「point process」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

Water injection from the water injection valve 16 into the combustion chamber 17 is performed within a range at 115-155° of crank angle after the bottom dead point (in a piston compressing process).例文帳に追加

前記水噴射弁１６から燃焼室１７内への水噴射を（ピストンの圧縮工程の）下死点後クランク角度１１５°〜１５５°の範囲内で行う。 - 特許庁

The method for manufacturing a zirconium oxide powder includes the process of firing a precursor powder while passing air together with steam having a dew point of 70°C or higher.例文帳に追加

露点７０℃以上の水蒸気を空気とともに通気して前駆体粉末を焼成する工程を含む酸化ジルコニウム粉末の製造方法。 - 特許庁

A high melting point metal and a compound thereof may be used by forming the through electrodes in a gate electrode forming process and thereby resistance may be lowered.例文帳に追加

ゲート電極形成工程において貫通電極を形成することで高融点金属およびその化合物が使用でき、低抵抗化が図れる。 - 特許庁

Breath power' is a coined termed created by Morihei in the process of establishing his martial art, and it's an expression of 'aiki' through Morihei's unique point of view. 例文帳に追加

「呼吸力」は盛平が自らの武道を確立する過程で生み出した造語であり、「合気」を盛平独自の主観を通して表現したものである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The difference between the Fa and the Fb in an identical measuring point is calculated, and the vibration component (S) of the longer material 10 is calculated (Vibration-component calculation process).例文帳に追加

次に、同一計測地点におけるＦａ及びＦｂの差を積算し、長尺材１０の振動成分（Ｓ）を算出する（振動成分算出工程）。 - 特許庁

Preferably, the process has fibrillation fluid temperature not exceeding the melting point of polymer by 50°C or more, and fibrillation fluid speed of less than about 100 m/sec.例文帳に追加

好ましくは、前記プロセスは、ポリマーの融点を５０℃以上超えない繊維化流体の温度と、約１００ｍ／秒未満の繊維化流体速度を有する。 - 特許庁

The FPC33 is so arranged that the contact point 12a, the through-hole 33a and the notch 33b overlap each other in top view (base material arranging process).例文帳に追加

そして、平面視で接点１２ａと貫通孔３３ａ及び切り欠き３３ｂとが重なるようにＦＰＣ３３を位置合わせして配置する（基材配置工程）。 - 特許庁

In the crossing process, the axial other end side of the first coil wire bundle 50 is shifted, with the engaging point P as a fulcrum, and is crossed with the second coil wire bundle 60.例文帳に追加

交差工程は、係合部Ｐを支点として第１コイル線材束５０の軸方向他端側を移動させて第２コイル線材束６０と交差させる。 - 特許庁

The information guidance method is provided with a process S7 for setting the destination from the present location, a process S14 for computing the number of facilities for every route beyond the branch point, and a process S15 for performing guidance on the number of facilities for every route just before the branch point on the basis of the results of the computations.例文帳に追加

現在位置から目的地を設定する工程Ｓ７と、施設のジャンルを選定する工程Ｓ９と、現在位置から目的地に至る経路が２つ以上ある時、分岐点より先の経路毎に施設件数を演算する工程Ｓ１４と、上記演算結果に基づいて分岐点手前において経路毎の施設件数を案内する工程Ｓ１５とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The management server 30 manages the received information in block by a database, extracts the process point codes corresponding to the DP bag information for inquiries of processing states of the product based on the DP bag information from each terminal 20 and displays process information (history) indicating the passing states of the production processes of the product on the terminal 20 based on the process point codes.例文帳に追加

管理サーバ３０は、受信した情報をデータベースで一括管理し、各端末機２０からのＤＰ袋情報に基づく製品の処理状況の問い合わせに対して該ＤＰ袋情報に対応する工程ポイントコードを抽出し、この工程ポイントコードに基づいて製品の生産工程通過状況を示す工程情報（履歴）を端末機２０に表示させる。 - 特許庁

This method for positioning a workpiece at the focal point of laser beam includes (a) a process 102 for generating laser beam, (b) a process 130 for focusing laser beam and forming plasma which causes plasma radiation, (c) a process for positioning the focal point responsive to plasma radiation, and (d) a process 132 for translating the surface of workpiece to the above position of focus.例文帳に追加

レーザー機械切削するために加工物の表面を適切な位置に配置する方法であって、上記方法は、以下：（ａ）レーザー光線を発生させる工程１０２；（ｂ）該レーザー光線を焦点に集中させて、プラズマ放射を発生させるプラズマを形成する工程１３０；（ｃ）該プラズマ放射に対して応答性の該焦点の位置を決定する工程；および（ｄ）該加工物の該表面を、該焦点の該位置に移動させる工程１３２、を包含する方法を提供する。 - 特許庁

Upon receiving an issued command directed to a process instance of a process model, this method and a corresponding system determines whether the current activity having control authority at that point of time is included in a command sphere in control flow of the process instance in a first step.例文帳に追加

プロセス・モデルのプロセス・インスタンスに対して発行されたコマンドを受け取ったときに、この方法および対応するシステムは、第１のステップで、プロセス・インスタンスの制御フローにおいて、その時点において制御権を持つカレント・アクティビティ・インスタンスが、コマンド範囲に含まれるかどうかを判定する。 - 特許庁

The dehydrating device A comprises a heat chamber 3 for performing thermal dehydration process by heating the substrate 10 provided with at least the insulating layer, and a temperature-lowering chamber 4 for a temperature-lowering process where the temperature of the substrate 10 is lowered while keeping an atmosphere in a low dew point after the thermal dehydration process.例文帳に追加

脱水装置Ａは、少なくとも前記絶縁層が配設された基板１０を加熱して加熱脱水処理を行う加熱室３と、前記加熱脱水処理後に雰囲気を低露点に保ちながら基板１０の温度を下げる降温処理を行う降温室４と、を備えてなる。 - 特許庁

In the determination process of step S15, when it is not determined that retry is necessary ("NO" in the determination process of step S15), the control unit 60 sets as the zero-point θ0 the electric angle corresponding to the stopper position detected by executing the ZPD process this time.例文帳に追加

一方、制御ユニット６０は、ステップＳ１５の判断処理において、リトライが必要であると判断しなかった場合（ステップＳ１５の判断処理で「Ｎｏ」）、今回のＺＰＤ処理を実行することによって検知したストッパ位置に対応する電気角を零点θ０として設定する。 - 特許庁

A thermal energy calculation program 4B calculates the cumulative quantity of thermal energy applied to each mesh in an injection molding process from the moving speed, temperature, and pressure of each mesh at each point of time in the injection molding process calculated by an injection molding process program 4A by simulation.例文帳に追加

熱エネルギー算出プログラム４Ｂは、射出成形過程プログラム４Ａがシミュレーションによって算出した、射出成形過程の各時刻における各メッシュの移動速度、温度、圧力から、射出成形過程において各メッシュが受ける熱エネルギーの累積（総和）量を算出する。 - 特許庁

In the first cooling process, the ring is cooled to a first cooling temperature of the M_S point or lower, and in the restraining process, the ring is restrained with a restraining member 30 and in the second cooling process, the ring is cooled while restraining, to a second cooling temperature of lower than the restraining starting temperature.例文帳に追加

第１冷却工程では、軸受軌道輪１０が、Ｍ_Ｓ点以下の第１冷却温度まで冷却され、拘束工程では、拘束部材３０により拘束され、第２冷却工程では、拘束開始温度よりも低い第２冷却温度まで、拘束されつつ冷却される。 - 特許庁

The method comprises a pseudo liquid layer forming process for forming a pseudo liquid layer 6 by the use of material having a melting point lower than that of the oxide-based superconductor, and a superconductive layer forming process for depositing the superconductive layer 8 by the use of the oxide-based superconductor after the pseudo liquid layer deposition process.例文帳に追加

酸化物系超電導体より融点が低い物質で擬似液体層６を成膜する擬似液体層成膜工程と、 擬似液体層成膜工程の後に、酸化物系超電導体で超電導層８を成膜する超電導層成膜工程とを含む。 - 特許庁

Next, analysis reliability M of an arbitrary point (process condition) in the exposure amount-focus space is defined and reliability R of the process window 15 is calculated by averaging M^α (α is a value about -1) for the points in the process window 15 using the analysis reliability M.例文帳に追加

次に、露光量−フォーカス空間内の任意の点（プロセス条件）の解析信頼性Ｍを定義し、この解析信頼性Ｍを用いてプロセスウィンドー１５内の点についてＭ^α（αは−１程度の値）を平均化してプロセスウィンドー１５の信頼性Ｒを算出する。 - 特許庁

This method for producing coating particles which are coated with a coating compound includes processes: (A) a process of sticking a binder and a coating compound particle on each wax coating particle obtained by coating a core particle with wax; and (B) a process of heating particles obtained in the process (A) up to a melting point of wax or higher.例文帳に追加

（Ａ） コア粒子をワックスでコーティングしたワックスコーティング粒子に、バインダー及び被覆用化合物粒子を付着させる工程（Ｂ） 工程（Ａ）で得られる粒子を、前記ワックスの融点以上にまで加熱する工程を含む、被覆用化合物がコーティングされたコーティング粒子の製造方法。 - 特許庁

The melting point of a portion which is in contact with the first metal layer in the second metal layer 14 is higher than a heating temperature in the alloying process and the portion is composed of metal which does not react with the first metal layer under an environment under which the second metal layer forming process and the alloying process are carried out.例文帳に追加

第２金属層１４において第１金属層と接触する部分は、合金化工程での加熱温度より融点が高く、かつ第２金属層形成工程と合金化工程とを実施する環境下で第１金属層と反応しない金属からなる。 - 特許庁

To safely manufacture an alloy type thermal fuse and an article with the alloy type thermal fuse built in with good yields even when a process reaching to a higher temperature than an alloy melting point of an soluble alloy as a fuse element, for example, a process of injection molding of resin in a manufacturing process of the alloy type thermal fuse.例文帳に追加

合金型温度ヒューズの製造工程中に、ヒューズエレメントである可溶合金の合金融点よりも高い温度の工程、例えば樹脂射出成形工程が含まれていても、その合金型温度ヒューズ乃至合金型温度ヒューズ内蔵物品を良好な歩留で安全に製造する。 - 特許庁

When the executed instruction is a substitution instruction for substituting data in the process memory space, the computer updates information in a break memory space corresponding to a process memory space which is a substitution destination of the data to break point information in a break memory space corresponding to a process memory space storing the data.例文帳に追加

また、実行された命令がプロセスメモリ空間内でデータを代入する代入命令である場合に、データの代入先となるプロセスメモリ空間に対応するブレークメモリ空間の情報を、データが記憶されているプロセスメモリ空間に対応するブレークメモリ空間のブレークポイント情報に更新する。 - 特許庁

Furthermore, when a refund amount by special conversion is calculated, it is compared with the sales of a special conversion claimed item so as to determine whether or not a carryover process should be performed (S305), and the carryover process (S306) or a point-returning process (S308) or the like is executed as necessary.例文帳に追加

さらに、特別換算キャッシュバック額が算出されると、特別換算請求項目の売上額と比較する等により、繰越処理を行うか否か判定され（Ｓ３０５）、必要に応じて繰越処理（Ｓ３０６）またはポイント戻し処理（Ｓ３０８）などが行われる。 - 特許庁

Consequently, segments are repeatedly drawn in a start-point and end-point calculating process S3 and a segment drawing process S4 to draw the quadrilateral having no drawing omission.例文帳に追加

演算精度算出工程Ｓ１で描画時に発生する誤差の大きさを調べ、四角形分割行程Ｓ２で誤差が描画抜けを起こさない範囲に収まるように四角形を分割することによって、始点・終点算出工程Ｓ３および線分描画工程Ｓ４で線分を繰り返し描画し、描画抜けの発生しない四角形を描画できる。 - 特許庁

The method for dynamically allocating channels of a plurality of interfaces in response to a traffic condition within each access point constituting the mesh network comprises the process of acquiring information in a node of a self access point, and the process of including access points having large traffic into a cluster having the same channel set based on acquired information.例文帳に追加

メッシュネットワークを構成する個々のアクセスポイント内で複数のインタフェースのチャネルをトラフィック状況に合わせて動的に割り当てる方法であって、自アクセスポイントのノード内情報を取得する工程と、取得した情報に基づき通信量が多いアクセスポイント同士を同じチャネルセットを持つクラスタに含める工程とを備える。 - 特許庁

This refrigerant having a cooking chamber is provided for extracting deliciousness by the taste seeping effect by partially breaking a cell of the food 29 by alternately repeating a cooling process for setting a freezing point of the food 29 as a lower limit and a melting process for heating a temperature of the food to a range of a freezing point to 5 °C.例文帳に追加

食品２９の凍結点を下限とする冷却工程と、食品の温度を凍結点以上で５℃以下の範囲に加温する融解工程を交互に繰り返し行うことで食品２９の部分的な細胞破壊を行い味の染み込み効果による旨みを引出す調理室を備えた冷蔵庫を提供する。 - 特許庁

The stencil for stencil process printing is of a sheet type with numerous fine pores which are filled with a filler of (A) a resin having a lower melt point than the melt point of the sheet, (B) a solvent-soluble resin or (C) a thermal adhesive resin.例文帳に追加

（１）多数の微細孔を有するシートであって、前記微細孔に(A) 前記シートの融点より低い融点を有する樹脂、(B) 溶剤可溶性樹脂または(C) 加熱粘着性樹脂の充填材が充填されている孔版印刷用原紙。 - 特許庁

A filling unit 22 extracts an inner luminal pixel set which is an assembly of a plurality of luminal pixels which exist in a region surrounded by the cardiac muscles and also include the representative point, by performing a filling process with the representative point as an origin.例文帳に追加

塗りつぶし処理部２２は、代表点を起点として塗りつぶし処理を実施することで、心筋に取り囲まれた領域内に存在し且つ代表点を含む複数の腔ピクセルの集合である内腔ピクセル集合を抽出する。 - 特許庁

In the changed conveyance setting process (S416), after the rear end of the recording paper P is made to pass the nip point of the conveyance roller 60 by a large feed, a changed conveyance amount to make its conveyance stop position a position that exceeds the first point is calculated.例文帳に追加

この変更搬送設定処理（Ｓ４１６）では、記録用紙Ｐの後端を大フィードで搬送ローラ６０のニップ点を通過させた後、その搬送停止位置が第１のポイントを超える位置とする変更搬送量が算出される。 - 特許庁

In order to electrically connect a contact point 12a of a separate electrode 12 and a contact point 34a of a wiring 34, a laser is radiated from above an FPC33 to form a through-hole 33a and a notch 33b (base material manufacturing process).例文帳に追加

個別電極１２の接点１２ａと配線３４の接点３４ａとを電気的に接続するために、まず、ＦＰＣ３３の上方からレーザを照射して貫通孔３３ａ及び切り欠き３３ｂを形成する（基材作製工程）。 - 特許庁

In the method for determining the gray change point at the production process of the titanium white, the gray change point of a hydrolyzed titanium-containing solution is determined by measuring the change of a transmittance of a titanium-containing solution.例文帳に追加

本発明の方法は、含チタン溶液の透光度の変化を測定することによって加水分解含チタン溶液の灰色変化点を判断することを特徴とする、チタンホワイトの生産過程で灰色変化点を判断する方法である。 - 特許庁

Using two registered x-coordinates as one pair, a pixel drawing program (14A) controls a process (S8) for generating drawing data from the coordinate point data from one coordinate point to the other included in the pair.例文帳に追加

画素描画プログラム（１４Ａ）は、登録された２つのｘ座標を１組とし、１組に含まれる一方の座標点から他方の座標点に至る座標点のデータに基づいて、描画データを生成する処理（Ｓ８）を制御する。 - 特許庁

The present invention relates to the industrial synthesis process which yields a compound of formula (1) with satisfactory purity from the pharmaceutical point of view and in an effective yield from the industrial point of view, as well as crystalline form I thereof and the use thereof as a medicine.例文帳に追加

式（１）：で示される化合物の、製薬の観点から満足な純度を有し、かつ工業的な観点から有効な収率で得られる工業合成方法、及び結晶形態Ｉ、および医薬品としての使用。 - 特許庁

At a route search time, a route search process part 32 designates one view sheet including a node as a starting point of the route search (e.g. a departure point, a destination or the like), reads in corresponding map data and searches for the route to the superior node.例文帳に追加

経路探索時に経路探索処理部３２は、経路探索の起点となるノード（例えば、出発地や目的地等）を含む１枚の図葉を指定して対応する地図データを読み込み、上位ノードに至るまでの経路を探索する。 - 特許庁

In this process, the mandrel 70 is not heated, the first die 75 is heated at a temperature of at least the melting point of the sealant layer of the sheet 1a, and the second dye is kept at a temperature which is 90% or below of the melting point of the sealant layer of the sheet 1b.例文帳に追加

この場合、マンドレル７０を非加熱、第１の型７５をシート１ａのシーラント層の融点以上の温度に加熱し、第２の型７３をシート１ｂのシーラント層の融点温度の９０％以下の温度にする。 - 特許庁

The minimum observation point number calculation process seeks, for every frequency, a number made by subtracting one from the number obtained by dividing a length Q around the sound source by a wavelength equal to or smaller than one eighth of the wavelength for every frequency, as a minimum observation point number M.例文帳に追加

最低観測点数算出過程は、音源の周囲の長さＱを、周波数毎の波長の８分の１以下の波長で除した数から１を引いた数を最低観測点数Ｍとして周波数毎に求める。 - 特許庁

Next, a tendency of a meteorological condition of the planning place 1 is guessed on the basis of a meteorological condition provided at an observation point (an AMEDAS point) 2 of an areal meteorological observation system around the planning place 1 on the basis of its investigation result (a second process).例文帳に追加

次に、その調査結果に基づいて、計画地１周辺の地域気象観測システムの観測点（アメダスポイント）２で得られる気象条件を基準にして計画地１の気象条件の傾向を推測する（第２工程）。 - 特許庁

When a high melting point metal film formed on a substrate via an SiO_2 film is subjected to dry etching, the transition of the plasma emission intensity in an overetching process is monitored to confirm that the etching selection ratio between the high melting point metal film and the SiO_2 film can be secured.例文帳に追加

基板上にＳｉＯ_2を介して形成された高融点金属薄膜をドライエッチングする際、オーバーエッチングにおけるプラズマ発光強度の推移をモニターすることにより、ＳｉＯ_2とのエッチング選択比の確保が確認可能となる。 - 特許庁

In the process of producing a dummy pattern on a scribe line, the scribe line is divided for every chip, and the dummy pattern is produced at a specified gap from the center point of the chip as the reference point of production in the dummy producing region assigned to each chip.例文帳に追加

スクライブライン上にダミーパターンを発生するにあたり、スクライブラインをチップ毎に分割し、チップ毎に割り当てられたダミー発生領域に、チップの中心点を発生基準点として規定ギャップ値をもってダミーパターンを発生させる。 - 特許庁

The method for manufacturing a diamond electron source which includes a top end portion as a diamond electron discharging point includes a process A in which a top end shape of the sharp top portion is rectified to a spherical surface by using a focused ion beam processing unit and a process B in which a process-damaged layer formed by the process A is removed by plasma.例文帳に追加

本発明が提供するダイヤモンドの電子放射点として先鋭部を有するダイヤモンド電子源の製造方法は、該先鋭部の先端形状を集束イオンビーム加工装置を用いて球面形状に補正する工程Ａと、該工程Ａによって形成された加工変質層をプラズマによって除去する工程Ｂとを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a wastewater treatment method and apparatus for treating wastewater from a semiconductor manufacturing process or the like, capable of operating an oxidation treatment process under the optimum condition by detecting an end point accurately in a wastewater treatment process having the oxidation treatment process for a substance in wastewater and capable of preventing the addition of excess ozone or the excessive irradiation with ultraviolet rays.例文帳に追加

含有物質の酸化処理工程を有する廃水の処理において、終点を正確に検出することにより酸化処理工程を最適な条件で運転でき、それによって過剰のオゾン添加や過剰の紫外線照射を防止可能な、半導体製造工程等からの廃水処理方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of semiconductor device including a polishing step for preventing generation of a defect of insulating film after the polishing process, controlling the polishing of a stopper film and readily detecting the final point of the polishing process.例文帳に追加

研磨後の絶縁膜の欠陥の発生を防止し、ストッパー膜に対する研磨を抑制し、研磨の終点の検出を容易に行なうことを可能とする研磨工程を備える半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A game apparatus determines color of each point on the surface of the each polygon by interpolating process (and tone shading process) after determining color or brightness of each tip on the basis of the direction of a light 73 and the directional data of each tip.例文帳に追加

ゲーム装置は、ライト７３の向きと各頂点の方向データとに基づき、各頂点の色または明るさを決定した後、補間処理（およびトゥーンシェーディング処理）により、各ポリゴンの表面上にある各点の色を決定する。 - 特許庁

The mobile terminal calculates the present throughput in communication with the access point 60 in the process of connection based on the present radio-wave intensity, and executes a roaming process when the present throughput is determined to be lower than the predictive throughput.例文帳に追加

更に、現在の電波強度に基づいて接続中のアクセスポイント６０との通信における現在スループットを算出しており、現在スループットが予測スループット未満であると判断される場合にローミング処理を実施している。 - 特許庁

The method for predicting and evaluating crack evolution in this invention includes the process (a code 11) of calculating the stress intensity factor K_a at the deepest point and the process (a code 13) of judging which is the greater, the depth (a) of a crack and the boundary depth (a_b).例文帳に追加

本発明によるき裂進展予測評価方法は、最深点応力拡大係数Ｋ_aを算出する工程（符号１１）と、き裂深さａと境界き裂深さａ_bとの大小関係を判定する工程（符号１３）とを備えている。 - 特許庁