| 意味 | 例文 |
layer- thicknessの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 13314件
On the surface of a base material composed of metal or ceramic, an amorphous carbon film is formed by a cathode discharge type arc ion plating method using a carbon target and moreover, on the boundary between the carbon film and the base material, a mixed layer of 10 to 500 Å thickness composed of the base material constituting elements and film constituting elements is formed to obtain a high adhesion amorphous carbon film forming material.例文帳に追加
金属またはセラミックからなる基材の表面に、カーボンターゲットを用いてカソード放電型アークイオンプレーティング法により非晶質炭素膜を形成すると共に、該炭素皮膜と基材の界面に、これら基材構成元素と皮膜構成元素とからなる厚さ10〜500Åの混合層を形成し、高密着性非晶質炭素皮膜形成材を得る。 - 特許庁
In a manufacturing method of a capacitance type touch panel 7 with a transparent conductive layer 2 on at least one face of a transparent substrate 1, comprising a heating step in the manufacturing process, a laminate partially including a configuration that has a coat 12 containing polyamide-imide resin and with a thickness of 30-120 nm on the surface of a transparent plastic film 11 is used as the transparent substrate 1.例文帳に追加
製造工程に加熱工程を含んでなる、透明基板1の少なくとも片面に透明導電層2を有してなる静電容量式タッチパネル7の製造方法において、前記透明基板1として、透明プラスチックフィルム11の表面に、ポリアミドイミド樹脂を含有する厚みが30〜120nmの被膜12を有する構成を一部に含む積層体、を用いる。 - 特許庁
To provide ramming material for an induction furnace which is an induction furnace for melting cast steel/cast iron and is preventing refractory buckling in initial receiving of molten metal by securing strength in an initial sintering operation and being stably used by suppressing the over sintering in use to hardly cause crack and by securing the sufficient thickness of a non-sintered layer to prevent the risk of liquid leakage.例文帳に追加
鋳鋼・鋳鉄溶解用の誘導炉において、初期の焼結運転に際し強度を確保することにより初受湯の際に耐火物挫屈を防止し、使用中の過焼結を抑制して亀裂が発生し難く安定して使用でき、充分な厚みの未焼結層を確保して溶湯漏れの危険性が低く安定して使用できる誘導炉用ラミング材を提供する。 - 特許庁
A rubber sensing pressure layer 20 is formed swollen by a prescribed thickness by filling silicone rubber into a recessed part between a diaphragm and a casing opening formed so that the diaphragm of a piezoelectric microphone element 11 contained in a casing 12 is externally exposed, a microphone main body 10 is closely fixed to a medium such as a structure 1 of a measurement object and the sound pressure is measured in this state.例文帳に追加
ケーシング12内に収容された圧電型マイクエレメント11の振動板が外部に露出するように形成されたケーシング開口と振動板との間の凹所に、所定厚さだけ盛り上げてシリコーンゴムを充填したゴム感圧層20を形成し、マイクロホン10本体を測定対象の構造物1等の媒質に密着して固定し、この状態で音圧測定を行う。 - 特許庁
This self-compensating spiral for a mechanical spiral balance-wheel oscillator in watchwork or another precision instrument, made of a paramagnetic alloy, contains at least one of the elements Nb, V, Ta, Ti, Zr, Hf and is covered with a substantially uniform oxide layer having a thickness greater than or equal to 20 nm, formed by subjecting the spiral to an anodizing treatment.例文帳に追加
時計輪列または他の精密計器における機械的なスパイラル天輪ホイール振動器用の、常磁性合金から作られた自己補償型スパイラルは、Nb、V、Ta、Ti、Zr、Hfの元素の少なくとも1種を含有し、そして上記スパイラルに陽極酸化処理を施すことによって形成される20nm以上の厚みを有する実質的に均質な酸化物層で被覆される。 - 特許庁
To provide electrophotographic toner that possesses stable electrostatic charging property in an image forming method by electrophotography, in particular, in a single component developing method, that gives an appropriate and uniform toner layer thickness on a developing sleeve, that shows high image density and a long life property (that is, maintaining high image density through continuous printing of a large number of sheets) with a less consumed amount of the toner.例文帳に追加
本発明の課題は、電子写真法による画像形成方法、特に一成分現像方法において、安定した帯電性を有し、現像スリーブ上のトナー層厚が適切で均一であり、高画像濃度でロングライフ性を有し(多数枚連続プリントを通じて高画像濃度を維持すること)、かつ、トナー消費量が少ない電子写真用トナーを提供することにある。 - 特許庁
In the method for fabricating a semiconductor device where silicon insulation films having a different thickness are formed, respectively, in a specified region and other specified region on a substrate, HMDS coating and heating are performed prior to coating of a photoresist layer when photolithographic etching, i.e., boring of an opening 28W, is performed in the process for removing the specified region of a first silicon insulation film 28.例文帳に追加
基板上の特定領域と、他の所定領域において、相互に厚さを異にするシリコン絶縁膜が形成されて成る半導体装置の製造方法であって、第1のシリコン絶縁膜28の特定領域の除去工程におけるフォトリソグラフィによるエッチング、即ち開口28Wの穿設において、フォトレジスト層の塗布に先立って、HMDS被着と加熱を行うものである。 - 特許庁
The manufacturing method of the electrophotographic toner comprises: a process of supplying raw material toner prepared by externally adding inorganic material to colored fine particles containing a binder resin and a colorant to a photoreceptor drum which is charged and exposed with a regulated layer thickness and attaching the raw material toner to the surface of the photoreceptor drum; and a process of collecting the toner attached to the surface of the photoreceptor drum as a developing toner.例文帳に追加
結着樹脂及び着色剤を含有する着色微粒子に無機物を外添してなる原料トナーを、帯電され、露光された感光体ドラムに、規制された層厚で供給し、感光体ドラム表面に付着させる工程、及び前記感光体ドラム表面に付着したトナーを現像トナーとして回収する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁
To provide an optical recording material which maintains high recording sensitivity, a high dynamic range and high diffraction efficiency and can increase film thickness by controlling the lengths of side chain spacer groups; to provide an optical recording medium capable of large-volume recording by thickening a photosensitive layer without deteriorating recording properties; and to provide an optical recording and reproducing apparatus capable of recording and reproducing large-volume data.例文帳に追加
側鎖スペーサー基の長さの制御により、高い記録感度及びダイナミックレンジと高い回折効率とを維持し、かつ厚膜化を図ることができる光記録材料、記録特性を損なうことなく感光層を厚膜化することにより、大容量記録が可能な光記録媒体、及び大容量データの記録及び再生が可能な光記録再生装置を提供することである。 - 特許庁
To provide electronic parts such as a laminated ceramic capacitor capable of restraining particle growth of Ni particles at a baking process even in case each thickness of an inner electrode layer is made thin, and capable of effectively restraining degradation of capacitance by preventing the grain from becoming spherical and preventing the electrode from breakage, and to provide a manufacturing method of the same, and conductive particles as well as conductive paste used for the manufacturing method.例文帳に追加
特に内部電極層の各厚みが薄層化した場合でも、焼成段階でのNi粒子の粒成長を抑制し、球状化、電極途切れを有効に防止し、静電容量の低下を効果的に抑制することができる積層セラミックコンデンサなどの電子部品、その製造方法、その製造方法に用いられる導電性粒子および導電性ペーストを提供すること。 - 特許庁
To cancel variation in the thickness of an insulation layer around a contact pad readily as well as variation in the height of metal bumps or contact pad faces on the side of a body being connected by making uniform the height of metal bumps at the time of producing a contact structure where microbumps formed on a wiring board are connected with the contact pads of the body being connected.例文帳に追加
微小な金属バンプが形成された配線基板の当該金属バンプが被接続体の接続パッドに接続された接続構造体を製造する際に、金属バンプの高さを均一化し、しかも金属バンプの高さのバラツキだけでなく、被接続体側の接続パッド面の高さのバラツキや接続パッド周囲の絶縁層厚さのバラツキをキャンセルし易くする。 - 特許庁
This method for adhering two articles 10, 20 to each other, characterized by intervening between the articles 10, 20 an adhesive 30 comprising a liquid or sheet-like adhesive material 31 in which particles having a larger hardness than that of the adhesive material portion and an approximately uniform particle diameter 32 are dispersed, and controlling the thickness of the adhesive layer to the approximately same length as the particle diameter of the particles 30.例文帳に追加
かゝる本発明は、2物品10,20を接着するにおいて、2物品10,20間に液状又はシート状の接着材料31中にこの接着材料部分より硬度が大きくかつ粒径32がほぼ均一な粒子を分散させた接着剤30を介在させ、その接着剤層の厚さを粒子30の粒径とほぼ同一に制御する接着方法にある。 - 特許庁
To provide a correcting method by which a deposition layer where both an opening end part and a top end part are formed generates no thickness difference, top realize correction of white deface by which a local part does not become very fat and further to provide a correcting method by which a long beam-shaped body can be formed in correction of white defect in a silicon stencil by deposition using focusing ion beams.例文帳に追加
本発明の課題は、シリコンステンシルの白欠陥を集束イオンビームを用いたデポジションによって修正するものにおいて、開口端部も先端部も形成されるデポ層に厚さの差がでない修正方法を提供し、局部がむやみに厚くならない白欠陥を修正を実現すること、また、長い梁状体を形成できる修正方法を提供することにある。 - 特許庁
In this manufacturing method of the compound semiconductor multilayer epitaxial substrate, at least one portion of the film thickness, impurity concentration, and composition of each epitaxial layer for composing the multilayer epitaxial substrate is determined by a theoretical calculation so that specific electrical characteristics can be met, and epitaxial growth is executed according to the determined values.例文帳に追加
化合物半導体多層エピタキシャル基板の製造方法において、所定の電気特性を満たすことができるように該多層エピタキシャル基板を構成する各エピタキシャル層の膜厚、不純物濃度及び組成の少なくとも一部を理論計算により決定し、その決定値に従ってエピタキシャル成長を実施する化合物半導体多層エピタキシャル基板の製造方法。 - 特許庁
The laminated glass lens for glasses is obtained by sticking two glass lens base materials 2 and 3 (nearly 1 mm thickness) across the adhesive layer 1 and has a main absorption peak of visible light spectrum transmittance in 565-605 nm wavelength.例文帳に追加
眼鏡用合わせガラスレンズは、接着剤層1を介して2枚のガラスレンズ基材2、3(厚さ約1mm)を貼り合わせ、波長565〜605nmに可視光分光透過率の主吸収ピークを有するものであり、所定の無溶剤系の接着剤にテトラアザポルフィリン化合物を含む色素を有機溶剤と共に配合した液状のものをガラスレンズ基材2上に滴下し(図中、液滴1aを鎖線で示す。 - 特許庁
To firstly provide a liquid development apparatus capable of forming an image free of density unevenness and toner fogging by forming a thin layer of a liquid developer of a uniform thickness on a developing roller in spite of the liquid developer of high density and to secondly provide the liquid development apparatus which is compact and is high in arrangement flexibility.例文帳に追加
高濃度な液体現像剤であっても、均一な膜厚の液体現像剤の薄層を現像ローラ上に形成し、濃度ムラやトナーかぶりのない画像を形成することができる液体現像装置を提供することを第1の目的とし、前記液体現像装置がコンパクトで、配置自由度が大きい液体現像装置を提供することを第2の目的とする。 - 特許庁
A porous silica thin film 20 with a thickness within the range of several μm to several 100 μm with a plurality of openings 20 formed so as to orient almost vertical to the main face of a substrate 1 is formed on the substrate 1, and a solid electrolyte layer 22 containing at least cesium hydrogensulfate or cesium dihydrogenphosphate is buried in each opening 20a.例文帳に追加
基板1に、膜厚が数μm〜数100μmの範囲内であり、基板1の主面に対して略垂直に配向した複数の開口部20aが形成された多孔質シリカ薄膜20が形成されており、開口部20a内に、少なくとも硫酸水素セシウムまたはリン酸二水素セシウムを含有する固体電解質層22が埋め込まれて形成されている構成とする。 - 特許庁
The stamper for making the optical recording media for producing the optical recording medium having fine rugged patterns is constituted by providing the stamper with a substrate having a smooth main surface and fine rugged pattern layer which is different etching property from the substrate and has the uniform thickness corresponding to the depth of the fine rugged patterns and is subjected to the pattern etching corresponding to the fine rugged patterns on the substrate.例文帳に追加
微細凹凸パターンを有する光記録媒体を製造する光記録媒体作製用スタンパーであって、平滑主面を有する基板と、この基板上に、基板とエッチング性を異にし、且つ微細凹凸パターンの深さに対応する一様な厚さを有し、この微細凹凸パターンに対応するパターンエッチングがなされた微細凹凸パターン層を設ける構成とする。 - 特許庁
To provide a curable resin composition for an optical disk capable of sufficiently exhibiting various physical properties such as transparency and film thickness stability, giving a cured product in which the warpage and eternal deformation are stably suppressed for a long period of time and attaining recording and reproduction with higher reliability, a cured product thereof, and an optical disk having a layer obtained by curing such resin composition.例文帳に追加
透明性や膜厚安定性等の諸物性を充分に発揮でき、かつ長期安定的に反りや永久的な変形が抑制された硬化物を与えることができ、より信頼性の高い記録・再生を実現できる光ディスク用硬化性樹脂組成物、その硬化物、及び、このような樹脂組成物を硬化させてなる層を有する光ディスクを提供する。 - 特許庁
To provide designing method and manufacturing method of an SOI (Silicon-On Insulator) wafer increasing the accuracy in position control of the SOI wafer by suppressing the fluctuation in reflectance of light with the fluctuation in film thickness of an SOI layer, and reducing the cost by commonly using a mechanism for position control used in the device producing step or the inspecting step of a bulk silicon wafer.例文帳に追加
SOI層膜厚変動に伴う光の反射率の変動を抑制してSOIウェーハの位置制御の精度を向上することができ、また、バルクシリコンウェーハのデバイス作製工程または検査工程で使用している位置制御のための機構と共用してコストを削減できるSOIウェーハの設計方法及び製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
When materials constituting the interface between the heterogeneous materials can have a plurality of crystal structures or chemical compositions in the interface, a crystal phase stabilizing structure suppresses a change in a crystal phase by substituting atoms which are not contained in any of the materials constituting the interface for atoms of a fraction of a unit cell of a thickness-direction first layer of the heterogeneous-material interface.例文帳に追加
結晶相安定化構造は、異種材料界面において、界面を構成する材料が、複数の結晶構造あるいは化学的組成を持ちうる場合、該材料の界面の厚み方向の第一層目の単位胞において、その一部の原子を、前記界面を構成するいずれの材料にも含まれない原子によって置換することによって結晶相の変化を抑制する。 - 特許庁
To provide a cleaning device that stably polishes a photoreceptor drum by uniformly forming a toner layer of a sufficient thickness on a cleaning roller surface even if the amount of toner to be supplied to the cleaning roller increases or decreases, and stably polishes the photoreceptor drum for a long time without wearing the member constituting the cleaning device, and to provide an image forming apparatus.例文帳に追加
クリーニングローラに供給されるトナー量に増減が生じてもクリーニングローラ表面に均一且つ十分な厚さのトナー層を形成して感光体ドラムを安定的に研磨することができ、クリーニング装置を構成する部材が摩耗することなく、長期間に亘って安定的に感光体ドラムの研磨が可能なクリーニング装置及び画像形成装置を提供。 - 特許庁
To provide a color filter for a liquid crystal display device capable of obtaining red colored pixels provided with positive birefringence anisotropy particularly by adjusting the thickness-direction retardation of a red colored pixel layer with a retardation adjuster, so as to improve oblique visibility in a high-contrast liquid crystal display device, and to provide a red colored composition for a color filter used therein.例文帳に追加
高コントラストの液晶表示装置において、その斜め視認性を向上させるため、特に、赤色着色画素層の厚み方向位相差値をリタデーション調整剤により、正の複屈折異方性を付与した赤色着色画素を得ることのできる液晶表示装置用カラ−フィルタ及びそれに用いるカラ−フィルタ用赤色着色組成物を提供する。 - 特許庁
The method includes: a first pressing step of forming the membrane electrode structure 1 by pressing a solid polymer electrolyte membrane 2 pinched by a pair of electrodes 3, 4 to cure an adhesive layer 9; and a second pressing step of molding the membrane electrode structure 1 into a given thickness by pressing the membrane electrode structure 1 with a pressure larger than that at the first pressing step.例文帳に追加
1対の電極3,4により挟持された固体高分子電解質膜2を押圧して接着剤層9を硬化させて膜−電極構造体1を形成する第1の押圧工程と、前記第1の押圧工程よりも大きな圧力で膜−電極構造体1を押圧して膜−電極構造体1を所定の厚さに成形する第2の押圧工程とを備える。 - 特許庁
To provide a cleaning apparatus capable of stably polishing a photosensitive drum over a long period of time, without abrading a member constituting the cleaning apparatus by stably polishing the surface of the photosensitive drum by adjusting the thickness of a toner layer formed on the surface of a cleaning roller, even when the amount of toner supplied to the cleaning roller is changed; and to provide an image forming apparatus.例文帳に追加
クリーニングローラに供給されるトナー量が変化してもクリーニングローラ表面に形成されるトナー層の厚さを調節して感光体ドラム表面を安定的に研磨することができ、クリーニング装置を構成する部材が摩耗することなく、長期間に亘って安定的に感光体ドラムの研磨が可能なクリーニング装置及び画像形成装置を提供すること。 - 特許庁
An IC card separator 10 is arranged between non-contact IC cards 24 and 28 stored in storage parts 22 and 26 of a card case 20, and magnetic layers 16A and 16B are arranged on the both sides of a conductive metallic layer 12, with dielectric layers 14A and 14B interposed whose relative dielectric constant is two or more, and whose thickness is 10 μm or more and 100 μm or less.例文帳に追加
ICカードセパレータ10は、カードケース20の収納部22,26に収納された非接触型ICカード24,28の間に配置され、導電性の金属層12の両主面に、比誘電率が2以上であって、厚みが10μm以上100μm以下の誘電体層14A,14Bを挟んで、磁性層16A,16Bが設けられた構造となっている。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a display, including a lamination process of pressing a curved light-transmissive substrate 2 to a display body 1, and bonding the same to each other, whereby even in manufacturing a large-sized display, lowering of manufacturing efficiency, the occurrence of uneven thickness of an adhesive layer, increase in extrusion of an adhesive from between the adhesive surfaces and misalignment of the light-transmissive substrate 2 can be prevented.例文帳に追加
湾曲させた透光性基板2をディスプレイ本体1へ押し付けて接着する貼り合わせ工程を有するディスプレイの製造方法において、大型のディスプレイの製造に際しても、製造効率の低下、接着剤層の厚みムラの発生、接着面間からの接着剤のはみ出し量の増大及び前記透光性基板2の位置ずれを防止できるようにする。 - 特許庁
To provide a manufacturing method that obtains stable discharge for the formation of a film of uniform thickness on the periphery of a cylindrical substrate and a smooth surface after the curing of a coating film, in the case where a liquid rubber mixture containing hollow filler that has an external wall made of an inorganic material is used as a material for forming an elastic layer, in order to mold an elastic roller of low thermal conductivity.例文帳に追加
低熱伝導性弾性ローラを成形するために、外壁が無機質材料からなる中空フィラーを含有した液状ゴム混合物を弾性層の形成材料に用いた場合において、円筒状基材周面に均一な膜厚を形成するための安定した吐出と、塗膜硬化後に平滑な表面性が得られる製造方法の提供。 - 特許庁
This coated steel sheet includes a chemical conversion treated coating film, an undercoating film and a top coating film, on a plated layer of the zinc-plated steel sheet, and the undercoating film contains, as a pigment, 15-50 mass% as total of one kind or two kinds of nickel(II) phosphate and nickel(III) phosphate, and has 2 μm or more of average thickness, in the coated steel sheet.例文帳に追加
亜鉛系めっき鋼板のめっき層の上に、化成処理皮膜、下塗り塗膜、上塗り塗膜を有する塗装鋼板において、前記下塗り塗膜中に顔料として、第二リン酸ニッケル、第三リン酸ニッケルの1種または2種が合計15〜50質量%含有されており、当該下塗り塗膜の平均厚さが2μm以上であることを特徴とする塗装鋼板。 - 特許庁
To avoid waste in a cotton-like pulp layer and miniaturize a liquid absorbing article by providing a scientific bonding between fibers of respective layered materials and enhancing the density in a required thickness, to effectively use forest resources, simplify the manufacturing process and facilities and suppress the manufacturing cost low in a crust manufacturing method and its apparatus.例文帳に追加
クラストの製造方法及びその装置において、各積層材の繊維間に科学的結合を持たせ、所要厚みで密度を高くし、これにより、パルプ綿層の無駄を省き、液体吸収物品の小型化を図るとともに、森林資源の有効利用を図り、また、その製造工程を簡単とし、設備上の簡素化を図るとともに、製造費を低く抑えることにある。 - 特許庁
Further, the attraction electrode 4 is formed to provide a protruded face with respect to the placement face 3, thereby arranging the thickness of an insulating layer 5 formed between the attraction electrode 4 and the placement face 3 thinner at a central portion than at an outer peripheral part.例文帳に追加
板状セラミックス体2の一方の主面にウェハWを保持する載置面3を備え、内部或いは他方の主面に吸着用電極4を備えるとともに、該吸着用電極4が載置面3に対し凸面状となるように形成することにより、吸着用電極4と載置面3間に形成された絶縁層5の厚みが外周部よりも中心部が薄くなるように配置する。 - 特許庁
Film deposition is performed using an oxide semiconductor target containing an insulator (an insulating oxide, an insulating nitride, silicon oxynitride, aluminum oxynitride, or the like), typically SiO_2, so that the semiconductor device in which the Si-element concentration in the thickness direction of the oxide semiconductor layer has a concentration gradient which increases in accordance with an increase in a distance from a gate electrode is realized.例文帳に追加
絶縁物(絶縁性酸化物、絶縁性窒化物、若しくは酸窒化シリコン、酸窒化アルミニウムなど)、代表的にはSiO_2を含む酸化物半導体ターゲットを用いて成膜を行い、酸化物半導体層の膜厚方向におけるSi元素濃度が、ゲート電極に近い側からゲート電極に遠い側に増加する濃度勾配を有する半導体装置を実現する。 - 特許庁
To simplify the manufacturing process of a semiconductor device having a Co silicide electrode and realize the reduction of an aspect ratio in a contact hole by permitting the control of thickness of a Co silicide film and a cap layer, while permitting to maintain cleanness by eliminating the generation of residue consisting of non-reacted Co upon forming the Co silicide film and removing easily Co oxide.例文帳に追加
Coシリサイド電極をもつ半導体装置の製造プロセスを簡素化し、Coシリサイド膜及びキャップ層の厚さを制御可能とすることでコンタクトホールに於けるアスペクト比の減少を実現し、Coシリサイド膜を形成する際の未反応Coからなる残渣の発生を皆無にすると共にCo酸化物を容易に除去して清浄を維持できるようにする。 - 特許庁
The substrate 10 with the optical waveguide is equipped with an under clad 12 formed on a waveguide substrate 11, a core 13 formed on the under clad, a terrace 17 for height adjustment formed including a height adjustment layer 14 and a height adjusting clad 15 formed on the under clad to the same thickness with the core, and an over clad 16 which is formed on the core 13.例文帳に追加
光導波路付き基板10は導波路基板11上に形成されたアンダークラッド12と、アンダークラッド上に形成されたコア13と、アンダークラッド上にコアと同じ厚さで形成された高さ調整層14と高さ調整用クラッド15とを含んで構成される高さ調整用テラス17と、コア13上に形成されたオーバークラッド16とを具備している。 - 特許庁
To provide a development apparatus which can reliably eliminate the leakage of the developing agent through between the case and the layer thickness limiter even if the limiter is made small in the direction orthogonally crossing the lengthwise direction of the developing agent carrier, a process cartridge, an image forming device equipped with such a developing unit or a process cartridge, and an assembling method of such a developing unit.例文帳に追加
現像剤担持体の長手方向に直交する方向における層厚規制部材の寸法を小さくしても、筐体と層厚規制部材との間からの現像剤の漏れを確実に防止できる現像装置、プロセスカートリッジ、および、そのような現像装置またはプロセスカートリッジを備える画像形成装置、ならびにそのような現像装置の組立方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a wear-resistant carbon part protected with an oxidation resistant silicon carbide layer in a prescribed thickness which is not substantially oxidized even at temperature ≥700°C, preferably ≥1,000°C and under the condition of dew point 30-70°C or in atmospheric condition.例文帳に追加
耐摩耗性に優れ、露点が30℃〜70℃程度の高露点雰囲気下あるいは大気中で、700℃、好ましくは1000℃以上の高温でも実質的に酸化されることのない炭化珪素からなる保護層を特定の厚さで表層部にのみ形成することができる、耐酸化性保護層を形成するための保護層形成用層を有する炭素製部材、および同炭素製部材の製造方法の提供。 - 特許庁
To provide a dielectric formation glass paste for a plasma display panel capable of providing a baked film hardly leaving a trace of a screen mesh even when dried and baked immediately after forming a coating film by a screen printing method, having a smooth and uniform film thickness, and hardly including remaining foam, and capable of forming a dielectric layer high in transparency and withstand voltage.例文帳に追加
スクリーン印刷法により、塗付膜を形成後、直ちに乾燥、焼成しても、スクリーンメッシュの跡が残り難く平滑で均一な膜厚を有し、しかも、残存する泡が殆どない焼成膜を得ることができ、透明性及び耐電圧の高い誘電体層を形成することが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペーストを提供することである。 - 特許庁
In a semiconductor device in which a plurality of fuse wires 2 are formed on an interlayer insulating film 3 in an upper layer on a semiconductor substrate 1, grooves 7 are formed on the interlayer insulating film 3 between adjacent fuse wires 2, and a silicon nitride film 8 of a specified thickness is so formed as to cover the sides and the upper face of each fuse wire 2.例文帳に追加
半導体基板1の上層において層間絶縁膜3上に形成された複数のヒューズ用配線2を備えた半導体装置であって、層間絶縁膜3には、隣接するヒューズ用配線2間において溝7が形成されており、ヒューズ用配線2の側面から上面にかけてを覆うように所定の膜厚のシリコン窒化膜8が形成されている。 - 特許庁
A part 11 formed on the substrate and having no wavelength selecting function is the reflection preventing film having a refractive index and film thickness adjusted so as to have the reflection preventing function to the two used wavelength and consisting of at least one optical layer and layers 13 having a structure about equal to that of the reflection preventing film are disposed on an air side of the optical multi-layered films 12.例文帳に追加
また、基体に形成された波長選択機能を有さない部分11が2つの使用波長に対して反射防止機能を有するように屈折率と膜厚とが調整された1層以上の光学層からなる反射防止膜であり、この反射防止膜とほぼ同等の構成の層13が光学多層膜12の空気側に配置されている。 - 特許庁
To provide a device for liquid development capable of forming images free of density unevenness and toner fogging by forming a thin layer of a liquid developer on a developing roller to a uniform film thickness even when the liquid developer has high concentration as a 1st purpose and to provide a liquid development device which is compact, large in degree of freedom, and low-cost as a 2nd purpose.例文帳に追加
高濃度の液体現像剤であっても、均一な膜厚の液体現像剤の薄層を現像ローラ上に形成し、濃度ムラやトナーかぶりのない画像を形成することができる液体現像装置を提供することを第1の目的とし、前記液体現像装置がコンパクトで、配置自由度が大きい低コストな液体現像装置を提供することを第2の目的とする。 - 特許庁
As a result, the recess 5 can be made a shape having the almost same depth as a thickness of the semiconductor chip 1 and the insulating layer 3 around the semiconductor chip and the lead frame 2 can also be made sufficiently thin, then a small shape to be suitable for high-density mounting can be obtained without making the size of the package contour much larger than that of the semiconductor chip contour.例文帳に追加
これにより、収容凹部5を、半導体チップ1の厚みと略同等の深さを有する形状にすることができ、しかも半導体チップ周囲の絶縁層3及びリードフレーム2を極めて薄く形成できるので、パッケージ外形の寸法を半導体チップ外形よりあまり大きくすることなく、高密度実装に適した小型形状を得ることができる。 - 特許庁
To satisfy magnetic characteristics, film thickness, adhesion, uniformity, smoothness, etc. required for a soft magnetic backing layer of a vertical magnetic recording medium to be a hard disk by forming a soft magnetic plating film by an electroless plating method after applying etching processing to a glass substrate by using an etching solution capable of uniformly applying suitable roughness to the surface of the glass substrate without generating defects.例文帳に追加
表面に適度な粗さを均一に欠陥なく付与することが可能なエッチング液を用いてガラス基板にエッチング処理を施した後に無電解めっき法により軟磁性めっき膜を形成することにより、ハードディスクとしての垂直磁気記録媒体の軟磁性裏打ち層に要求される磁気特性、膜厚、密着性、均一性、平滑性などを満足させる。 - 特許庁
A passivation film 14 of silicon nitride having thickness of about 1 μm is formed on the insulating film 12 and the p-side electrode 13 and a light emitting layer 15 emitting light having emission wavelength shorter than the wavelength corresponding to the energy gap of silicon constituting the semiconductor substrate 10 and containing a fluorescent material having luminous properties is formed on the passivation film 14.例文帳に追加
絶縁膜12及びp側電極13上には、膜厚が約1μmの窒化シリコンからなるパッシベーション膜14が形成され、該パッシベーション膜14上には、発光波長が半導体基板10を構成するシリコンのエネルギーギャップに相当する波長よりも短い発光光を発し且つ蓄光性を有する蛍光体材料を含む発光層15が形成されている。 - 特許庁
The white light emitting diode comprises a substrate, a plurality of light emitting diode chips emitting blue light arranged on the substrate, and a phosphor layer containing transparent resin applied to the surface of each of the plurality of light emitting diode chips with a thickness dependent on the peak wavelength of each of the plurality of light emitting diode chips and phosphor particles.例文帳に追加
基板と;前記基板上に配置された青色光を発光する複数の発光ダイオードチップと;前記複数の発光ダイオードチップのそれぞれの表面上に塗布され、前記複数の発光ダイオードチップのそれぞれのピーク波長に合わせて塗布厚が決定されている透明樹脂と蛍光体粒子とを含む蛍光体層と;を有することを特徴とする白色発光ダイオード装置。 - 特許庁
The deviation of the film thickness in the image forming part of the resin layer is ≤1 μm.例文帳に追加
導電性支持体上に少なくとも感光層、樹脂層をこの順に有する電子写真感光体において、該感光層が1層以上の層構成から構成され、且つ該感光層の最上層の膜厚減耗速度(V_1)と該樹脂層の膜厚減耗速度(V_2)の比が 0.01≦V_2/V_1≦0.5 であり、且つ該樹脂層の画像形成部の膜厚偏差が1μm以下であることを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁
To provide an insulative magnetic one component toner capable of forming satisfactory images free of various image defects by forming a neat thin layer free of defects etc., having a uniform thickness on the surface of a developer carrier stably for a long period of time from right after turning on a power source and an image forming method by a magnetic one component jumping development method using the same.例文帳に追加
電源投入直後から、長期間にわたって安定して、現像剤保持体の表面に、厚みが均一で欠陥等のないきれいな薄層を形成して、様々な画像不良のない良好な画像を形成することができる、絶縁性の磁性1成分トナーと、それを用いた、磁性1成分ジャンピング現像法による画像形成方法とを提供する。 - 特許庁
The multilayer wiring board includes an insulating base formed by layering a plurality of ceramic insulating layers and the nearly rectangularly sectioned wiring made of conductor paste in the ceramic insulating layer, wherein the line width of the wiring is ≤30 μm in plan view and the value obtained by dividing the thickness by the width of the wiring is 0.7 to 2.0.例文帳に追加
本発明は、複数のセラミック絶縁層が積層されてなる絶縁基体と、前記セラミック絶縁層の内部に導体ペーストによって形成された断面が略矩形状の配線とを含み、平面視による前記配線の線幅が30μm以下であって、前記配線の厚みを線幅で除した値が0.7以上2.0以下であることを特徴とする多層配線基板である。 - 特許庁
After painting an electrode forming slurry 39, such as a catalyst or carbon on a base material 38, the painted electrode forming slurry 39 is pressed in the thickness direction, while heating it by a hot roller 40, afterwards, an electrode 25 having a hard covering film on its surface layer 25a can be formed by drying the slurry 39, by irradiating microwaves by a microwave generating means 44.例文帳に追加
基材38に触媒又はカーボンなどの電極形成スラリー39を塗布した後、塗布された電極形成スラリー39をホットローラ40で加熱しながら厚み方向に加圧し、その後、マイクロ波発生手段44でマイクロ波を当てて電極形成スラリー39を乾燥させることで、表層25aに硬い皮膜を形成した電極25を形成することができる。 - 特許庁
The phase difference layer 12 has two major surfaces (larger surfaces) 12A, 12B disposed orthogonal to the thickness direction and opposing to each other, in which the direction of the director Da of the liquid crystal molecules all over one surface 12A is substantially identical, while the direction of the director Db of the liquid crystal molecules all over the other surface 12B is substantially identical.例文帳に追加
また、位相差層12は、厚さ方向に直交するように配置された互いに対向する2つの主たる表面(広い方の表面)12A、12Bのうち、一方の表面12Aの全範囲における液晶分子のダイレクターDaの方向が実質的に一致するとともに、他方の表面12Bの全範囲における液晶分子のダイレクターDbの方向も実質的に一致している。 - 特許庁
Visible light is blocked by forming a band-like and stripe-like shading film 47 which extends in the line direction at each non-discharging reverse slit S2 in an intermediate part in the thickness direction of a dielectric layer 17 of a three-electrode style surface discharge type plasma display panel.例文帳に追加
本発明は、前面基板上11に、面放電のための放電スリットを隔てて配置した表示電極対41をそれぞれ放電しない所定の逆スリットを隔てて複数対平行に配置し、背面基板上21に、表示電極対41と交差する複数のアドレス電極Aおよび複数のストライプ状蛍光体28を備えてなる3電極形式の面放電型プラズマ・ディスプレイ・パネルに関する。 - 特許庁
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