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first-layerの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 24476



例文

In a manufacturing process of the polarized light separation device, first, a glass block is formed by alternately laminating a sheet glass having a polarized light separation film constituted of an inorganic multi-layer film on its surface and a sheet glass having a reflection surface on its surface together, and the glass block is cut along a cutting surface oblique to the stuck surface.例文帳に追加

偏光分離装置の製造工程では、まず、無機物質からなる多層膜で構成された偏光分離膜を表面に有する板ガラスと、反射面を表面に有する板ガラスを交互に貼り合わせたガラスブロックを形成し、その貼り合わせ面に対して斜めの切断面に沿ってガラスブロックを切断する。 - 特許庁

The tunnel magnetoresistive element comprises a first ferromagnetic body, a second ferromagnetic body, and an insulator sandwiched between these ferromagnetic bodies wherein at least one ferromagnetic body has a single crystal of full Heusler alloy grown epitaxially on the (100) face of a base material and a thin Mg layer is provided between the full Heusler alloy and the insulator.例文帳に追加

第1の強磁性体と、第2の強磁性体と、これら強磁性体間に挟まれて存在する絶縁体とを具え、強磁性体の少なくとも一方は、基材上に(100)面にエピタキシャル成長したフルホイスラー合金の単結晶を有し、フルホイスラー合金と絶縁体との間に薄いMg層を具えている。 - 特許庁

When a light beam with wavelength of λ1 from a blue-violet laser LD1 enters an objective lens OBJ, it passes through a first optical path difference giving structure at a central area and a second optical path difference giving structure at a surrounding area to correct spherical aberration to record and/or reproduce information on an HD with protective layer thickness of t1.例文帳に追加

青紫色レーザLD1からの波長λ1の光束が対物レンズOBJに入射したときに、中央領域の第1光路差付与構造と周辺領域の第2光路差付与構造を通過する事で球面収差は補正され、保護層厚さt1のHDに対して情報の記録、再生を行える。 - 特許庁

The method of manufacturing the liquid crystal device including a first substrate having a pixel electrode 9 and a shielding film 13, a second substrate arranged to face it, and a liquid crystal layer interposed between the substrates, defines a position corresponding to the pixel electrode 9 as a display region P, and defines a region between the display regions P as a non-display region BM.例文帳に追加

画素電極9と遮光膜13を備えた第1基板と、これに対向配置される第2基板と、これら基板間に挟持された液晶層とを備え、画素電極9に対応する位置が表示領域Pとされ、この表示領域P間が非表示領域BMとされる液晶装置の製造方法である。 - 特許庁

例文

The first layer of the pad has a polishing surface 20 and a backing surface, is formed from a fibriform or fiber component 14 existing in mixture in a polymer matrix component 16, and equipped with fibers to give a void structure to the polishing surface upon dissolution of the fibriform or fiber component in the slurry.例文帳に追加

この研磨パッドは,研磨面20とバッキング面とを有する第1の層で,ポリマーマトリックスコンポーネント16に混在する繊維質又は繊維コンポーネント14から形成され,前記繊維質又は繊維コンポーネントが前記スラリーに溶解して,前記研磨面にボイド構造を付与する繊維を備える前記第1の層を有している。 - 特許庁


例文

The semiconductor heterostructure comprises a support substrate with a first in-plane lattice parameter, a buffer structure formed on the support substrate and having on top in a lattice relaxed state a second in-plane lattice parameter, and a multi-layer stack of ungraded layers formed on the buffer structure.例文帳に追加

本発明は、第1の面内格子定数をもつ支持基板と、該支持基板上に形成されていて、上部に格子緩和状態おいて第2の面内格子定数をもつ緩衝構造と、および該緩衝構造上に形成された組成非傾斜層の多層積層とを備えた半導体ヘテロ構造に関するものである。 - 特許庁

There is also provided a method for forming a fine pattern according to the present invention comprising the steps of: forming a first protruding pattern on a film to be processed; forming a spacer formed from the resin composition at a sidewall of a protruding part of the protruding pattern; and forming a fine pattern by using the spacer or a resin layer disposed around the spacer as a mask.例文帳に追加

また、本発明により微細パターンの形成方法は、被加工膜上に、第一の凸パターンを形成させ、その凸パターンの凸部側壁に前記樹脂組成物から形成されたスペーサーを形成させて、そのスペーサー、またはスペーサーの周りに配置された樹脂層をマスクとして微細パターンを形成させるものである。 - 特許庁

The noncombustible base material is characterized in that an expanded graphite sheet is laminated on at least one face of the base material for the decorative plate through a first adhesive layer and that the expanded graphite sheet has a thickness of 0.1-1.0 mm and a density of 0.96-1.60 g/cm^3.例文帳に追加

化粧板用基材の少なくとも一方の面に第1接着剤層を介して膨張黒鉛シートを積層したことを特徴とする不燃性基材であり、前記膨張黒鉛シートは厚さが0.1〜1.0mmであって、密度が0.96〜1.60g/cm^3であることを特徴とする不燃性基材。 - 特許庁

An AC/DC converter 14a makes the electric double-layer capacitor 14b accumulate electric energy during a period when the X-ray irradiation is not carried out, and generates a second DC voltage, during a period when the X-ray irradiation is carried out, so as to be able to obtain the first DC voltage by composition with the third DC voltage.例文帳に追加

AC/DCコンバータ14aは、X線照射を行わない期間には電気二重層キャパシタ14bに電気エネルギを蓄積させ、X線照射を行う期間には第3の直流電圧との合成により第1の直流電圧が得られるように第2の直流電圧を生成する。 - 特許庁

例文

In this average specific filtration resistance calculator 1 for a solid particle layer acquired by filtering slurry at an arbitrary ΔP, input data (t, α_pt) from an input means 2 are fitted to an equation, α_pt=Aln(t)+B, by a first fitting means 4 to determine parameters A and B of each compression pressure P_s.例文帳に追加

スラリーを任意のΔPにて濾過して得られる固体粒子層の平均濾過比抵抗算出装置1において、入力手段2からの入力データ(t,α_pt)を、第1フィッティング手段4にて、式α_pt=A・ln(t)+Bにフィッティングして、各圧縮圧力P_sのパラメータA、Bを決定する。 - 特許庁

例文

The resistor 4 comprises a layered body of a metal film 13, which is formed of the same layer as the source wiring line 2 and the short ring line 3 and integrally formed with the short ring line 3, a second semiconductor film 12 formed just below the metal film 13, and a first semiconductor film 11 formed just below the film 12.例文帳に追加

抵抗体4は、ソース配線2及びショートリング配線3と同一の層からなり、ショートリング配線3と一体的に形成されたメタル膜13と、メタル膜13の直下に形成された第2半導体膜12と、その直下に形成された第1半導体膜11の積層体からなる。 - 特許庁

When any request relating to a second mobility management process and issued by an upper layer is received after the request relating to the first procedure is transmitted and before the acceptance message is received, a maintaining request to maintain the connection is transmitted to the node in response to the acceptance message.例文帳に追加

第1の処理に関する要求が送信された後であって承認メッセージが受信される前に、第2の移動管理処理に関する上位のレイヤーによって発行された何らかの要求が受信された場合、承認メッセージに対する応答として、接続を維持する維持要求がノードへ送信される。 - 特許庁

Provided are a photoresist composition that comprises: (A) a first polymer comprising units of the following formulas (I), (II) and (III); (B) a second polymer that is (meta)acrylic acid C3-C7 alkyl homopolymer or copolymer; and (C) a photoacid generator, and a method of forming photolithographic patterns by unexposed regions of the photoresist layer being removed by the developer.例文帳に追加

(A)式(I)、(II)および(III):の単位を含む第1のポリマー;(B)(メタ)アクリル酸C3〜C7アルキルホモポリマーもしくはコポリマーである第2のポリマー;並びに(B)光酸発生剤;を含むフォトレジスト組成物、及びフォトレジスト層の未露光領域が現像剤によって除去されて、フォトリソグラフィパターンを形成する方法。 - 特許庁

The light deflection element 28 includes a second light deflection element for complementing a part to be a dark part in a first light deflection element, is arranged toward a light source 41 side of a display 70 and ejects uniform diffusion light from the light diffusion layer 24 after deflecting incident light H from an incident surface of the light deflection element 28.例文帳に追加

光偏向素子28は、第1の光偏向素子で、暗部となる箇所を補完するような第2の光偏向素子を有しており、表示装置70の光源41側に向けて配置され、光偏向素子28の入射面から入射した光Hを偏向して、光拡散層24から均一な拡散光を射出する。 - 特許庁

In a photocatalytic hydrophilic film suitable for an anti-fogging film for making the surface of a transparent base material such as a mirror, a lens or glass highly hydrophilic and preventing the formation of fog or waterdrops, a first substrate layer 4 is formed from a film excellent in flexibility such as an acrylic resin film comprising polymethyl methacrylate or the like.例文帳に追加

一方、該樹脂フィルムは、曲面上に貼り付ける場面も想定されるため、可撓性のよい素材を選択することが好ましいが、そのような可撓性の良い素材は概して熱変形温度が低く、前記乾燥工程において変形が生じ易く、それを防止するために特別の配慮が必要であった。 - 特許庁

The method also includes removing a second region E2 by machining previously before shaping the three-dimensional structure, which corresponds to a region that is scheduled to be subjected to a predetermined machining step after the three-dimensionally structure has been shaped, out of the first region E1 that corresponds to the hardened layer of the plate 3 for shaping, which will be hardened in the irradiation step.例文帳に追加

そして、照射工程の実施によって硬化されるであろう造形用プレート3の硬化層に相当する第1の領域E1のうち、三次元形状造形後に所定の機械加工が予定されている領域に相当する第2の領域E2を、三次元形状造形前に予め除去加工する。 - 特許庁

The exposure apparatus for transferring different types of exposure patterns on a processed substrate having a photosensitive layer formed thereon includes at least a first substrate conveying means, a second substrate conveying means, a substrate receiving stage, an aligning means, an exposure section, a substrate carrying-out section, and a control means, wherein the exposure section comprises a plurality of exposure units.例文帳に追加

感光層が形成された処理基板に異種パターンを露光する露光装置であって、少なくとも第1の基板搬送手段と、第2の基板搬送手段と、基板受け取りステージと、アライメント手段と、露光部と、基板搬出部と、制御手段と、を具備しており、該露光部が複数の露光ユニットからなる。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor film includes applying a solution containing semiconductor particles and a binder onto a first conductive substrate, drying the application liquid, and then warming it in a range of 130-300°C; while by giving a pressure of 20-40 MPa thereto, a semiconductor layer is formed.例文帳に追加

第1の導電性基材上に、半導体微粒子とバインダーとを含む溶液を塗布し、該塗布液を乾燥させた後、20〜40MPaの圧力を加え、該圧力と並行して130〜300℃の範囲内で加温することにより、半導体層を形成することを特徴とする半導体膜の製造方法。 - 特許庁

On the silicon substrate 1, while an accumulation layer 11 of the first conductivity type containing impurity concentration higher than the silicon substrate 1 is formed on the side of second principal plane 1b, irregular unevenness 10 is formed on a domain facing at least to a semiconductor domain 3 on the second principal plane 1b.例文帳に追加

シリコン基板1には、第2主面1b側にシリコン基板1よりも高い不純物濃度を有する第1導電型のアキュムレーション層11が形成されていると共に、第2主面1bにおける少なくとも半導体領域3に対向する領域に不規則な凹凸10が形成されている。 - 特許庁

By using a photomask or a reticle installed with an auxiliary pattern with a function of light intensity reduction, which consists of diffraction grating pattern or semi-translucent film, a barrier rib having portions with different heights is formed on pixel electrodes (also called first electrodes) in a display region and around a pixel electrode layer.例文帳に追加

回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることにより、工程を増やすことなく、表示領域における画素電極(第1の電極とも呼ぶ)上、及び画素電極層周辺に膜厚が異なる部分を有する隔壁を形成する。 - 特許庁

This cooling method is accomplished by a first cooling process of cooling the steam turbine until the steam turbine temperature reaches a designated temperature after the stop of the steam turbine and a second cooling process of removing a second thermal insulation layer 14 and further cooling the steam turbine when the steam turbine temperature becomes a designated value or lower.例文帳に追加

蒸気タービン停止後、蒸気タービン温度が所定温度になるまで該蒸気タービンの冷却を行う第1の冷却工程と、前記蒸気タービン温度が所定値以下になった時に、第2の保温層14を取り外して更に前記蒸気タービンの冷却を行う第2の冷却工程とによって達成される。 - 特許庁

Each heating/cooling body 8 has a hollow case 15 with an internal space as a first passage 16 wherein a heating fluid and a cooling fluid flow, and a catalyst layer 19 held on the internal surface of the hollow case 15 to accelerate a combustion reaction between combustion hydrogen of the heating fluid and oxygen.例文帳に追加

各加熱−冷却体8は,内部空間を加熱用流体および冷却用流体を流通させる第1通路16とした中空ケース15と,その中空ケース15内面に保持されて,加熱用流体としての燃焼用水素と酸素との燃焼反応を促進する触媒層19とを有する。 - 特許庁

The recording material has a substrate and a negative working radiation sensitive layer containing a diazonium salt, a film forming first polymer and an organic pigment, a polymeric dispersant has been adsorbed on the surface of the pigment and this pigment has been dispersed in a second polymeric binder.例文帳に追加

基質と、ジアゾニウム塩、フィルム−形成性で第一の重合体および有機顔料を含有するネガ−作用性の感放射線層とを有し、その顔料表面上には重合体状分散剤が吸着されておりそしてこの顔料は第二の重合体状結合剤の中にさらに分散されている記録材料に関する。 - 特許庁

The method for growth of the group III nitride compound semiconductor layer using a nitrogen source in the state of radicals, plasmas, or atoms includes a first step for alternately repeating a process to supply only the dopant element, and a process to simultaneously supply a compound including the group III element and a nitrogen raw material.例文帳に追加

ドーパント元素のみを供給するプロセスと、III族元素を含む化合物と窒素原料を同時に供給するプロセスを交互に繰り返すことからなる第一の工程を含む、ラジカル化、プラズマ化または原子化された窒素源を用いたIII族窒化物化合物半導体層の成長方法。 - 特許庁

With the flat HS bus arranged and formed in a requested pattern and with a nickel metal forming a first electric wiring coated with polyimide from inside and outside, a second electric wiring of a nickel metal is formed on a prescribed part of the polyimide coating, and is coated with polyimide to make up a layer structure.例文帳に追加

所望の模様に配置形成され、第1電路を形成するニッケル金属を表裏からポリイミド被覆した平たいHSバスにおいて、ポリイミド被覆の所定の上にニッケル金属の第2電路を形成し該第2電路をポリイミド被覆して層構造にしてなることを特徴とするHSバス構造。 - 特許庁

Then, the said SAW filter 6 has an opening on the surface of the said laminate substrate 1, and is housed in a cavity part 5 having the base positioned lower than the dielectric layer 1b, with which the said first and second band-shaped internal electrodes 2 and 3 are parallel arranged, and sealed with a metallic lid 7.例文帳に追加

そして、前記弾性表面波フィルタ6は、前記積層体基板1表面に開口を有し、且つその底面が前記第1及び第2の帯状内部電極2、3を並設配置した誘電体層1b間よりも下層に位置するキャビティー部5内に収容し、金属製蓋体7により密閉している。 - 特許庁

A TFT substrate has a drive line formed in the frame part on a first planar member and connected to a TFT, an insulating film on the drive line, a conductive film consisting of the same material as the pixel electrode on the insulating film, and a perpendicular alignment layer formed on the conductive film.例文帳に追加

TFT基板は、第1の板状部材上の額縁部に形成されたTFTに接続された駆動配線と、前記駆動配線上の絶縁膜と、前記絶縁膜状の画素電極と同じ材質で形成された導電膜と、前記導電膜上に形成された垂直配向膜とを有する。 - 特許庁

The liquid crystal display is equipped with a first transparent substrate 110, a second transparent substrate 111, and an isotropic liquid crystal layer 200 held between the substrates, the second transparent substrate 111 having pixel electrodes 190 and common electrodes 130, 170 and one pixel having a reflective region RA and a transmissive region TA.例文帳に追加

第1の透明基板110と第2の透明基板111と、これらの基板間に挟持された等方性液晶層200を備え、第2の透明基板111には、画素電極190と共通電極130,170とを有し、1つの画素内に反射領域RAと透過領域TAとを備える。 - 特許庁

To provide a photo-crosslinkable resin composition for fabricating a perforated substrate with resin attached thereto, to which a problem of a pinhole on a first resin layer does not occur, as a material which is suitable in a circuit board manufacturing method adapted to landless holes and narrow land widths required for heightening density of the circuit board.例文帳に追加

回路基板の高密度化のために要求されているランドレスや狭小ランド幅の孔に対応した回路基板の製造方法に好適な材料として、第一樹脂層上のピンホールの問題が発生しない樹脂付開口基板作製用の光架橋性樹脂組成物を提供することを課題とする。 - 特許庁

The memory cell includes a first transistor and a second transistor for holding charges accumulated in a capacitor, and the second transistor includes a channel formed using an oxide semiconductor layer.例文帳に追加

ビット線と、m(mは3以上の自然数)本のワード線と、ソース線と、m本の信号線と、第1乃至mのメモリセルと、駆動回路と、を有する半導体装置において、メモリセルは、第1のトランジスタ、容量素子に蓄積された電荷を保持する第2のトランジスタを含み、第2のトランジスタは酸化物半導体層で形成されるチャネルを有する。 - 特許庁

A front curtain arm 16 axially supports light shielding blades 11 to 14 turnably through coupling pins 17a to 17d, and a first substrate 30 having an opening 30a is arranged in parallel with and adjacently to a turning locus plane of the front curtain arm 16 and has a nickel plated layer in an area A with which coupling pins come into contact.例文帳に追加

先幕アーム16は、遮光羽根11〜14を連結ピン17a〜17dを介して回動可能に軸支し、開口30aを有する第1基板30は、先幕アーム16の回動軌跡面に平行且つ隣接して配置され、連結ピンが接触する領域Aにニッケルメッキ層を有する。 - 特許庁

Retention time and high pressure are adequate for plastically deforming all the LCP dielectric materials in the page, and laminating each of the pair of adjacent sub-structures without using an extrinsic adhesive layer which is arranged between the first and second sub-structures of each of the pair of adjacent sub-structures.例文帳に追加

保持時間および高圧は、ページ中のすべてのLCP誘電体材料を塑性変形させ、1対の隣接する副構造のそれぞれの第1および第2副構造の間に配設される外因性接着層を用いずに1対の隣接する副構造をそれぞれ積層するのに十分なものである。 - 特許庁

The inspection method of an organic EL element comprises a first step of measuring a light emitting layer-derived emission spectrum obtained by emitting an exciting light to a luminous area of the organic EL element; and a second step of detecting a latent non-lighting area of the organic EL element from the emission spectrum.例文帳に追加

有機EL素子の発光領域に励起光を照射することにより得られる発光層に由来する発光スペクトルを測定する第一のステップと、該発光スペクトルから該有機EL素子の潜在的非点灯領域を検出する第二のステップと、からなることを特徴とする、有機EL素子の検査方法。 - 特許庁

A first and a second silicide layer 31a and 31b are obtained by turning metal layers, which are deposited covering the parts of the source region 40 and the drain region 41 exposed by the contact holes 21a and 21b and the contact holes 21a and 21b, to silicide by the use of a silane gas or a mixed gas containing silane gas.例文帳に追加

第1及び第2のシリサイド層31a,31bは、コンタクトホール21a,21bにより露出されるソース領域40,ドレイン領域41の一部及びコンタクトホール21a,21bを覆うように設けられた金属層をシラン系ガス或いはシラン系ガスを含む混合ガスによりシリサイド化させてなる。 - 特許庁

The magnetic layer coating liquid is prepared by subjecting a ferromagnetic hexagonal ferrite powder with an average plate diameter of 10 to 50 nm to a dry comminution step, subjecting the ferromagnetic hexagonal ferrite powder to a first dispersion step together with a binder to prepare a dispersion liquid, and sequentially subjecting the dispersion liquid obtained to a second dispersion step and a filtering step.例文帳に追加

前記磁性層形成用塗布液を、平均板径10〜50nmの強磁性六方晶フェライトを乾式解砕工程に付し、得られた強磁性六方晶フェライトを前記結合剤とともに第一分散工程に付し、次いで得られた分散液を第二分散工程および濾過工程に順次付すことにより調製する。 - 特許庁

Information concerning to transmission of encoded data is transmitted/received between the transmitting side 100 and the receiving side via a second communication path (a back-channel dedicated to handshake between the transmitting side and the receiving side) 300 different from a communication path (first communication path) for transmitting encoding data (Sync Layer Packet).例文帳に追加

送信側100は、受信側との間で、符号化データ(Sync Layer Packet)の送信用の通信路(第1の通信路)とは異なる第2の通信路(送信側と受信側間のハンドシェイク専用のバックチャネル)300を介して、符号化データの伝送に関する情報を送受信する。 - 特許庁

A binding material of a superabrasive tool comprises a first binding material having a surface layer made of a nickel plating and a thickness of 7%-50% of average particle diameter of superabrasive, and a second binding material formed of a thermal spray metal existing inside thereof and having a thickness of 70%-1000% of average particle diameter of superabrasive.例文帳に追加

超砥粒工具の結合材は、表面層がニッケルめっきからなり、超砥粒平均粒径の7%〜50%の厚みを有する第1結合材と、その内側に存在する溶射金属からなり、超砥粒平均粒径の70%〜1000%の厚みを有する第2結合材とから構成する。 - 特許庁

In a first substrate 100, TFTs 110 (thin film transistors) provided by every pixel and a reflective layer 44 that is insulated from the TFTs 110 and reflects light to be made incident by transmitting a second transparent electrode from the side of a second substrate are formed in a reflection area of one pixel region on an insulation film covering the TFTs 110.例文帳に追加

第1基板100には、画素毎に設けられたTFT110と、TFT110を覆う絶縁膜上の1画素領域の反射領域に、TFT110と絶縁され、第2基板側から透明第2電極を透過して入射される光を反射する反射層44を形成する。 - 特許庁

This method comprises a block manufacturing process for manufacturing two solar cell blocks 6 each of which is constructed of a substrate 1 and a photoelectric conversion device 5 provided on one surface thereof by laminating and forming a first electrode 2, a photoelectric conversion layer 3 consisting of an organic semiconductor, and a second electrode 4 on the one surface of the substrate 1 in this order.例文帳に追加

基板1の片面に第一電極2、有機半導体にて構成される光電変換層3、第二電極4をこの順に積層成形することで基板1とその片面に設けられた光電変換素子5とで構成される二つの太陽電池ブロック6を作製するブロック作製工程を含む。 - 特許庁

The MOS power transistor is formed on the front surface of a heavily-doped substrate of the first conductivity-type and includes alternate drain and source arrays of a second conductivity-type separated by a channel, conductive fingers, covering source fingers and drain fingers and a second metal layer connecting all drain metal fingers and covering the entire source/drain structure.例文帳に追加

MOSパワートランジスタは第1導電型の重くドープした基板の前表面に形成され、チャネルにより分離される第2導電型のドレインとソースの交互配列と、ソース指とドレイン指を覆う導電指と、全てのドレイン金属指を接続し、ソース−ドレイン構造の全体をカバーする第2金属層とをふくむ。 - 特許庁

In the case where the objective lens 5 is set at the optimum set angle relative to a second optical disk 2, having a t_2-thickness transparent layer 4 smaller than the first optical disk 1, the tilt angle of the objective lens 5, is adjusted by the tilted lens actuator 6, on the basis of the detection result from the detector of an optical system 7.例文帳に追加

第1の光ディスク1よりも薄い厚さt_2の透明層4を有する第2の光ディスク2に対して対物レンズ5を最適設置角度を設定する場合、光学系7の検出器からの検出結果に基づきチルト付きレンズアクチェータ6が対物レンズ5の傾き角度を調整する。 - 特許庁

A lead main body 78 from the front side contact 72 to the transmission contact 32 corresponding to a transmission element 66 is arranged on a first wiring face 74 of the wire layer 52 and the lead main body 78 from the front side contact 72 to the reception contact 34 corresponding to a reception element 68 is arranged on a second wiring face 76.例文帳に追加

配線層52の第1配線面74上には、送波用素子66に対応する前方側コンタクト72から送波用コンタクト32までリード本体78が配設され、第2配線面76上には、受波用素子68に対応する前方側コンタクト72から受波用コンタクト34までリード本体78が配設されている。 - 特許庁

The old rubber measuring apparatus 1 includes an eddy current sensor 21 for measuring a first measurement distance D1 up to the outer peripheral surface Lc of the belt of a steel belt layer 31, and a laser displacement sensor which is fixed touching the sensor 21 and measures a second measurement distance D2 up to the outer peripheral surface of a buff tire 30.例文帳に追加

旧ゴムゲージ測定機1は、スチールベルト層31のベルト外周面Lcまでの第1測定距離D1を測定する渦電流センサー21と、渦電流センサー21に接して固定され、バフタイヤ30の外周面までの第2測定距離D2を測定するレーザー変位センサーとを備えている。 - 特許庁

A second wiring circuit board 2 comprises: a plurality of conductive patterns 2a formed in parallel on a base insulating layer 21 formed of, for example, polyimide; second connection terminals 2b which are each provided on the ends of the plurality of conductive patterns 2a; and a plurality of first dummy terminals 2c electrically independent from the conductive patterns 2a.例文帳に追加

第2の配線回路基板2は、例えばポリイミドからなるベース絶縁層21上に並列的に形成された複数の導体パターン2a、複数の導体パターン2aの端部上にそれぞれ設けられた第2の接続端子2bおよび導体パターン2aから電気的に独立した複数の第2のダミー端子2cを備える。 - 特許庁

The multilayered BSP removing method for removing multilayered bevel/backside polymer (BSP) with an inorganic or organic layer deposited on a bevel surface of a treatment substrate and a rear surface thereof includes a first step (step 2) of mechanically destroying multilayered BSP and a second step (step 3) of heating a residue of the multilayered BSP which is mechanically destroyed.例文帳に追加

被処理基板のベベル面、及び裏面に付着した無機層、及び有機層を含む多層ベベル/バックサイドポリマー(BSP)を除去するBSP除去方法であって、多層BSPを機械的に破壊する第1工程(ステップ2)と、機械的に破壊された多層BSPの残渣を加熱する第2工程(ステップ3)と、を具備する。 - 特許庁

The patterning step for applying an electron beam is provided with a correction step for changing a way of irradiation (irradiation quantity and position) of the electron beam in the respective areas where the structural body of a first wiring layer 1 forming a lower wiring structure exists, in consideration of the structural body on alignment in advance.例文帳に追加

電子線を照射するパターニング工程は、下層配線構造を形成する第一配線層1等の構造体の各々が露光に与える影響を予め考慮し、上記構造体の各々の存在領域それぞれについて、上記電子線の照射の仕方(照射量や照射位置等)を変える補正ステップを有する。 - 特許庁

This organic EL panel 11 is provided, on the glass substrate 12, with an organic EL element 16 having an organic EL layer 14 between a first electrode 13 and a second electrode 15, and is also provided with a protective film 17 made of an inorganic material and dividable by a scribing and breaking method so as to cover the organic EL element 16.例文帳に追加

有機ELパネル11は、ガラス基板12上に第1電極13と第2電極15との間に有機EL層14が設けられた有機EL素子16が設けられ、有機EL素子16を覆うようにスクライブ・アンド・ブレイク法により分断可能な無機材料製の保護膜17が設けられている。 - 特許庁

In an optical plate, its manufacturing method, a display device, and its manufacturing method, an optical plate is formed on the polarizing plate transmitting polarization among incident light, and includes a phase delay layer containing a first pattern providing 3 lambda/4 phase delay of the polarization and a second pattern providing λ/4 phase delay of the polarization.例文帳に追加

光学板及びその製造方法と表示装置及びその製造方法において、光学板は入射光のうち、偏光を透過させる偏光板上に形成され、偏光を3λ/4位相遅延させる第1パターン及び偏光をλ/4位相遅延させる第2パターンを含む位相遅延層を含む。 - 特許庁

By constructing a micro lens arrays 12 formed on one side of a first transparent substrate 11 made to be formed not only on a part corresponding to pixel electrodes 32 of the liquid crystal display device but also over the full surface of a common electrode substrate 19, the thickness of an adhesive layer 13 is made uniform over the full surface of the common electrode substrate 19.例文帳に追加

第1の透明基板11の片側に形成されるマイクロレンズアレイ12を液晶表示装置の画素電極32に対応する部分だけでなく、共通電極基板19の全面に形成するように構成することで、接着剤層13の厚みを共通電極基板19の全面にわたって均一にする。 - 特許庁

例文

In the epitaxial crystal growth layer 2, a part of a region where a gate electrode 7 is arranged, becomes a smooth first region where a bunching step is not formed on the surface, and the entire region where the gate electrode 7 is not arranged, becomes a second region where the bunching step is formed on the surface.例文帳に追加

エピタキシャル結晶成長層2において、ゲート電極7が配置されている領域の一部は、表面にバンチングステップが形成されない平滑な第1領域となっており、ゲート電極7が配置されていない領域の全部は、表面にバンチングステップが形成された第2領域となっている。 - 特許庁




  
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