「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(93ページ目) - Weblio英語例文検索

In a first punching process, at least each one punched hole 14 is formed collectively on a conductive section including an external side 12a opposed to the sections 11 of each pattern 12 by sandwiching the central section of the target 10.例文帳に追加

１回目の打ち抜き工程では、ターゲット１０の中央部を挟んで、それぞれの導電パターン１２の前記非導電部１１とは反対の外側の辺１２ａを含む導電部分に、少なくとも１つずつの抜き穴１４を一括して形成する。 - 特許庁

A process of fixing the upper end of the second pipe material 10 to the lower end of the first pipe material 10 in the state in the substantially straight line is appropriately repeated to join two or more pipe materials 10 in series and thus arrange the vertical pipe 2.例文帳に追加

こうしてほぼ一直線上になった状態において第１の管材１０の下端に第２の管材１０の上端を固定する工程を適宜繰り返すことにより，２以上の管材１０を直列に接合して竪管２を施工する。 - 特許庁

Just before a backwashing process is completed, a small quantity of backwashing water is discharged to the washing drain sewer 8 only through the first siphon pipe 10 and the water level of the water collecting sewer 4A is regulated so as to be made larger than the height of the trough 4C.例文帳に追加

逆洗工程の終了間際には、集水渠４Ａから第１のサイホン管１０のみを介して洗浄排水渠８に小流量で逆洗水を排出し、集水渠４Ａの水位をトラフ４Ｃの高さより高く調節する。 - 特許庁

In a third process, a sheet material 19 containing a synthetic resin in a molten state is stretched on the base material 15 to form a second sheet layer 12 and the first and second sheet layers 11 and 12 are integrated through the base material 15.例文帳に追加

そして第３工程において、溶融状態の合成樹脂を含むシート材料１９を基材１５上に伸ばして第２シート層１２を形成し、第１シート層１１と第２シート層１２とを基材１５を介して一体化させる。 - 特許庁

The spacing of a second side plate 70B to which an exposure device 34 is attached is made smaller than the spacing of a first side plate 70A to which process cartridges 28Y, 28M, 28C and 28K are attached, and a base plate 60 and a driving motor 62 are arranged on the outside of the side plates.例文帳に追加

プロセスカートリッジ２８Ｙ、２８Ｍ、２８Ｃ、２８Ｋが装着される第１側板７０Ａの間隔より、露光装置３４が装着される第２側板７０Ｂの間隔を狭くし、その外側に、基板６０及び駆動モータ６２を配置する。 - 特許庁

In the interface unit of a coating/developing process system 1, a partitioning plate 42 is arranged, and a first gas-feed device 80 is arranged on the upper part of a region S1 for pre-exposure substrates, while a second gas-feed device 81 is arranged on the upper part of a region S2 for post- exposure substrates.例文帳に追加

塗布現像処理システム１のインタフェイス部に仕切板４２を設け，露光前の領域Ｓ１の上部に第１の気体供給装置８０を，露光後の領域Ｓ２の上部に第２の気体供給装置８１をそれぞれ設ける。 - 特許庁

Thereafter, a wafer test is carried out in a final manufacturing process, where wafer probes are put on the first and second pad 16 and 18 to be energized apply a voltage between them, whereby the wiring 14 is fused.例文帳に追加

その後、製造工程の最終段階としてウェハーテストが行われ、その際に、ウェハープローブ針を上記第１および第２のパッド１６，１８に当てて電圧を印加し、第１および第２のパッド１６，１８間に通電して、配線１４が溶断される。 - 特許庁

In the process, an area of a drawing pattern before division is obtained in a first area calculation circuit 30, the total of an area of each output pattern after division is obtained in a second area calculation circuit 34 and the obtained two kinds of area are compared.例文帳に追加

その際、第１の面積計算回路３０において分割前の描画パターンの面積を求め、第２の面積計算回路３４において分割後の各出力図形の面積の累計を求め、求められた２種の面積を比較する。 - 特許庁

The process of forming the through dislocation blocking layer alternately repeats a first step and a second step of performing the growth of the semiconductor film at mutually different growth rates, under a normal pressure and a temperature atmosphere lower than the growth temperature of a device function layer.例文帳に追加

貫通転位遮断層を形成する工程は、常圧且つデバイス機能層の成長温度よりも低い温度雰囲気の下、互いに異なる成長速度で半導体膜の成長を行う第１ステップおよび第２ステップを交互に複数回実施する。 - 特許庁

A first measuring process is performed, in which, with an outer ring 3 fixed and an inner ring 6 pressed in the axial direction, the inner ring 6 is rotated and vibration in a rolling surface 1 on one end 3a side in the axial direction of the outer ring 3 is measured during the rotation.例文帳に追加

外輪３を固定して、内輪６をアキシャル方向に加圧した状態で、内輪６を回転させて、回転中に外輪３の軸方向一端部３ａ側の転走面１における振動を測定する第１測定工程を行う。 - 特許庁

The first pressing plate 542 is contacted with the developing shutter plate 62 as the toner container 50 moves in the assembling direction in the assembling process to the container fitting part 61 and the developing shutter plate 62 is displaced from a closing position to an opening position.例文帳に追加

第１押圧板５４２は、コンテナ取付部６１への組み付け過程において当該トナーコンテナ５０が前記組付方向へ移動するのに伴い現像シャッター板６２に当接し、当該現像シャッター板６２を閉止位置から開放位置に変位させる。 - 特許庁

In a first process, the moment the outer peripheral surface of a work body part 51 is ground by a grinding part 61, the outer peripheral surface of a cylinder part 52 having a smaller outside diameter than the work body part 51 is ground by a grinding part 62 having a larger outside diameter than the grinding part 61.例文帳に追加

第１工程では、ワーク本体部５１の外周面を研削部６１にて研削すると同時に、ワーク本体部５１よりも外径の小さい円柱部５２の外周面を研削部６１よりも外径の大きい研削部６２にて研削する。 - 特許庁

To provide a wiring structure of a semiconductor device and a method of forming the same which prevent a first contact pad from being damaged by a cleaning fluid in the formation of a second contact plug to be connected to the lower electrode of a capacitor in a downstream process.例文帳に追加

後工程における、キャパシタの下部電極と接続されるべき第２コンタクトプラグの形成の際の洗浄液による第１コンタクトパッドの損傷を防止できる、半導体装置の配線構造物及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device which can economically produce an aerosol containing fine liquid particles first, and can maintain concentration of the aerosol even if its conveying distance is long, in all of the process to application places when performing spraying and conveying.例文帳に追加

最初に、細かい液体の粒子を含むエアロゾルを経済的に生成でき、噴霧および搬送が行われる際に適用場所への全ての過程において、搬送距離が長くともこのエアロゾルの濃度が維持されるような装置を提供する。 - 特許庁

If the roles are defined in the reverse order in the wsdl file (the callback receiver role is defined on the first place, and the service role on the second place) then you get the improper partner link layout in the BPEL process diagram, though the operation is not damaged.例文帳に追加

WSDL ファイル内でロールが逆の順序で定義されている場合 (コールバック受信者のロールが最初に定義され、サービスロールが 2 番目に定義されている)、操作に影響はありませんが、BPEL プロセス図に間違ったパートナーリンクレイアウトが表示されます。 - NetBeans

By repeating the process, a plurality of beams that are outputted from a plurality of laser diodes arranged on the same optical axis and that have different wavelengths are included in an output from a final laser diode (for example, L3) while maintaining the first wavelength.例文帳に追加

これを繰り返すことにより、最後のレーザダイオード（例えばＬ３）からの出力には、同一光軸上に配列された複数のレーザダイオードから出力された波長の異なる複数のビームが、最初の波長を維持したまま含まれる。 - 特許庁

The germination-activating method of the first step includes a process for immersing the spores in a solution to induce the germination and then placing the germinated spores in a culture vessel to synthesize the physiologically active substance and soften the cell walls of the spores.例文帳に追加

第１段階の発芽活性化方法は、胞子を溶液中に浸漬して発芽を誘発し、この発芽処理された胞子を培養器内に置いて、生理活性物質の合成と、胞子の細胞壁を柔軟化を起こさせる工程を含む。 - 特許庁

Dichloroacetoxypropane is efficiently produced by reacting allyl acetate with chlorine in a gas phase in the presence or absence of a catalyst containing an element in the group 15 of the long periodic table, and the method is used as the first process to produce the derivatives of the dichloroacetoxypropane.例文帳に追加

長周期律表１５族の元素を含む触媒の存在下もしくは無触媒で、アリルアセテートと塩素を気相反応させることにより、効率よくジクロロアセトキシプロパンを製造し、またこの方法を第１工程として、その誘導体を製造する。 - 特許庁

This process reduces the differential pressure between the pressure in the processing chamber and the pressure in the first passage even when the abnormality occurs during the etching processing and thus preventing the substrate from springing up from the stage and causing the position aberration and the like.例文帳に追加

これにより、エッチング処理中に異常が発生した場合であっても、処理室内の圧力と第１流路内の圧力との差圧が減少されるため、差圧により基板がステージより跳ね上がって位置ズレ等が生じることを防止できる。 - 特許庁

In a drying process of the dish washing and drying machine 1 with an ozone generator 63, after ten minutes have elapsed from starting counting by a first counter 101, ozone is intermittently supplied into a washing tub 9 by duty-controlling the ozone generator 63.例文帳に追加

オゾン発生器６３を有する食器洗い乾燥機１の乾燥工程において、第１カウンタ１０１カウント開始から１０分経過した時に、オゾン発生器６３をデューティ制御することにより、洗浄槽９内に間欠的にオゾンを供給する。 - 特許庁

In the fabrication process of semiconductor device having a multilayer interconnection layer, hydrogenation heat treatment is performed at least after formation of an insulation layer 107 covering a first interconnection layer 106 and an insulation layer 113 covering a last interconnection layer 112.例文帳に追加

多層配線層を有する半導体装置の製造工程において、少なくとも第一配線層１０６を覆う絶縁層１０７の形成後及び最終配線層１１２を覆う絶縁層１１３の形成後に水素化熱処理を行う。 - 特許庁

A first denitrification tank 12 is introduced which carries out the autotrophic denitrification process by serving the nitrogen-containing water including ammonia nitrogen or the like as raw water, an organic substance as an electron donor, and nitrite nitrogen and/or nitrate nitrogen as an electron acceptor.例文帳に追加

アンモニア態窒素等を含む窒素含有水を原水とし、有機物を電子供与体、亜硝酸態窒素および／または硝酸態窒素を電子受容体として独立栄養型の脱窒工程を行う第１脱窒槽１２に導入する。 - 特許庁

These first urethane material 12 and second urethane material 14 are correspondingly joined in a longitudinal direction utilizing adhesion force of the urethane material in the curing process and the use of the adhesive or a pressure sensitive adhesive double coated tape are not required.例文帳に追加

これら第１ウレタン基材１２および第２ウレタン基材１４は、硬化過程における前記ウレタン材料の接着力を利用することにで長手方向へ対応的に接合され、接着剤や両面テープ等の使用を不要とする。 - 特許庁

The process management manager 111 compares a character string in a received job definition file with a character string in the template to specify the final product and eliminates workflows irrelevant to the final product from the first network workflow to generate a second network workflow.例文帳に追加

また、受信するジョブ定義ファイル中の文字列とテンプレート中の文字列とを比較して最終製品を特定し、第１の網状ワークフローから最終製品に関連しないワークフローを削除して第２の網状ワークフローを生成する。 - 特許庁

Even if a defective part is generated at the first Schottky barrier electrode 30a when sputter film-forming or patterning Ti, Ti is so film-formed as to cover the defective part in the forming process of the second Schottky barrier electrode 30b.例文帳に追加

Ｔｉをスパッタ成膜したりパタニングしたりするときに第一のショットキー障壁電極３０ａに欠損部分が生じても、第二のショットキー障壁電極３０ｂの形成工程において、欠損部分をカバーするようにＴｉが成膜される。 - 特許庁

In the first process, an organic halogen compound such as PCB is decomposed to reduce the number of halogen atoms in the molecules of the organic halogen compound by irradiating light to a reaction solution of the compound mixed with alcohol and alkali materials.例文帳に追加

ＰＣＢ等の有機ハロゲン化合物と、アルコール、アルカリ物質を混合した反応溶液に第１の工程で光を照射（１）することによって有機ハロゲン化合物を分解し、有機ハロゲン化合物分子中のハロゲン原子数を低減させる。 - 特許庁

With a mask of the porous board 10a, a thin-film forming process is carried out to form a first electrode 15 having a plurality of cylindrical bodies 12 with outer diameter of several nm to hundred of nm on a surface of a capacitor board 14.例文帳に追加

多孔質基板１０ａをマスクとして用いて薄膜成膜処理を行い、コンデンサ用基板１４の表面に、それぞれの外径が数ｎｍから数百ｎｍの多数の柱状体１２が規則的に配列された第１電極１５を形成する。 - 特許庁

When the EPG acquisition process is completed, only the power of the second tuner part 123B is turned off with the power of the first tuner part 123A kept in the on-state (a state where the power consumption is 50% in the second or third line from the top in Fig.4).例文帳に追加

ＥＰＧ取得処理が完了すると、第１のチューナ部１２３Ａは電源オン状態に維持されたまま、第２のチューナ部１２３Ｂだけが電源オフされる（図４の上から２段目または３段目の消費電力５０％の状態）。 - 特許庁

Since a first threshold value setting process is performed to settle the threshold value TH (N) before getting the height position of the substrate surface 3a, the threshold value TH (N) is set as the value reflecting the condition inside the nozzle and the air passage 67 at the setting point of time.例文帳に追加

また、基板面３ａの高さ位置を求める前に、第１閾値設定処理を実行して閾値ＴＨ（Ｎ）を設定しているので、閾値ＴＨ（Ｎ）はその設定時点でのノズル内部や空気経路６７の状態を反映した値となる。 - 特許庁

The second layer 52 is formed with alloy including b-atomic% of cobalt and (100-b)-atomic% of iron while (b) is ≥70, ≤90, and also an oxidation process is applied on the face of the second layer 52 at the side opposite to the first layer 51.例文帳に追加

第２層５２は、コバルトをｂ原子％、鉄を（１００−ｂ）原子％含み、ｂが７０以上、９０以下である合金によって形成され、且つ第２層５２における第１層５１とは反対側の面には酸化処理が施されている。 - 特許庁

To provide an extraction container for specimen detection which dispenses with a process for discarding the first several drops when dropping an extraction reagent intermingled with wiping liquid onto an assay strip, improves reliability of a detection result, and also to provide an extraction container for specimen detection generating no liquid leakage, and improving handleability of an inspector.例文帳に追加

ぬぐい液が混じった抽出試薬をアッセイストリップへ滴下する際に、最初の数滴を捨てる工程を省略でき、検出結果の信頼性を向上できる検体検出用抽出容器を提供することを目的とする。 - 特許庁

Subsequently, in an ion implantation process, a first doped area is formed in the effective layer covered with the shield area, and a second doped area is formed in the effective layer covered with the extension area thus fabricating a thin film transistor having a self-alignment LDD structure.例文帳に追加

次にイオン注入工程により、遮蔽エリアに覆われた有効層内に第１ドープエリアを形成し、延伸エリアに覆われた有効層内に第２ドープエリアを形成し、セルフアライメントＬＤＤ構造を備えた薄膜トランジスタを製造する。 - 特許庁

In a process in which the airbag module is inserted in the boss 2 while the second plate 12A is located at the first position, the hook is inserted in the opening 40, and when the second plate 12B is moved to the second position, the hook is engaged with the opening 40.例文帳に追加

第２プレート１２Ａが第１の位置に位置した状態でのエアバッグモジュールがボス部２に挿入される過程で、フック部が開口部４０に挿入され、第２プレート１２Ｂを第２の位置に移動させると、フック部が開口部４０に係合する。 - 特許庁

To provide a method of forming an element separation film of semiconductor elements which removes an FSG film produced at etching of a first oxide film by an etching process using oxygen to prevent fluorine from diffusing, thereby avoiding the characteristics deterioration of the elements.例文帳に追加

第１酸化膜のエッチング時に生成されるＦＳＧ膜を、酸素を利用したエッチング工程により除去することによって、フッ素の拡散を防止して、素子の特性劣化を防止できる半導体素子の素子分離膜形成方法を提供すること。 - 特許庁

The process units 14A-14D have first engagement pieces 64A-64D and second engagement pieces 66A-66D composed to guide the intermediate transfer belt unit 12 mounted or detached to the image forming apparatus 100.例文帳に追加

プロセスユニット１４Ａ〜１４Ｄは、画像形成装置１００に対して装着または取外される中間転写ベルトユニット１２を案内するように構成された第１の係合片６４Ａ〜６４Ｄおよび第２の係合片６６Ａ〜６６Ｄを有する。 - 特許庁

The image forming apparatus is equipped with a first adjustment process (S5 to S6) for detecting image density of a toner image after forming toner image on an image carrier by operating a development part (S6) and adjusting image formation conditions regarding the image density based on its detection result.例文帳に追加

現像部を動作させて像担持体上にトナー像を形成した後に（Ｓ６）、トナー像の画像濃度を検出して、その検出結果に基づいて画像濃度に係わる作像条件を調整する、第１調整工程（Ｓ５〜Ｓ６）を備える。 - 特許庁

To provide a permanent wave treatment method by a new system which can form an excellent curl by combining a permanent wave first agent promoting process with an indirect heating treatment promoting machine or the like when the permanent wave is produced by making a rod itself generate heat.例文帳に追加

ロッド自体を発熱させてパーマを行うに際して、間接加熱処理促進機などによるパーマ第１剤促進工程を併用することによって、良好なカールを形成できる新たな方式によるパーマネント処理方法の提供を図る。 - 特許庁

The manufacturing method of the secondary battery has a charge and discharge process for charging and discharging respective secondary batteries 100 for composing a first battery row 101 (a second battery row 102) by aligning at least three secondary batteries 100.例文帳に追加

本発明の二次電池の製造方法は、３ヶ以上の二次電池１００が一列に並んで第１電池列１０１（第２電池列１０２）をなす各々の二次電池１００について、充放電を施す充放電工程を備えている。 - 特許庁

In this heat swing adsorption process three different adsorbent layers are used, namely, the first adsorbent layer is used for removing water mainly, the second adsorbent layer is used for removing carbon dioxide mainly and the third adsorbent layer being the combined adsorbent layer is used for removing nitrogen oxides and hydrocarbons from an air current.例文帳に追加

第１の吸着剤層は主として水を除去し、第２の吸着剤層は主として二酸化炭素を除去し、第３の吸着剤層は空気流から窒素酸化物及び炭化水素類を除去する複合吸着剤層である。 - 特許庁

It is preferable that the time of mastication in a first process is 1.2-1.5 times that required in the case of no carbon black powder, and the energy required for the mastication is 1.2-1.5 times that required in the case of no carbon black powder.例文帳に追加

素練りの第１工程の時間は、カーボンブラック未添加時に要する当該時間の１．２〜１．５倍とすることが好ましく、また、素練りに要するエネルギーは、カーボンブラック未添加時に要する当該エネルギーの１．２〜１．５倍とすることが好ましい。 - 特許庁

In a manufacturing method of an electronic component, a laminate 10 is formed in a formation process, where the laminate has a dielectric layer 13, and a first electrode layer 15 and a second one 17 that oppose each other, while the dielectric layer 13 is sandwiched by them.例文帳に追加

本発明に係る電子部品の製造方法では、形成工程において、誘電体層１３と誘電体層１３を挟んで対向する第１の電極層１５と第２の電極層１７とを有する積層体１０を形成する。 - 特許庁

The second charging current value is preferable to be 0.236-1.057 C, and the charging quantity of electricity in the first constant current charging process is preferably limited to 8.0-77.3% of the total charging capacity.例文帳に追加

第２の充電電流値は、０．２３６Ｃ以上１．０５７Ｃ以下とすることが好ましく、第１の定電流充電過程における充電電気量は、全充電容量の８．０％以上７７．３％以下の範囲内とすることが好ましい。 - 特許庁

The servo writing method has a first process for recording a base servo pattern including address codes and servo burst signals in a track pitch unit for a self servo writing method, and a second process for recording servo pattern for driving which is a spiral servo pattern on the disk medium by using the base servo pattern according to the self servo writing function of the disk drive.例文帳に追加

セルフサーボ書込み方法において、アドレスコード及びサーボバースト信号を含むベースサーボパターンを、トラックピッチ単位でディスク媒体上に記録する第１のプロセスと、ディスクドライブのセルフサーボ書込み機能により、前記ベースサーボパターンを使用して、前記ディスク媒体上にスパイラルサーボパターンであるドライブ用サーボパターンを記録する第２のプロセスとを有するサーボ書込み方法である。 - 特許庁

This column manufacturing method has a first process for filling a pipe body 2 with a large number of particles 3 comprising a solid phase 3 and a second process for mutually fixing the particles 33 by heat-treating the pipe body 2 filled with the pipe body 2 filled with the particles 33 to form the solid phase 3.例文帳に追加

本発明のカラムの製造方法は、管体２内に、固定相３となる複数の粒子３３を充填する第１の工程と、粒子３３が充填された管体２に対して、熱処理を施すことにより、粒子３３同士を固着させて固定相３を形成するとともに、固定相３の一部と管体２の内壁面とを固着させる第２の工程とを有する。 - 特許庁

The method includes a first process of melting the solder and a second process of keeping the solar cell element for a predetermined period of time at an ambient temperature, which is lower than the melting point of the solder and is higher than the room temperature.例文帳に追加

太陽電池素子の表面に設けられ、且つ出力を外部へ取り出すためのバスバー電極と、前記バスバー電極に半田を介してインターコネクタを接合してなる太陽電池モジュールの製造方法であって、前記半田を溶融する第１工程と、前記半田の溶融温度よりも低く室温よりも高い雰囲気温度で、前記太陽電池素子を所定時間保持する第２工程と、を有するようにした。 - 特許庁