「pattern density」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

After a sidewall 27 is formed, only a sidewall of a gate electrode sidewall in an LDMOS source region opened corresponding a resist pattern 28 is removed, and high-density diffusion layers of source and drain regions of the LDMOS and the scaled MOS are formed at the same time to simplify the steps, thereby reducing the cost.例文帳に追加

サイドウォール２７形成後、レジストパターン２８により開口されたＬＤＭＯＳソース領域にあるゲート電極側壁のサイドォールのみを除去し、ＬＤＭＯＳ及び微細ＭＯＳのソース及びドレイン領域の高濃度拡散層を同時形成することにより、工程簡略化を図り、コスト低減を実現する。 - 特許庁

A light modulation circuit 14 for drawing a pattern with a predetermined doe width and a predetermined density by light modulation of a beam light exposed on a photosensitive surface comprises a light intensity modulation means for modulating the light intensity of the beam light, and a dot width modulation means for modulating the dot width of the beam light in the scanning direction.例文帳に追加

感光面に露光されるビーム光を光変調して所要のドット幅でかつ所要の濃度のパターンを描画するための光変調回路１４に、ビーム光の光強度を変調する光強度変調手段と、ビーム光の走査方向のドット幅を変調するドット幅変調手段を備える。 - 特許庁

To solve the problem such that misregistration occurs in a solder terminal which is formed by a reduction in residual stress of a mask, when a high-resolution pattern is repeatedly printed in a high-dense state, in the case where the solder terminal for mounting an electronic component in a high-density state is formed by screen printing of conductive paste such as cream solder.例文帳に追加

電子部品を高密度に搭載するためのはんだ端子を、クリームはんだ等の導電性ペーストのスクリーン印刷により形成するに当たり、高精細なパターンを高密度に、且つ繰り返し印刷すると、マスクの残留応力の緩和により形成されたはんだ端子に位置ずれが生じる。 - 特許庁

A new examination image of low resolving power is formed using the density average value of the respective small regions and the flaws of the respective small regions formed by dividing the new examination image of low resolving power are judged to detect the global flaw such as a relatively large stain or contaminant, color irregularity, pattern feeling inferiority, color difference, etc.例文帳に追加

そして前記各小領域の濃度平均値を用いて低解像度の新たな検査画像を作成し、この低解像度の新たな検査画像を分割した各小領域の欠陥判定により、比較的大きい染みや汚れ、色むら、柄感不良、色段差等の大域的な欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a resin circuit board in which catalyst metal in a surface layer of a base made of a polymer resin is suitably removed without damaging the base even when a metal circuit pattern having higher surface density than on a surface of the base is formed using the catalyst metal.例文帳に追加

触媒金属を用いて、高分子樹脂からなる基材の表面により表面密度の高い金属回路パターンを形成した場合であっても、基材にダメージを与えることなく、基材の表面層にある触媒金属を好適に除去することができる樹脂回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming device where plural reference toner patterns of specified colors are formed on the specified surface of a member moving in a specified direction and the density of each reference toner pattern is detected by a sensor, in which an image interval is shortened and whose image forming speed is high.例文帳に追加

所定方向に移動する部材所定面上に複数の所定色の基準トナーパターンが形成され、各基準トナーパターンの濃度がセンサにより検出される画像形成装置であって、従来より像間隔を短くでき、それだけ従来より画像形成スピードの速い画像形成装置を提供する。 - 特許庁

After the reflection preventing film 4 containing a first organic material having high absorption factor at the wavelength of exposing light used for lithography and a second organic material having a large film density and high light stability is formed on a gate electrode film 3, the resist pattern 5a is formed on the reflection preventing film 4 by lithography.例文帳に追加

リソグラフィに用いる露光光の波長における吸収率が高い第一の有機材料と、膜密度が大きく且つ光安定性が高い第二の有機材料とを含む反射防止膜４をゲート電極膜３の上に形成し、リソグラフィにより前記反射防止膜４の上にレジストパターン５ａを形成する。 - 特許庁

To provide a simple and easy-to-prevail device for manufacturing a printed wiring board without raising cost, and a method for manufacturing with a sufficient yield a high-density and highly precise printed wiring board having the uniform precision of a conductor pattern on its top and bottom surfaces without reducing productivity.例文帳に追加

製造装置の製造コスト高騰を招くことなく簡便かつ普及が容易なプリント配線板の製造装置を提供し、生産性を低下させることなく上下面の導体パターン精度を均一にし、高密度・高精度のプリント配線板を歩留まりよく生産することを目的とするものである。 - 特許庁

That is, a first temporary correction value corresponding to a first portion of a test pattern is determined based on a density measurement value of each row region in the first portion, and then, a first correction value corresponding to a first printing mode is set by each row region based on a value obtained by multiplying an attenuation coefficient to the first temporary correction value.例文帳に追加

すなわち、テストパターンの第１部分における列領域毎の濃度測定値に基づいて、第１部分に対応する第１仮補正値を列領域毎に定め、第１仮補正値に減衰係数を乗じた値に基づいて、第１印刷方式に対応する第１補正値を前記列領域毎に設定する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in sludge removability while maintaining photosensitive characteristics such as sensitivity, resolution and adhesion, a photosensitive element using the resin composition, a method for forming a resist pattern and a method for producing a printed wiring board by which a printed wiring board of sufficiently high density can be obtained.例文帳に追加

感度、解像性及び密着性といった感光特性を維持したままスラッジ除去性に優れる感光性樹脂組成物、この樹脂組成物を用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び十分に高密度化されたプリント配線板を得ることが可能なプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The main and sub-trigger signals of timing suitable for the maximum writing density and a given test pattern are generated so as to enable operations of a writing test mode such as the color shift or the like, using the period other than the transfer time of the print output image from the copy application board, to transfer the generated patterns to the LDBs adapting the patterns to the trigger signals.例文帳に追加

又コピーアプリからの印刷出力画像の転送時以外の期間を利用し、色ずれ等の書き込みテストモードの動作を可能にすべく、最大書き込み密度に適合するタイミングの主副トリガ信号、所定のテストパターンを生成し、生成したパターンをトリガ信号に合わせ込んでＬＤＢに転送する。 - 特許庁

In a charged particle beam system for measuring the line width or the like of a pattern formed on a sample based on secondary electrons emitted from a sample by scanning on the sample with a charged particle beam, interval of the scanning line of the charged particle beam is set not to exceed an irradiation density determined based on the physical properties of the sample.例文帳に追加

荷電粒子線を試料上で走査し、試料より放出された二次電子に基づいて、試料上に形成されたパターン等の線幅等を測長する荷電粒子線装置において、試料の物性に基づいて決定される照射密度を上回らないように前記荷電粒子線の走査線間隔を設定する。 - 特許庁

Accordingly, since the element components mounted and the internally layer pattern are completely covered with the substrate, the insulating layer, and the shielding layer, highly accurate and reliable insulation property and shielding effect are attained, high density mounting is realized, and influence of external electromagnetic field and static electricity is prevented effectively.例文帳に追加

これにより、搭載した要素部品及び内層パターンに対しては基板と絶縁層及びシールド層とで完全に被覆するので、高精度で確実な絶縁性とシールド効果をもつと共に、高密度実装を可能にすることができ、また外部からの電磁界や静電の影響を有効に阻止することができる。 - 特許庁

By laminating and arranging an iris diaphragm mechanism constituted of a plurality of diaphragm blades and the ND filter having a multistage density pattern in one unit, the consecutive control of the f-number, the multistage control of a dimming rate by the ND filter, a nearly circular diaphragm aperture and the uniformity of transmittance distribution in the diaphragm aperture are simultaneously realized.例文帳に追加

複数の絞り羽根で構成される虹彩絞り機構と、多段階濃度パターンを有したＮＤフィルタを１ユニット内に積層配置し、Ｆナンバの連続制御、ＮＤフィルタによる減光率の多段階制御、略円形の絞り開口、絞り開口内の透過率分布一様性を同時に実現した。 - 特許庁

When a film thickness distribution is caused by the density etc., of a pattern in a local area on the sample like a chip on a wafer, the film thickness distribution on the whole surface of the sample is found based on the film thicknesses of divided areas by finding the film thickness values representing the divided areas by continuously detecting the spectroscopic waveform at every divided area.例文帳に追加

又、ウェハにおけるチップのように試料上の局所的領域でパターンの密度等による膜厚分布が生じる場合、区分領域毎に分光波形を連続的に検出し、その区分領域を代表する膜厚値を求め、区分領域の膜厚を基に試料全面の膜厚分布を求める。 - 特許庁

To provide a method for filling molding sand into a molding flask by blowing with which the filling of the molding sand can be performed by eliminating the sand clogging of a sand blowing hole or a sand blowing nozzle and also, the sand filling density in a molding space on the plural shaped parts of a pattern plate can partially be adjusted.例文帳に追加

砂吹込み口あるいは砂吹込みノズルの砂詰りをなくして充填を行うことができると共に造型空間におけるパタ−ンプレ−トの複雑形状部の砂充填密度を部分的に調整することができる鋳物砂の鋳枠への吹込み充填方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The distributed density mask comprises a plurality of masks formed for separate exposure regions, the exposure region of each of the masks has a light shielding pattern with a two-dimensional light intensity distribution formed on the transparent substrate and each of the exposure regions is divided by unit cells of appropriate shape and size without leaving a gap.例文帳に追加

この濃度分布マスクは異なる露光領域ごとに作成された複数枚のマスクにより構成され、各マスクの露光領域は透明基板上に２次元の光強度分布を有する遮光パターンが形成されたものであり、各露光領域は適当な形状及び大きさの単位セルにより隙間なく分割されている。 - 特許庁

In the light diffusing body, a light diffusing part, which is made of a foamed body foamed by impartation of radiation energy and thermal energy and in which air bubble density has a prescribed distribution pattern, is provided on a surface of a light translucent support or is held between light translucent supports and the light translucent support has UV absorbency.例文帳に追加

放射線エネルギーおよび熱エネルギーの付与により発泡した発泡体からなり、気泡密度が所定の分布パターンを有する光拡散部が透光性支持体の表面上に設けられているか、または透光性支持体で挟まれており、かつ該透光性支持体を紫外線吸収性とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed circuit board with no plated lead-in wire, where the part unrelated to the function of the printed circuit board is removed to maximize the performance of the printed circuit board, and to increase the density of the circuit pattern formed on the printed circuit board and to improve the reliability of the product formed by using it.例文帳に追加

本発明は、印刷回路基板の機能と関係がない部分を除去して印刷回路基板の性能を極大化して、印刷回路基板に形成される回路パターンの密集度を高め、これを用いて形成される製品の信頼性を高める印刷回路基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the color filter includes processes of: forming the negative type films 18 by using green, blue and red colored compositions in accordance with a plurality of photo-electric conversion elements 12 in an imaging device 14; performing pattern-exposure of the films via a density distribution mask; and thereafter, developing the film to form the outer surface of each color filter into a convex lens shape.例文帳に追加

カラーフィルター製造方法は：撮像素子１４の複数の光電変換素１２に対応して緑，青，赤色組成物によりネガ型膜１８を形成し、この膜を濃度分布マスクを介してパターン露光した後に現像し、現像後に各色フィルターの外表面が凸レンズ形状に形成されている。 - 特許庁

In an imaging method having an increased resolution imaging process and a halftone process, a matrix size of the dither is made an integral multiple of a resolution increase coefficient (a ratio of a resolution of images and the resolution of imaging control electrodes), thereby preventing interference fringes between the density irregularity and the dither pattern.例文帳に追加

高解像度化画像形成工程とディザーを用いた中間調処理工程とを有する画像形成方法において、ディザーのマトリックスサイズを、高解像度化係数（画像の解像度と画像形成制御電極の解像度の比）の整数倍とし、濃度むらとディザーのパターンとの干渉縞が発生しないようにした。 - 特許庁

To provide an optical member inspection method for inspecting quality of an optical member such as a lens in an image inspection apparatus and capable of exactly evaluating defect factors of an object to be inspected whose shot image indicates a parallel stripe density pattern.例文帳に追加

レンズ等の光学部材の品質を検査するための画像検査装置における光学部材検査方法であって、撮影した画像に平行縞状の濃淡模様が現れるような被検物に対しても不良要因の評価をより厳密に行うことが可能な光学部材検査方法を提供することである。 - 特許庁

To provide an image processing method wherein the total consumption of consumption articles is reduced, while the character quantity of a font part of a printer is maintained by making periodic unevenness, caused by dot thinning processing using a conventional pattern, is less likely to appear, when image density or the consumption of consumption articles is reduced by the dot thinning processing.例文帳に追加

ドットの間引き処理により画像濃度あるいは消耗品使用量を低減する場合、従来のパターンを用いたドットの間引き処理により生じる周期ムラを発生しにくくし、プリンタのフォント部の文字品位を保ったまま、全体の消耗品使用量を低減する画像処理方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the dimensional accuracy and the positional accuracy at the conveying time, mounting time and bonding time are improved while the layer 2 is formed thinly, and an electric part can be surely mounted in a high density wiring in which a pitch of inner leads 9 in the pattern 7 becomes 60μm or less with the reduction of the weight and the thickness.例文帳に追加

これによって、絶縁層２を薄く形成できながら、搬送時、実装時およびボンディング時の寸法精度や位置精度を向上させ、軽量化、薄型化を図りつつ、導体パターン７における各インナリード９のピッチが６０μｍ以下となる高密度配線において、確実に電子部品を実装することができる。 - 特許庁

To provide a recording head having high reliability by a method wherein electric open or short of each wiring pattern is surely inspected even when a recording aperture and a control IC chip are arranged on a substrate with high density in a structure, for example, that the control IC chips are arranged at both sides of the recording aperture.例文帳に追加

例えば記録用開口部を挟んだ両側に制御用ＩＣチップを配置するといった、記録用開口部及び制御用ＩＣチップを基板に高密度で配置する構成を採用する場合であっても、各配線の電気的なオープン・ショートを確実に検査して、信頼性の高い記録ヘッドを提供する。 - 特許庁

A polyester film used for the film layer of a decorative plate formed by arranging at least the film layer and a pattern-printed layer in turn on the surface of a substrate has a permeation density of 0.1-5.0 and a surface specific resistance of 1×10^8-1×10^13 Ω/square.例文帳に追加

基材の表面に少なくともフィルム層と絵柄印刷層とを順次配置してなる化粧板の前記フィルム層に使用されるポリエステルフィルムであって、透過濃度が０．１〜５．０であり、表面固有抵抗値が１×１０^８〜１×１０^１３Ω／□の範囲であることを特徴とする化粧板または化粧シート用ポリエステルフィルム。 - 特許庁

The image forming apparatus scans a pattern image formed on other kinds of recording media Z being different from a specific kind of recording medium X to obtain luminance information (i(Z)) on the other kinds of recording media Z, and converts the obtained luminance information (i(Z)) into density information (d(X)) corresponding to the specific kind of recording medium X.例文帳に追加

本発明によれば、特定の種類の記録媒体Ｘとは異なる他の種類の記録媒体Ｚ上に形成されたパターン画像を読み取って取得された他の種類の記録媒体Ｚについての輝度情報（ｉ（Ｚ））を、特定の種類の記録媒体Ｘにおける対応する濃度情報（ｄ（Ｘ））に変換する。 - 特許庁

The thermally insulative coating material giving stone grain pattern and generating negative ion mainly comprises a synthetic resin emulsion, ceramic fine hollow particles of a water resistant strength of ≥600 kgf/cm^2, a bulk density of 0.3-0.5 g/cm^3 and a melting point of ≥1,500 °C and finely ground particles of granite.例文帳に追加

御影石（花崗岩）を粉砕粒子とした骨材に耐水圧強度６００ｋｇｆ／ｃｍ^２以上で、嵩比重０．３〜０．５ｇ／ｃｍ^３、且つ融点１５００℃以上のセラミック微細中空粒子と合成樹脂エマルジョンを主構成組成物として石目調マイナスイオン発生断熱塗材を作製する - 特許庁

Image control is carried out by correcting a detection signal of a toner pattern read by density sensing means S by referring to a transferal efficiency table which is stored in storage means 20 of an image forming device beforehand, and in which a transferal efficiency characteristic of a toner image to a transferal transport member 10 from an image carrier 1 is stored.例文帳に追加

画像形成装置の記憶手段２０に予め記憶されている、像担持体１から転写搬送部材１０へのトナー像の転写効率特性が整理された転写効率テーブルを参照することで、濃度検知手段Ｓにより読み込んだトナーパターンの検知信号を補正して画像制御を行う。 - 特許庁

To reduce dimensional differences due to inconsistencies in pattern density in a plane by using a mixed gas, wherein a reducing gas is added to a reactive ion etching gas consisting of an oxygen-containing gas and a halogen- containing gas as a reactive etching gas.例文帳に追加

微細なパターンを形成する手段としてのドライエッチングにおいて、面内のパターンの疎密の違いに起因する寸法差を小さくするドライエッチング方法、この方法を利用して得たクロム系ハーフトーン位相シフトフォトマスクおよびその作製方法、ならびにこのフォトマスクを用いて得た半導体回路およびその製作方法の開発。 - 特許庁

To reduce unevenness in resist patterns on a mask due to a fogging effect in an exposure step in mask production (difference in dimension due to pattern density irregularity) and to provide a mask having high dimensional accuracy required for photolithography by which dimension equal to or below the wavelength of light for exposure (with a large numerical value of MEEF (mask error enhancement factor)) is formed on a wafer.例文帳に追加

マスク製造の露光工程においてFogging効果によるマスク上レジストパターンのばらつき（パターン疎密による寸法差）を低減し、ウェハ上で露光波長以下の寸法を加工する（ＭＥＥＦの数値が大きい）光リソグラフィで要求されるレベルの高寸法精度マスクを提供することを目的としている。 - 特許庁

A first image is generated at a FAX resolution (801), a second image is generated at a monitor resolution (802), patterns of the first image are identified using a pixel window of a fixed size (803), expectations of pixels of the second image corresponding to the patterns are computed (804), and the expectations are set to entries of a density value table for each pattern (805).例文帳に追加

ファクス解像度で第１画像を生成し（８０１）、モニタ解像度で第２画像を生成し（８０２）、一定サイズの画素ウインドウを用いて第１画像のパターンを識別し（８０３）、各パターンに対応する第２画像の画素の期待値を計算し（８０４）、パターン毎に濃淡値テーブルのエントリーに期待値を設定する（８０５）。 - 特許庁

To disuse high accuracy in position control and workability of a luminous energy distribution adjusting filter, prevent an image of different density caused by the luminous energy distribution adjusting filter comprising a photosensitive phosphor screen forming layer with a pattern having a transmittivity distribution in an aligner for forming a phosphor screen of a color cathode ray tube.例文帳に追加

カラー陰極線管の蛍光面形成用露光装置において、感光性蛍光面形成層に透過率分布もつパターンの形成された光量分布調整フィルターに起因する濃度差像が転写されにくく、かつその光量分布調整フィルターに高い位置出し精度や加工性が要求されない構成にすることを目的とする。 - 特許庁

This information processor 10 receives state information from an image forming apparatus 20 capable of woven pattern printing or copy guard printing, selects an image forming apparatus capable of printing image data at the highest density from the received state information and transmits image data being a print object to the selected image forming apparatus 20.例文帳に追加

情報処理装置１０は、地紋印刷又はコピーガード印刷が可能な画像形成装置２０から状態情報を受信し、受信した状態情報から最も濃い濃度で画像データを印刷することができる画像形成装置２０を選択し、印刷対象となる画像データを、選択した画像形成装置２０に送信する。 - 特許庁

The pilot pattern can obtain stable channel estimation performance even in a bad channel environment by maintaining a low pilot density and effectively transmitting the data to select pilot symbol positions based on distances from pilots of previous orthogonal frequency division multiple access (OFDMA) symbols to a subcarrier position of a current OFDMA symbol in the frequency domain and the time domain.例文帳に追加

該パイロットパターンは、以前ＯＦＤＭＡシンボルのパイロットから現在ＯＦＤＭＡシンボルの副搬送波位置での周波数領域と時間領域との距離を基にパイロットシンボル位置を選択するために、パイロット密度を低く維持して効率的にデータを伝送し、苛酷なチャンネル環境でも安定したチャンネル推定能を得ることができる。 - 特許庁

To make operation possible in a light room, and to enhance handleability, resolution, adhesiveness and storage stability and to make possible formation of a pattern high in density and precision and freedom by forming a photosensitive resin layer containing an infrared absorbing dye between a transparent organic support and an organic protective layer.例文帳に追加

明室下での作業が可能で取扱性に優れる上に、解像性、密着性、保存安定性にも優れ、設備投資、環境安全面の問題がなく、多品種少量生産、短納期化に対応可能な半導体レーザー等の直接描画により、高密度かつ微細で自由度の高いパターン形成が可能な感光性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁

In the pixel formation area preformed on a transparent substrate, an ink layer is formed by selectively sticking the curable color ink of ≥40 wt.% in solid-component density which contains a pigment and a curable component with an ink jet method, and the ink layer is cured by light irradiation and/or heat irradiation to form a prescribed pattern.例文帳に追加

透明基板上に予め形成される画素形成領域に、顔料および硬化可能な成分を含む固形分濃度が４０重量％以上である硬化性カラーインクを、インクジェット法によって選択的に付着させて、インク層を形成し、該インク層を、光照射および／または熱照射によって硬化させて所定のパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a resist pattern surface modifying method which can increase the polymerization and the carbon-carbon bonding density and improve the etching resistance on the outermost surface of the resist layer without degrading the resist peeling on the adhering surface on the plate, and also to provide an imprinting method, a magnetic recording medium, and its manufacturing method.例文帳に追加

基板との接合面におけるレジストの剥離性を損うことなく、レジスト層の少なくとも最表面部分の重合率、炭素−炭素結合密度が増加し、エッチング耐性を高めることができるレジストパターンの表面改質方法及びインプリント方法並びに磁気記録媒体及び該磁気記録媒体の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition superior in dissolution contrast by simultaneously satisfying high sensitivity, excellent line edge roughness and excellent density independence, and to provide a pattern-forming method using it.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The reactor is further provided with: a means for confining the gas flow in an axial direction through the pump annulation and preventing plasma from flowing to the pump port; a means for compensating for the asymmetry of a gas flow pattern of the whole pedestal generated from the arrangement of the pump port; and a means for controlling the plasma distribution having an inherent tendency to promote the edge-high plasma density distribution.例文帳に追加

反応器はさらに、ポンプ環状部を介して軸方向のガス流を閉じ込めて、プラズマがポンプポートに流れるのを防止する手段、ポンプポートの配置から生じるペデスタル全体のガス流パターンの非対称性を補償する手段、縁部が高いプラズマ密度分布を促進する固有の傾向を有するプラズマ分布をコントロールする手段を備える。 - 特許庁

In the image forming apparatus 100, in which an image density is controlled by detecting the reflection light reflected on a sticking amount pattern formed on the surface to be detected with an optical detection means being the combination of a light emitting means and a light receiving means, the optical detection means 310 comprises a storage means 310-3.例文帳に追加

検知対象面上に形成された付着量パターンに対し、発光手段，受光手段とを組み合わせた光学的検知手段で反射光検知することにより画像濃度制御を行う画像形成装置において、前記光学的検知手段３１０は、記憶手段３１０−３を有する画像形成装置１００である。 - 特許庁

In forming a chemically-amplified resist film 4 for electron beam exposure on a light-blocking film 3 to form a resist pattern 4a, the mask blank includes a deactivation prevention film (not shown) whose film density is higher than that of the light-blocking film 3 at least near the surface and prevents deactivation of the resist film 4.例文帳に追加

遮光性膜３上に電子線露光用化学増幅型レジスト膜４を形成し、レジストパターン４ａを形成する際に、少なくとも前記遮光性膜３の表面近傍の膜密度よりも高い膜密度を有し、前記レジスト膜４の失活を抑制する失活抑制膜（図示せず）が形成されていることを特徴とするマスクブランク。 - 特許庁

The method of manufacturing a solid-state imaging device includes: a step for forming an imaging area and a peripheral circuit area on a substrate; a step for forming a plurality of wiring patterns so that the wiring pattern density of the peripheral circuit area may be higher than that of the imaging area; and a step for forming an insulation film to embed among the wiring patterns.例文帳に追加

本発明の固体撮像装置の製造方法は、基板上に撮像領域と周辺回路領域を形成する工程と、撮像領域よりも周辺回路領域の配線パターン密度が高くなるように複数の配線パターンを形成する工程と、配線パターンの間を埋め込む絶縁膜を形成する工程を有する。 - 特許庁

To solve the problem that almost no reaction mechanisms of highly practicable organic molecules such as photochromic molecules with quantum beams have been made clear and that no promising proposals have been made concerning next-generation recording systems that enhance recording density by leaps and bounds though utilization of quantum beams having a wavelength of a pattern size or less is inevitable as light used for densification.例文帳に追加

高密度化のために用いる光は、その波長がパターンサイズ以下の量子ビームの利用が必須となるが、フォトクロミック分子など実用性の高い有機分子の量子ビームによる反応機構はほとんど解明されておらず、記憶密度を飛躍的に向上させる次世代の記録システムに関する有力な提案はなされていない。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, satisfactory line width roughness and satisfactory density distribution dependency in microfabrication of a semiconductor element using actinic rays or radiation, particularly KrF excimer laser light, electron beams or EUV light, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインウィズスラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁