「step process」に関連した英語例文の一覧と使い方(64ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for highly selectively producing a cyclohexadiene derivative the production of which requires multistep reaction process by a normal organic synthesis and is difficult, from an alkyne and an alkene which are simple organic compounds by one step.例文帳に追加

本発明は、通常の有機合成によれば多段階の反応工程を要し製造困難であるシクロヘキサジエン誘導体を、単純有機化合物であるアルキン、アルケンから１段階で且つ高選択的に製造することができる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The present invention relates to the fluidized catalytic cracking (FCC) process capable of reducing the emission of carbon dioxide in which a regeneration step for a used catalyst is modified by using pure oxygen without requiring dilution, when burning cokes deposited onto a catalyst.例文帳に追加

本発明は、触媒に付着したコークスを燃焼させる際に、希釈する必要がなく純酸素を使用することによって使用済み触媒の再生段階を改変した、二酸化炭素の排出を低減させた流動接触分解（ＦＣＣ）法に関する。 - 特許庁

The information storage film constituting the one memory structure is formed substantially simultaneously using the same process stage, and the lower-part and upper-part through holes constituting the one memory structure are formed in order using mutually different step stages.例文帳に追加

１つのメモリ構造体を構成する情報貯蔵膜は同一の工程段階を利用して実質的に同時に形成され、１つのメモリ構造体を構成する下部及び上部貫通ホールは互いに異なる工程段階を利用して順に形成され得る。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device in which an electron implantation during a process is reduced and the illumination of ultraviolet ray at the finishing time point of the manufacturing step is eliminated simultaneously when characteristics are stabilized in a p-channel EPROM, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

Ｐチャネル型ＥＰＲＯＭにおいて、プロセス中の電子の注入を減少させ、特性が安定すると同時に製造工程終了時点での紫外線の照射が不要になる半導体記憶装置及びその製造方法を提供しようとするものである。 - 特許庁

To provide a device and method for supporting quality improvement which facilitate the search and extraction of a viewpoint while preventing viewpoint omission in each step of development so that viewpoints fostered in the process of developing each business can be used for various businesses.例文帳に追加

各業務を開発する過程で培ってきた観点について様々な業務で使用できるにして、開発の各段階の工程で観点洩れを防ぎ、観点を検索・抽出しやすい品質向上支援装置および品質向上支援方法を提供する。 - 特許庁

When the failure occurs in the substrate processing apparatus during substrate processing by the chemicals, the failure is detected by the failure detecting means (step S41), and the rinse-liquid nozzle is controlled by the main control unit, and further, rinse processing as a process of failure treatment is performed to the substrate.例文帳に追加

基板の薬液処理中に基板処理装置に異常が生じると、異常検知手段により異常が検知され（ステップＳ４１）、メイン制御部によりリンス液ノズルが制御されて、異常処理の一工程としてのリンス処理が基板に行われる。 - 特許庁

As a result, while the omission of the process step is possible by the irradiation of the material 1 to be welded from the flank side without the irradiation of the laser beam from the other flank, the secure joining of one material to be welded and the other material to be welded is made possible.例文帳に追加

これにより、被溶接物１の一側面側からのレーザビーム照射により他方側面からのレーザビームの照射を行うことなく、工程の省略が可能でありながら、一方の被溶接物と他方の被溶接物とを強固に接合することができる。 - 特許庁

To provide a pieced part preventing yarn breakage stemming from heat storage even during a flame-proofing step and further causing no rupture even under high tension on filament yarns in respective steps, and a process for producing a carbon fiber with a pieced part in high productivity.例文帳に追加

耐炎化工程中においても蓄熱による糸切れを防止し、さらには各工程での糸条への高張力でも破断することのない糸繋ぎ接合部および糸繋ぎ接合部を有する、生産性の高い炭素繊維の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve the yield in a manufacturing process step by gently sloping the pattern sectional shape of the pattern formation performed by using selective etching by dry etching and abating a shorting defect in manufacturing a liquid crystal display device of an active matrix type.例文帳に追加

アクティブマトリックス方式の液晶表示装置の製造に際し、ドライエッチングによる選択エッチングを用いて行なったパタン形成のパタン断面形状をなだらかにし、ショート不良を低減することにより製造工程における歩留まりを向上すること。 - 特許庁

To provide a data processor capable of efficiently executing an embedding process of electronic watermark information in object data and acquiring the electronic watermark information according to applications, a means or the like of the object data in a step of embedding the electronic watermark information in the object data.例文帳に追加

対象データへの電子透かし情報の埋込処理を効率良く実行可能であり、電子透かし情報を対象データに埋め込む過程で対象データの用途や手段等により電子透かし情報を取得可能なデータ処理装置を提供する。 - 特許庁

An exposure process for patterning for making the area of the SiO_2 film to be polished by CMP uniform and exposure for patterning for imparting step-difference to an alignment mark are covered by the same exposure, thereby reducing the number of times of exposure processing to two.例文帳に追加

あるいは、ＣＭＰで研磨するＳｉＯ_2膜の面積を揃えることを目的としたパターニングのための露光工程と、アライメントマークに段差を持たせることを目的としたパターニングのための露光を同一露光で賄うことで、露光工程の回数を２回に低減する。 - 特許庁

After the temperature of the Ni film 1 and the Si substrate 2 is raised up to about 800°C, the temperature of the Ni film 1 and the Si substrate 2 is kept at about 800°C, for almost the same time needed for the gradual and step-wise heating process from about 300°C to about 800°C.例文帳に追加

Ｎｉ膜１およびＳｉ基板２の温度を約８００℃まで上昇させた後、Ｎｉ膜１およびＳｉ基板２の温度を、約３００℃〜約８００℃までの段階的かつ階段状の加熱工程に掛かった時間と略同じ時間、約８００℃に保持する。 - 特許庁

The method of producing the photoelectric converting apparatus includes the step of conducting the annealing process for 30 minutes to six hours under the temperature of 150 to 200°C in the atmospheric condition to a photoelectric converting apparatus provided with a photoelectric converting layer including a crystalline silicon layer.例文帳に追加

結晶質シリコン層を含む光電変換層を有する光電変換装置に対して、大気雰囲気において１５０℃以上２００℃以下の温度で３０分以上６時間以下のアニール処理を施すアニール処理工程を含む光電変換装置の製造方法。 - 特許庁

A measuring method of remaining austenite volume in the invention that includes a step for using an eddy-current measuring device to measure a remaining austenite volume contained in a test object realizes online and low-cost measurement within a manufacturing process of the test object.例文帳に追加

本発明の残留オーステナイト量の測定方法によれば、被検体に含まれる残留オーステナイト量を渦電流方式の測定装置を用いて測定することができるため、該被検体の製造工程内においてオンラインで安価に測定することができる。 - 特許庁

The mixing ratio of binder to ceramic in ceramic paste is made smaller than that of binder to ceramic in ceramic slurry so that the absorptivity of the internal electrode 102 and that of the step absorbing layer 104 in the debinding process may be roughly the same.例文帳に追加

脱バインダ工程における内部電極１０２および段差吸収層１０４の収縮率がほぼ同じになるように、セラミックペーストにおけるセラミックに対するバインダの混合比は、セラミックスラリにおけるセラミックに対するバインダの混合比より小さくされる。 - 特許庁

This production process for sorbic acid or its salt comprises the step wherein the slurry or solution containing sorbic acid and its salt is held in the state that the oxygen concentration of the gas phase area contacting with the slurry or solution including sorbic acid or its salt is maintained at ≤4 vol.%.例文帳に追加

ソルビン酸又はその塩の製造法は、ソルビン酸又はその塩を含むスラリー又は溶液に接する気相部の酸素濃度を４容量％以下に保った状態で、ソルビン酸又はその塩を含むスラリー又は溶液を保持する工程を含む。 - 特許庁

To uniformly control residual stress or residual distortion in a wafer surface where the crystal of a semiconductor layer is grown while preventing the misregistration of the semiconductor layer in a semiconductor manufacturing process and its contamination, deterioration, deformation, etc. in a thermal treatment step.例文帳に追加

半導体装置製造プロセスにおける半導体層の位置ずれ及び熱処理工程での汚染、変質又は変形等を防止しながら、半導体層を結晶成長させたウェハ面内において残留応力又は残留歪みを均一に緩和できるようにする。 - 特許庁

To process a perforating blade, a lead crease (cutlery where blades and scribe lines are repeated with a constant pitch) or a nick (a part where paper is not intentionally cut when cutting it is formed and cutting parts are temporarily connected and are cut in a subsequent step) at a Thomson blade with arbitrary depth and width.例文帳に追加

トムソン刃にミシン刃、リ−ド罫（刃と罫線が一定ピッチで繰り返されている刃物）あるいは、ニック（紙を切断時にわざと切断しない部分を作って一時的に切断部をつないでおいて後の行程で切断するもの）を任意の深さと幅で加工する。 - 特許庁

The amidomalonate N,O-Pt complex having the chemical structure shown in the figure is provided, which is essentially purely obtained by a process including the step of bringing the corresponding amidomalonate O,O'-Pt complex or a mixture of amidomalonate O,O'-Pt and N,O-Pt complex into contact with an aqueous solution of pH 6.0-10.0.例文帳に追加

対応するアミドマロネートO,O'-Pt錯体またはアミドマロネートO,O'-PtおよびN,O-Pt錯体の混合物をpH 6.0〜10.0の水溶液に接触させる段階を含むプロセスによって本質的に純粋に得られる、以下の化学構造を有するアミドマロネートN,O-Pt錯体を用いる。 - 特許庁

When it is determined that the processing time is the prescribed time or shorter, the command processing based on the unprocessed received command is executed again (a step S601), and the command processing is repeated till it is determined that the processing time is longer than the prescribed time in the command determination process.例文帳に追加

処理時間が所定時間以下であると判定した場合は再度未処理の受信コマンドに基づくコマンド処理を実行し（ステップＳ６０１）、コマンド判定処理で処理時間が所定時間よりも長いと判定するまでコマンド処理を繰り返し行う。 - 特許庁

To provide a violet pigment dispersion liquid for a color filter and a blue photosensitive resin composition for a color filter, for suppressing decrease in the contrast after a step of high temperature (230°C or higher) heating after exposure in the process of manufacturing a color filter, after the composition is formed into a coating film.例文帳に追加

塗膜形成後、カラーフィルタの製造工程における露光後の高温（２３０℃以上）加熱工程後のコントラストの低減が抑制される、カラーフィルタ用紫色顔料分散液、及びカラーフィルタ用青色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a steel composition intended to be used in a process comprising a cold rolling step, for the production of uncoated, electro-galvanized or hot dip galvanized TRIP steel products; a method for producing the steel products; and the steel products.例文帳に追加

被覆されていない、電気ガルバナイジングされた又は熱浸漬ガルバナイジングされたＴＲＩＰ鋼製品の製造のための、冷間圧延工程を含む方法に使用されることを意図される鋼組成物、さらに、前記鋼製品の製造方法および鋼製品を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection apparatus and inspection method for coiled bodies of tapes which are capable of reducing a cost and improving a product yield by sorting the defective and non-defective tapes without undergoing a tape rewinding process step and a tape take-up mechanism and tape take-up method.例文帳に追加

テープ巻き直し工程を経ることなくテープの良・不良選別を行って、コストの低減及び製品歩留まりの向上を図ることができるテープ巻装体の検査装置及び検査方法、並びにテープ巻取装置及びテープ巻取方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a heat shrinkable film made of a polyester-based material, particularly suitable for wrap around labeling which includes direct wrapping, attachment, or fixation from a film roll without requiring a preliminary step, unlike a sleeve process which essentially requires a commonly-known width-direction heat shrinkage.例文帳に追加

一般的な幅方向の熱収縮性を必要条件とするスリーブ方式とは異なり、事前工程を要せずにフィルムロールから直接巻き付け、装着又は固定し得るラップラウンド方式のラベリングに特に適したポリエステル系熱収縮フィルムを提供する - 特許庁

To provide an image forming apparatus which can effectively prevent the occurrence of curling in paper in consequence of a difference in quantities of heat acting on both sides of the paper in a fixing process step by eliminating the difference in temperature between a heating roller and pressurizing roller configurating a fixing device.例文帳に追加

定着装置を構成する加熱ローラと加圧ローラとの温度差をなくし、定着工程において用紙の表裏面に作用する熱量の差に起因して用紙にカールが生じるのを効果的に予防することが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In a leader pin loading process step, a grip holding groove 41A holding a clip 11 has a suction path 41B and sucks the magnetic tape MT through a through-hole 11E of the clip 11, thereby bringing the magnetic tape MT into tight contact with an inner peripheral surface 11C of the clip 11.例文帳に追加

リーダピンの装着工程において、クリップ１１を保持するクリップ保持溝４１Ａは、吸引路４１Ｂを有し、クリップ１１の貫通穴１１Ｅを介して磁気テープＭＴを吸引し、磁気テープＭＴをクリップ１１の内周面１１Ｃに密着させる。 - 特許庁

To provide a method suitable for a practically commercial scale process, including no expensive step, as a method for synthesizing (S)-7-hydroxy-3-(4'-hydroxyphenyl)-4-methyl-2-{4"-[2'''-(1-piperidino)-ethoxy]phenyl}-2H-benzopyrane 4',7-bistrimethyl acetate.例文帳に追加

（Ｓ）−７−ヒドロキシ−３−（４’−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−２−（４”−［２’’’−（１−ピペリジノ）−エトキシ］フェニル）−２Ｈ−ベンゾピラン ４’，７−ビストリメチルアセテートの合成方法として、費用のかかる工程を含まない、実際の商業用スケールのプロセスに適する方法を提供すること。 - 特許庁

The guidelines in the KIPO are made based on the leading case of the Supreme Court of Korea, and clearly state that the product itself manufactured by the process described in the claims has to be compared with the prior art in assessing its inventive step. 例文帳に追加

KIPOの審査基準は、韓国最高裁（大法院）の主要判例に基づいたものであり、進歩性を判断する際には、クレームに記載される方法によって製造される物自体を先行技術と比較しなければならない旨が明確に規定されている。 - 特許庁

The process has a chamfering step for bringing the edge portion 6 of the lens 1 into contact with a chamfering tool in the state in which the lens 1 is driven so as to rotate about an axis A1 and for carrying out the relative positioning of the tool and the lens 1 according to the plots produced.例文帳に追加

このプロセスは、軸Ａ１を中心として回転するように駆動された状態でレンズ１を面取り工具とその縁部６で接触させ、実施された読取りに応じて工具及びレンズ１の相対的位置づけを操作する面取り段階を有する。 - 特許庁

To provide a photomask having a new structure, which has a high contrast of transfer pattern to exposing beam, and is reduced in manufacturing cost by omitting developing step in a transfer pattern forming process, and also to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、露光ビームに対する転写パターンのコントラストが高く、且つ、転写パターン形成過程において現像工程を省くことで製造コストの低減が図られた全く新規な構成のフォトマスク、及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The broad lower straight-line margin section 13d and the broad upper straight-line margin section 15d are simultaneously etched by using the same photomask, by which a lower optical coupling straight-like section 13g and upper optical coupling straight-like section 15g of the same width are formed in above and below (process step 6).例文帳に追加

そして、幅広の下部直線マージン部１３ｄ及び上部直線マージン部１５ｄを、同一のフォトマスクを用いて同時にエッチングして、上下で同一幅の下部光結合直線部１３ｇ及び上部光結合直線部１５ｇを形成する（工程６）。 - 特許庁

According to this method, the came portion is subjected to electrodeposition then to a stepwise curing process step, by which the problems during coating of the beveled glass composed of brass, glass and lead in collaboration can be solved while the light resistance, chemical resistance, durability, etc., are improved.例文帳に追加

本発明の方法によれば、ケーム部分を電着させた後、段階的硬化工程を経ることにより、耐光性・耐薬品性・耐朽性などが良いながらも、真鍮とガラス、そして鉛で共同構成されたベベルドのコーテイング時の問題点を解決することができる。 - 特許庁

In a finishing step of an electrolytic process shown in (C), a tip end part 11 in the axial direction of an electrode 10 is expanded in the radial direction so that the clearance between the workpiece 90 and the electrode 10 is kept approximately constant while applying voltage between the workpiece 10 and the electrode 10.例文帳に追加

、（ｃ）に示す電解工程の仕上げ加工工程において、ワーク９０と電極１０との間に電圧を印加しつつ、電極１０の軸方向の先端部１１をワーク９０と電極１０との間隔が略一定となるように径方向に拡大する。 - 特許庁

When the angle error of the V-groove falls within the distance-adjustable range, a process of a change in the edge point distance to the x-axis as an angle adjustment to the tool edge point, and grooving work is repeated until the angle error of the V-groove falls within a tolerance (step S101 to S109).例文帳に追加

Ｖ溝の角度誤差が距離で調整可能な範囲内になると、Ｘ軸との刃先距離を変化させて工具の刃先の角度調整を行って、溝加工する処理をＶ溝の角度誤差が公差内になるまで行う（ステップＳ１０１〜Ｓ１０９）。 - 特許庁

Furthermore, when a film of Cu layer/Cu alloy layer/Cu plated buried layer 6 is formed, by conducting this at a room temperature, with the result that a close adhesion between the respective laminated layers have full strength, and a leveling process by a CMP in a next step can be executed.例文帳に追加

またＣｕ層／Ｃｕ合金層／Ｃｕメッキ埋め込み層の成膜時の基板温度は何れも室温で行うことで、各積層間の密着性は十分な強度をもつものとなり、次工程のＣＭＰによる平面化処理を実施することができる。 - 特許庁

To provide a method of controlling position by which an ultra-fine pattern can be formed in a highly reproducible state with high accuracy when an auto-alignment mechanism is unusable or the fine adjustment of a sample holder is difficult after the holder is fixed in a lithography step performed in the manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程のリソグラフィー工程において、オートアライメント機構の使用が不可能な場合、またはサンプルホルダー固定後の微調整が困難な場合に極微細パターンを高精度で再現性良く形成できる位置制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating liquid which largely reduces an operation step in a coating process, forms a coating film by one time operation of application, drying and baking, can freely control the thickness of the coated film and is inexpensively prepared, and to provide an electrode for electrolysis superior in productivity by using the coating liquid.例文帳に追加

塗布工程における作業工程を大幅に削減し、かつ、１回の塗布、乾燥、焼成により形成される被膜厚みを自由にコントロールしうる、安価な組成の塗布液、及び該塗布液を使用し生産性に優れた電解用電極を提供。 - 特許庁

On the other hand, when the number of pages of the original is the prescribed number or less (No in step S3), the digital copying machine 1 executes a printing process using a high speed criss-cross sorting for outputting a head page in the SEF direction and then outputting the other pages in the LEF direction.例文帳に追加

一方、原稿のページ数が所定数以下の場合（ステップＳ３においてＮｏ）、デジタル複写機１は、先頭ページをＳＥＦ方向で出力し、他のページをＬＥＦ方向で出力する高速クロスソートを利用した印刷処理を実行する（ステップＳ５）。 - 特許庁

The kind code and lot name in the implementation and the step No. indicating the position on the manufacture procedure in the operator's console 1 are transmitted to the unit control parts and information on them is transmitted to the operator's console 1 when the process of a unit control part ends to confirm the manufacture implementation.例文帳に追加

製造実行中の品種コード、ロット名称、オペレータズコンソール１内の製造手順上の位置を示すステップＮｏ．をユニット制御部へ送達し、ユニット制御部の処理終了時にこれらの情報をオペレータズコンソール１に送達して実行の確認を行う。 - 特許庁

This process step is preferably implemented in an integrated processing system having a long-throw PVD chamber 36, where a target 64 is separated from the substrate 66 by a long-throw distance of at least 100 mm and a hot metal PVD chamber which serves also as a reflow chamber.例文帳に追加

プロセスは、ターゲット６４と基板６６が少なくとも１００ｍｍのロングスロー距離によって分離されるロングスローＰＶＤ３６チャンバ及びリフローチャンバとしても働く熱い金属ＰＶＤを有する一体化された処理システム内で達成されるのが好ましい。 - 特許庁

To provide a wrapping device for a thermal head, capable of preferably and efficiently executing a wrapping process for the surface for forming a protection film, a protection film, or the like, in a thermal head production step so as to produce a high quality thermal head with a good productivity.例文帳に追加

サーマルヘッドの製造工程において、保護膜の被形成面や保護膜等のラッピング処理を好適かつ効率的に行うことができ、高品質なサーマルヘッドを良好な生産性で製造することを可能にするサーマルヘッドのラッピング装置を提供すること。 - 特許庁

When one bus bar 33b is a narrow flat plate, a bus bar bridge part 33c is fitted at a center part in a length direction with one step higher by a bending process, and a plurality of insulating rings 37 molded with an electric insulating material are fixed in penetration to the bus bar bridge part.例文帳に追加

１つのバスバー３３ｂが細長い平板である場合にその長手方向中央部に一段高く曲げ加工してバスバーブリッジ部３３ｃを設け、このバスバーブリッジ部３３ｃに貫通して電気絶縁材で成形された複数の絶縁リング３７を固定する。 - 特許庁

The game machine comprises an image display device 9A, a compressed data storing means 83a for storing moving image data including compressed data, a data extending means 89a for extending the moving image data, and a data regenerating means 101b for executing the moving image regenerating process (a step S250).例文帳に追加

画像表示装置９Ａと、圧縮データを含む動画像データを格納する圧縮データ格納手段８３ａと、動画像データを伸張するデータ伸張手段８９ａと、動画再生処理（ステップＳ２５０）を行うデータ再生手段１０１ｂとを備える。 - 特許庁

The controller 9 executes a step of rice cooking in which part of the glutinous boiled over rice generated in the pot 10 is taken out of the pot 10 when a rice cooking process is executed, heated by the glutinous boiled over rice heating means 27, added with the scorched smell, and put back to the pot 10 again to cook.例文帳に追加

制御装置９は、炊飯工程実行時に鍋１０内で生成されるおねばの一部を鍋１０内から取出して、このおねば加熱手段２７で加熱してお焦げ匂いを付けた後に、再び鍋１０内に戻して炊飯する工程を実行する。 - 特許庁

A material of a high liquid absorption rate of a short time or a material of a high liquid absorption volume of a short time is used as a peeling means to be used in a process step of peeling the photosensitive materials by tight contact with the peeling means after developing the photosensitive materials or coating the materials with the developer.例文帳に追加

感光材料を現像し、又は現像液を塗布した後、剥離手段で密着して剥離する工程に用いられる当該剥離手段として、短時間での速い吸液速度の材料、また短時間での高い吸液容量の材料を用いる。 - 特許庁