「step process」に関連した英語例文の一覧と使い方(64ページ目) - Weblio英語例文検索

To print a pin-hole-free and favorable and all over coating film, a negative mask or a positive mask by a method applicable to the manufacturing of a cylindrical gravure plate, flexographic plate, endless offset plate or rotary screen plate and comprising the process of repeating one round coating in a rotation direction by step feed in an axial direction.例文帳に追加

円筒状のグラビア版、フレキソ版、エンドレスオフセット版、ロータリースクリーン版の製造に適用でき、回転方向一周塗りを軸方向ステップ送りして反復する方式により、ピンホールが生じない良好な全面塗膜又はネガマスク又はポジマスクをプリントする。 - 特許庁

The multilayered container comprises the polyester resin layer, an adhesive resin layer, and the resin layer having a combination of adhesive and gas-barrier properties wherein the melting point of the resin layer having a combination of adhesive and gas-barrier properties is not lower than 150°C, and it is molded by a two-step blow molding process.例文帳に追加

ポリエステル樹脂層、接着性樹脂層、及び接着性兼ガスバリヤー性樹脂層から成る多層容器であって、前記接着性兼ガスバリヤー性樹脂の融点が１５０℃以上であり、２段ブロー成形法により形成されることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method capable of efficiently manufacturing a shaft with which the characteristics of fibers forming FRPs are sufficiently exhibited and the appearance and quality are excellent by making it possible to omit a polishing process step after curing and molding and minimizing the void remaining between the FRP layers.例文帳に追加

硬化成形後の研摩工程を省略でき、かつ、ＦＲＰ層間にボイドの残留を極めて少なくすることで、ＦＲＰを構成する繊維の特性を充分発現させ、しかも外観品質に優れたシャフトを効率的に製造できる方法を提供する。 - 特許庁

After this command, the log data save processing part 403 refers to the save start size 706 to the nonvolatile memory which is set at the step S23 to carry out the data save process to a nonvolatile memory 405, and saves the obtained log data to the nonvolatile memory 405 immediately.例文帳に追加

この命令以降、ログデータ保存処理部４０３は、不揮発性メモリ４０５へのデータ保存処理を行うため、Ｓ２３で設定した不揮発性メモリへの保存開始サイズ７０６を参照し、取得したログデータを直ちに不揮発性メモリ４０５に保存する。 - 特許庁

The toner obtained by undergoing the process step of fusing the resin particles and the coloring agent particles in the presence of the flocculating agent in the aqueous medium is obtained by using the polymeric flocculating agent as the flocculating agent.例文帳に追加

トナーは、水系媒体中において、樹脂粒子と、着色剤粒子とを凝集剤の存在下に融着させる工程を経ることによって得られるトナーにおいて、凝集剤として、高分子凝集剤を用いることによって得られるトナーであることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an SOI substrate which improves adhesiveness between a single crystal semiconductor layer and a semiconductor substrate, reduces laminating defects, and provides sufficient bonding strength in a laminating step and also in a process of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

単結晶半導体層と半導体基板との密着性を向上させ、貼り合わせ不良を低減し、貼り合わせ工程及び半導体装置製造工程においても十分な接着強度をもつＳＯＩ基板の作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method of cleaning the metallic surfaces to make the stable application of the gold plating for protecting the copper wiring possible by subjecting the insulation layer to plasma cleaning after wet etching thereof in a manufacturing process step for the suspension blanks with wiring for the hard disks is established.例文帳に追加

本発明は、ハードディスク用配線付きサスペンションブランクの製造工程において、絶縁層のウェットエッチング後にプラズマクリーニングを行うことで、銅配線保護の金メッキを安定的に施すことを可能にする、金属表面清浄化方法を確立したものである。 - 特許庁

A bump shaping process is performed for the one electronic component out of the first and second electronic components so that each tip of the plurality of first bumps is formed into a shape decentered in a direction from the center of the first electronic component toward the outer periphery thereof (step S3).例文帳に追加

第１，第２電子部品のうち、一方の第１電子部品について、その複数の第１バンプの先端がそれぞれ第１電子部品の中央から外周に向かう方向に偏心した形状となるように、バンプ成型処理を行う（ステップＳ３）。 - 特許庁

The method for preparing the particulate aluminum hydroxide with the low soda content comprises, when preparing aluminum hydroxide by the Bayer process, conducting a precipitation step of precipitating aluminum hydroxide from a supersaturated sodium aluminate solution under a pulverizing condition using a medium stirring type pulverizer.例文帳に追加

バイヤー法により水酸化アルミニウムを製造するに際し、過飽和アルミン酸ナトリウム溶液から水酸化アルミニウムを析出させる析出工程を、媒体攪拌型粉砕機を用いた粉砕条件下で実施する、低ソーダ微粒水酸化アルミニウムの製造方法である。 - 特許庁

To clearly specify a method for operating a tissue treating device and to easily verify whether a required reagent is suitable for a prescribed process step by this method or to contribute the production of an appropriate concentration of reagent by a simple technique by this method.例文帳に追加

組織処理装置を操作するための方法を明確に特定することであり、その方法で、所要の試薬が所定の工程ステップに適切かどうかを簡単に確認できるか、又は、その方法が簡単な手法で適切な濃度の試薬の生産に寄与すること。 - 特許庁

To provide a slurry for chemical mechanical polishing capable of extremely reducing a step between an insulating film formed by silicon oxide or the like and a stopper film formed by silicon nitride or the like in a shallow-trench isolation process, and to provide a method of polishing and manufacturing a substrate.例文帳に追加

シャロー・トレンチ分離工程において、酸化ケイ素等から形成される絶縁膜と、窒化ケイ素等から形成されるストッパ膜との段差を極めて小さくすることができる化学的機械的研磨用スラリー、並びに基板の研磨及び製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for single-step terminal sterilization process for bioactive heparin coatings on materials and biomaterials containing heparin used in medical devices, such as catheters, tissue engineering scaffolds, or drug delivery carrier materials.例文帳に追加

本発明は、カテーテル、ティシューエンジニアリングスカフォールド、又は薬剤送達担体材料のような医療装置に使用される、ヘパリンを含有する、材料及び医用材料用生理活性ヘパリンコーティングのための、単一工程最終滅菌プロセスのための方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for highly selectively producing a cyclohexadiene derivative the production of which requires multistep reaction process by a normal organic synthesis and is difficult, from an alkyne and an alkene which are simple organic compounds by one step.例文帳に追加

本発明は、通常の有機合成によれば多段階の反応工程を要し製造困難であるシクロヘキサジエン誘導体を、単純有機化合物であるアルキン、アルケンから１段階で且つ高選択的に製造することができる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The present invention relates to the fluidized catalytic cracking (FCC) process capable of reducing the emission of carbon dioxide in which a regeneration step for a used catalyst is modified by using pure oxygen without requiring dilution, when burning cokes deposited onto a catalyst.例文帳に追加

本発明は、触媒に付着したコークスを燃焼させる際に、希釈する必要がなく純酸素を使用することによって使用済み触媒の再生段階を改変した、二酸化炭素の排出を低減させた流動接触分解（ＦＣＣ）法に関する。 - 特許庁

The information storage film constituting the one memory structure is formed substantially simultaneously using the same process stage, and the lower-part and upper-part through holes constituting the one memory structure are formed in order using mutually different step stages.例文帳に追加

１つのメモリ構造体を構成する情報貯蔵膜は同一の工程段階を利用して実質的に同時に形成され、１つのメモリ構造体を構成する下部及び上部貫通ホールは互いに異なる工程段階を利用して順に形成され得る。 - 特許庁

The method of producing the photoelectric converting apparatus includes the step of conducting the annealing process for 30 minutes to six hours under the temperature of 150 to 200°C in the atmospheric condition to a photoelectric converting apparatus provided with a photoelectric converting layer including a crystalline silicon layer.例文帳に追加

結晶質シリコン層を含む光電変換層を有する光電変換装置に対して、大気雰囲気において１５０℃以上２００℃以下の温度で３０分以上６時間以下のアニール処理を施すアニール処理工程を含む光電変換装置の製造方法。 - 特許庁

A measuring method of remaining austenite volume in the invention that includes a step for using an eddy-current measuring device to measure a remaining austenite volume contained in a test object realizes online and low-cost measurement within a manufacturing process of the test object.例文帳に追加

本発明の残留オーステナイト量の測定方法によれば、被検体に含まれる残留オーステナイト量を渦電流方式の測定装置を用いて測定することができるため、該被検体の製造工程内においてオンラインで安価に測定することができる。 - 特許庁

The mixing ratio of binder to ceramic in ceramic paste is made smaller than that of binder to ceramic in ceramic slurry so that the absorptivity of the internal electrode 102 and that of the step absorbing layer 104 in the debinding process may be roughly the same.例文帳に追加

脱バインダ工程における内部電極１０２および段差吸収層１０４の収縮率がほぼ同じになるように、セラミックペーストにおけるセラミックに対するバインダの混合比は、セラミックスラリにおけるセラミックに対するバインダの混合比より小さくされる。 - 特許庁

This production process for sorbic acid or its salt comprises the step wherein the slurry or solution containing sorbic acid and its salt is held in the state that the oxygen concentration of the gas phase area contacting with the slurry or solution including sorbic acid or its salt is maintained at ≤4 vol.%.例文帳に追加

ソルビン酸又はその塩の製造法は、ソルビン酸又はその塩を含むスラリー又は溶液に接する気相部の酸素濃度を４容量％以下に保った状態で、ソルビン酸又はその塩を含むスラリー又は溶液を保持する工程を含む。 - 特許庁

To uniformly control residual stress or residual distortion in a wafer surface where the crystal of a semiconductor layer is grown while preventing the misregistration of the semiconductor layer in a semiconductor manufacturing process and its contamination, deterioration, deformation, etc. in a thermal treatment step.例文帳に追加

半導体装置製造プロセスにおける半導体層の位置ずれ及び熱処理工程での汚染、変質又は変形等を防止しながら、半導体層を結晶成長させたウェハ面内において残留応力又は残留歪みを均一に緩和できるようにする。 - 特許庁

To provide a method for producing a mixed gas for producing methane, by which a mixed gas usable for synthesizing methane is produced in a single step at low pressure and the long-term operation of a production process is made possible because the catalyst loss is reduced.例文帳に追加

本発明は、メタンの合成に利用可能な混合ガスを、低圧且つ１段で製造することができ、しかも触媒損失が小さいことにより製造プロセスの長期運転が可能な、メタン製造用混合ガスの製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a technique capable of reducing the amount of excess sludge to be produced from a biological treating process step of organic sewage to substantially zero and effectively removing ammonia nitrogen in the anaerobically digested desorption liquid of the sludge without using chemicals, such as methanol, at all.例文帳に追加

有機性汚水の生物処理工程から発生する余剰汚泥量を実質的にゼロにでき、かつ汚泥の嫌気性消化脱離液中のアンモニア性窒素をメタノールなどの薬品を一切使用することなく、効果的に除去できる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing a polyvinyl alcohol-based film stained with iodine, by which the amount of iodine contained in the film can be conveniently controlled without using a step of immersing the polyvinyl alcohol-based film in an iodine aqueous solution.例文帳に追加

ヨウ素染色されたポリビニルアルコール系フィルムを製造する方法であって、ヨウ素水溶液にポリビニルアルコール系フィルムを浸漬する工程を用いることなく、当該フィルム中に含有されるヨウ素の量を簡便にコントロールできる製造方法を提供すること。 - 特許庁

The guidelines in the KIPO are made based on the leading case of the Supreme Court of Korea, and clearly state that the product itself manufactured by the process described in the claims has to be compared with the prior art in assessing its inventive step. 例文帳に追加

KIPOの審査基準は、韓国最高裁（大法院）の主要判例に基づいたものであり、進歩性を判断する際には、クレームに記載される方法によって製造される物自体を先行技術と比較しなければならない旨が明確に規定されている。 - 特許庁

To provide a photomask having a new structure, which has a high contrast of transfer pattern to exposing beam, and is reduced in manufacturing cost by omitting developing step in a transfer pattern forming process, and also to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、露光ビームに対する転写パターンのコントラストが高く、且つ、転写パターン形成過程において現像工程を省くことで製造コストの低減が図られた全く新規な構成のフォトマスク、及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The game machine comprises an image display device 9A, a compressed data storing means 83a for storing moving image data including compressed data, a data extending means 89a for extending the moving image data, and a data regenerating means 101b for executing the moving image regenerating process (a step S250).例文帳に追加

画像表示装置９Ａと、圧縮データを含む動画像データを格納する圧縮データ格納手段８３ａと、動画像データを伸張するデータ伸張手段８９ａと、動画再生処理（ステップＳ２５０）を行うデータ再生手段１０１ｂとを備える。 - 特許庁

The controller 9 executes a step of rice cooking in which part of the glutinous boiled over rice generated in the pot 10 is taken out of the pot 10 when a rice cooking process is executed, heated by the glutinous boiled over rice heating means 27, added with the scorched smell, and put back to the pot 10 again to cook.例文帳に追加

制御装置９は、炊飯工程実行時に鍋１０内で生成されるおねばの一部を鍋１０内から取出して、このおねば加熱手段２７で加熱してお焦げ匂いを付けた後に、再び鍋１０内に戻して炊飯する工程を実行する。 - 特許庁

A material of a high liquid absorption rate of a short time or a material of a high liquid absorption volume of a short time is used as a peeling means to be used in a process step of peeling the photosensitive materials by tight contact with the peeling means after developing the photosensitive materials or coating the materials with the developer.例文帳に追加

感光材料を現像し、又は現像液を塗布した後、剥離手段で密着して剥離する工程に用いられる当該剥離手段として、短時間での速い吸液速度の材料、また短時間での高い吸液容量の材料を用いる。 - 特許庁

Furthermore, when a film of Cu layer/Cu alloy layer/Cu plated buried layer 6 is formed, by conducting this at a room temperature, with the result that a close adhesion between the respective laminated layers have full strength, and a leveling process by a CMP in a next step can be executed.例文帳に追加

またＣｕ層／Ｃｕ合金層／Ｃｕメッキ埋め込み層の成膜時の基板温度は何れも室温で行うことで、各積層間の密着性は十分な強度をもつものとなり、次工程のＣＭＰによる平面化処理を実施することができる。 - 特許庁

To provide a method of controlling position by which an ultra-fine pattern can be formed in a highly reproducible state with high accuracy when an auto-alignment mechanism is unusable or the fine adjustment of a sample holder is difficult after the holder is fixed in a lithography step performed in the manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程のリソグラフィー工程において、オートアライメント機構の使用が不可能な場合、またはサンプルホルダー固定後の微調整が困難な場合に極微細パターンを高精度で再現性良く形成できる位置制御方法を提供する。 - 特許庁

In the correcting process (step S2), an interval time after the optical detection sensor 60 detects a return light beam and outputs a second detection signal Hsync 2 before a first detection signal Hsync is outputted from the sensor 60 following the second detection signal Hsync 2 is obtained.例文帳に追加

この補正処理（ステップＳ２）では、復路光ビームを光検知センサ６０が検知して第２検知信号Ｈsync2が出力された時点から該第２検知信号Ｈsync2に続いてセンサ６０から第１検知信号Ｈsyncが出力されるまでのインターバル時間が求められる。 - 特許庁

To provide a method for making efficient a huge screening step in a drug development process, although in the development of a therapeutic agent of a neurodegenerative disease which is considered as associating with a complex action mechanism, it is considered that the huger screening tests are required.例文帳に追加

複雑な作用メカニズムが関与すると考えられる神経変性疾患治療薬の開発には、より膨大なスクリーニング試験が必要と考えられるが、本発明の方法は、この創薬過程における膨大なスクリーニング工程を効率化するものである。 - 特許庁

In a finishing step of an electrolytic process shown in (C), a tip end part 11 in the axial direction of an electrode 10 is expanded in the radial direction so that the clearance between the workpiece 90 and the electrode 10 is kept approximately constant while applying voltage between the workpiece 10 and the electrode 10.例文帳に追加

、（ｃ）に示す電解工程の仕上げ加工工程において、ワーク９０と電極１０との間に電圧を印加しつつ、電極１０の軸方向の先端部１１をワーク９０と電極１０との間隔が略一定となるように径方向に拡大する。 - 特許庁

When the angle error of the V-groove falls within the distance-adjustable range, a process of a change in the edge point distance to the x-axis as an angle adjustment to the tool edge point, and grooving work is repeated until the angle error of the V-groove falls within a tolerance (step S101 to S109).例文帳に追加

Ｖ溝の角度誤差が距離で調整可能な範囲内になると、Ｘ軸との刃先距離を変化させて工具の刃先の角度調整を行って、溝加工する処理をＶ溝の角度誤差が公差内になるまで行う（ステップＳ１０１〜Ｓ１０９）。 - 特許庁

To provide a coating liquid which largely reduces an operation step in a coating process, forms a coating film by one time operation of application, drying and baking, can freely control the thickness of the coated film and is inexpensively prepared, and to provide an electrode for electrolysis superior in productivity by using the coating liquid.例文帳に追加

塗布工程における作業工程を大幅に削減し、かつ、１回の塗布、乾燥、焼成により形成される被膜厚みを自由にコントロールしうる、安価な組成の塗布液、及び該塗布液を使用し生産性に優れた電解用電極を提供。 - 特許庁

On the other hand, when the number of pages of the original is the prescribed number or less (No in step S3), the digital copying machine 1 executes a printing process using a high speed criss-cross sorting for outputting a head page in the SEF direction and then outputting the other pages in the LEF direction.例文帳に追加

一方、原稿のページ数が所定数以下の場合（ステップＳ３においてＮｏ）、デジタル複写機１は、先頭ページをＳＥＦ方向で出力し、他のページをＬＥＦ方向で出力する高速クロスソートを利用した印刷処理を実行する（ステップＳ５）。 - 特許庁

The kind code and lot name in the implementation and the step No. indicating the position on the manufacture procedure in the operator's console 1 are transmitted to the unit control parts and information on them is transmitted to the operator's console 1 when the process of a unit control part ends to confirm the manufacture implementation.例文帳に追加

製造実行中の品種コード、ロット名称、オペレータズコンソール１内の製造手順上の位置を示すステップＮｏ．をユニット制御部へ送達し、ユニット制御部の処理終了時にこれらの情報をオペレータズコンソール１に送達して実行の確認を行う。 - 特許庁

This process step is preferably implemented in an integrated processing system having a long-throw PVD chamber 36, where a target 64 is separated from the substrate 66 by a long-throw distance of at least 100 mm and a hot metal PVD chamber which serves also as a reflow chamber.例文帳に追加

プロセスは、ターゲット６４と基板６６が少なくとも１００ｍｍのロングスロー距離によって分離されるロングスローＰＶＤ３６チャンバ及びリフローチャンバとしても働く熱い金属ＰＶＤを有する一体化された処理システム内で達成されるのが好ましい。 - 特許庁

To provide a wrapping device for a thermal head, capable of preferably and efficiently executing a wrapping process for the surface for forming a protection film, a protection film, or the like, in a thermal head production step so as to produce a high quality thermal head with a good productivity.例文帳に追加

サーマルヘッドの製造工程において、保護膜の被形成面や保護膜等のラッピング処理を好適かつ効率的に行うことができ、高品質なサーマルヘッドを良好な生産性で製造することを可能にするサーマルヘッドのラッピング装置を提供すること。 - 特許庁

Since it is not required to arrange the polarity of the plurality of light-emitting diodes 3-7 connected between the first electrode 1 and second electrode 2, a step for arranging the polarity (orientation) of a plurality of light-emitting diodes is not required when manufacturing and thereby the manufacturing process can be simplified.例文帳に追加

第１,第２の電極１,２間に接続する複数の発光ダイオード３〜７を極性を揃えて配列する必要がないので、製造時に複数の発光ダイオードの極性(向き)を揃える工程が不要となり製造工程を簡略化できる。 - 特許庁

When one bus bar 33b is a narrow flat plate, a bus bar bridge part 33c is fitted at a center part in a length direction with one step higher by a bending process, and a plurality of insulating rings 37 molded with an electric insulating material are fixed in penetration to the bus bar bridge part.例文帳に追加

１つのバスバー３３ｂが細長い平板である場合にその長手方向中央部に一段高く曲げ加工してバスバーブリッジ部３３ｃを設け、このバスバーブリッジ部３３ｃに貫通して電気絶縁材で成形された複数の絶縁リング３７を固定する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask blank by which processing steps such as an inspection step can be efficiently carried out and the process can be carried out while reliably preventing chipping or the like in a light transmitting substrate, and to provide a processing apparatus and a cart.例文帳に追加

検査工程などの処理工程を効率よく行うことのでき、しかも透光性基板などに欠けなどが発生することを確実に防止した状態で処理を行うことのできるマスクブランクスの製造方法、処理装置、および台車を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing the blank material is characterized in, while placing a burden load of 1.5-4 MPa and applying pressure, carrying out annealing at a temperature (annealing temperature) of 210-280°C in a pressure annealing process (step 102).例文帳に追加

本発明の実施形態にかかる磁気ディスク用ブランク材の製造方法の特徴は、加圧焼鈍工程（ステップ１０２）において、１．５ＭＰａ以上４ＭＰａ以下の負荷荷重を負荷して加圧しながら、２１０℃以上２８０℃以下の温度（焼鈍温度）で焼鈍することである。 - 特許庁

During the process of grinding, working time information including each kind of factor in a grinding stage which is likely to affect the final resistance value of the MR film is obtained (a step S3), and a K value is calculated by using the statistical method from the information (S4) in a fixed cycle.例文帳に追加

研磨工程中は、一定周期で、最終的なＭＲ膜の抵抗値に影響を与える可能性のある研磨段階での各種の要因を含む加工時情報を取得し（ステップＳ３）、この情報から統計的手法を用いてＫ値を求める（Ｓ４）。 - 特許庁

The method of producing a quarts glass cylinder comprises opening the quarts glass body through pressurized hot plug insertion process where the pressure of the opening part is reduced during the opening step, and the method of producing a quarts glass tube comprises stretching the quarts glass cylinder as a raw material into the quarts glass tube of the desired diameter.例文帳に追加

熱間プラグ圧入法により石英ガラス体を開口する方法において、開口部を減圧しつつ開口する石英ガラスシリンダーの製造方法、およびこの石英ガラスシリンダーを素材とし、延伸法にて所要径とする石英ガラス管の製造方法。 - 特許庁