「ますおか」に関連した英語例文の一覧と使い方(999ページ目) - Weblio英語例文検索

それにしても周りを見渡してみますと、この部屋は辺り一面が燃えるように明るく輝き、眼を刺すような光を放って極上の絢爛さを生み出しているのです。ヨーロッパで価値があるとされる金銀財宝なら何であってもこうなるものだとは私にはどうしても思えませんでした。例文帳に追加

But as I gazed about me, I could not bring myself to believe that the wealth of any subject in Europe could have supplied the princely magnificence which burned and blazed around.  - Edgar Allan Poe『約束』

こっちには、日本からもってきた物質があります。なんせ最近われわれは、あの僻地の国の入り口を、無理矢理こじあけてやりましたからな――親切な友だちが送ってくれた、一種のワックスですねえ。そしてこれは、ロウソク生産の新しい材料になるものです。例文帳に追加

I have here also a substance brought from Japan, since we have forced an entrance into that out-of-the-way place—a sort of wax which a kind friend has sent me, and which forms a new material for the manufacture of candles.  - Michael Faraday『ロウソクの科学』

２以上のバスマスタが同時にアクセス要求を行っている場合には、当該２以上のアクセス要求バスマスタのうち、所定時間内にアクセス許可を受けた回数がバス調停情報１０６中の設定値に満たないバスマスタに対して、バス調停部１０４が優先的にアクセス許可を与える。例文帳に追加

When two or more bus masters simultaneously perform the access requirement, the bus arbitration part 104 preferentially imparts access permission to the bus master having the frequency wherein the access permission is received within the prescribed time among the two or more access requirement bus masters does not satisfy a setting value inside the bus arbitration information 106. - 特許庁

つまり、複数のプローブを用意し、そのうちの少なくとも２つのプローブをフォトマスク表面上にある異物に対して同時に接触させ、異物を少なくとも異なる３箇所で保持し、保持した前記異物をフォトマスク表面から遠ざけることにより、フォトマスク上の異物欠陥を除去して修正する。例文帳に追加

That is, a foreign substance defect on a photomask is removed and corrected by preparing a plurality of probes, simultaneously bringing at least two probes into contact with a foreign substance on a photomask surface, holding the foreign substance at least at three different positions, and parting the foreign substance away from the photomask surface. - 特許庁

マスクを使用中に一時使用しない時、衛生的に保管して紛失する事がないようにストラップの両端にマスクの取り外し可能な部品とストラップの中央に使用中の安全のために分離とめ具を設けて、首にかける事ができる分離とめ具付きマスク用ネックストラップを提供する。例文帳に追加

To provide a neck strap for a mask with a separable fastener which can be placed around the neck by providing mask-removable components at both ends of the strap so as to sanitarily store the mask without losing while not using the mask temporarily during use and providing the separable fastener for safety during use, at the center of the strap. - 特許庁

これにより、ポンプモータ３４で油圧を増圧させると共にマスタカット弁３１でマスタシリンダ１１の方向へのブレーキフルードの流れを低減させることに起因してブレーキペダル５がマスタシリンダ１１の方向に吸い込まれる場合でも、この現象は車両の運転者がブレーキペダル５の制動操作を解除しようとしている場合に生じるため、運転者は気が付かない。例文帳に追加

Thus, even when the brake pedal 5 is sucked toward the master cylinder 11 due to increase of the oil pressure by the pump motor 34 and reduction of the flow of the brake fluid toward the master cylinder 11 by the master cut valve 31, the operator does not notice the phenomenon because it occurs when the operator of the vehicle is going to release the brake operation of the brake pedal 5. - 特許庁

基板上に、少なくとも一つのメッキパターン用開口２，３を有するメッキマスク１を設け、このメッキマスク１をマスクとして内部応力が０．５×１０^10ｄｙｎ／ｃｍ^2 以上の磁性薄膜を選択的に電気メッキ法によって成膜する際に、メッキパターン用開口２，３の面積を３０００μｍ^2 以下とする。例文帳に追加

At the time of selectively forming thin magnetic films adjusted to ≥0.5×1010 dyn/cm2 in internal stress on a substrate by electroplating by using a plating mask 1 having openings 2 and 3 for at least one plating pattern as a mask, the areas of the openings 2 and 3 are adjusted to ≤3,000 μ2. - 特許庁

酸化膜からなる所定形状のマスクパターンを介してシリコン基板をウェットエッチングする際に、マスクパターンのエッチングによる膜減り量を抑制し、又はマスクパターンのエッチグレートのばらつきを低減することができるエッチング液及びその製造方法、並びに液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide etchant which suppresses a film decrease amount by etching of a mask pattern or can reduce dispersion of the etching rate of the mask pattern at the time of wet-etching a silicon substrate through the mask pattern in a prescribed shape which is formed of an oxide film, and to provide a manufacturing method of etchant and a manufacturing method of a liquid injection head. - 特許庁

シトラール、ディメトール、ゲラニルニトリル、ユーカリプトール、酪酸エチル、フルーテート、ポアレネート、α−ダマスコン、β−ダマスコン、ダマセノン、δ−ダマスコン、メチルフェニルグリシド酸エチル、γ−ウンデカラクトン、デシルアルデヒド、ウンデシルアルデヒド、ウンデシレンアルデヒド等から選ばれる１種以上の香料成分を含有する組成物であって、３−ヒドロキシ−３−メチルヘキサン酸を主成分とする腋臭の消臭用組成物。例文帳に追加

The underarm deodorant composition is based on 3-hydroxy-3-methylhexanoic acid and contains at least one perfume component selected from among citral, dimetol, geranyl nitrile, eucalyptol, ethyl butyrate, fulltate, poirenate, α-damascone, β-damascone, damascenone, δ-damascone, ethyl methylphenylglycidate, γ-undecalactone, decylaldehyde, undecylaldehyde, undecylenealdehyde, etc. - 特許庁

コントロールユニットCUは、保持制御中に運転者のブレーキペダル操作によってマスタシリンダ圧センサPMCにより検出されたマスタシリンダ圧Pmcが低下したときには、所定時間ΔTかけてホイルシリンダ圧Pwcがマスタシリンダ圧Pmcに対応した液圧となるようにゲートアウトバルブ３の開弁量を制御する。例文帳に追加

A control unit CU controls a valve opening amount of a gate-out valve 3 so that a wheel cylinder pressure Pwc reaches a hydraulic pressure corresponding to a master cylinder pressure Pmc with a predetermined time ΔT taken, when the master cylinder pressure Pmc detected by the master cylinder pressure sensor PMC is reduced by a braking pedal operation of an operator during a holding control. - 特許庁

マイクロ構造体アレイ9は、基板5の平坦な面上にマスク層6を形成し、マスク層6に複数の開口部7を形成し、開口部7より基板5のエッチングを行うことにより微小突起を有する基板5を形成し、マスク層6を除去し、化学的析出法を用いて基板5上に析出層8を形成するプロセスで作製される。例文帳に追加

The microstructure array 9 is manufactured by forming a mask layer 6 on the flat surface of a substrate 5 and forming a plurality of aperture parts 7 in the mask layer 6, and the substrate 5 in etched through the aperture parts 7 to form the substrate 5 having fine projections and removing the mask layer 6 to form a precipitation layer 6 on the substrate 5 using a chemical precipitation method. - 特許庁

切替制御回路１８は、ＩＤＥインタフェース１５のプライマリマスタチャネルに接続したミラー元ＨＤＤ１６に不具合が発生したときに、切替スイッチ１９等によってミラー元ＨＤＤ１６をプライマリマスタチャネル以外に接続されているミラー先ＨＤＤ１７に切り替え、ＯＳに対してミラー先ＨＤＤ１７がプライマリマスタチャネルに接続されていると認識させる。例文帳に追加

If the mirror source HDD 16 connected to a primary master channel of the IDE interface 15 fails, a switching control circuit 18 switches the mirror source HDD 16 to the mirror destination HDD 17 connected except for the primary master channel by means of a changing-over switch 19 and the like to thus make an OS recognize the mirror destination HDD 17 to be connected to the primary master channel. - 特許庁

プラントのプロセスデータが入力されるプラントデータ入力装置１と、前記プラントデータ入力装置１からのデータが入力されプラントの監視制御を行う複数のマスタサーバ２と、前記複数のマスタサーバ２に並列に設置され前記複数のマスタサーバ２を監視する保守サーバ６と、を有する。例文帳に追加

A plant monitoring control system has: a plant data input device 1 to which process data on a plant is input; a plurality of master servers 2 to which data from the plant data input device 1 is input and which perform monitoring control of the plant; and a maintenance server 6 which is installed in parallel with the plurality of master servers 2, and monitors the plurality of master servers 2. - 特許庁

これにより、ポンチ１により穿孔された印刷用マスク材１４０の開口内壁の略全面が剪断面となり、パンチプレス加工に伴う、印刷用マスク材１４０の開口エッジ部のダレや、開口内壁の破断によるザラツキ及びバリの発生が無い、ペーストの版抜け性の良い印刷用マスク１４が得られる。例文帳に追加

Thereby almost the whole surface of the inner wall of the opening of the printing mask material 140 made by the punch 1 becomes a shear surface, and the printing mask being free from shear drop of an edge part of the opening of the printing mask material 140, surface roughness due to fracture of the inner wall of the opening and occurrence of burring and excellent in plate-penetrating properties of paste is obtained. - 特許庁

斜め入射する露光光を反射して被露光体上に所望パターンを転写するために用いられる露光用マスクを、前記露光光を吸収する作用を有したマスクブランクス膜２と、前記所望パターンに対応するパターン形状で前記マスクブランクス膜２上に配され前記露光光を反射する作用を有した反射膜３と、を備えて構成する。例文帳に追加

The mask for exposure used for transferring a desired pattern to the body to be exposed by reflecting obliquely incident exposure light comprises: a mask blank film 2 having operation for absorbing the exposure light; and a reflection film 3 having operation for reflecting the exposure light while being arranged on the mask blank film 2 in a pattern shape corresponding to a desired pattern. - 特許庁

また、溶接ナゲットを、エッジ１１側に形成することにより、シャドウマスク不良が発生した場合に、シャドウマスク１を剥がしても、依然として平面部が残っていることになり、もとの高さが確保された平面部に再度溶接が可能であり、溶接位置の精度を落とすことなくマスクフレームの再利用が可能になる。例文帳に追加

A weld nugget is formed on the edge 11 side, and thereby, when something gets wrong with the shadow mask, a plane part is left even if the shadow mask 1 is peeled off, welding can be applied to the plane part where an original height is kept, and the mask frame can be reused without dropping accuracy as to a welded position. - 特許庁

撮像画像中の被写体に対してマスク画像を設定したとき、監視カメラをパン動作及びチルト動作したときの撮像画像を上下反転することにより同一画像となる撮像画像中の被写体に対しても、マスク画像が自動的に設定でき、該マスク画像を重畳して表示できる監視カメラ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a supervisory camera apparatus capable of automatically setting a mask image even to an object in an imaged image providing the same image as an imaged image resulting from panning and tilting a supervisory camera in the case that the mask image is set to the object in the imaged image and capable of superimposingly displaying the mask image. - 特許庁

安全コンポーネント端子は、該入力増設ユニットとマスタユニットとの間に接続された入力増設ユニットのシフト端子を介して端子間をシフトしながらマスタユニットに送出され、これによって入力増設ユニットで安全コンポーネントからの入力状態を取得し、マスタユニットがリレーの制御を行う。例文帳に追加

The safe component terminal is so constituted that an input state is sent out to the master unit through shift terminals of the input extension unit which are connected between the input extension unit and master unit while shifted among the terminals, and consequently the input expansion unit obtains the input state from the safe component to control a relay by the master unit. - 特許庁

顔面呼吸部である鼻、口を被覆するための不識布等で構成された円弧状のマスク本体と、該マスク本体に設けられ、装着者の両頬から顎に沿って呼吸口を形成する呼吸体と、該マスク本体の両側縁部に設けられた取付け紐体とから構成されていることである。例文帳に追加

The mask comprises a circular arc-shaped mask body which is formed of nonwoven fabric or the like for covering the nose and the mouth constituting the face respiration portion, a respiration body placed in the mask body and forming a respiration mouth along the jaws from both of the cheeks of a person carrying it, and an attaching string body placed in both side edge portions of the mask body. - 特許庁

イオン注入装置において、試料基体とビーム走査電極との間に断続的および／または連続的に移動が可能なイオンビーム遮蔽用のマスクを設ける。例文帳に追加

In ion implantation device, a mask for shielding an ion beam movable intermittently and/or continuously between the sample base body and a beam scanning electrode is provided. - 特許庁

天然ガスにおける不純物濃度及び熱量の基準値を満たしつつ、バイオマスを嫌気性発酵させて得られたバイオガスを天然ガスに混合して供給することを可能とするバイオガス供給方法を提供する。例文帳に追加

To provide a biogas supply method by which biogas obtained by anaerobic fermentation of biomass is mixed into natural gas and supplied, while satisfying reference values of impurity concentration and calorific value in the natural gas. - 特許庁

ハーフトーン位相シフト膜のドライエッチング方法および装置、ハーフトーン位相シフトフォトマスクおよびその作製方法、ならびに半導体回路およびその製作方法例文帳に追加

METHOD AND SYSTEM FOR DRY ETCHING OF HALF-TONE PHASE SHIFTED FILM, HALF-TONE PHASE SHIFTED PHOTOMASK AND MANUFACTURE THEREOF, AND SEMICONDUCTOR CIRCUIT AND MANUFACTURE THEREOF - 特許庁

ウェーハ上の全チップに対して、マスク部材との所定の間隙を維持して適正なイオン注入を行うことができるイオン注入方法およびイオン注入装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for implanting ions capable of suitably implanting ions by maintaining a prescribed gap between a mask member and all chips on a wafer. - 特許庁

スレーブ装置において特定の割込要因が発生したときに、マスタ装置において、当該特定の割込み要因に対応する割込処理を確実に行う。例文帳に追加

To surely perform, in the event of occurrence of a specific interruption factor in a slave device, interruption processing corresponding to the specific interruption factor in a master device. - 特許庁

信号処理部７で、周囲音のスペクトルと、記憶部３に記憶された環境音のスペクトルとの間でスペクトル減算を行って、マスキング音のスペクトルを算出する。例文帳に追加

The signal processing unit 7 makes spectrum subtraction between the spectrum of the surrounding sound and a spectrum of an environmental sound stored in a storage unit 3 for calculating a spectrum of the masking sound. - 特許庁

マスクＲＯＭのＲＯＭセル２に出力端が接続された論理積回路の入力端にＲＯＭデコード部１とオン／オフを設定するＲＯＭアクセスレジスタとを備えた。例文帳に追加

The ROM decode part 1 and a ROM access register for setting the on/off are mounted on the input end of an AND circuit whose output end is connected to the ROM cell 2 of the mask ROM. - 特許庁

マスクＲＯＭ３７上に形成された第１ニューラルネットワーク（ＮＮ）３２および第２ＮＮ３３により目標吹出温度および目標風量を算出する。例文帳に追加

The target blowout temperature and the target wind quantity are calculated by the first neural network (NN) 32 and the second NN 33 formed on a mask ROM 37. - 特許庁

従来の露光装置と比較して、マスク保持部、および照射部の数量を削減して大幅にコストダウンすることができるスキャン露光装置およびスキャン露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide a scan exposure device and a scan exposure method, reducing the number of mask holding parts and irradiation parts and sharply reducing costs as compared with past exposure devices. - 特許庁

オペレータは、操作レバー３３ａおよび３３ｂを操作して上下ローラ３４が上方位置にある場合に、ガラスマスク板９１などの検査対象物の載置および取り上げ作業を行う。例文帳に追加

The operator operates the control lever 33a or 33b, and puts on or takes up the inspection object such as the glass mask plate 91 when the upper and lower rollers are at the upper position. - 特許庁

周囲音が再生音によりマスキングされることなく、再生音と周囲音と聞き分けることが容易となるように再生音を調整することが可能な再生音調整装置を提供する。例文帳に追加

To provide a playback sound adjusting apparatus capable of adjusting a playback sound so as to easily separately listen to a playback sound and ambient noise without masking the ambient noise with the playback sound. - 特許庁

反転印刷用の凹版であって、この凹版に十分な印刷性を与える為に、硝子基板をウェットエッチングして形成する凹版において、マスキング層を制御することで硝子凹版の欠陥の発生を抑制する。例文帳に追加

In the intaglio for reverse printing, in order to give sufficient printability to this intaglio, in the intaglio which is formed by wet etching a glass substrate and forms it, the occurrence of the defect of the glass intaglio is inhibited by controlling a masking layer. - 特許庁

ＢｉＣＭＯＳ型半導体装置のプロセスにおいて、マスクを一枚追加するだけで単位体積あたりの容量値が大きく、電圧依存性が小さく、絶対段差はＭＯＳトランジスタレベルの容量を形成する。例文帳に追加

To form a capacitor in which capacitance per unit volume is large, voltage dependence is low, and the absolute level is a MOS transistor level only by adding a mask in a process of manufacturing a BicMOS-type semiconductor device. - 特許庁

フォトマスクまたは半導体製造の微細加工におけるレジストのパターン形成方法において、現像液及び処理液をミスト状に発生させてレジストのパターン形成を行うことを特徴とするパターン形成方法。例文帳に追加

The pattern formation method for a resist in micromachining of manufacture of a photomask or semiconductor is characterized such that pattern formation of the resist is performed by generating mist of the developer and processing liquid. - 特許庁

超音波プローブが対象体に接触する状態に応じて発生するシームアーティファクトを除去するためのマスクに基づいて超音波空間合成映像を提供する超音波システムおよび方法を提供する。例文帳に追加

To provide an ultrasonic system and method for providing an ultrasonic spatial composite screen image based on a mask for removing a seam artifact generated according to the state of contact of an ultrasonic probe with a subject. - 特許庁

なお、薄く研磨する時の厚み測定及び分極反転プロセスを行なうため、強誘電体単結晶基板６は、ベース基板２と比べて四隅がカットされており、従って金属膜３の一部が露出している。例文帳に追加

Therein, in order to perform thickness measurement upon thinly grinding and a domain reversal process, the ferroelectric single crystal substrate 6 is constituted such that four corners are cut as compared to the base substrate 2, whereby a part of a metal film 3 is exposed. - 特許庁

これにより、電源非遮断状態においてフリップフロップの高速化が保障され、マスタラッチ部の動作電源遮断状態においてスレーブラッチ部におけるサブスレッショルドリーク電流が低減される。例文帳に追加

Thus, speeding up of the flip-flop is assured in the power non-shutdown state and subthreshold leak current at the slave latch part is reduced in an operation power source shutdown state of the master latch part. - 特許庁

絶縁層を研磨する工程において、チップ上におけるスクライブ領域に近い部分（すなわち、チップの周辺部）におけるゲート電極が露出しないようにする。例文帳に追加

To avoid the exposure of a gate electrode in a part near a scribe region on a chip (that is, a peripheral part of the chip), in a process of polishing an insulation layer. - 特許庁

マスク工程の増大なく、薄膜トランジスタのゲート絶縁膜、および配線交差部における層間絶縁膜において、それぞれ適切な厚さを有して形成できる表示装置の提供。例文帳に追加

To provide a display that can have a gate insulating film of a thin film transistor and an inter-layer insulating film at a wiring intersection part formed to suitable thicknesses respectively without increasing mask processes. - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクの製造途中において高度な洗浄および／または位相差調整を、半透光膜になんら悪影響を与えることなく行なうことができる製造方法等を提供する。例文帳に追加

To provide a method for fabricating a halftone phase shifting mask in which high-level cleaning and/or phase contrast adjustment can be carried out during fabrication without adversely affecting a translucent film. - 特許庁