「pattern on pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(141ページ目) - Weblio英語例文検索

An arbitrary pattern which is formed on a wafer and for constituting the thin-film magnetic head is lightened, reflected light from the pattern is imaged to form an image, which is photoelectrically converted into an image signal, so that feature quantities of the pattern are obtained from the image signal.例文帳に追加

ウェハ上に形成された、薄膜磁気ヘッドを構成するための任意のパターンを照明し、該パターンからの反射光を結像して画像を形成して、該画像を光電変換して画像信号に変換し、該画像信号から上記パターンの特徴量を求めるものである。 - 特許庁

The image control board is provided with a display pattern selection means for dividing basic fluctuation patterns to two or more display patterns and the images are fluctuation- displayed corresponding to the display pattern divided on the basis of an image display command including the basic fluctuation pattern received from the main control board.例文帳に追加

画像制御基板には基本的変動パターンを２つ以上の表示パターンに振り分ける表示パターン選択手段を備え、主制御基板から受信した基本的変動パターンを含む画像表示コマンドに基づいて振り分けられた表示パターンに従って画像を変動表示する。 - 特許庁

When a variation shortening switch is turned on after starting the variation of the symbols, this machine obtains the value of a variation pattern counter, reads the variation pattern corresponding to the obtained value from a second storage region 74b of the ROM 74, and controls to display the variation pattern.例文帳に追加

そして、図柄の変動を開始したあと変動短縮スイッチ２７がオンされたときには、変動パターンカウンタの値を取得しその取得した値に対応する変動パターンをＲＯＭ７４の第２記憶領域７４ｂから読み出し、その変動パターンを表示するよう制御する。 - 特許庁

In an embodiment, an X-ray scattering device is integrated with a correction device formed to calculate automatically an aberration correction output X-ray pattern, using a Fourier expression F_inst (H, 2θ) of the aberration depending on a scattered angle 2θ, and Fourier transformation of a measured X-ray scattered pattern F_exp (H), and formed to output the X-ray pattern.例文帳に追加

例では、X線散乱装置は、散乱角2θと、測定X線散乱パターンF_exp(H)のフーリエ変換とに依存する、収差のフーリエ表現F_inst(H,2θ)を用いて、収差補正出力X線パターンを自動的に算出し、出力するよう形成される補正装置を統合化する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method, capable of making a pattern groove which is provided to a resin film by irradiating the film with a laser beam stable in depth and high in accuracy, stabilizing the characteristics of a pattern which is formed on a board through printing by the use of the resin film as an intaglio, easily forming a pattern groove of high accuracy, and improving an electronic part in productivity.例文帳に追加

樹脂フィルムにレーザー光線によって形成するパターン溝の深さが安定し、精度の高いパターン溝ができ形成、この樹脂フィルムを凹版として印刷により基板に形成するパターンの特性値が安定し、精度が高いパターン溝が容易に形成でき、生産性が高まる。 - 特許庁

A fine slit pattern structure of a predetermined shape is executed in respective printing elements and/or dots of a line drawing and/or a dot pattern on a basic image A expressing the face image of a person by continuously changing the printing element width or the diameter of the line drawing and/or the dot pattern.例文帳に追加

線画及び／又はドットパターンにおける画線幅や直径を連続的に変化させて人物の顔画像を表現した基本画像Ａに対して、前記線画及び／又はドットパターンのそれぞれの各画線内及び／又は各ドット内に一定形状の微小スリットパターン構造を施す。 - 特許庁

In one implemented form, the computer device generates and sends the reference signal pattern when receiving confirmation indicating that the monitor has preparations for calibration based on the reference signal pattern to be received, from the monitor, and the computer device operates as usual (without generating the reference signal pattern) when not receiving the confirmation.例文帳に追加

一実施形態では、コンピュータ・デバイスは、モニタから、モニタが受け取られた基準信号パターンに基づいて較正を行う備えを有するという確認を受け取った場合に、基準信号パターンを生成して送り、そうでない場合、通常どおり（基準信号パターン生成なしに）動作する。 - 特許庁

An initial pattern image IPP, consisting of a first linear pattern image IPP1 in parallel with the main scanning direction on the surface of an image carrier and a second pattern image IPP2, whose position in a subscanning direction is shifted stepwise is formed, and is read by a detection sensor 232.例文帳に追加

像担持体の表面に主走査方向に平行な直線状の第１パターン画像ＩＰＰ１と、副走査方向の位置を階段状に変位させた第２パターン画像ＩＰＰ２と、からなる初期パターン画像ＩＰＰを形成し、これを検出センサ２３２により読み取る。 - 特許庁

A correspondence relation between dimensions of a three-dimensional image when changing the dimensions of the three-dimensional image on a wafer surface of a mask pattern in a prescribed range and the dimensions of a pattern formed by etching the wafer by using a resist pattern formed by the three-dimensional image as an etching mask is determined preliminarily.例文帳に追加

マスクパターンのウエハ表面における空間像の寸法を、ある範囲内で変化させたときの空間像の寸法と、空間像によって形成されたレジストパターンをエッチングマスクとしてウエハをエッチングして形成されるパターンの寸法との対応関係を、予め求めておく。 - 特許庁

A monochromatic image of the nondefective printed board is acquired, and the acquired monochromatic image is divided into each pattern region on reference to each registered pattern region, and the inspection standard used at the inspection time of the printed board is produced relative to each divided pattern region and registered (S5).例文帳に追加

良品のプリント基板のモノクロ画像を取得し、その登録されている各パターン領域を参照してその取得したモノクロ画像を各パターン領域に分割し、この分割させた各パターン領域ごとに、プリント基板の検査時に使用する検査基準を作成し、登録する（Ｓ５）。 - 特許庁

To provide novel leather having a concave-convex pattern, which is three-dimensionally shaped as a whole pattern formed, by deforming the leather body itself by freely drawing a picture or a design on the surface of the leather, painting the picture or the design and forming a concave-convex pattern of the leather.例文帳に追加

皮革表面に自由に描画や図柄をすること、描画や図柄に彩色を行うこと、皮革凹凸模様を形成すること、得られる凹凸模様は、皮革本体を変化させて形成されるものであり、模様全体に立体化が図られている新規な皮革の提供。 - 特許庁

Then, in S1105, the internal probability state judgement flag is referred to this time, the performance pattern of a low probability state and the performance pattern of a high probability state are selected respectively depending on whether the value of the flag is "0" or "1" (S1106, S1107), and a performance pattern is determined.例文帳に追加

次に、Ｓ１１０５において、今度は内部確率状態判定フラグを参照して、フラグの値が「０」か「１」かにより、それぞれ低確率状態の演出パターンおよび高確率状態の演出パターンを選択して（Ｓ１１０６、Ｓ１１０７）演出図柄を決定する。 - 特許庁

In the leftmost display areas 3a1, 3b1 3c1, in the second variation of a vertical scroll, as the a vertical scroll is made upward from below, on the basis of the 'girl' pattern in the leftmost lower display area 3c1, the second variation of the vertical scroll is made by using the 'girl' pattern (the same pattern) alone.例文帳に追加

この左端の表示領域３ａ１，３ｂ１，３ｃ１では、縦スクロールの第２変動において、下から上方向に縦スクロールするので、左端下段の表示領域３ｃ１の「女の子」の図柄を基準として、その「女の子」の図柄のみ（同一図柄）で、縦スクロールの第２変動を行う。 - 特許庁

To control the progress speed of a game without uniformly changing the variation time of a picture pattern for discrimination to be variably displayed on a picture pattern display device concerning a game machine for applying a privilege to be a play condition advantageous for a player corresponding to the stop condition of the picture pattern for discrimination.例文帳に追加

図柄表示装置に変動表示される判定用図柄の停止態様に応じて遊技者に有利な遊技条件となる特典を付与する遊技機において、判定用図柄の変動時間を一律に変更することなく遊技の進行速度を制御する。 - 特許庁

In the process to form a pole part of a recording head, a dummy pattern is formed by using the material such as photoresist so that the end of the pattern is positioned at the position for forming the pole part, and a soft magnetic material becoming the pole is formed to the film on the side surface of this dummy pattern by using a method such as a gradient sputtering.例文帳に追加

記録ヘッドのポール部分を形成する工程において、ポール部分を形成する位置にパターンの端が位置するようにフォトレジストなどの材料を用いてダミーパターンを形成し、このダミーパターンの側面に傾斜スパッタリングなどの手法を用いてポールとなる軟磁性材料を成膜する。 - 特許庁

This dimmer 1 is provided with: pattern switches SW selectively operated in regenerating a predetermined illumination pattern; and an arithmetic processing part 3 for dimming and controlling luminaires based on the selectively operated pattern switches SW; and the plurality of luminaires are connected by dividing them into two circuits.例文帳に追加

調光器１は、所定の照明パターンを再生する際に選択操作されるパターンスイッチＳＷと、選択操作されたパターンスイッチＳＷに基づいて照明器具を調光制御する演算処理部３とを備えており、複数の照明器具が２回路に分けて接続される。 - 特許庁

In a pattern display device 35, on the back surface side of first, second and third pattern display plates 81, 82 and 83 for displaying variable patterns as a first stop column L1, fourth, fifth and sixth pattern display plates 91, 92 and 93 for displaying the variable patterns as a second stop column L2 are arranged.例文帳に追加

図柄表示装置３５にあって、第１停止列Ｌ１としての変動図柄を表示する第１、第２、及び第３図柄表示板８１，８２，８３の背面側に、第２停止列Ｌ２としての変動図柄を表示する第４、第５、及び第６図柄表示板９１，９２，９３を配置する。 - 特許庁

When the variation of the detected density of the first pattern is equal to or above a prescribed value, an image forming condition by the use of the dark color material and the light color material having the same hue in the image forming means is corrected based on the density of the first pattern and the density of the first pattern data.例文帳に追加

検出した第１パターンの濃度の変動量が所定値以上の場合に、第１パターンの濃度と第１パターンデータの濃度とに基づいて、像形成手段における同一色相の濃の色材及び淡の色材による画像形成条件を補正する。 - 特許庁

This scratch processed metal like decorative sheet 10 is constituted by successively forming a scratch like pattern layer 2 and a metal gloss layer 3 comprising a bright ink layer or the like to the back of a transparent resin sheet 1 and a gloss difference pattern layer 4 for bringing the outermost surface to a scratch like gloss difference pattern on the upper surface of the transparent resin sheet 1.例文帳に追加

スクラッチ加工金属調化粧シート１０は、透明樹脂シート１の裏側に、スクラッチ調絵柄層２、光輝性インキ層等からなる金属光沢層３を順次形成し、表側には最表面をスクラッチ調艶差模様とする艶差絵柄層４を形成した構成とする。 - 特許庁

The Mushiro for warps and a splashed pattern yarn is obtained by arranging warps and a cotton thread on both sides of a splashed pattern Mushiro surface formed of warps and a splashed pattern yarn to form a Mushiro surface, drawing out only a body part of divided Mushiro surface and binding shoulders, breast parts, hem parts, warps and a cotton thread of the Mushiro surface with wefts and a cotton thread.例文帳に追加

このため、縦・絣糸用むしろは、縦・絣糸からなる絣むしろ面の両側に縦・木綿糸を配置してむしろ面とし、区画したむしろ面の胴部分のみを引き出し、むしろ面の肩・胸部分及び裾部分と縦・木綿糸とを横・木綿糸にて縛って形成した。 - 特許庁

Based on predetermined specific pattern representing an intrinsic number of the device, a tracking pattern generation part 410 outputs direction signals MKON or MKOFF to change the pulse width of a pulse corresponding to the drawing position of a specific pattern in the pulse train signals VDO.例文帳に追加

追跡パターン発生部４１０は、予め決められた、当該装置の固有番号を表す特定パターンに基づいて、パルス列信号ＶＤＯのうちの特定パターンの描画位置に対応するパルスのパルス幅を変更するための指示信号ＭＫＯＮ，ＭＫＯＦＦを出力する。 - 特許庁

The electromagnetic wave shielding film 200 for the display apparatus includes a first base material of transparent resin material, a negatively engraved mesh pattern 224 formed at least on one surface of the first base material, and an electromagnetic wave shielding pattern containing conductive material filled inside the negatively engraved mesh pattern.例文帳に追加

透明樹脂材質の第１基材、該第１基材の少なくとも一面に形成された陰刻のメッシュパターン及び該陰刻のメッシュパターン内部に充填された導電性物質を含む電磁波遮蔽パターンを具備したディスプレイ装置用電磁波遮蔽フィルムを提供する。 - 特許庁

The pixel value conversion means 103 has a dither pattern setting means for setting the dither pattern and a pixel value replacement means for comparing pixel data of the pixels whose brightness is decided to belong to the brightness range with a threshold of the dither pattern and setting an output pixel value depending on the comparison result.例文帳に追加

画素値変換手段１０３は、ディザパターンを設定するディザパターン設定手段と、明度が明度範囲に属すると判定された画素の画素データを、ディザパターンのしきい値と比較し、比較結果により、出力画素値を設定する、画素値置き換え手段とを有する。 - 特許庁

In an area outside an effective image area on a transfer belt, there are formed a pattern row for detecting a displacement of a yellow toner image, a pattern row for detecting a displacement of a cyan toner image and a pattern row for detecting a displacement of a magenta toner image in the principal direction.例文帳に追加

イエロートナー画像の位置ずれを検出するためのパターン列と、シアントナー画像の位置ずれを検出するためのパターン列と、マゼンタトナー画像の位置ずれを検出するためのパターン列とが主方向に並び、転写ベルトにおける有効画像領域外の部分に形成される。 - 特許庁

To provide an image processing method, apparatus and program in which superior detection accuracy can be obtained in the same detection processing for a dot pattern of an arbitrary color by accurately reproducing the dot pattern by performing appropriate monochromatic processing on a read dot pattern including a plurality of color components.例文帳に追加

読み込んだ複数の色成分を有するドットパターンに対して、適切な単色化処理を行うことにより、ドットパターンを正確に再現し、任意のカラーのドットパターンに対して、同一の検出処理で、良好な検出精度を得ることができる画像処理の方法、装置、およびプログラムを提供する。 - 特許庁

A reticle 11 as a photomask is provided with a mask pattern 12 relating to fabrication of elements on a semiconductor wafer as well as with an auxiliary pattern 13 to correct the line degeneration due to at least the influences of exposure, which effectively functions for the pattern resolution for microfabrication of elements.例文帳に追加

フォトマスクとしてのレチクル１１において、半導体ウェハ上への素子形成に関するマスクパターン１２と共に、少なくとも露光時の影響によるライン縮退を補正する補助パターン１３が付加されており、微細な素子形成のためのパターン解像に有効に働く。 - 特許庁

A method for forming wiring pattern includes a first step of providing a catalyst 60 in an exposed state in the forming area of a wiring pattern and a second step of forming the wiring pattern with a conductive material 30 by performing electroless plating for depositing the material 30 on the exposed area of the catalyst 60.例文帳に追加

触媒６０を配線パターンの形成領域で露出させて設ける第１工程と、前記触媒６０の露出領域に導電材料３０を析出させる無電解メッキを行い、前記導電材料で前記配線パターンを形成する第２工程と、を含む。 - 特許庁

After exposure treatment for a resist film via a mask on which a pattern is formed, a form in the vertical direction of a photoresist pattern formed by developing treatment is detected as a signal waveform and quality judgement of the photoresist pattern is made by a correlation ratio between the signal waveform and a quadratic function.例文帳に追加

パターンの形成されたマスクを通してレジスト膜を露光処理した後、現像処理を行うことにより形成されたフォトレジストパターンの垂直方向の形状を信号波形として検出し、この信号波形と２次関数との相関率からフォトレジストパターンの良否の判定を行う。 - 特許庁

To increase etching seeds contributing etching, in a method for making, on a semiconductor surface, a desired pattern having varying depth by using a first mask having a desired pattern and a second mask for controlling the amount of etching seeds diffused in an opening of the desired pattern.例文帳に追加

所望のパターンを有する第１のマスクと所望のパターンの開口部に拡散されるエッチング種の量を制御するための第２のマスクとを用いて、深さが変化する所望のパターンを半導体表面に作製するための方法において、エッチングに寄与するエッチング種を増大させること。 - 特許庁

To efficiently conduct inspection of a transfer pattern where a specific semiconductor element pattern of a reticle is exposed by finding out the specific semiconductor element pattern on a semiconductor substrate easily and correctly in a short time, even if there are many semiconductor element patterns of the reticle.例文帳に追加

レチクルの特定半導体素子パターンが露光された転写パターンを検査する際に、レチクルの半導体素子パターンが多数ある場合でも、半導体基板上で特定半導体素子パターンを容易且つ正確に短時間で探し当てることを可能とし、極めて効率良く検査を行う。 - 特許庁

Opening pattern information is read out from an opening pattern memory 18 by a loom controlling computer Co for each prescribed timing in one rotation of a loom 1 based on loom rotation angle information obtained from a rotary encoder 19 for the detection of a loom rotation angle and the pattern information is transmitted to a control circuit 15.例文帳に追加

織機制御コンピュータＣｏは、織機回転角度検出用のロータリエンコーダ１９から得られる織機回転角度情報に基づいて織機１回転中の所定タイミング毎に開口パターン記憶装置１８から開口パターン情報を読み出して制御回路１５に送る。 - 特許庁

A photoresist layer 48 is formed on the support board 46, and a photomask 49 is formed (mask pattern) thereon and then subjected to an exposure process, whereby a non-fixed part 51 having the same pattern with the pattern wiring 32 and a fixed part 52 other than the non-fixed part 51 are formed.例文帳に追加

支持基板４６上にフォトレジスト層４８を形成し、その上にフォトマスク４９（マスクパターン）を施して露光して、フォトレジスト層４８に前記パターン配線３２と同じパターンをなす非定着部５１と、非定着部５１以外の領域からなる定着部５２とを形成する。 - 特許庁

In a phase shift mask having the translucent film 12 formed on a transparent glass substrate 10, when the thickness of the translucent film 12 is optimized to the pattern pitch in a fine pattern region 14, subpeaks generated by adjoining aperture may overlap in an isolated pattern region 16.例文帳に追加

透明なガラス基板１０上に半透過膜１２が形成された位相シフトマスクで、微細パターン領域１４におけるパターンのピッチに対して最適となるように半透過膜１２の厚さを調整すると、孤立パターン領域１６において、隣接する開口部によるサブピークが重なり合うことがある。 - 特許庁

A substrate with light shielding pattern having the light-shielding pattern on a transparent substrate is such that the light-shielding pattern includes an upper top part and a part, other than the upper top part and the ink repellency of the upper top part is larger than the ink repellency of the lower part.例文帳に追加

透明基板上に遮光パターンを有する遮光パターン付き基板において、前記遮光パターンは、上頂部と、上頂部以外の部分とを有し、前記上頂部の撥インク性が前記下部の撥インク性より大きいことを特徴とする遮光パターン付き基板である。 - 特許庁

To provide a reader restoring an original image from paper with an image having a superimposed noise pattern printed thereon, a printer controller for printing the image with the superimposed noise pattern on the paper, and the paper with the image with the superimposed noise pattern printed thereon.例文帳に追加

ノイズパターンが重畳された画像が印刷された用紙から、元画像を復元することのできる読取装置、そのノイズパターンが重畳された画像を用紙に印刷するためのプリンタ制御装置、及び、そのノイズパターンが重畳された画像が印刷された用紙の提供。 - 特許庁

A circuit pattern including the connecting part to an IC chip is formed on a basic material by screen printing method using a conductive ink, an IC chip is fixed to the connecting part of circuit pattern thus formed and then the circuit pattern and the IC chip are coated or laminated with a plastic protective layer.例文帳に追加

基材上に導電性インキを用いてＩＣチップへの接続部を含む回路パターンをスクリーン印刷法により形成し、形成した回路パターンの接続部にＩＣチップを取り付け、しかるのち前記回路パターン及びＩＣチップを被覆する保護層をプラスチックをコーティングまたはラミネートする。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR PREPARING ORNAMENTAL MATERIAL ARRAY PATTERN DIAGRAM, COMPUETR-READABLE STORAGE MEDIUM WITH PROGRAM FOR MAKING COMPUTER PERFORM ORNAMENTAL MATERIAL ARRAY PATTERN DIAGRAM PREPARING PROCESSING STORED THERE ON AND METHOD OF ARRAYING ORNAMENTAL MATERIAL USING ORNAMENTAL MATERIAL PATTERN DIAGRAM例文帳に追加

装飾材配列パターン図の作製方法、装飾材配列パターン図の作製システム、装飾材配列パターン図の作製処理をコンピュータに実行させるためのプログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体および装飾材配列パターン図を使用した装飾材配列方法 - 特許庁

The forming method is as follows: the print pattern of the conductive paste is formed on the print object by the intaglio offset printing method using the transfered body whose surface is formed of a silicone rubber, and the print pattern is baked at temperature ≥500°C to form a conductive pattern.例文帳に追加

形成方法は、表面をシリコーンゴムにて形成した転写体を用いて、凹版オフセット印刷法により、被印刷物上に、上記導電性ペーストからなる印刷パターンを形成したのち、この印刷パターンを５００℃以上で焼成して導電性パターンを形成する。 - 特許庁

In a loop processing including detection of wavefront distortion of light by the wavefront detector 60, phase pattern adjustment by the controller 70 based on this detection result, and the presentation of the phase pattern by the wavefront modulator 30, the compensation phase pattern for compensating wavefront aberration is feedback-controlled.例文帳に追加

波面検出部６０による光の波面歪みの検出と、この検出結果に基づく制御部７０による位相パターンの調整と、波面変調部３０による位相パターンの呈示と、を含むループ処理において、波面収差補償を行う為の補償用位相パターンはフィードバック制御される。 - 特許庁

When a pattern selected by the operation of a pattern selecting means is displayed on a display means, the explanation of a sewn object of the pattern and the action explanation display of the sewing machine for sewing it can be made by the operation of a sewing method explanation information means.例文帳に追加

模様選択手段の操作により選択された模様を表示手段に表示しているときに、縫い方説明情報切換手段の操作によりその模様の縫製対象物の説明とこれを縫製するためのミシンの操作説明表示を行うことができる。 - 特許庁

When a second stationary symbol finally displayed on the demonstration symbol display parts D1-D3 is a probability variable pattern, all the variable symbols become the second stationary symbol by pressing the switch and the pattern to be settledly displayed may be noticed before stopping the demonstration pattern display parts D1-D3.例文帳に追加

デモ図柄表示部Ｄ１〜Ｄ３に最終的に表示される第２停止図柄が確率変動図柄の場合、スイッチ押下で変動図柄が第２停止図柄のみとなり、デモ図柄表示部Ｄ１〜Ｄ３の停止前に確定表示される図柄が予告されることがある。 - 特許庁

When the DSP 12 judges that the voice pattern detected by the microphone 2 is closest to an original voice pattern, control data are outputted to the ECU 6 to drive control the on-vehicle equipment corresponding to the normal voice patterns of the group to which the likeness voice pattern belongs.例文帳に追加

ＤＳＰ１２は、音声マイクロフォン２によって検出した音声パターンが類似音声パターンに最も近似すると判定したときには、その類似音声パターンが属するグループの正規音声パターンと対応する車両用機器を駆動制御するための制御データをＥＣＵ６に出力する。 - 特許庁

To measure depth of snow by a snow depth measuring means based on a change in a recorded laser pattern position by radiating a laser pattern to a snow cover surface from slantly upward by a radiating means and recording the laser pattern radiated onto the snow cover surface by an imaging means.例文帳に追加

積雪面に照射手段によりレーザーパターンを斜め上方から照射し、積雪面に照射されたレーザーパターンを撮像手段により撮影し、撮影されたレーザーパターンの位置の変化に基づいて積雪深計測手段により積雪深さを計測することができる。 - 特許庁

As the driving pattern, there are; a type A of basic pattern which includes a bit arrangement which instructs a liquid crystal element to turn on or turn off for one gradation level for each subfield; and types B, C of shift pattern which shift the phase of the bit arrangement with respect to the type A in units 'six' which means the number of the subfields.例文帳に追加

駆動パターンには、一の階調レベルに対しサブフィールド毎に液晶素子をオン駆動またはオフ駆動を指示するビット配列からなる基本パターンのタイプＡと、当該タイプＡに対しサブフィールド数の「６」を単位としてビット配列の位相をシフトさせたシフトパターンのタイプＢ、Ｃとがある。 - 特許庁

When a left reel 110 is stop-operated, an arrow pattern for the left reel 110 is stopped at any position of a pattern display window 113 according to the type of bonus winning patterns, and it is displayed on the liquid crystal display device 700 that the expectation value pointed by the arrow pattern is a degree of bonus expectation.例文帳に追加

そして、左リール１１０を停止操作すると、ボーナス役の種類に応じて、左リール１１０の矢印図柄を図柄表示窓１１３のいずれかの位置に停止させるとともに、矢印図柄が指し示す期待値はボーナス期待度である旨を液晶表示装置７００上に表示する。 - 特許庁