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step processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3734件
The aflatoxin/albumin conjugate measuring method includes a process having a step (a) for adding a carrier and a first antibody of solitariness to serum suspected to be affected by aflatoxin to perform contact culture for a predetermined time and using an immune complex obtained by filtering off components not bonded to the carrier and a step (b) for detecting the immune complex sticked to the carrier by an iodine 125 labelled second antibody.例文帳に追加
アフラトキシンに影響される疑いのある血清にキャリヤと唯一性の第1抗体とを入れて所定の時間の接触培養後にキャリヤに付着されないものをろ過除去し得た免疫複合物を使用するステップ(a)と、ヨウ素125ラベリングの第2抗体によってキャリヤに粘着される免疫複合物を検出するステップ(b)とのステップを有する工程を含む。 - 特許庁
This security method includes: storing the calculation result (result) of a selected step of an iterative process forming a part of a cryptographic algorithm; performing once more at least a part of the steps of the iterative process; computing once more a result corresponding to what has been stored; comparing the two results; and denying distribution of an encrypted message (MC) if they are different.例文帳に追加
本発明のセキュリティ方法は、暗号化アルゴリズムの一部をなす巡回プロセスの選択されたステップの計算結果(リザルト)を記憶し、少なくとも前記巡回プロセスの少なくとも1部を再実施し、前記記憶したものに対応する新リザルトを再計算し、前記2つのリザルトを比較し、両者が異なる場合は、暗号文(MC)の送出を禁止することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a method for producing a mixed gas, by which a mixed gas for FT synthesis process for producing chemical raw materials such as dimethyl ether, methanol, methane, and alkane, chemical products, and liquid fuel can be produced at low pressure via a single step of coal gasification reaction without using any catalyst and further the production process can be operated for long periods any ashless coal.例文帳に追加
本発明は、ジメチルエーテル、メタノール、メタン、その他アルカンなどの化学原料、化学品及び液体燃料を製造するためのFT合成プロセス用混合ガスを、低圧で、触媒を用いないでも一段階の石炭ガス化反応により製造することができ、更にや無灰炭を用いないでも、製造プロセスの長期運転が可能な混合ガスの製造方法を提供することを、その課題とする。 - 特許庁
The process for preparing stabilized metal nanoparticles comprises a step of reacting a metal compound with a reducing agent in the presence of a stabilizer in a reaction mixture comprising the metal compound, the reducing agent and the stabilizer, wherein the reaction mixture is substantially free of solvent, to form a plurality of metal-containing nanoparticles during the solvent-free reduction process with molecules of the stabilizer on the surface of the metal-containing nanoparticles.例文帳に追加
金属化合物、還元剤、及び安定剤を含む実施的に無溶媒の反応混合物中で、金属化合物を安定剤の存在下で還元剤と反応させて、無溶媒還元プロセスにより、表面上に安定剤の分子を有する複数の金属含有ナノ粒子を形成するステップを含む、安定化金属ナノ粒子を調製するプロセス。 - 特許庁
Although a first piezoelectric layer 71 on a vibration plate 52 is removed at a step of a photolithography etching process with remaining a region where a lower electrode 60 is formed, a second piezoelectric layer 72 containing lead zirconate titanate having a thickness equal to or more than 4 nm and equal to or less than 20 nm is formed over the first piezoelectric layer 71, the lower electrode 60, and the vibration plate 52 after the photolithography etching process.例文帳に追加
フォトリソエッチ工程の段階で、下電極60が形成される領域を残して、振動板52上の第1圧電体層71が除去されるが、フォトリソエッチ工程後に、第1圧電体層71、下電極60および振動板52にわたって、4nm以上、20nm以下の厚みのチタン酸ジルコン酸鉛を含む第2圧電体層72を形成する。 - 特許庁
According to this sensor element manufacturing method, since a pressurizing process is performed, after a punching arrangement process to arrange the solid electrolyte object 435 for a penetration hole 433 of the insulating member 405, step dimension between the solid electrolyte object 435 and the insulated member 405 in the boundary portion can be made smaller than thickness dimension of the electrodes (first electrode 404 and second electrode 406).例文帳に追加
本センサ素子製造方法によれば、絶縁部材405の貫通孔433に対して固体電解質体435を配置する打抜配置工程の後、加圧工程を実行することから、境界部分における固体電解質体435と絶縁部材405との段差寸法を電極(第1電極404および第2電極406)の厚さ寸法よりも小さくすることができる。 - 特許庁
This invention relates to a polymerization process and the resulting polymer composition, the process comprising a step of polymerizing one or more addition polymerizable monomers and a polymerizable shuttling agent in the presence of at least one addition polymerization catalyst comprising a metal compound or complex and a cocatalyst under conditions characterized by the formation of a branched polymer, preferably comprising pseudo-block molecular architecture.例文帳に追加
重合方法及び結果として得られるポリマー組成物であって、該方法は、好ましくは擬似ブロック分子構造を含む分岐ポリマーの形成を特徴とする条件下、金属化合物又は複合体と共触媒とを含む、少なくとも1種の付加重合触媒の存在下で、1以上の付加重合性モノマーと重合性シャトリング剤とを重合するステップを含む。 - 特許庁
The method for manufacturing toner includes a shape control step of performing shape control of toner particles in a passage for toner which has a shape control process region for regulating the shape of toner particles in an aqueous medium, the shape control process region being provided with two or more temperature control means capable of performing zone control.例文帳に追加
トナー製造方法は、水系媒体中においてトナー粒子の形状を調整するための形状制御処理領域を有し、当該形状制御処理領域に2個以上のゾーンコントロールを行うことのできる温度制御手段が設けられているトナー用流路において、トナー粒子の形状制御を行う形状制御工程を有することを特徴とする。 - 特許庁
The method for producing the Miso seasoning containing the Panax notoginseng Burkill is characterized by adding and mixing the powdered Panax notoginseng Burkill in the prescribed ratio in an aging step of a Miso production process and producing the Miso seasoning or is characterized by adding and mixing the powdered Panax notoginseng Burkill in the prescribed ratio after aging in the Miso production process.例文帳に追加
そして、かかる田七人参含有の味噌調味料の製造方法は、味噌製造工程の熟成工程において、粉末状にした田七人参を、所定比で添加して混合し製造したことを特徴としており、または味噌製造工程の熟成後において、粉末状にした田七人参を、所定比で添加して混合させたことを特徴としている。 - 特許庁
To provide an image forming method which includes a transfer process step by a contact electrostatic charging system and is capable of sufficiently suppressing the wear of an image carrying member without the occurrence of image drop-out and obtaining sufficiently good image quality for a long period of time even when an electrophotographic process is speeded up and thick forms, such as OHP sheets, are used.例文帳に追加
接触帯電方式による転写工程を含む画像形成方法であって、電子写真プロセスを高速化し且つOHPシート等の厚い用紙を用いる場合であっても、画像中抜けを生じることなく潜像担持体の磨耗を十分に抑制することができ、長期にわたって十分に良好な画像品質を得ることを可能とする画像形成方法を提供すること。 - 特許庁
Productivity is thereby enhanced while saving the cost by skipping the photographic step in a process for producing a semiconductor package being used for driving an LCD, reliability of a product is improved by preventing occurrence of a defect in the process for forming the circuit pattern 110 of metallic material and a circuit pattern having a fine line width is produced more efficiently.例文帳に追加
したがって、LCD駆動用として使われる半導体パッケージの配線基板を製造する過程で写真工程を省略してコスト節減及び生産性の向上効果が得られ、金属材質の回路パターン110を作る過程で発生する欠陥を防止して製品の信頼性を改善し、微細線幅を有する回路パターンをさらに効率的に作られる。 - 特許庁
This method for producing para-dichlorobenzene comprises a main reaction process for producing para-dichlorobenzene by chlorinating benzene and/or monochlorobenzene with chlorine gas by using zeolite as a catalyst and a subsidiary reaction step for reacting a part or all of hydrochloric acid gas containing unreacted chlorine gas discharged from the main reaction process with benzene and/or monochlorobenzene by using zeolite as a catalyst.例文帳に追加
ベンゼン及び/又はモノクロロベンゼンを触媒としてゼオライトを用いて塩素ガスにより塩素化してパラジクロロベンゼンを製造する主反応工程と、主反応工程から排出される未反応塩素ガスを含む塩酸ガスの一部又は全部を触媒としてゼオライトを用いてベンゼン及び/又はモノクロロベンゼンと反応させる副反応工程からなるパラジクロロベンゼンの製造方法を用いる。 - 特許庁
The manufacturing process of the hydrogen storage material including magnesium amide and lithium hydride comprises a first milling step to micronize materials of magnesium amide and lithium hydride by milling the samples, and a heat treatment step to heat the materials obtained under a vacuum environment until a substantially single phase lithium-magnesium-imide is obtained, Hydrogen is adsorbed into the material obtained from the heat treatment step, while it is kept micronized.例文帳に追加
マグネシウムアミドと水素化リチウムを有する水素貯蔵材料の製造方法であって、マグネシウムアミドと水素化リチウムの試料をミリング処理し、試料粒子の微細化を進める第1のミリング工程と、第1のミリング工程により得られた試料を真空雰囲気下で加熱することで、実質的に単相のリチウム・マグネシウム・イミドが得られるまで熱処理する熱処理工程と、を含み、熱処理工程により得られた試料を微細化された状態に維持しつつ、その試料に水素を吸蔵させることで水素貯蔵材料を製造する。 - 特許庁
A method of manufacturing an anticancer agent consisting of the steps of; (1) culturing W cells obtained from a human body in medium A containing 0.1~0.2 weight % of protein X for 5 to 10 hours and collecting them, (2) disseminating the collected cells in the step (1) on an extracellular matrix Y, culturing them in medium B containing 0.1~0.2 weight % of protein Z for 24 to 48 hours, and collecting them, and (3) a step of producing a pharmaceutical formulation by using the cells collected in the step (2), wherein the anticancer agent contains the cells obtained by the process consisting of the steps (1) and (2) as an active ingredient. 例文帳に追加
(1)ヒト体内から採取した W細胞を、タンパク質 Xを 0.1~0.2重量%含有する培地 A中で 5~10時間培養し、回収する工程、及び (2)工程(1)で回収された細胞を細胞外マトリックス Y上に播種し、タンパク質 Zを 0.1~0.2重量%含有する培地 B中で 24~48時間培養し、回収する工程、(3)工程(2)で回収された細胞を用いて製剤化を行う工程、からなる、(1)~(2)の工程により得られた細胞を有効成分として含有する抗癌剤の製造方法。 - 特許庁
In an electrophotographic process using electrostatic charge image developing toner and an electrophotographic photoreceptor, the toner comprises at least a binder resin, a colorant and wax and the binder resin is obtained by a first step of polymerizing a long chain (meth)acrylate ester and a second step of polymerizing a vinyl monomer in the presence of the polymer obtained in the first step, and the electrophotographic photoreceptor contains a polyester resin in the outermost surface layer.例文帳に追加
静電荷像現像用トナーと電子写真感光体を使用する電子写真プロセスにおいて、該トナーが少なくとも結着樹脂、着色剤及びワックスを含み、該結着樹脂が長鎖(メタ)アクリル酸エステルを重合する第1工程、第1工程において得られた重合体の存在下にビニル系単量体を重合する第2工程を経て製造されるものであり、且つ該電子写真感光体が、ポリエステル樹脂を最表面層中に含有するものであることを特徴とする、画像形成装置により解決した。 - 特許庁
A photosensor 183 installed in a falling hole 182 detects tokens M falling the supply chute 18, and when the detection time is continued for a first prescribed time, an intake means 17 is opened to stop the incorporation of the tokens M as a first process step.例文帳に追加
補給シュート18を流下するメダルMを流下口182に装着したフォトセンサ183によって検知し、その検知時間が第1の所定時間続いたときは、第1処理段階として、取込手段17を開放してメダルMの取り込みを停止する。 - 特許庁
Accordingly, the single wafer substrate cleaning facility and backside cleaning method of substrate, which can simplify a process step and saving a cost therefor by simplifying the facility for cleaning the backside of substrate and can minimize the contamination of the substrate by particles, can be provided.例文帳に追加
従って、基板の裏面を洗浄するための設備を簡素化して費用を節減し、工程ステップを簡素化することができ、パーティクルによる基板の汚染を最小化できる枚葉式基板洗浄設備及び基板の裏面洗浄方法を提供することができる。 - 特許庁
The generation of the yellow rust during a cleaning process step is prevented by subjecting the coiled wire 4 to auxiliary showering with the shower water controlled to a pH of a certain specified range by a pH controller 9 using auxiliary shower pipes 31, 32 and 33.例文帳に追加
補助シャワー管31・32・33を使用してpH制御装置9によってある一定範囲内のpHに制御されたシャワー水をコイル状線材4に補助シャワーすることにより、洗浄工程中の黄錆発生を防止することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a relatively small developing device, process cartridge and image forming apparatus that prevent developer, accommodated in a second developer conveying portion for recovering the developer after a developing step, from being pumped up to developer carriers, and that do not apply a large stress to the developer.例文帳に追加
現像工程後の現像剤を回収する第2現像剤搬送部に収容された現像剤が現像剤担持体に汲み上げられることがなく、比較的小型で、現像剤に与えるストレスが小さい、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To obtain an attention-calling wire or tape in an easy process eliminating a troublesome step of separately providing a spiral belt member and a reflective part for attention calling, such as the one proposed in the prior art, and to provide an apparatus and method for manufacturing the attention-calling wire or tape.例文帳に追加
本発明の課題は、従来の提案に見るようなスパイラルのベルト部材と注意喚起の反射部を別に設ける面倒さを無くして、容易な工程で注意喚起線又はテープを得ること、及びその作成装置と方法を提供することである。 - 特許庁
In that process, since a step especially hindering passage does not exist though the first and second slopes 10-5a and 10-5b have 1/15 up-grade, the wheelchair user can enter the dwelling house 1 without special difficulty under the state of sitting on a wheelchair.例文帳に追加
その過程では、第1のスロープ10−5aと第2のスロープ10−5bには1/15の昇り勾配はあるものの特に通行の障害となる段差はなく、車椅子使用者は車椅子に着座したまま特に困難無く住宅1内に入ることができる。 - 特許庁
A wafer W is equipped with a resist cured film 79 formed through an ion implantation process, and the wafer W is subjected to processing so as to expose the resist cured film 79 to water vapor kept at a prescribed temperature, whereby the the resist cured film 79 is popped out (step 4).例文帳に追加
イオン注入処理等によって形成されたレジスト硬化膜79を備えたウエハWを、このレジスト硬化膜79が所定温度の水蒸気に曝されるように処理することによってレジスト硬化膜79にポッピングを生じさせる(ステップ4)。 - 特許庁
To provide a semiconductor memory device in which an electron implantation during a process is reduced and the illumination of ultraviolet ray at the finishing time point of the manufacturing step is eliminated simultaneously when characteristics are stabilized in a p-channel EPROM, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加
Pチャネル型EPROMにおいて、プロセス中の電子の注入を減少させ、特性が安定すると同時に製造工程終了時点での紫外線の照射が不要になる半導体記憶装置及びその製造方法を提供しようとするものである。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device having the opening with a tapered portion of an oxide-based interlayer insulating film, capable of obtaining wiring dimensions as designed and improved step coverage, without enlarging the diameter of the opening of the insulating film in an etching process.例文帳に追加
エッチング工程において絶縁膜の径を広げることなく、設計通りの配線寸法と、かつ良好なステップカバレージとを得ることができる、テーパー部を有した酸化物系層間絶縁膜の開口部を持つ半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a device and method for supporting quality improvement which facilitate the search and extraction of a viewpoint while preventing viewpoint omission in each step of development so that viewpoints fostered in the process of developing each business can be used for various businesses.例文帳に追加
各業務を開発する過程で培ってきた観点について様々な業務で使用できるにして、開発の各段階の工程で観点洩れを防ぎ、観点を検索・抽出しやすい品質向上支援装置および品質向上支援方法を提供する。 - 特許庁
When the failure occurs in the substrate processing apparatus during substrate processing by the chemicals, the failure is detected by the failure detecting means (step S41), and the rinse-liquid nozzle is controlled by the main control unit, and further, rinse processing as a process of failure treatment is performed to the substrate.例文帳に追加
基板の薬液処理中に基板処理装置に異常が生じると、異常検知手段により異常が検知され(ステップS41)、メイン制御部によりリンス液ノズルが制御されて、異常処理の一工程としてのリンス処理が基板に行われる。 - 特許庁
As a result, while the omission of the process step is possible by the irradiation of the material 1 to be welded from the flank side without the irradiation of the laser beam from the other flank, the secure joining of one material to be welded and the other material to be welded is made possible.例文帳に追加
これにより、被溶接物1の一側面側からのレーザビーム照射により他方側面からのレーザビームの照射を行うことなく、工程の省略が可能でありながら、一方の被溶接物と他方の被溶接物とを強固に接合することができる。 - 特許庁
To provide a pieced part preventing yarn breakage stemming from heat storage even during a flame-proofing step and further causing no rupture even under high tension on filament yarns in respective steps, and a process for producing a carbon fiber with a pieced part in high productivity.例文帳に追加
耐炎化工程中においても蓄熱による糸切れを防止し、さらには各工程での糸条への高張力でも破断することのない糸繋ぎ接合部および糸繋ぎ接合部を有する、生産性の高い炭素繊維の製造方法を提供する。 - 特許庁
To improve the yield in a manufacturing process step by gently sloping the pattern sectional shape of the pattern formation performed by using selective etching by dry etching and abating a shorting defect in manufacturing a liquid crystal display device of an active matrix type.例文帳に追加
アクティブマトリックス方式の液晶表示装置の製造に際し、ドライエッチングによる選択エッチングを用いて行なったパタン形成のパタン断面形状をなだらかにし、ショート不良を低減することにより製造工程における歩留まりを向上すること。 - 特許庁
To provide a data processor capable of efficiently executing an embedding process of electronic watermark information in object data and acquiring the electronic watermark information according to applications, a means or the like of the object data in a step of embedding the electronic watermark information in the object data.例文帳に追加
対象データへの電子透かし情報の埋込処理を効率良く実行可能であり、電子透かし情報を対象データに埋め込む過程で対象データの用途や手段等により電子透かし情報を取得可能なデータ処理装置を提供する。 - 特許庁
An exposure process for patterning for making the area of the SiO_2 film to be polished by CMP uniform and exposure for patterning for imparting step-difference to an alignment mark are covered by the same exposure, thereby reducing the number of times of exposure processing to two.例文帳に追加
あるいは、CMPで研磨するSiO_2膜の面積を揃えることを目的としたパターニングのための露光工程と、アライメントマークに段差を持たせることを目的としたパターニングのための露光を同一露光で賄うことで、露光工程の回数を2回に低減する。 - 特許庁
After the temperature of the Ni film 1 and the Si substrate 2 is raised up to about 800°C, the temperature of the Ni film 1 and the Si substrate 2 is kept at about 800°C, for almost the same time needed for the gradual and step-wise heating process from about 300°C to about 800°C.例文帳に追加
Ni膜1およびSi基板2の温度を約800℃まで上昇させた後、Ni膜1およびSi基板2の温度を、約300℃〜約800℃までの段階的かつ階段状の加熱工程に掛かった時間と略同じ時間、約800℃に保持する。 - 特許庁
To provide an end face treating method which is capable of averting the trouble, such as transfer defect, which occurs during manufacture without sticking of a photoreceptor drum to a pallet when the photoreceptor drum after end face treatment is placed on the pallet and is moved to an ensuing drying process step.例文帳に追加
端面処理後の感光体ドラムをパレットに載せて次の乾燥工程などへの移動するとき、感光体ドラムがパレットに張り付くことなく、製造中に生ずる移送不良などの不具合を回避することができる端面処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a copper electroplating liquid composition which makes it possible to obtain sufficiently flat electroplating surfaces used for forming the wiring of integrated circuits, ameliorates the wasting of a polishing agent in a chemico-mechanical polishing process step and can enhance the flatness of polishing.例文帳に追加
本発明は、集積回路の配線形成に用いる充分に平坦な電気めっき面を得ることができ、化学機械研磨工程における研磨液の浪費を改善し、研磨の平坦性を高めることができる銅電気めっき液組成物を提供する。 - 特許庁
In the water treatment method, an inorganic acid is added to a liquid to be treated, to keep the pH at ≤4 intermittently, and a corrosion inhibitor is added to the liquid to be treated, in any steps before a membrane separation step in a water treatment process using a separation membrane.例文帳に追加
分離膜を用いる水処理工程において、膜分離工程以前のいずれかの工程において、被処理液に無機酸を添加することにより間欠的にpHを4以下とするとともに、被処理液に腐食抑制剤を添加する水処理方法。 - 特許庁
In a current control charge process charging by controlling a charging current value, the charging current value is divided into five or more steps and increased in order and the quantity of charged electricity in each step is set 67.6% or less of the capacity of the secondary battery.例文帳に追加
充電電流値を制御して充電を行う電流制御充電過程において、充電電流値を5以上の段階に分けて順に大きくすると共に、各段階における充電電気量を二次電池の電池容量の67.6%以下とする。 - 特許庁
To make glass substrates which are dealable with mass production process step and have a low dielectric constant and small dialectic loss applicable as substrates for high-frequency circuits and more particularly high-frequency circuit for microwaves and millimetric wave bands in a method for working the glass substrates by using lasers.例文帳に追加
レーザーを用いたガラス基板の加工方法において、量産工程に対応可能であり、誘電率が低く、誘電損失も小さいガラス基板を高周波回路、特にマイクロ波やミリ波帯用の高周波回路の基板として適用させ得るようにすること。 - 特許庁
In the rice washing process step, the rotary vanes 21 press the milled rice 1 to the sidewall of the rice storage container 5, by which the circulation to rise the milled rice 1 and to move the same to the approximate center of the rice storage container 5 while rotating on the sidewall of the rice storage container 5 is repeated.例文帳に追加
米研ぎ工程では、回転羽根21が白米1を米収納容器5の側壁へ押し付けるとともに、白米1は米収納容器5の側壁を回転しながら上昇し米収納容器5の略中央へ移動するという循環を繰り返す。 - 特許庁
In a leader pin loading process step, a grip holding groove 41A holding a clip 11 has a suction path 41B and sucks the magnetic tape MT through a through-hole 11E of the clip 11, thereby bringing the magnetic tape MT into tight contact with an inner peripheral surface 11C of the clip 11.例文帳に追加
リーダピンの装着工程において、クリップ11を保持するクリップ保持溝41Aは、吸引路41Bを有し、クリップ11の貫通穴11Eを介して磁気テープMTを吸引し、磁気テープMTをクリップ11の内周面11Cに密着させる。 - 特許庁
To process a perforating blade, a lead crease (cutlery where blades and scribe lines are repeated with a constant pitch) or a nick (a part where paper is not intentionally cut when cutting it is formed and cutting parts are temporarily connected and are cut in a subsequent step) at a Thomson blade with arbitrary depth and width.例文帳に追加
トムソン刃にミシン刃、リ−ド罫(刃と罫線が一定ピッチで繰り返されている刃物)あるいは、ニック(紙を切断時にわざと切断しない部分を作って一時的に切断部をつないでおいて後の行程で切断するもの)を任意の深さと幅で加工する。 - 特許庁
The amidomalonate N,O-Pt complex having the chemical structure shown in the figure is provided, which is essentially purely obtained by a process including the step of bringing the corresponding amidomalonate O,O'-Pt complex or a mixture of amidomalonate O,O'-Pt and N,O-Pt complex into contact with an aqueous solution of pH 6.0-10.0.例文帳に追加
対応するアミドマロネートO,O'-Pt錯体またはアミドマロネートO,O'-PtおよびN,O-Pt錯体の混合物をpH 6.0〜10.0の水溶液に接触させる段階を含むプロセスによって本質的に純粋に得られる、以下の化学構造を有するアミドマロネートN,O-Pt錯体を用いる。 - 特許庁
When it is determined that the processing time is the prescribed time or shorter, the command processing based on the unprocessed received command is executed again (a step S601), and the command processing is repeated till it is determined that the processing time is longer than the prescribed time in the command determination process.例文帳に追加
処理時間が所定時間以下であると判定した場合は再度未処理の受信コマンドに基づくコマンド処理を実行し(ステップS601)、コマンド判定処理で処理時間が所定時間よりも長いと判定するまでコマンド処理を繰り返し行う。 - 特許庁
To provide a violet pigment dispersion liquid for a color filter and a blue photosensitive resin composition for a color filter, for suppressing decrease in the contrast after a step of high temperature (230°C or higher) heating after exposure in the process of manufacturing a color filter, after the composition is formed into a coating film.例文帳に追加
塗膜形成後、カラーフィルタの製造工程における露光後の高温(230℃以上)加熱工程後のコントラストの低減が抑制される、カラーフィルタ用紫色顔料分散液、及びカラーフィルタ用青色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a steel composition intended to be used in a process comprising a cold rolling step, for the production of uncoated, electro-galvanized or hot dip galvanized TRIP steel products; a method for producing the steel products; and the steel products.例文帳に追加
被覆されていない、電気ガルバナイジングされた又は熱浸漬ガルバナイジングされたTRIP鋼製品の製造のための、冷間圧延工程を含む方法に使用されることを意図される鋼組成物、さらに、前記鋼製品の製造方法および鋼製品を提供する。 - 特許庁
To provide an inspection apparatus and inspection method for coiled bodies of tapes which are capable of reducing a cost and improving a product yield by sorting the defective and non-defective tapes without undergoing a tape rewinding process step and a tape take-up mechanism and tape take-up method.例文帳に追加
テープ巻き直し工程を経ることなくテープの良・不良選別を行って、コストの低減及び製品歩留まりの向上を図ることができるテープ巻装体の検査装置及び検査方法、並びにテープ巻取装置及びテープ巻取方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a heat shrinkable film made of a polyester-based material, particularly suitable for wrap around labeling which includes direct wrapping, attachment, or fixation from a film roll without requiring a preliminary step, unlike a sleeve process which essentially requires a commonly-known width-direction heat shrinkage.例文帳に追加
一般的な幅方向の熱収縮性を必要条件とするスリーブ方式とは異なり、事前工程を要せずにフィルムロールから直接巻き付け、装着又は固定し得るラップラウンド方式のラベリングに特に適したポリエステル系熱収縮フィルムを提供する - 特許庁
To provide an electrodeposition coating system and electrodeposition coating method which make the effective utilization of coating material components possible and achieve a high degree of a closed system by suppressing the overload of a filter equipment relating to washing water in an advanced washing process step and recycling the coating material components.例文帳に追加
高度水洗工程における水洗水について、濾過装置の過負荷を抑え、塗料成分を再利用することで塗料成分の有効利用を可能にし、高度なクローズド化を達し得る電着塗装装置及び電着塗装方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for producing a vinyl ethylene carbonate having an excellent reaction conversion ratio of the vinyl ethylene carbonate and giving a high-purity vinyl ethylene carbonate only by a simple separation and purification process in spite of the use of a simple reaction step at a low reaction temperature.例文帳に追加
低い反応温度で簡単な反応工程を行いながらもビニルエチレンカーボネートの反応転換率に優れていて、簡単な分離、精製工程だけで高純度のビニルエチレンカーボネートを得ることができるビニルエチレンカーボネートの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a process for fabricating a thin film transistor in which alignment precision of a gate electrode, a source electrode and a drain electrode is enhanced without using an expensive deposition lift-off step, and overlap of the source electrode and drain electrode is reduced for the gate electrode.例文帳に追加
蒸着リフトオフという高価な工程を使用せずに、ゲート電極、ソース電極およびドレイン電極の位置合わせ精度を向上させ、ゲート電極に対するソース電極およびドレイン電極の重なりを小さい薄膜トランジスタ製造方法の提供。 - 特許庁
To provide a corrugated cardboard-made packaging box which can be stacked stably correspondingly to various stacking forms by removing a tilt of the lowest step during stacking without a process of bonding a protrusive part or up-down engagement of protrusive and recessed parts.例文帳に追加
凸部を接着する工程を必要とせず、また上下の凹凸部による勘合を用いることなく、積み付けに際し最下段から傾きを取り除き、種々の積み付け形態に対応して、安定した積み重ねが可能となる段ボール製包装箱を提供する。 - 特許庁
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