「Manufacturing Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(432ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a discharge plasma treatment method and a device which can control a discharge starting timing of an even glow discharge plasma under a pressure near atmospheric pressure in a plurality of discharge spaces sharing one power source, generate the plasma continuously and stably, and handle a complex treatment in a manufacturing process of a semiconductor device or the like.例文帳に追加

一つの電源を共用して複数の放電空間において、大気圧近傍の圧力下で均一なグロー放電プラズマの放電開始タイミングを調整し、継続して安定して発生させ、半導体素子の製造工程等における複雑な処理にも対応できる放電プラズマ処理方法及び装置の提供。 - 特許庁

The inspection recess is used for inspection of the horizontality of the face plate, the assembly of the head body and the face plate can be quickly and accurately completed before the manufacturing process for the temporary welding and high energy welding, and horizontal assembly of the face plate after the temporary welding can be inspected.例文帳に追加

検査用凹欠部はフェース板の水平の組立を検査するのに用いられ、仮溶接および高エネルギー溶接の製造過程の前にヘッド本体とフェース板の組立を迅速かつ精確に完成でき、さらに仮溶接後にフェース板の水平の組立を検査することができるように構成されている。 - 特許庁

To inexpensively and stably manufacture a lithographic printing plate substrate for forming uniform pits and well keeping the quality level and the printing performance level of a chatter mark in a process of electrochemical surface roughening of an aluminum plate as one of the lithographic printing plate manufacturing processes.例文帳に追加

平版印刷版の製造工程の一つであるアルミニウム板の表面を電気化学的に粗面化処理する工程において、均一なピットを生成できるとともに、チャターマークの品質レベル及び印刷性能レベルを良好に維持した平版印刷版用支持体を安価かつ安定的に製造することができるようにする。 - 特許庁

To provide a silicon substrate achieving electrical isolation of a wide voltage region of 500 V or larger, in a manufacturing process allowing coexistence with STI and having an isolation structure for blocking the physical movement of metal to the depth of a through-electrode, while ensuring surface planarity and metal contamination gettering performance.例文帳に追加

表面平坦性と金属汚染ゲタリング機能を確保しながら、ＳＴＩと共存できる製造工程で５００Ｖ以上の広い電圧領域の電気的アイソレイションを実現するとともに、貫通電極全体の深さにいたる物理的な金属移動の阻止のためのアイソレイシヨン構造を有する。 - 特許庁

In a process for manufacturing the high hard precipitation hardening martensitic stainless steel, the precipitation hardening martensitic stainless steel is subjected to solution heat-treatment and subsequently precipitation hardening heat-treatment by keeping it in a heating furnace at 400-450°C for 8-13 hr.例文帳に追加

マルテンサイト系析出硬化型ステンレス鋼の素材を、固溶化熱処理を行った後、析出硬化熱処理として、４００〜４５０℃の熱処理炉に在炉させて当該温度範囲に８時間以上、１３時間以下に保持させる加熱を行うことを特徴とする、高硬度マルテンサイト系析出硬化型ステンレス鋼の製造方法。 - 特許庁

This is the manufacturing method of the anisotropic conductive film having a process in which the conductive particles are supplied to a cylinder 11 having holes 12 for forming a desired arrangement pattern at its body part, and in which the conductive particles 17 that pass through the holes 12 are transferred to the base material 9 by rotating the cylinder 11.例文帳に追加

その胴体部に所望の配置パターンとなるような孔１２を有する円筒１１の内部に導電粒子を供給し、前記円筒１１を回転させて前記孔１２を通過する導電粒子１７を基材９上に転写させる工程を有する異方導電フィルムの製造方法。 - 特許庁

To provide an organic EL element for showing high luminous efficiency and having a long emission life and low driving voltage, and provide an illuminating device and a display provided with the element, and an organic EL element material for showing the emission of shortwave blue to bluish green light and not causing deposition when manufacturing the element in a wet process.例文帳に追加

高い発光効率を示し、発光寿命が長く、且つ、低駆動電圧の有機ＥＬ素子、該素子を備えた照明装置及び表示装置を提供し、併せて、青色〜青緑色の短波な発光を示し、前記素子をウェットプロセスで作製するときに析出が発生しない有機ＥＬ素子材料を提供する。 - 特許庁

For the method of manufacturing the semiconductor element, more specifically, a technique is disclosed in which a reflection preventing film containing silicon is formed, and then, coating of a hard mask layer and an etching processes are executed only once by performing an O_2 plasma process to simplify processes, thereby reducing time and cost.例文帳に追加

本発明は半導体素子の製造方法に関し、より詳しくはシリコンが含まれた反射防止膜を形成した後、Ｏ_２プラズマ工程を行なうことによりハードマスク層のコーティング及び食刻工程は１回のみ行なうようにして工程を単純化させ、時間及び費用を低減させる技術を示す。 - 特許庁

The manufacturing method of the fuel cell includes a process tentatively fixing a pair of electrodes and an electrolyte membrane by installing magnetic members 4a, 4b on both surfaces of a membrane electrode assembly 3 including the pair of sheet-like electrodes 2a, 2b, and the electrolyte membrane 1 interposed between the pair of electrodes.例文帳に追加

シート状の一対の電極２ａ、２ｂ、及び、一対の電極によって挟持された電解質膜１を備える膜電極構造体３の両面側に磁性部材４ａ、４ｂを配設することによって、一対の電極及び電解質膜を仮止めする工程、を含むことを特徴とする燃料電池の製造方法とする。 - 特許庁

The manufacturing method of multiplayer interconnection boards includes a process of heating and pressurizing a laminate for integration, while a plurality of double-sided wiring boards 10, where a wiring pattern 12 is formed on both the surface of an insulating layer 11 are being laminated via a prepreg 1 where a thermosetting resin, is immersed to a resin porous film.例文帳に追加

絶縁層１１の両面に配線パターン１２が形成された複数の両面配線基板１０を、樹脂多孔質膜に熱硬化性樹脂を含浸させたプリプレグ１を介して積層した状態で、その積層物を加熱加圧して一体化させる工程を含む多層配線基板の製造方法。 - 特許庁

A process for manufacturing the group of detergent granules includes a step of granulating powdery raw materials for a detergent in a rotating mixer, wherein the granulation of the powdery raw materials is conducted with a foamed anionic surfactant composition sprayed in the rotating mixer through a multi-fluid nozzle.例文帳に追加

洗剤用粉体原料を容器回転型混合機を用いて造粒する工程を有する洗剤粒子群の製造方法であって、陰イオン界面活性剤組成物の発泡体を、多流体ノズルを用いて該容器回転型混合機内に噴霧して該洗剤用粉体原料の造粒を行う、洗剤粒子群の製造方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a ceramic substrate which employs a cofiring process using restraint sheets and in which firing strain can be minimized, while preventing transfer (stamp) of undesirable surface roughness onto surface conductors, adhesion of foreign matter to the surface conductors, and deterioration in plating properties and solder wettability of the surface conductors.例文帳に追加

拘束シートを用いた同時焼成工程によるセラミック基板の製造方法において、表面導体に不必要な凹凸をスタンプ（stamp）したり、異物付着を起こしたり、メッキ性や半田濡れ性の低下といった問題の発生を防ぎつつ、焼成ひずみをより小さくできる方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, in a case where contact holes are needed to be reduced in size, or the spacing interval of adjacent contact holes is needed to be decreased in any step, the manufacturing method can overcome limitations on the lithography process and achieve stable decrease in the size of contact holes, while reducing generation of bridges for improving the reliability of the element.例文帳に追加

それにより、コンタクトホールのサイズを減少させる必要がある場合、あるいは隣り合うコンタクトホールどうしの間隔スペースを減少させる必要がある工程にあって、リソグラフィ工程の限界を克服しつつ、コンタクトホールのサイズを安定して減少させ、ブリッジの発生を抑えて素子の信頼性を高める。 - 特許庁

To provide a support having an excellent charge preventing performance and strong film properties, enabling avoidance of a white powder stain and dust sticking due to peeling of a layer or desorption of a charge preventing agent in a manufacturing process or handling (coating, carrying or others) and avoidance of a cissing fault of a liquid film consequent upon the dust sticking and being excellent also in transparency and resistance to scuffing.例文帳に追加

帯電防止性能に優れ、膜性が強く、製造工程や取扱時（塗布、搬送時等）における層の剥離や帯電防止剤の脱離による白粉汚れ、塵埃付着を回避でき、該白粉汚れ、塵埃付着に伴う液膜のハジキ故障を回避でき、透明性、耐傷性にも優れた支持材を提供する。 - 特許庁

The process for manufacturing the hydroxycarbyl group- containing polyorganosiloxane by reacting the hydrogen-modified polyorganosiloxane with the unsaturated alcoholic compound is characterized by allowing to react them by using a wet type catalyst supporting a noble metal compound and having a water content of 0.5-50 wt.% and without protecting the hydroxyl group of the above unsaturated alcoholic compound.例文帳に追加

ハイドロジェン変性ポリオルガノシロキサンと不飽和アルコール化合物とを反応させてヒドロキシルカルビル基含有ポリオルガノシロキサンを製造するに際し、上記不飽和アルコール化合物の水酸基を保護することなく、水分含有量が０．５〜５０重量％であるウェットタイプの貴金属化合物の担持触媒を用い反応を行う。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a semiconductor device in which the mounting position of a semiconductor wafer is not shifted when the semiconductor wafer divided into a plurality of semiconductor devices is stuck to an adhesive surface, and the adhesive surface is stiffened by irradiating a UV-RELEASE sheet under extended state with light of UV wavelength.例文帳に追加

複数の半導体装置に分割された半導体ウェハが粘着面に粘着され、かつ拡張された状態のＵＶ剥離型シートに対して、ＵＶ波長の光を照射して、粘着面を硬化させたときに、半導体ウェハの搭載位置がずれない半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

For the manufacturing method of the cell, placing and sealing electricity generating elements 1 between laminated aluminum laminate sheet 2 of lower side and an aluminum laminate sheet of upper side 4, a process of forming concave parts 2a, on which an electricity generating element is placed on the long aluminum laminate sheet 2 of lower side at prescribed intervals, is provided.例文帳に追加

下側のアルミラミネートシート２と上側のアルミラミネートシート４とを重ね合わせた間に発電要素１を配置して密封する電池の製造方法において、長尺な下側のアルミラミネートシート２上に所定間隔ごとに、発電要素１を載置するための凹部２ａを形成する工程を備える構成とする。 - 特許庁

The integrated scintillator/collimator (144) is manufactured using a manufacturing process (120) or technique which an array (96) consisting of a scintillator material is located on a fabrication base (94), a collimator mold housing (102) including the collimator mold is positioned on a scintillator material block (96).例文帳に追加

一体型のシンチレータ／コリメータ（１４４）は、シンチレータ材料からなるアレイ（９６）を加工用土台（９４）上に位置決めし、さらにコリメータ型枠をその内部に有するコリメータ型枠ハウジング（１０２）をシンチレータ材料のブロック（９６）上に位置決めしているような製造処理法（１２０）または技法によって製作している。 - 特許庁

To provide method of manufacturing a fluid enclosed vibration damper capable of affecting effective pre-compression on an entitative rubber elastic body by performing process of diminishing diameter with large ratio of diminishing diameter while avoiding local deformation with respect to a metallic sleeve adhered by vulcanizing on outer peripheral surface of the entitative rubber elastic body.例文帳に追加

本体ゴム弾性体の外周面に加硫接着された金属スリーブに対して、局部的な変形を回避しつつ、大きな縮径率で縮径加工を施し、それによって、本体ゴム弾性体に有効な予圧縮を及ぼすことが出来る、流体封入式防振装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In this method for measuring a contamination condition of the quartz tube, a temperature of the quartz tube 121 is measured by an infrared radiation thermometer 14, in the manufacturing process of the optical fiber wherein a coating layer is provided by a radiation curing resin on a surface of a glass fiber, and the radiation transmittance in a wall of the quartz tube 121 is measured based on the temperature.例文帳に追加

石英管汚染状態の測定法は、ガラスファイバ表面に放射線硬化性樹脂による被覆層を設ける光ファイバ製造工程において、赤外線放射温度計１４により石英管１２１の温度を測定し、この温度から石英管１２１壁の放射線透過率を求めるものである。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device utilizing plastic substrates which are improved in the grade of a screen through the assurance of a uniform cell gap by ameliorating the nonuniformity of a fixing height, the nonuniformity of orienting agent coatings, the nonuniformity of orienting agent rubbing and the nonuniformity of the cell gap during the manufacturing process step for the plastic substrates.例文帳に追加

本発明の目的は、プラスチック基板の製造工程中での固定高の不均一、配向剤コーティングの不均一、配向剤ラビングの不均一及びセルギャップの不均一を改善し、均一なセルギャップの確保を通じて画面品位を向上させた、プラスチック基板を利用した液晶表示装置を提供することにある。 - 特許庁

In the method of manufacturing the semiconductor device; cracking and getting chipped of a substrate are prevented to perform surface processing in a desired shape by subjecting the holding substrate 11 (wafer 51) constructed with a substrate piece 12 to surface processing, e.g., polishing processing or blast processing, after a separation process of cutting, and separating a wafer 50 to the substrate pieces 12.例文帳に追加

本発明の製造方法は、ウエハ５０を基板片１２に切断、分離する分離工程の後に、基板片１２で構成された保持基板１１（ウエハ５１）を表面処理加工、例えば研磨処理又はブラスト処理、することで、基板の割れ、欠けを防止して、所望の形状となるような表面加工が可能となる。 - 特許庁

In a process for manufacturing an optical waveguide, using a heat-resisting polymeric material in the core and clad, a metal or alloy having heat resistance for withstanding at 523K or higher and a coefficient of linear expansion of 1.5×10-5 to 1.0×10-4 is used as the material of a mask for microfabrication, aligning markers or a film for peeling.例文帳に追加

耐熱性高分子材料をコア、クラッドに用いた光導波路を作製するプロセスにおいて、５２３Ｋ以上の耐熱性を有し、１.５×１０^−５以上、１.０×１０^−４以下の線膨張係数を有する金属または合金を微細加工用のマスク、位置合わせマーカーまたは剥離用膜として用いる。 - 特許庁

Respective dimensions are designed so as to satisfy L1>TSW×2 and L1-2×TSW<1F where L1 is a distance between polycrystalline silicon films PS1, PS2 for a processing mask, TSW is the film thickness of each of silicon oxide films serving as sidewall spacers SWL, SWR, and 1F is a minimum processing size of a manufacturing process.例文帳に追加

加工マスク用多結晶シリコン膜ＰＳ１、ＰＳ２間の距離をＬ１とし、側壁スペーサＳＷＬ、ＳＷＲとなる酸化シリコン膜の膜厚をＴＳＷとし、製造プロセスにおける最小加工寸法を１Ｆとした際に、Ｌ１＞ＴＳＷ×２、かつＬ１−２×ＴＳＷ＜１Ｆとなるように各寸法を設計する。 - 特許庁

To provide a rigid polyvinyl chloride resin sheet which is free from creases which would otherwise be generated at the time of vacuum molding or air-pressure forming, due to insufficient shrinkage in the width direction following the stretching of the sheet subsequent to the process of sheet shrinkage generated by the heating of a molding machine, in molding the rigid polyvinyl chloride resin sheet into a vessel-like form and its manufacturing method.例文帳に追加

硬質ポリ塩化ビニール樹脂シートの容器形状への成形加工において、成形機の加熱によりシートの収縮が発生し、シートが張った際に、幅方向への収縮が不十分で、真空あるいは圧空成形した時、シワが発生するが、そのシワ発生の無いシート及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the pneumatic tire having a process of forming non-vulcanized rubber layer 7' on the film layer 8' mainly composed of the thermoplastic resin, the rubber layer 7' is formed by bonding a non-vulcanized rubber material strip material M orderly on the film layer 8' in a case of forming the non-vulcanized rubber layer 7' on the film layer 8'.例文帳に追加

熱可塑性樹脂を主成分とするフィルム層８’上に未加硫のゴム層７’を成形する工程を有する空気入りタイヤの製造方法において、フィルム層８’上に未加硫のゴム層７’を成形する際に、未加硫ゴムストリップ材Ｍを順次フィルム層８’上に貼り合わせてゴム層７’を成形する。 - 特許庁

To provide a new manufacturing process of a urethane urea resin composition which has an ethylenically unsaturated double bond introduced in a high density in the backbone and which can combine adhesion to a base material after radiation-curing following coating or printing with solvent resistance.例文帳に追加

骨格中にエチレン性不飽和二重結合を高密度で導入したウレタンウレア樹脂組成物の新しい製造方法を提供することを目的とし、塗工または印刷しラジエ−ション硬化させた後の基材への密着性と耐溶剤性とを両立できるウレタンウレア樹脂組成物の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the pattern electrode forming process of the manufacturing method, after the pattern electrodes 2 are formed on the flat face S of the support plate 1, it is desirable to make the surfaces of the pattern electrodes 2 rough and it is also desirable to form the pattern electrodes 2 after mold release is applied to the flat face S.例文帳に追加

前記製造方法のパターン電極形成工程において、前記支持板１の平坦面Ｓにパターン電極２を形成した後、そのパターン電極２の表面を粗面にすることが好ましく、また前記平坦面Ｓに離型剤を塗布した後、パターン電極２を形成することが好ましい。 - 特許庁

In the method for manufacturing the polymerization toner by salting/melting and depositing at least resin fine particles in a water-based medium to produce color particles, then filtering out from the medium and drying, a filter press method is used in the process of filtering out the color particles from the water-based medium.例文帳に追加

少なくとも樹脂微粒子を水系媒体中で塩析／融着して着色粒子を形成させ、水系媒体中より濾過、乾燥する重合法トナーの製造方法において、水系媒体中より着色粒子を濾過する工程に、フィルタープレス法を用いることを特徴とする重合法トナーの製造方法。 - 特許庁

In this manufacturing method of the member for the plasma display including a process of applying photosensitive paste on the substrate, and exposing it through a photomask, the photomask has a pattern of stripes of broken lines, or combination of stripes of broken lines and stripes of straight lines.例文帳に追加

また、基板上に感光性ペーストを塗布し、フォトマスクを介して露光する工程を含むプラズマディスプレイ用部材の製造方法であって、フォトマスクが、破線状のストライプのパターンまたは破線状のストライプと直線状のストライプの組み合わせからなるパターンを有することを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法。 - 特許庁

A process for manufacturing shaped containers includes: providing a container stock having a first diameter; expanding at least a portion of the container stock to a second diameter with at least one expansion die 5; and forming an end of the container stock to accept a container lid.例文帳に追加

成形された容器を製造するプロセスは、第１の直径を有する容器ストックを準備すること、少なくとも１つの拡張用ダイ5を用いて、容器ストックの少なくとも一部を第２の直径に拡大すること、容器蓋を受け入れることができるように容器ストックの端部を形成することを含んでいる。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of a quartz glass crucible for silicon single crystal pulling, which enables prevention of localized concentration of electrode arc heating of raw material quartz glass in a frame mold, thereby preventing deposition of evaporated matter from the raw material quartz glass on the electrode, etc., and accordingly prevention of falling of the deposited matter afterward, to inhibit reduction in purity of a quartz glass crucible manufactured.例文帳に追加

この発明は、石英ガラスルツボの製造において、電極アークの加熱が型枠内の原料石英ガラスの局所に集中しないようにし、これによって石英ガラスからの蒸発物質が電極などに付着して、その後これらが落下して石英ガラスルツボの純度を低下しないようにしたものである。 - 特許庁

In the method for manufacturing the release film including a process in which after a release agent liquid is applied onto at least one surface of a continuously carried polyester film, the film is dried and then is wound up in a roll shape, before winding up the dried film in the roll shape after drying the film, the release agent liquid applied surface of the polyester film is cleaned.例文帳に追加

連続的に搬送されるポリエステルフィルムの少なくとも片面に剥離剤液を塗布した後、乾燥させ、ロール状に巻き取る工程を含む剥離フィルムの製造方法において、前記乾燥後、前記ロール状の巻き取り前に、前記ポリエステルフィルムの剥離剤液塗布面をクリーニングする。 - 特許庁

To provide a carbon-steel pipe by which a carbon-steel pipe reduced in the elusion of metallic structure and excellent in corrosion resistance can be obtained and the carbon-steel pipe can be manufactured by a simple treatment process and further the amount of corrosion products generated can be effectively reduced, to provide its manufacturing method and also to provide a method for reducing corrosion of the carbon-steel pipe.例文帳に追加

金属組織の溶出が少なく耐食性に優れた炭素鋼配管が得られ、その炭素鋼配管を簡易な処理工程により製造でき、さらに腐食生成物の発生量を効果的に低減できる炭素鋼配管、その製造方法および炭素鋼配管の腐食低減方法を提供する。 - 特許庁

To improve power generation performance of a fuel cell by making it a purpose to provide a manufacturing method of a metal separator for the fuel cell in which distortions caused by rolling-out of a metal plate are enabled to be corrected by means of a simple post-process after uneven-shaped gas flow-paths are press-molded to a metallic thin plate.例文帳に追加

金属製の薄板に凹凸形状のガス流路をプレス成形した後、簡単な後工程をもって、金属板の圧延によって生じた歪みを是正し得る燃料電池用金属セパレータの製造方法を提供することを課題とし、もって燃料電池の発電性能を向上させることを目的とする。 - 特許庁

It is probable that the HCB residual rate is determined by the manufacturing process and the residual rate can be expected to vary significantly according to differences in processes. But the analytical results of companies that use organic solvents indicate that HCB residual rates, while showing minor differences, stayed within a range of several percentage points. 例文帳に追加

理論的にはＨＣＢの残存率は製造プロセスにより決まり、プロセスの違いに応じて大きな幅を持つものと予想されるが、有機系の溶媒を用いた社の結果によれば、ソルベントレッド１３５におけるＨＣＢの残存率は若干の差は見られるもののいずれも数％の範囲内にあった。 - 経済産業省

When an n^+-GaN layer 6 is selectively etched with respect to an n^+-AlGaN layer 5 in the manufacturing process of the GaN semiconductor device, dry etching is performed with gas plasma whose concentration of gas including Cl atom is set to be 60 to 90% by using gas including the Cl atom and gas including a F atom.例文帳に追加

ＧａＮ系半導体デバイスの製造工程において、ｎ^+ −ＧａＮ層６をｎ^+ −ＡｌＧａＮ層５に対して選択的にエッチングを行う際に、Ｃｌ原子を含むガスとＦ原子を含むガスを用い、そのＣｌ原子を含むガスの濃度を６０〜９０％としたガスプラズマにてドライエッチングを行う。 - 特許庁

In effect loans made by financial institutions have been on a recovering trend since 2000. Although the growth in the balance of loans to small and medium-sized enterprises is greater than the growth in the balance of loans to large enterprises, loans to the manufacturing sector to be used as equipment capital have been slow to recover. It can be said that Indonesia is still in the process of trying to recover from the credit crunch that resulted from the Asian crisis.例文帳に追加

このように、金融機関の融資は2000年頃から回復傾向にあり、中小企業への融資残高の伸びは大企業の伸びを上回っているが、製造業の設備資金への融資の回復は遅れており、アジア危機による信用収縮からの回復は、いまだ途上にあると言える。 - 経済産業省

To provide an analysis method and collector for examining a contaminant in an atmosphere extremely near a photomask under an actually exposed environment by a semiconductor exposure device, so as not only to examine the contaminant in the atmospheric environment in a manufacturing process of a semiconductor element but also to examine a product by a photochemical reaction.例文帳に追加

半導体素子の製造工程における雰囲気の環境の汚染物質を調べるだけではなく、光化学反応による生成物を調べるために、実際に半導体露光装置で暴露されている環境下でフォトマスクのごく近傍の雰囲気の汚染物質を調べる分析方法及び捕集器を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the ferroelectric substance membrane includes a step for charging a particle of the ferroelectric substance material; a step for electrodepositing the charged particle on a first electrode 40 by a migration electrodeposition process to form the ferroelectric substance material membrane 50; and a step for heating/treating the ferroelectric substance material membrane 50.例文帳に追加

本発明にかかる強誘電体膜の製造方法は、強誘電体原料の粒子を帯電させる工程と、帯電させた粒子を、泳動電着法により第１電極４０に電着させて強誘電体材料膜５０を形成する工程と、強誘電体材料膜５０を、熱処理する工程と、を含む。 - 特許庁

In the method of manufacturing the optical master disk for forming projecting and recessed patterns by developing an exposed photoresist, the photoresist layer is irradiated with the second harmonic of solid laser as reference beam in the development and the developing process is finished based on the level of a diffracted light in the projecting and recessed pattern.例文帳に追加

露光されたフォトレジスト層を現像し凹凸パターンを形成する光ディスク原盤の製造方法において、上記現像の際にフォトレジスト層に対して固体レーザの第２高調波を参照光として照射し、上記凹凸パターンにおける回折光のレベルに基づいて現像工程を終了させる。 - 特許庁

The method for manufacturing toner is characterized in that: a master batch used is obtained by kneading a colorant and at least unnecessary toner particles B in a coarse fraction rejected in a classification process when toner particles are manufactured in another lot; and unnecessary toner particles C in a fine fraction rejected in a classification process when toner particles are manufactured in another lot are mixed into an aqueous medium.例文帳に追加

マスターバッチが、少なくとも別ロットでトナー粒子を製造した際に分級工程により取り除かれた粗粉側の不要トナー粒子Ｂと着色剤とを混練することにより得られるマスターバッチを使用し、水系媒体中に、別ロットでトナー粒子を製造した際に分級工程により取り除かれた微粉側の不要トナー粒子Ｃを混合させることを特徴とするトナーの製造方法、トナー、及びトナーを用いた現像剤、画像形成装置、プロセスカートリッジを提供することができる。 - 特許庁

The manufacturing method of a plasma display panel having a glass substrate 2 and a dielectric layer formed on the glass substrate 2 comprises a process for forming the dielectric precursor layer 1 containing glass frit and an organic resin binder on the glass substrate 2 (i); and a process for applying 300 MHz-300 GHz microwaves to the dielectric precursor layer formed on the glass substrate (ii) for generating a dielectric layer from the dielectric precursor layer.例文帳に追加

ガラス基板２と、該ガラス基板２上に配設された誘電体層とを備えるプラズマディスプレイパネルの製造方法において、（ｉ）前記ガラス基板２上にガラスフリット及び有機樹脂バインダーを含む誘電体前駆層１を形成する工程と、（ｉｉ）前記ガラス基板上に形成された前記誘電体前駆層に300MHz〜300GHzのマイクロ波を照射して、該誘電体前駆層から誘電体層を生成させる工程とを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。 - 特許庁

The method of manufacturing the organic semiconductor device 1 having a gate insulating film 14 and the organic semiconductor film 20 with unbipolar characteristics includes a semiconductor film formation process for forming an organic semiconductor film 20 using pentacene in vacuum or a reduced atmosphere, where the organic semiconductor device 1 is maintained in vacuum or a reduced atmosphere after the semiconductor film formation process.例文帳に追加

本発明は、ゲート絶縁膜（１４）と、アンバイポーラ特性を有する有機半導体膜（２０）とを備える有機半導体装置（１）の製造方法であって、真空中または還元雰囲気中で、ペンタセンを用いて有機半導体膜（２０）を形成する半導体膜形成工程を含み、前記半導体膜形成工程以降、有機半導体装置（１）を真空中または還元雰囲気中に維持することを特徴とする、有機半導体装置の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

The manufacturing method of color filter comprises a photosensitive resin layer formation process of forming a photosensitive resin layer made of a photosensitive resin on a substrate; and a uniformizing function member formation process of exposing and developing a photosensitive resin layer, by using the gradation mask provided with a translucent film, having prescribed transmittance characteristics and forming at least two kinds of the uniformizing function members made of the photosensitive resin whose heights are adjusted.例文帳に追加

本発明は、基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、上記感光性樹脂層を、所定の透過率特性を有する半透明膜を備える階調マスクを用いて露光し、現像して、感光性樹脂からなる高さの調整された２種以上の同一機能部材を形成する同一機能部材形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 - 特許庁