「電子流束」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

電子放出電流の増大と、ビーム径の集束とを同時に実現する電子放出素子を提供する。例文帳に追加

To provide an electron emission element which can achieve both an increase of an electron emission current and focusing of a beam diameter simultaneously. - 特許庁

電子ビーム生成装置における、熱電子を放出するカソード、及び熱電子を集束させ電子ビームを形成するグリッドが設けられた碍子の外面に高抵抗膜を設け、高抵抗膜に微小な電流を流すことにより、碍子における熱電子の蓄積を防ぎ、放電を防止する。例文帳に追加

A high-resistance film is formed on the outside surface of an insulator provided with a cathode for emitting thermoelectrons and a grid for forming an electron beam by converging the thermoelectrons in this electron beam generation device, and accumulation of the thermoelectrons in the insulator is prevented and thereby discharge is prevented by carrying a minute current to the high-resistance film. - 特許庁

Ｄ−チューブの超伝導磁界は強烈な磁界力を備えており金属導体の電子群を意のままに配列させてしまうので一定方向に強制配列させられた電子は直流電流（電子磁束）を生み出す。例文帳に追加

Since the superconductive magnetic field of the D-tube has such a strong magnetic field power that it can lay out electron groups of metal conductors freely, electrons which are forced to be laid out unidirectionally generate a direct current (electromagnetic flux). - 特許庁

発熱体の凹部の底面に熱電子エミッタを設けて、凹部の側壁によって電子流を集束させるようにして、ウェーネルト電極で電子流を集束させる従来技術と比較して、ターゲット上で設計通りの焦点形状及び焦点サイズを実現できるようにする。例文帳に追加

To realize a focus shape and focus size on a target as designed. - 特許庁

大電流・高収束電子ビームを発生させるために望ましい先端形状である球面を制御性よく形成することができるダイヤモンド電子源の製造方法とダイヤモンド電子源を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a diamond electron source which forms with a sufficient controllability a spherical surface of a desirable top end shape for generating a large current/high focused electron beam and provide a diamond electron source. - 特許庁

集束電極６の電子流引出し電極５に対向する面は、第１、第２、第３の電子ビーム通過孔１１，１２，１３に対向するように配置された第４、第５、第６の電子ビーム通過孔２１，２２，２３を有する。例文帳に追加

The side of the focusing electrode 6 opposite to the electron-flow extraction electrode 5 has fourth, fifth and sixth electron beam holes 21, 22 and 23 arranged to face the first, second, and third electron beam holes 11, 12 and 13, respectively. - 特許庁

電子ビームの偏向量や電子ビームの電流量が変化した場合に生ずる電子ビームの集束状態の変化をなくして、画面全面にわたり良好な画像特性が得られる陰極線管を構成することを目的とする。例文帳に追加

To provide a cathode ray tube, which can remove the change of focus state of electron beam caused when the deflection amount or the current amount of the electron beam change, and obtain a good image property around the screen. - 特許庁

炭素ナノチューブを用いながらも駆動電圧の増加を防止し、かつ漏れ電流特性及び電子ビームの集束度を確保すること。例文帳に追加

To prevent increase of drive voltage while using carbon nanotubes and to secure leakage current characteristics and electron beam focusing level. - 特許庁

ターゲット電流の低下を抑えつつ、ターゲット上における電子ビームの集束径を小さくすることのできるＸ線発生装置を提供する。例文帳に追加

To provide an X-ray generator for restraining lowering in a target current and reducing the focusing diameter of electron beams on a target. - 特許庁

優れた収束性を有し、短期、長期間の放出電流変化の少ない電子放出素子を提供する。例文帳に追加

To provide an electron emitting element having a superior convergency with less variation in emitting current for a short and a long period. - 特許庁

試料に照射される電子ビームの集束状態を一定に維持したまま、プローブ電流を一定に制御すること。例文帳に追加

To control a probe current constant while maintaining constant a converging state of electron beams irradiated on a sample. - 特許庁

集束レンズの強度を変化させて照射電流を変化させるに際して、集束レンズの強度変化に対して、照射電流の急激な変化を抑えることができる走査電子顕微鏡を提供する。例文帳に追加

To provide a scanning electron microscope in which a rapid change of an irradiation current can be suppressed against intensity changes of a focusing lens at changing the irradiation current by changing the intensity of the focusing lens. - 特許庁

この電子ビーム露光装置１００は、電子銃２から射出された電子ビーム３を集束させるコンデンサレンズ４と、コンデンサレンズ４を通過した電子ビームを制限する電流制御アパーチャ５と、電流制御アパーチャ５により制限された電子ビームを略平行にする照射レンズ６とを備えている。例文帳に追加

The electron beam recorder 100 includes a condenser lens 4 to converge an electron beam emitting from an electron gun 2, a current controlling aperture to control the electron beam passing the condenser lens 4, and an irradiation lens 6 to collimate the electron beam controlled by the current controlling aperture 5. - 特許庁

該工程Ａ及び該工程Ｂをダイヤモンド電子源の製造工程で実施することによって、先端がダイヤモンド表面である球面形状となる結果、大電流・高収束電子ビームを発生させるために最適なダイヤモンド電子源となり、角電流密度や輝度といった電子源性能で従来電子源を凌駕することができる。例文帳に追加

After the process A and the process B in the method for manufacturing the diamond electron source, the top end becomes a spherical surface of the diamond surface and as a result becomes an optimal diamond electron source for generating a large current/high focused electron beam and surpasses a conventional electron source in electron source performance such as an angle current density and luminance or the like. - 特許庁

電子写真プリントで周知の「集束イオン流」の原理を応用し、スポットサイズと比べてアパーチュアを大きく形成できる、電子ディスプレイ装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electronic display device capable of forming an aperture largely in comparison with a spot size, by applying a well-known principle 'focused ion flow' in an electrophotographic printing. - 特許庁

その駆動方式は、両ゲート電極２６，２８間に交流電圧を印加して電界電子エミッタ２０からの電子の軌道を両ゲート電極２６，２８それぞれにより収束、発散を繰り返させて上記電子が蛍光体１６を照射する位置をスキャニング制御する。例文帳に追加

In its drive method, orbits of the electrons from the field electron emitter 20 are repeatedly converged and diverged by both the gate electrodes 26 and 28 by applying an A.C. voltage between both the gate electrodes 26 and 28 to scan/control positions at which the phosphor 16 is irradiated with the electrons. - 特許庁

例えば、加速電圧２０ｋＶ，電子線の電流量１００ｐＡ，スポットサイズ５０ｎｍの収束電子線１１０を、カーボンナノチューブ１０３の延在方向に対して垂直な走査方向１１１に、走査速度４００ｎｍ／ｓで走査し、カーボンナノチューブ１０３の局所領域に、収束電子線１１０が照射された状態とすればよい。例文帳に追加

For example, the convergent electron beam 110 of a 20 kV accelerating voltage, a current amount of an electron beam 100 pA, and a 50 nm spot size, is scanned at a 400 nm/s scan speed to a scan direction 111 vertical to an extension direction of the carbon nanotube 103, and the state where the convergent electron beam 110 is irradiated on the local area of the carbon nanotube 103 is created. - 特許庁

電子体温計は、熱伝導率の高いカバー６を介して生体表面に接触し、温度を測定する温度センサ７と熱流束センサ８を有するプローブを備え、所定時間間隔で温度と熱流束を複数回測定する。例文帳に追加

The electronic clinical thermometer is provided with a probe comprising a temperature sensor 7 and a heat flux sensor 8 which come into contact with the surface of a living body via a high-thermal-conductivity cover 6 and which measure the body temperature, and the body temperature and a heat flux are measured in a plurality of numbers of times at prescribed time intervals. - 特許庁

電流制限絞り１７により制限される一次電子線４の電流Ｉａと試料１２に照射される一次電子線４の電流Ｉｐを検出し、先ず、Ｉａ＋Ｉｐが一定になるように電子銃電源６を制御し、次に、Ｉｐ／（Ｉａ＋Ｉｐ）が一定になるように集束レンズ制御電源７を制御する。例文帳に追加

An electric current Ia of a primary electron beam 4 limited by a current limiting choke 17 and a electric current Ip of the primary electron beam 4 irradiated to a sample 12 are detected, and firstly an electron gun power supply 6 is controlled so that Ia+Ip is constant, and secondly the focusing lens controlling power supply 7 is controlled so that Ip/(Ia+Ip) is constant. - 特許庁

電流制限絞り１７により制限される一次電子線４の電流Ｉａと試料１２に照射される一次電子線４の電流Ｉｐを検出し、先ず、Ｉａ＋Ｉｐが一定になるように電子銃電源６を制御し、次に、Ｉｐ／（Ｉａ＋Ｉｐ）が一定になるように集束レンズ制御電源７を制御する。例文帳に追加

Current Ia of a primary electron beam 4 limited by a current- limiting diaphragm 17 and current Ip of the primary electron beam 4 irradiated on a sample 12 are detected, and first, an electron gun power source 6 is controlled so as to set Ia+Ip constant, and then, a focusing lens controlling power source 7 is controlled so as to set Ip/(Ia+Ip) constant. - 特許庁

光ディスク原盤の電子線感光レジストから成るレジスト層１０２に対して集束された電子ビームを照射する手段１の特性として、電子ビーム２の最大加速電圧が１５ｋＶ以下、照射ビーム電流８０ｎＡにおける電子ビームスポット径が８０ｎｍ以下、ビームブランキング周波数５０ＭＨｚ以上である光ディスク原盤の製造装置を構成する。例文帳に追加

In the manufacturing apparatus for the optical master disk, as the characteristics of a means 1 for irradiating a resist layer 102 composed of the electron beam photosensitive resist of the optical master disk with converged electron beams, the maximum acceleration voltage of the electron beam 2 is ≤15 kV, an electron beam spot diameter in an irradiation beam current 80 nA is ≤80 nm, and a beam blanking frequency is ≥50 MHz. - 特許庁

集束されたイオンビーム２を半導体装置９上に照射し、電子シャワー銃２０から供給される電子シャワー１９によりチャージアップを防止しつつ、所定の領域を加工するイオンビーム加工装置において、調整電源２１により試料ステージ１０にバイアス印加を行い、電子シャワー１９による影響を受けずに電流計２２で試料電流を検出する。例文帳に追加

The ion beam machining system, where the focused ion beam 2 is radiated onto the semiconductor device 9 to be machined in its predetermined region, while preventing charge-up with the electron shower 19 supplied from an electron shower gun 20 comprises a controllable power supply 21 for applying a bias to the sample stage 10 and an ammeter 22 for detecting the sample current, without being affected by the electron shower 19. - 特許庁

密封された周縁ケーシング１ｆが、電子の流束４を放出するカソード３を含む真空ポンプ１と、真空ポンプ１のシャフト１ｅの端部に装着されたロータリアノード２と、放出された電子ビーム６を収集するための収集装置５とを備える。例文帳に追加

A device in accordance with this invention for the emission of X-rays, comprises a vacuum pump 1 the sealed peripheral casing 1f whereof contains a cathode 3 for emitting a flux 4 of electrons, a rotary anode 2 mounted at the end of a shaft 1e of the vacuum pump 1, and a collection device 5 for collecting an emitted electron beam 6. - 特許庁

補助レンズＱＬ１を構成する第３集束電極Ｇ５−１には一定のフォーカス電圧が印加され、第１集束電極Ｇ３にはフォーカス電圧に電子ビームの偏向に同期して変動する交流成分を重畳したダイナミックフォーカス電圧が印加される。例文帳に追加

The third focusing electrode G5-1 constituting the auxiliary lens QL1 is impressed with a constant focus voltage, and the first focusing electrode G3 is impressed with a dynamic focus voltage where an alternating current component fluctuating in synchronism with a deflection of an electron beam is superposed on a focus voltage. - 特許庁

さらに、第二陽極４と第一収束レンズ６の間には、相異なる複数の開口径の絞りを持った絞り機構３４が配置され、この絞りによって、第一収束レンズ６方向へ進行する一次電子ビーム３のプローブ電流Ｉｐの最大値が決定される。例文帳に追加

A restricting mechanism 34 having a throttle having a plurality of different opening diameters is arranged between a second anode 4 and a first focusing lens 6, and the maximum value of probe current Ip of the primary electron beam 3 advancing toward the first focusing lens 6 is determined by the throttle. - 特許庁

そして、該電流供給ライン７１は、前記電子部品に対応させて設定された強電界発生領域内において、前記磁界が発生することによって形成された磁束が前記磁束通過面を通過するのを抑制するように配設される。例文帳に追加

The supply line 71 is so arranged as to suppress passage through the magnetic-flux passing faces of magnetic flux formed by the generation of the magnetic field, in strong electric field generation regions set being caused to correspond to the electronic components. - 特許庁

さらに、第二陽極４と第一収束レンズ６の間には、相異なる複数の開口径の絞りを持った絞り機構３４が配置され、この絞りによって、第一収束レンズ６方向へ進行する一次電子ビーム３のプローブ電流Ｉ_ｐの最大値が決定される。例文帳に追加

In addition, a throttle mechanism 34 having throttles with a plurality of different opening diameters is disposed between a second anode 4 and a first focus lens 6, and the maximum value of the probe current I_p of the primary electron beam 3 travelling toward a first focus lens 6 is determined by this throttle. - 特許庁

電子ビームの収束状態がＸ線管ターゲットの表面温度と密接な関係を持つことに着目し、その温度変化を、温度センサ１４によりリアル・タイムで計測し、収束コイル６の電流値を自動制御せしめる。例文帳に追加

In view of the fact that the focusing state of electron beams has close relation to the surface temperature of an X-ray tube target, the temperature change is measured in real time by a temperature sensor 14 to automatically control the current in the focusing coil 6. - 特許庁

補助切欠部１２が存在することで、内部磁気シールド６に流れる磁束の向きが変化し、内部磁気シールド６内の磁束密度が小さくなるため、垂直方向の外部磁界による電子ビームの軌道変化を抑制できる。例文帳に追加

By the existence of the auxiliary notched part 12, a direction of a magnetic flux flowing in the inner magnetic shield 6 changes to lessen a flux density inside the inner magnetic shield 6, so that a trajectory change of the electron beams due to an outer magnetic field in a vertical direction can be suppressed. - 特許庁

そして、円形基板１６上の照射位置に応じてコンデンサレンズ６による集束度を変化させることにより、電子ビーム電流を制御している。例文帳に追加

The electron beam current is controlled by changing the converging degree by the condenser lens 6 depending on the irradiation position on the circular substrate 16. - 特許庁

しかも、ターゲット２８とレンズ中心との距離を短くすることで集束径の縮小化を図るため、電子ビーム利用率の低下を防止することができ、ターゲット電流を維持することが可能になる。例文帳に追加

Additionally, the distance between the target 28 and the lens center is reduced so as to decrease the focusing diameter, thus preventing a decrease in the utilization rate of the electron beams and maintaining the target current. - 特許庁

電子ビームの電流量が変化した場合に生ずる集束の変化を補償して良好な画像特性が得られる陰極線管を構成することを目的とする。例文帳に追加

To constitute a cathode ray tube capable of providing an excellent image characteristic by compensating a change in focusing generated when a current amount of electron beam is changed. - 特許庁

漏洩磁束を防ぎ、放熱作用を有し、高周波・大電流に対応することができるインダクタンス部品とその部品を用いた電子機器を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide an inductance component preventing leakage flux while exhibiting heat dissipating action and capable of dealing with high frequencies and high currents, and to provide an electronic apparatus employing that component. - 特許庁

従って、漏れ磁束による渦電流損失を抑えることができ、ロータ１３の回転トルクの増加を抑制することができるので、電子機器の持続時間を長くできる。例文帳に追加

Eddy current loss due to leakage flux can be restrained and increase in the rotational torque of the rotor 13 can be prevented, thus it is possible to lengthen the duration of the electronic device. - 特許庁

鉛汚染公害による鉛フリー半田の出現にて、従来方法では解決出来ない電子部品等と半田付け部分を酸化させず局所半田付けを気体熱流束方法を用いた半田付け装置を提供する。例文帳に追加

To provide a soldering device using a gaseous heat flux method for locally soldering an electronic component or the like and a soldering part without oxidation, which is not solved in a conventional method, by emergence of lead-free solder for preventing lead pollution. - 特許庁

電子レンジに使用されるリーケージトランスは、磁石温度上昇による作用空間中心の磁束密度の低下によって起こる陽極電圧の低下に対して、電流を増加させて入力電力を一定に保とうとする。例文帳に追加

A leakage transformer used in a microwave oven attempts to keep input electric voltage constant by increasing electric current against a drop of positive pole voltage caused by the lowering magnetic flux density at the center of an interactive space due to the increase of magnet temperature. - 特許庁

磁性体部分を含む地板を用いた場合でも、漏れ磁束による渦電流損失の発生を低減して持続時間の延ばすことができる電子制御式機械時計の提供。例文帳に追加

To provide an electronically-controlled mechanical clock which can reduce occurrence of eddy current loss caused by leakage flux to extend lifetime, even if a bottom board containing magnetic material part is used. - 特許庁

オートフォーカスによって対物レンズの電流値が変化しても画像の明るさが変化しないように、収束レンズの電流値、電子銃のエミッション電流値、又はＣＣＤカメラのゲインもしくは露光時間を調整することにより画像の明るさを調整する。例文帳に追加

The brightness of an image is adjusted by adjusting a current value of a focusing lens, an emission current value of an electron gun, or the gain or exposure time of a CCD camera so as to prevent the brightness of the image from being changed even when the current value of an object lens is changed by autofocusing. - 特許庁

走行する方向性電磁鋼板の幅方向に、連続して電子ビームを照射するにあたり、該電子ビームの鋼板表面に対する入射角度に応じ、該電子ビームの収束電流を調整して、ビームスポットの面積を変更することにより、幅方向にわたる該ビームスポットのエネルギー密度を一定に制御する。例文帳に追加

When continuously irradiating the electron beam to a moving grain-oriented electromagnetic steel sheet in its width direction, a converging current of the electron beam is adjusted according to an incidence angle of the electron beam to the steel sheet surface so as to change the area of a beam spot, thereby homogenizing the energy density across the width direction of the beam spot. - 特許庁

静電レンズを使用した低加速電子ビーム描画装置において、ショットビーム形状が任意に変えられる可変成形ビーム描画の機能と、描画時のビーム電流と試料面収束半角をショットレベルで選択できる機能と、空間電荷効果による解像性低下の影響を低減できる電子光学系を具えた電子ビーム露光制御方法とその装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an electron beam exposure control method and system for use in a low-acceleration electron beam lithography system using electrostatic lenses, wherein shot beam shapes are drawn as varied as desired, drawing beam currents and convergence semiangles on the specimen surface are selected at the shot level, and an electrooptical system is provided for reducing resolution degradation due to the space charge effect. - 特許庁

電流値が低くてもミクロンオーダーのビーム径の電子ビームを得ることができ、電流リークがなく、エミッタチップの発熱等による劣化を防止することができ、ビームの収束制御が容易である微小Ｘ線源を提供する。例文帳に追加

To provide a micro X-ray source which can obtain an electron beam in micron order even a low current value, prevent from deterioration by a heat generation of an emitter chip without a current leakage, and easily control convergence of a beam. - 特許庁

本発明は各種電子機器に使用されるコイル部品に関するものであり、巻線の印加電流を増加した大電流対応時においても磁気飽和を起こさず、漏れ磁束の少ない高品質のコイル部品を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide high quality coil parts, used for various electronic devices which can reduce leakage of magnetic flux and which does not cause a magnetic saturation, even if a current applied to a winding is increased to a large quantity of current. - 特許庁

そして、窒化処理装置１では、プラズマ集束コイル２４に電流を流して、窒素イオンや電子を試料台２５に導くように磁界を発生し、さらに、正電圧と負電圧とが交互に切り替わるバイアス電圧を印加する。例文帳に追加

The nitriding treatment apparatus 1 passes an electric current through a plasma focusing coil 24 to make the plasma focusing coil 24 generate a magnetic field so as to lead nitrogen ions and electrons to a specimen support 25, and further applies a bias voltage which alternately switches between a positive voltage and a negative voltage to the specimen support. - 特許庁

充電台と携帯電子機器は、平面状の上面プレート１２の特定部分に交流磁束を誘導する１次コイル１１を内蔵している充電台１０と、背面プレート２２の内側に内蔵されて、１次コイル１１に電磁結合される２次コイル２１に誘導される電力で充電される電池３１を備える携帯電子機器２０からなる。例文帳に追加

The battery charging cradle and the mobile electronic device are composed of the battery charging cradle 10 incorporating a primary coil 11 which induces an AC magnetic flux to a specific portion of a planar top plate 12, and the mobile electronic device 20 equipped with a battery 31 incorporated inside a back plate 22 and charged by electric power which is induced to a secondary coil 21 being electromagnetically coupled to the primary coil 11. - 特許庁

基板（１）を磁場中に配置し、原料ガス（３）を基板表面上に流しながら、収束させた電子線（４）を基板の所望の位置に向かって照射して、十数ナノメートル以下の大きさの２次元又は３次元のナノ構造物（５）を形成させる。例文帳に追加

A substrate (1) is arranged in a magnetic field, and a converged electronic beam (4) is applied to the desired position of the substrate while flowing a gaseous starting material (3) over the surface of the substrate, so that a two-dimensional or three-dimensional nanostructure (5) with dimensions of ten odd nanometers or less is formed. - 特許庁