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first-layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 24472件
The third dielectric part is configured to have a refractive index in a refractive index range, where the transmittance of the light-transmissive information recording layer is decreased from the maximum transmittance by 1% or less, when the first dielectric part has a certain refractive index of 2.4 or higher.例文帳に追加
また第3誘電体部は、第1誘電体部が2.4以上の或る屈折率とされた場合において、当該半透過情報記録層の透過率がその最大透過率から透過率低下が1%以内の範囲となる屈折率範囲の屈折率とされるようにする。 - 特許庁
A processing chamber (100) for performing atomic layer deposition (ALD), a substrate holder (120) provided within the process chamber, and a gas injection system (140) configured to supply a first process gas and a second process gas to the process chamber (100) are included in the subject apparatus.例文帳に追加
処理チャンバ(100)と、前記処理チャンバ内に設けられた基板ホルダ(120)と、前記処理チャンバ(100)に、第1のプロセスガス及び第2のプロセスガスを供給するように構成されたガス注入装置(140)とを含む、原子層堆積(ALD)を実行する処理システム(100)。 - 特許庁
In the PDP 10, a protective film 114 is formed of a first protective film region 114a and a second protective film region 114b, and both protective film regions 114a, 114b contact a dielectric layer 1134 and face a discharge space 13.例文帳に追加
PDP10では、保護膜114が第1の保護膜領域114aと第2の保護膜領域114bとから構成されており、両保護膜領域114a、114bは、ともに誘電体層1134に接し、且つ、ともに放電空間13を臨むように形成されている。 - 特許庁
The second layer ML2 contains 5 to 50 at.% of at least one kind in the first element group, contains 10 to 50 at.% of at least one kind in the second element group, and 30 to 70 at.% of oxygen.例文帳に追加
第2の層ML2は、第1の元素群の少なくとも1種類を5原子%以上50原子%以下含有し、第2の元素群の少なくとも1種類を10原子%以上50原子%以下含有し、酸素を30原子%以上70原子%以下含有する。 - 特許庁
The register group of the first layer is composed of an address register 311 for storing a physical address to a main storage device 15 (refer to Fig. 1) to be the transfer destination or transfer source, a count register 312 showing a transfer quantity and a flag register 313 for storing the control data of a transfer direction or the like.例文帳に追加
第1層目のレジスタ群は、転送先又は転送元となる主記憶装置15(図1参照)上の物理アドレスを格納するアドレスレジスタ311と転送量を示すカウントレジスタ312、転送方向等の制御データを格納するフラグレジスタ313からなる。 - 特許庁
The functional layer 12 includes two coil conductors 17 and 18 which are magnetically coupled with each other and are put one over the other in a lamination direction, and the shortest distance from the second ceramic base member 11b to the coil conductors 17 and 18 is shorter than that from the first ceramic base member 11a to the coil conductors 17 and 18.例文帳に追加
機能層12は、互いに磁気結合した積層方向に重なる2つのコイル導体17,18を含み、第2のセラミック基体11bからコイル導体17,18までの最短距離は、第1のセラミック基体11aからコイル導体17,18までの最短距離よりも短い。 - 特許庁
For a spool 33, having an arcuate profile in the winding widthwise direction of coil such that the central portion becomes convex, a winding material 21 is wound up to the center starting from one end side of the spool 33, and then it is wound from the other end side of the spool 33 toward the center, thus finishing winding of the first layer.例文帳に追加
コイル巻幅方向の形状が、その中央が凸となるような円弧状とされている巻枠33に対し、巻線材21を巻枠33の一端側より巻き始めて中央まで巻き進め、その後巻枠33の他端側より中央に向かって巻き進めて一層目を巻き終える。 - 特許庁
In such a constitution, the aspect ratio of the first insulating film 22 is reduced to make feasible formation of a sufficiently diffused layer on the sidewall part of a trench for setting a source line SL so that a continuos N+type source region 19 may be formed.例文帳に追加
こうして、第一の埋め込み素子分離絶縁膜22のアスペクト比を下げ、トレンチ溝の側壁部分に対しても十分に拡散層を形成できるようにすることで、ソース線SLとなる、連続したN^+ 型ソース領域19の形成を可能とする構成となっている。 - 特許庁
Moreover, the second substrate 2 has data electrodes 19 which are arranged so as to face the pixel electrodes 16 across the liquid crystal layer 3 and which extend in the second direction and second light shielding parts 18c each of which shields the gap of data electrodes 19a, 19b being adjacent with each other in the first direction.例文帳に追加
第2基板2は、液晶層3を介して画素電極16と対向するように配列された第2方向に延びるデータ電極19と、第1方向に沿って互いに隣接するデータ電極19a、19bの間隙を遮光する第2遮光部18cを有する。 - 特許庁
The first contact point 21, which is the contact point of the inside surface 140 fronted on the duct 15 in the buffer layer 16 and the laminating surface 111, is arranged to the region 3 between the mutual extension lines of a pair of the vertically provided surfaces 141 in the cross section crossing the axial direction of the gas sensor element 1 at a right angle.例文帳に追加
ガスセンサ素子1の軸方向に直交する断面において、緩衝層16におけるダクト15に面する内側面140と積層面111との接点である第一接点21は、一対の立設面141の延長線同士の間の領域3に配置されている。 - 特許庁
To provide an electric connector 1 wherein a solder paste and its oxidation impurity are hard to be adhered to a surface treatment layer of an electric contactor 30 and a poor contact is hard to be generated even if a contact (insertion and release) between an electric contact 12 of the first connector 10 and the electric contactor 30 of the second connector is repeated several thousand times.例文帳に追加
第1コネクタ10の電気接点12と第2コネクタの電気接触子30とが数千回の接触(挿抜)を繰り返しても、電気接触子30の表面処理層に半田及びその酸化不純物が付着し難く、かつ、接触不良が起こり難い電気コネクタ1を提供する。 - 特許庁
In a housing 11, a cylindrical portion 31 and a cylinder head portion 32 of a first housing structure 12 and a cylindrical portion 33 and a bottom 34 of a second housing structure 13 have a two-layer structure in which an outer enclosure 53, 54, 57, 58 made of iron is closely arranged on an outside of an outer enclosure 51, 52, 55, 56 made of aluminum.例文帳に追加
ハウジング11において、第1ハウジング構成体12の円筒部31及びシリンダヘッド部32、第2ハウジング構成体13の円筒部33及び底部34が、アルミニウム製外郭51,52,55,56の外側に鉄製外郭53,54,57,58が密着配置された二層構造を有している。 - 特許庁
In the method of manufacturing the laminated feedthrough capacitor 1, a precursor of a step absorption layer 13 for signal is formed on a precursor of a first inner electrode 11 for signal, and each precursor of step absorption layers 43 and 44 is formed on a precursor of a second inner electrode 41 for ground, respectively.例文帳に追加
積層貫通コンデンサ1の製造方法では、第1の信号用内部電極11の前駆体上に信号用段差吸収層13の前駆体を、第2の接地用内部電極41の前駆体上に段差吸収層43,44の各前駆体をそれぞれ形成する。 - 特許庁
In an imaging apparatus constituted by combining a light adjusting device where first and second substrates transparent substantially are oppositely arranged and a light adjusting layer where electrophoretic particles are arranged is provided in the gap between the substrates with an imaging device, the substrate has a lens effect by forming the concave and convex shape on the substrate.例文帳に追加
実質的に透明な第一、第二基板を対向配置させて、その間隙に電気泳動粒子を配置した光量調整層を有する光量調整素子と撮像素子を組み合わせた撮像装置に関して、前記基板に凹凸形状を形成し、レンズ効果を持たせる。 - 特許庁
The organic electric field luminous equipment which has 80% or more in an effective emission rate which is defined as a ratio of an actual light emitting area to a possible emission area which is specified by a first electrode, an insulated layer, and a second electrode.例文帳に追加
第一電極と絶縁層と第二電極とによって規定される発光可能領域の面積に対する、実際に発光する実発光領域の面積の比として定義される有効発光率が80%以上であることを特徴とする有機電界発光装置。 - 特許庁
With such a channelless structure in which the channel layer 19 is not formed in the first region 20 that is a channel portion where the emitter region 22 is formed, the width of a region through which carriers pass is widened and a channel resistance in a wall portion on a gate side is reduced.例文帳に追加
このように、エミッタ領域22が形成されたチャネル部である第1領域20にチャネル層19が形成されていないチャネルレス構造としたことで、第1領域20におけるキャリアの通過領域の幅が広がり、ゲート側壁部のチャネル抵抗が低減する。 - 特許庁
Then, the surface of the conductive reflective material 73a before flattening is polished by a CMP method to form a relay layer 92 in the first hole 92a and a conductive reflective film 73 in the concave 93a from the conductive reflective material 73a before flattening.例文帳に追加
次に、平坦化前の導電性反射材料73a上から平坦化前の導電性反射材料73aの表面をCMP法によって研磨することによって、第1穴部92aに中継層92を形成すると共に、凹部93aに導電性反射膜73を形成する。 - 特許庁
A pattern of a silicidation block layer is formed on a silicon substrate in which an active region and a field region are defined to cover the field region and a region that is partially extended out of the field region, thereby a first region that is a residual active-region is exposed.例文帳に追加
アクティブ領域及びフィールド領域が定義されたシリコン基板上にシリサイデーション阻止層パターンを形成して前記フィールド領域及び前記フィールド領域の外部へ一部拡張された領域をカバーし、残りのアクティブ領域である第1領域を露出させる。 - 特許庁
Thus, at first, between two lining sheets 16 and 13, these sheets are reversed and between two right sheets 11 and 14, these sheets are reversed, then a sewn product comprising three layer sheet structure in which front and rear parts are respectively composed of right sheet, inner stuffing sheet and lining sheet is formed.例文帳に追加
次いで、先ず2枚の裏地シート16,13の間でこれらのシートを反転させ、次に2枚の表地シート11,14の間でこれらのシートを反転させることにより、前後がそれぞれ表地シートと中綿シートと裏地シートとの3層シート構造からなる縫製品を形成する。 - 特許庁
An insulating base material is formed with a via hole, and the via hole is packed with coat conductive particles having core members made of second metal having a melting point which is higher than a heating temperature at the time of connecting layers and a surface layer made of metal having a conductor pattern and first metal for generating metallic diffusion.例文帳に追加
絶縁基材にビアホールを形成し、ビアホール内に層間接続時の加熱温度よりも高い融点を有する第2の金属からなる心材と、導体パターンを形成する金属と金属拡散を生じる第1の金属からなる表面層とを有するコート導電粒子を充填する。 - 特許庁
An element power source wiring 2a, connected with a circuit including a plurality of cells 1, an element ground wiring 2b, an integrated power source wiring 3a connected with the element power source wiring 2a, and an integrated ground wiring 3b connected with the element ground wiring 2b are arranged on a first wiring layer.例文帳に追加
複数のセル1を含む回路に接続される素子電源配線2aと、素子グランド配線2bと、素子電源配線2aに接続される集合電源配線3aと、素子グランド配線2bに接続される集合グランド配線3bとを第1の配線層に設ける。 - 特許庁
For instance, at the time of taking the first thickness d1 in the signal recording layer 12 as a coherent length Lc and the second thickness d2 as the double of the coherent length Lc, cumulative light intensity in higher harmonic light 44a becomes maximum and the cumulative light intensity in higher harmonic light 44b becomes minimum.例文帳に追加
例えば、信号記録層12における第1の厚さd1をコヒーレント長Lcとし、第2の厚さd2をコヒーレント長Lcの2倍とすると、高調波光44aにおける累積光強度は最大となり高調波光44bにおける累積光強度は最小となる。 - 特許庁
In case an anode active material layer 2 contains an anode active material having silicon as a structuring element, an anode collector 1 made of a belt-like metal foil includes a first thickness part P1 (thickness T1) and a second thickness part P2 (thickness T2) which is thinner than the P1.例文帳に追加
負極活物質層2がケイ素を構成元素として有する負極活物質を含有する場合に、帯状の金属箔からなる負極集電体1が第1の厚さ部分P1(厚さT1)とそれよりも薄い第2の厚さ部分P2(厚さT2)とを有している。 - 特許庁
Metallized patterns 15 for making melted excess solder escape are continuously connected with a solder sealing metallized pattern 14 which is formed on an upper aperture part of the ceramic package main body 1, and formed on four corners of the side surface of the ceramic package main body 1, in a range not reaching the ceramic substrate 11 of a first layer.例文帳に追加
溶融した余分な半田を逃がすためのメタライズパターン15は、セラミックパッケージ本体1の上部開口部に形成される半田封止用のメタライズパターン14と連接し、セラミックパッケージ本体1の側面4角に第一層のセラミック基板11に到達しない範囲で形成される。 - 特許庁
In an area where the second transparent conductive pattern 19 overlaps with the auxiliary capacitance line 12, contact holes 41 and 51 through which the pixel electrode 61 and the first transparent conductive pattern 39 are made conductive are provided and an island shape pattern 35 including a semiconductor layer is provided on the gate insulating film 15.例文帳に追加
第2透明導電パターン19が補助容量線12と重なる個所には、画素電極61と第1透明導電パターン39とを導通させるコンタクトホール41,51が設けられるとともに、ゲート絶縁膜15上に、半導体層を含む島状パターン35が設けられる。 - 特許庁
Thereby, in any combination, the number of times that the uppermost surface layer of the final fixation image is brought into contact with a heating roller 45i through the first fixing device 145 and a second fixing device 245 is unified to be one, so that glossiness of output images is uniformly reproduced.例文帳に追加
これにより、いずれの組み合わせにおいても、最終的な定着画像の最表層が第1の定着装置145及び第2の定着装置245を通じて加熱ローラ45iに接触する回数が1回に揃って、出力画像の光沢度が均一に再現される。 - 特許庁
In the etching method, a first step performing plasma etching of an article 12 arranged in a processing chamber 5 by supplying etching gas 1 into the processing chamber, and a second step for forming a passivation layer in the etching portion of the article by supplying passivation gas 2 into the processing chamber are repeated alternately.例文帳に追加
エッチング方法は、処理室5内にエッチングガス1を供給して該処理室内に配置された被処理物12のプラズマエッチングを行う第1の工程と、該処理室内にパッシベーションガス2を供給して被処理物のエッチング部にパッシベーション層を生成する第2の工程とを交互に繰り返す。 - 特許庁
Since the ILD 11 is protected by the etching stopper layer 15 even when the formed position of the first aluminum wiring 17 or a via hole (h) is somewhat deviated from the contact hole H, the over-etching of the ILD 11 can be prevented at the time of forming the via hole (h).例文帳に追加
コンタクトホールHに対して、第1アルミ配線17の形成位置やビアホールhの形成位置が多少ずれてしまった場合でも、ILD11はエッチングストップ層15によって保護されるので、ビアホールhの形成時にILD11に対するオーバエッチングを防止することができる。 - 特許庁
A first insulating film 16a composed of a silicon oxide film, a charge-capturing film 16b composed of a silicon nitride film, and a second insulating film 16c composed of a silicon oxide film are then sequentially formed on the p-type silicon semiconductor substrate 15 thus forming a gate insulating film 16 of three layer structure.例文帳に追加
このようなp型シリコン半導体基板15上に、シリコン酸化膜からなる第1絶縁膜16a、シリコン窒化膜からなる電荷捕獲膜16b、およびシリコン酸化膜からなる第2絶縁膜16cが順に積層された3層構造のゲート絶縁膜16が形成される。 - 特許庁
In the metal paste layer 117, a sneak build-up part 117m where a part protruded outside much more than a peripheral face of the brim-like part 1g sneaks to a first main surface side of the brim-like part 1g through the peripheral face is formed in an inplane direction of the second main surface of the brim-like part 1g.例文帳に追加
該金属ペースト層117は、鍔状部1gの第二主表面面内方向において、該鍔状部1gの周側面よりも外側にはみ出した部分が、該周側面を経て該鍔状部1gの第一主表面側に回り込む回り込み肉盛部117mを形成する。 - 特許庁
In this negative-ion building material 1, the surface layer part of the building material 2 is coated with a first resin wax 8 into which a minus ion generating substance 4 is mixed, and a second resin wax 9, which does not contain the substance 4, is applied onto the wax 8.例文帳に追加
建築材2の表層部に、マイナスイオン発生物質4を混入した第1樹脂系ワックス8が塗布されていると共に、第1樹脂系ワックス8上にマイナスイオン発生物質4を含有しない第2樹脂系ワックス9が塗布されているマイナスイオン建築材1である。 - 特許庁
A source electrode 32 and a drain electrode 31 of a power MOS transistor in a first region 11 of a stacked wiring 20 are each formed as a single electrode without using a plurality of minute via holes on wiring layers 23-25 upper than a second wiring layer 22 of the stacked wiring 20.例文帳に追加
積層配線20のうち第1領域11におけるパワーMOSトランジスタのソース電極32、ドレイン電極31を積層配線20の2層目の配線層22より上層の配線層23〜25において、複数の微細なビアホールを用いずに1つの電極としてそれぞれ形成する。 - 特許庁
In some embodiments, the reaction between V-group precursor and the substrate is reduced by starting with relatively lower molar ratio of V-group precursor to III-group precursor, and then reducing the ratio during the growth of the first layer or using a nitrogen gas as an ambient gas.例文帳に追加
幾つかの実施形態においては、III族前駆体に対するV族前駆体の低いモル比で開始し、次に、第1層の成長においてこの比を増加させ、又は窒素を雰囲気ガスとして用いることによりV族前駆体と基板との間の反応が減らされる。 - 特許庁
On the ceramic green sheet 1 for forming the inner layer, a first and a second internal electrode patterns 3a, 3b are printed alternately, and an internal electrode pattern for additional lamination and an internal electrode non-forming part 3c becoming a ceramic green sheet for adjusting lamination number of sheets are arranged further at prescribed positions.例文帳に追加
前記内層部を形成するセラミックグリーンシート1には、第1、第2の内部電極パターン3a,3bを交互に印刷し、さらに所定位置に追加積層用の内部電極パターンと積層枚数調整用セラミックグリーンシートとなる内部電極非形成部3cを設ける。 - 特許庁
The electro-optical device has a transistor (30) comprising a first semiconductor layer having a channel region (1a'), a data line side source drain region (1d) electrically connected to a data line (6a), and a pixel electrode side source drain region (1e) electrically connected to a pixel electrode (9a).例文帳に追加
電気光学装置は、チャネル領域(1a´)と、データ線(6a)に電気的に接続されたデータ線側ソースドレイン領域(1d)と、画素電極(9a)に電気的に接続された画素電極側ソースドレイン領域(1e)とを有する第1の半導体層を含むトランジスタ(30)を備える。 - 特許庁
The solar cell module includes: a filler disposed for sealing solar cell elements and the rear surface protection sheet 10 for the solar cells having the above described characteristics and fastened so that the first resin layer 11 is disposed on an outer surface of the filler on the rear surface side of the solar cell module.例文帳に追加
太陽電池モジュールは、太陽電池素子を封止するために配置された充填材と、太陽電池モジュールの裏面側の充電材の外表面の上に第1の樹脂層11が配置されるように固着された、上述の特徴を有する太陽電池用裏面保護シート10とを備える。 - 特許庁
To provide a pneumatic radial-ply tire capable of accomplishing good high-speed running durability on the basis of the thermal shrinkage of fiber threads in which attention is paid to the number of first twists, the number of final twists, and the twist coefficient of the final twists of those fiber threads (twin twisted thread) used in a belt reinforce layer as reinforcing cords.例文帳に追加
ベルト補強層に補強コードとして用いられる繊維糸(双糸)における下撚り数、上撚り数、上撚りの撚り係数に着目して、該繊維糸の熱収縮に基づいて良好な高速走行耐久性を実現できる空気入りラジアルタイヤを提供すること。 - 特許庁
The rubber for the first layer comprises hydrogen-added nitrile rubber and polymer alloy comprising zinc methacrylate finely dispersed in hydrogen-added nitrile rubber blended in a range of 95:5-60:40 by weight parts to form a mix, that is further blended with polytetrafluoroethylene, phenolic resin, titanium oxide, potassium titanate fibers, and solely, zinc methacrylate.例文帳に追加
第1層のゴムが、水素添加ニトリルゴムと、水素添加ニトリルゴムにメタクリル酸亜鉛を微分散させたポリマーアロイとを重量部95:5〜60:40の範囲で配合した混合物に、ポリテトラフルオロエチレン、フェノール樹脂、酸化チタン、チタン酸カリウム繊維及び単独でメタクリル酸亜鉛を配合したものである。 - 特許庁
A semiconductor device according to one embodiment includes: wiring 60 provided on a first interlayer dielectric film covering a semiconductor substrate 10; a cap layer 68 provided on an upper surface of the wiring 60; and a barrier film 62 provided between the wiring 60 and a second interlayer dielectric film.例文帳に追加
本実施形態の半導体装置は、半導体基板10を覆う第1の層間絶縁膜上に設けられる配線60と、配線60の上面上に設けられるキャップ層68と、配線60と第2の層間絶縁膜との間に設けられるバリア膜62と、を含む。 - 特許庁
At least a portion of the auger is rotated to transfer the particulate material from the first container along a feeding path 60 to the vaporization zone where at least a component portion of the particulate material is vaporized and delivered to the surface to form the layer.例文帳に追加
そのスクリュー構造の少なくとも一部を回転させて粒子状材料を第1の容器から供給路60に沿って気化ゾーンに移し、その気化ゾーンでその粒子状材料の少なくとも1つの成分を気化させて表面に供給することで層を形成する。 - 特許庁
It is thereby possible to make all the light among light emitted at the light emitting elements 15 radiated in the direction of the surface of the dial 7 incident into the dial 7 and prevent the light from leaking to the outside from the side surfaces of the outer circumferential end part of the dial 7 by the first reflecting layer 22.例文帳に追加
従って、発光素子15で発光した光のうち、文字板7の面方向に放射された全ての光を文字板7内に入射させることができると共に、第1反射層22によって文字板7の外周端部の側面から外部に光が漏れないようにすることができる。 - 特許庁
“Hello, I’m Tomoko Tina Kimura. Japan has technology to do away with CFCs, allowing us to protect the ozone layer and to prevent global warming at same time. Today, I’d like to learn about these counter measures and worldleading technologies with you. First, let’s meet our knowledgeable teacher! Professor!” 例文帳に追加
「はじめまして、木村倫子です。オゾン層保護と地球温暖化対策を両立させてきた“日本のフロン対策技術”。今回は、その対策と世界をリードする多くの技術についてみなさんと一緒に勉強したいと思います。それでは、私の頼もしい先生を紹介しましょう。先生~!」 - 経済産業省
The display apparatus includes a display element 128 which is held with at least an optical function layer between a first electrode 102 and a second electrode 108 disposed so as to intersect on a flexible substrate 100 of a rectangular shape and in which each intersection of the both electrodes forms a display pixel 120.例文帳に追加
矩形状の可撓性基板100上に交差するように配設された第一電極102、第二電極108の間に少なくとも光機能層が挟持され、両電極の交点が各々表示画素120を形成する表示部128を備えている。 - 特許庁
More specifically, at least one layer of copper or copper alloy is welded to the base material formed of tempered steel, and the first welding is performed while suppressing the increase of the temperature of the base material to be welded.例文帳に追加
具体的には、焼戻しされた鋼よりなる母材に、銅あるいは銅合金を1層以上溶接接合してなる複合材料の製造方法であって、1層目の溶接接合は、溶接中の母材温度の上昇を抑制しながら行なう高熱伝導性複合材料の製造方法である。 - 特許庁
The light-emitting device includes a layer of a polymer blend provided between the first and second electrodes, and phase separation of the polymers in the polymer blend is produced in at least a portion of the polymer blend, in order to control the propagation of light emitted by the light-emissive material in a predetermined direction.例文帳に追加
発光素子は、第1及び第2の電極の間に設けられたポリマー・ブレンドの層を含み、発光材料から放出された光の伝搬を所定の方向に制御するために、ポリマー・ブレンドの少なくとも一部においてポリマー・ブレンド中のポリマーの相分離が生じている。 - 特許庁
The first generation image print is obtained via a toner image holding process for holding a toner image formed by toner particles containing at least a resin on a toner holding material layer formed on an image supporting substrate and at least the toner particles or the image supporting substrate separated from the first generation image print via a separation process is used for forming the second generation image print.例文帳に追加
少なくとも樹脂が含有されてなるトナー粒子により形成されたトナー像を、画像支持基材上に形成されるトナー保持材層に保持させるトナー像保持処理工程を経ることによって第1代印画物を得、当該第1代印画物から分離処理を経ることにより分離されたトナー粒子および画像支持基材の少なくともいずれかを、第2代印画物の形成に供することを特徴とする。 - 特許庁
The liquid crystal display device includes: first and second substrates; and a liquid crystal layer filled between the first and second substrates.例文帳に追加
本発明は、第1及び第2基板と、第1と第2基板との間に充填された液晶層とから構成される液晶表示装置であり、第1基板は、基板の下部に形成され、外部光による光導電体の電気特性変化を通じて位置を感知するタッチ感知層と、タッチ感知層の下部に形成されるとともに光漏れを防止する遮光層と、遮光層との間において発色作用を生じさせるRGBカラーフィルタ層とを含む。 - 特許庁
By providing a first split wavelength plate 731 and a second split wavelength plate 741 before and after the focal point position of a condenser lens system to one recording layer of multilayer optical disk 501, an analyzer 730 between the second split wavelength plate and a sensor 52 and a non-polarization diffraction grating 732 near the analyzer and the first split wavelength plate, the influence of stray light from the other layers is reduced.例文帳に追加
多層光ディスク501の一つの記録層に対する集光レンズ系の焦点位置の前後に、第1の分割波長板731及び第2の分割波長板741を設け、第2の分割波長板と検出器52との間に検光子730を設け、検光子と第1の分割波長板の近傍に無偏光回折格子732を設置することで、他層からの迷光の影響を低減する。 - 特許庁
The manufacturing method comprises a step of applying SOG(spin-on glass) much containing hydrogen to form a layer insulation film filling gaps between gate electrodes, a step of firstly baking at a first temperature in nitrogen atmosphere, a step of forming contact holes, and a step of secondly baking at a second temperature higher than the first temperature in nitrogen atmosphere or dilute steam after forming the contact holes.例文帳に追加
ゲート電極間を埋め込む層間絶縁膜として、水素を多量に含むSOG(Spin-on Glass)を塗布する工程と、窒素雰囲気中で第1の温度にて第1の焼成を行う工程と、コンタクトホールを形成する工程と、該コンタクトホール形成後に、窒素雰囲気中もしくは希釈スチーム中で前記第1の温度よりも高温である第2の温度にて第2の焼成を行う工程と、を含む。 - 特許庁
The method of manufacturing the semiconductor device acquires focus values measured for regions having different reflectance respectively due to films formed at a lower layer than a resist 6 formed above a wafer 3, brings a focus value acquired at a second region 32 having a higher reflectance than that of a first region 31 closer to a focus value acquired at the first region 31 having a lower reflectance, and carries out exposure processing.例文帳に追加
半導体装置の製造方法は、ウエハ3上に形成されたレジスト6より下層に形成された膜によって反射率が異なる領域について測定されたフォーカス値を取得し、反射率が低い第1の領域31について得られたフォーカス値に、前記第1の領域31よりも反射率が高い第2の領域32について得られたフォーカス値を近づけて露光処理を行う。 - 特許庁
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