遊技が実行され、その途中でリーチ表示が出現した場合には、その後所定確率で、当たり図柄が特別ラインＬとともに出現する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which is capable of controlling the line width of a resist pattern, which is formed on a multilayered film, with higher accuracy without much influenced by a variation in the thickness of layers composing the multilayered film formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成された多層膜の各々の膜の膜厚の変動に大きく影響されることなく、多層膜上に形成されるレジストパターンの線幅の制御性を向上することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a small internally consistent transistor having less characteristic dispersion, by shortening the bonding wire serving as a factor of characteristic dispersion as much as possible, using a line pattern as an inductor component and using it for internal matching.例文帳に追加

特性ばらつきの要因となるボンディングワイヤを極力短くすると共に、インダクタ成分として線路パターンを形成して内部整合に用いることにより、小型で特性ばらつきの少ない内部整合型トランジスタを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for far ultraviolet rays, particularly KrF eximer laser light, having improved line edge roughness, excellent sensitivity, resolution and focal depth and capable of reducing foreign substance on a resist pattern and decreasing standing wave.例文帳に追加

遠紫外光、特にＫｒＦエキシマレーザー光に好適で、ラインエッジラフネスが改善され、感度、解像力、焦点深度が優れ、レジストパターン表面上の異物が減少し、更に定在波も低減したポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

On the bottom surface of a metallic case 1 forming a cavity 50, a dielectric substrate 2 is arranged and a λ/2 resonator pattern 3 which consists of a microstrip line and resonates at λ/2 of a pass frequency band is formed in six stages.例文帳に追加

キャビティ５０を形成する金属製ケース１の底面部に、誘電体基板２が配置され、この誘電体基板２に、通過周波数帯域のλの１／２で共振しマイクロストリップ線路からなるλ／２共振器パターン３が６段形成される。 - 特許庁

Since the capacitor 9 comprises the comb-line conductive patterns 20, 21, the area of the conductive patterns of the capacitor 9, which is penetrated by the magnetic field of the coil 6, is reduced compared with a case where the capacitor 9 comprises a surface shape electrode pattern.例文帳に追加

また、櫛歯状導体パターン２０，２１によりコンデンサ９を構成することにより、面状の電極パターンによりコンデンサ９を構成する場合に比べて、コイル６の磁界が貫くコンデンサ９の導体パターンの面積を減少できる。 - 特許庁

To obtain a high-reliability BGA type semiconductor device wherein the line length of a wiring pattern is reduced to speed up the signal transmission, the thickness of the semiconductor device is made more small, and a bending stress, etc., never occur when a semiconductor chip is bonded to a beam frame.例文帳に追加

配線パターンの線長を短くして信号伝送を速めるとともに、半導体装置の厚みをより薄くし、また、ビームリードに半導体チップとの接合時に曲げ応力等が生ぜず信頼性の高いＢＧＡ型半導体装置を得る。 - 特許庁

To provide a vehicle travel guiding device method, and computer program, correcting a road type of a road along which a vehicle travels to an accurate determination result based on a detection result of a white line pattern.例文帳に追加

白線パターンの検出結果に基づいて車両の走行する道路の道路種別を正確な判定結果へと修正することを可能とした車両用走行案内装置、車両用走行案内方法及びコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a (meth)acrylic acid derivative as a material for the component resin of a resist composition, which is good not only in performance such as resolution, sensitivity and pattern form suitable for ArF excimer laser lithography but also in line edge roughness, and a method for producing the same.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィに適した、解像度、感度、パターン形状などの性能に加えて、ラインエッジラフネスが良好であるレジスト組成物の成分樹脂の原料となる（メタ）アクリル酸誘導体およびその製造方法を提供する - 特許庁

In the projector lens 5, a prism part 51 is formed in order to refract one portion of the light incident into the projector lens 5, and to irradiate it diagonally ahead of the vehicle upward a cut-off line C of the upper end of a low-beam light distribution pattern P1.例文帳に追加

投影レンズ５には、当該投影レンズ５に入射した光の一部を屈折させて、すれ違い配光パターンＰ１上端のカットオフラインＣよりも上方の車両斜め前方へ照射させるプリズム部５１が形成されている。 - 特許庁

To provide a conductive resin composition for electromagnetic wave shielding material for plasma display panel which can form a pattern of fine line width with high accuracy, and can reveal excellent electromagnetic wave shielding performance even if the particle size of conductive fine particles is small.例文帳に追加

微細な線幅のパターンを高精度で容易に形成することができ、かつ、導電性微粒子の粒径が小さくとも優れた電磁波シールド性を発現し得るプラズマディスプレイパネル用電磁波シールド材用導電性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a light emitting device employing a photonic crystal having periodic pattern of an element covered with a reflective layer having an omni-directivity photonic band gap in the band structure of a multilayer photonic crystal so that an electromagnetic line in a predetermined frequency band is generated.例文帳に追加

所定の周波数帯域の電磁線を生ずるよう多層フォトニック結晶のバンド構造に全指向性フォトニックバンドギャップをもつ反射層で覆われた素子の周期パターンを有するフォトニック結晶を用いた発光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an OPC(optical proximity correction) mask producing method by which the dispersion of line width of a pattern practically formed on a wafer is suppressed by performing simulation faithfully reflecting the influence of space dependency, an OPC mask and a chip.例文帳に追加

スペース依存性の影響を忠実に反映したシュミレーションを行なうことにより、実際にウェハ上に形成されるパターンの線幅のばらつきを抑制することができるＯＰＣマスクの製作方法およびＯＰＣマスクならびにチップを提供する。 - 特許庁

In this case, two pairs of pattern lines connected in parallel are used as the low-impedance transmission line 12 to realize the low-impedance, and also a base-grounded mirror complementary circuit is used as the amplifier circuit 13 to realize the low-impedance.例文帳に追加

その際に、低インピーダンスの伝送線路１２として１対のパターン線を２組並列接続したものを用いて低インピーダンス化を図り、また、増幅回路１３としてベース接地型ミラーコンプリメンタリー回路を用いることで低インピーダンス化を図る。 - 特許庁

End portions of coaxial lines 5 are in close contact with each other in parallel, mutual ground lines exfoliated from the end portions are soldered mutually, and a ground line side contact part is formed, so that inductance by a substrate pattern like before is not generated.例文帳に追加

また、同軸線５の端部は互いに併行に密着されており、ここから剥き出されたグランド線同士は互いに半田づけされてグランド線側接触部が形成されているので、従来のような基板パターンによるインダクタンスが発生することもない。 - 特許庁

At etching with the spiral coil 14, a dummy wiring pattern 16 having the same pitch width as an inner circumference is provided outside an outermost circumference 14a of the spiral coil 14, so that the thickness of a coil line at the outer circumference of the spiral coil 14 is prevented from decreasing.例文帳に追加

渦巻きコイル１４のエッチングに際して、渦巻きコイル１４の最外周部１４ａの更に外側に、内周と同じピッチ幅のダミーの配線パターン１６を設け、渦巻きコイル１４の外周のコイル線幅の減小を防止する。 - 特許庁

The sheet-shaped piezoelectric element 22 performs an electric generation activity in accordance with the change in outside stresses to the lure fish body 11 based on the stress of waves and tension changes in a main fishing line, and the light-emitting diode 21 emits the light in accordance with the movement of the lure in a non-artificial pattern.例文帳に追加

シート状圧電素子２２は、波の強弱や道糸の張力変化に基づくルアー魚体１１に対する外部応力の変化に伴って発電作用をし、発光ダイオード２１は、ルアーの動きに応じて非人為的なパターンで発光する。 - 特許庁

An adhesive 20 is formed in a contact coating pattern also to a surface A which becomes a position 43' (broken line parts 41' and 42') corresponding to an image part 43 (character 41 "123", an outer frame 42) of the surface B when the surface A is laminated to the surface B to which the adhesive 20 is not applied.例文帳に追加

面Ａと接着剤２０を塗布しない面Ｂとを貼り合せたとき面Ｂの画像部（文字「１２３」４１、外枠４２）４３に対応する位置（破線部４１´、４２´）４３´となる面Ａにも接着剤２０をベタ塗布パターンで形成する。 - 特許庁

The first rendering mode decision means 2958a determines a rendering pattern for a "ultra-big chance" rendering, in which a variation rendering is executed sequentially showing whether a ready-for-win state is formed on a valid line more than once, at a prescribed ratio.例文帳に追加

第一演出態様決定手段２９５８ａは、有効ライン上にリーチ状態が形成されるか否かの変動演出を複数回にわたって順次実行する「ドデカチャンス」演出の演出パターンを所定割合で決定するものである。 - 特許庁

In the method for manufacturing the semiconductor device, first, in a state that a second insulating film 8 provided with a connection hole 12 and a first mask 9' and a second mask 10' having a connection hole pattern are provided on a first insulating film 7, an energy line E is irradiated on the first insulating film 7.例文帳に追加

まず、第１絶縁膜７上に、接続孔１２が設けられた第２絶縁膜８および接続孔パターンを有する第１マスク９’および第２マスク１０’が設けられた状態で、第１絶縁膜７にエネルギー線Ｅを照射する。 - 特許庁

To provide a polymer for a resist, having high sensitivity and high resolution, and hardly causing defects and line edge roughness at development; to provide a method for producing the polymer for the resist; to provide a resist composition containing the polymer for the resist; and to provide a method for producing a pattern by using the resist composition.例文帳に追加

高感度、高解像度であり、現像時のディフェクトや、ラインエッジラフネスが小さいレジスト用重合体、その製造方法、レジスト用重合体を含むレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供する。 - 特許庁

An element structure 4 to be measured having the same pattern as that of a structure 2 being the object of the management, of the film thickness of the residual film of an inter-layer insulating film in a chip 1 and optical film thickness measuring patterns 5 and 6 are arranged in a scribe line 3 outside the chip 1 as a pair.例文帳に追加

チップ１内の層間絶縁膜の残膜の膜厚を管理する対象となる構造２と同じパターンの被測定対象素子構造４と、光学式膜厚測定パターン５，６とを１組にして、チップ１外のスクライブライン３に設ける。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition (resist) which allows formation of a thin line pattern excellent in development property and adhesion to a substrate, so that a black matrix for a color filter having high light blocking effect and high reliability can be created, and to provide a method for producing the composition.例文帳に追加

現像特性及び基板密着性の優れた細線パターンの形成を可能とし、高遮光性で高信頼性を持つカラーフィルター用のブラックマトリックスの作成が可能となる感光性樹脂組成物（レジスト）及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The color image processor when it receives the image of an original in color printed paper, applies local adaptive edge-retaining smoothing processing to a digital color original image for smoothing a structure of dot and fine parallel line pattern or the like, while retaining the edges of character and photograph of the image or the like.例文帳に追加

紙面にカラー印刷された原稿の画像を入力してデジタルカラー原画像に対して局所適応的エッジ保持平滑化処理を行い、画像の文字や写真等のエッジを保持しながら網点や万線パターン等の構造を平滑化する。 - 特許庁

By performing arrangement with a positional relation in which the bisector of an angle formed by being interposed by the pattern elements 101, 102 arranged so as to meet at approximately right angles, becomes approximately parallel to the edge line in the direction of tooth breadth of a tooth tip of a gear, a rotation amount of the gear can be detected.例文帳に追加

略直交して配置される磁気抵抗パターン要素１０１，１０２が挟む角度の２等分線が、歯車の歯先の歯幅方向エッジラインに略平行となる位置関係で配置することにより、歯車の回転量を検知できる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in resolution such as a minimum dimension that does not allow a bridge defect to generate, roughness performance such as line edge roughness and dependence on developing time, to provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition used for the method, and to provide a resist film.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

Thereafter, when the variable display is stopped by a player through a stop button 271 or the like, when the stop symbols displayed on a prescribed valid line present the specified pattern, the shift is made to a special game status such as a big bonus game advantageous for players.例文帳に追加

そして、遊技者がストップボタン２７１等を介して可変表示を停止した際、所定の有効ラインに表示される停止図柄が特定図柄である場合には、例えばビッグボーナスゲームのような遊技者に有利な特別遊技状態に移行する。 - 特許庁

While a surface to be inspected, which is regarded as a mirror, is moved in a direction perpendicular to the TDI line CCD 26, a check pattern 23 is projected onto the surface of an object to be inspected 31 and is reflected, and the reflected image is observed by the CCD 26.例文帳に追加

鏡に見立てた検査対象面をＴＤＩラインＣＣＤ２６に直交する方向へ移動させながら、検査対象物３１の表面に格子縞２３を投影して反射させ、その反射像をＴＤＩラインＣＣＤ２６で観測する。 - 特許庁

Considering that the dot flaw and the longitudinal line flaw are adjacently present, the defect compensation circuit 76 performs designated difference operation using pixels around a pixel of an interest to be compensated and determines an interpolation pattern according to the result of comparison between differential operation values.例文帳に追加

点キズと縦線キズとが隣接して存在することを考慮し、欠陥補正回路７６は補正すべき注目画素の周囲の画素を用いた所定の差分演算を実行し、差分演算値の大小比較に応じて補間パターンを決定する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for mounting electronic components which can carry out solder bonding with the most suitable heating pattern for each electronic component and can achieve size reduction and energy efficiency improvement of the electronic component mounting line.例文帳に追加

各電子部品に応じた最適な加熱パターンで半田接合を行うことができ、電子部品実装ラインのコンパクト化およびエネルギー効率の向上を実現することができる電子部品実装装置および電子部品実装方法を提供する。 - 特許庁

A conduction pattern of the drive power supply line 2014 is controlled, thereby opening or closing the relay 207 as well as exchanging signs of start and finish of the charging control sequence between the charger 100 and the electric vehicle 200.例文帳に追加

駆動電力供給用ライン２０１４の導通パターンを制御することで、リレー２０７を開放または閉成させるだけでなく、充電制御シーケンスの開始および終了の合図が充電器１００と電動車両２００との間でやり取りされる。 - 特許庁

A light transmission type solar cell module 1 A has a see-through part 18a of which a see-through line is formed by creating with a plurality of holes whose sizes are formed in the same and their arrangement pattern is configured to be formed irregularly.例文帳に追加

光透過型太陽電池モジュール１Ａは、シースルーラインが複数の穴によって形成されたシースルー部１８ａとなっており、各穴の大きさは同じ大きさに形成され、かつ、その配置パターンが不規則に形成された構成となっている。 - 特許庁

In order to prevent oxidation or abrasion of the discharge electrode plate while locally maximizing the number of generated ions, the coating layer is formed so that a part of the discharge electrode plate, in particular, the whole or part of a pattern line of the discharge electrode is exposed.例文帳に追加

イオン発生量を極大化しながら放電電極板の酸化または摩耗を防止するために、コーティング層を放電電極板の一部、特に、放電電極のパターンラインの全部または一部が露出するようにコーティングして形成する。 - 特許庁

When a special variable pattern is selected and a candidate symbol partially meeting the contents of the mission is stopped and displayed, variation of another candidate symbol constituting the same effective line is restarted while keeping the stopped display of the candidate symbol.例文帳に追加

特殊変動パターンが選択された場合、そのミッションの内容を部分的に満たす候補図柄が停止表示されると、その候補図柄の停止表示が保持されたまま、同じ有効ラインを構成する他の候補図柄の変動が再開される。 - 特許庁

At least one thin-film resistor exhibiting zigzag patterns 100 is formed by folding, a plurality of times, straight line patterns each having a prescribed pattern width, on the surface of the wavelength conversion element 10 in a way as not to overlap one another.例文帳に追加

波長変換素子１０の表面に、所定のパターン幅を有する直線パターンを、互に重ならないように複数回折り曲げた葛折状のパターン１００を呈する薄膜抵抗が少なくとも１つ形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method of forming a metal silver portion that forms a thin line pattern of an electromagnetic wave shielding material exhibiting high EMI shieldability and high transparency simultaneously, and that is employed in inexpensive mass production of light-permeable electromagnetic wave shielding film.例文帳に追加

高いＥＭＩシールド性と高い透明性とを同時に有する電磁波シールド材料を細線のパターンに形成可能であり、かつ安価に大量生産できる透光性電磁波シールド膜の製造に用いられる金属銀部の形成方法の提供。 - 特許庁

To evade a useless printing processing by performing preview display according to finish of print data and confirming characters which are omitted due to difference between printing resolution and display resolution, states of ruled line or dither pattern.例文帳に追加

印刷データの仕上がりに準じたプレビュー表示を行うことができ、印刷解像度と表示解像度との違い等により欠落してしまう文字や罫線の状態またはディザパターンの確認を行って、無駄な印刷処理を回避することである。 - 特許庁