| 意味 | 例文 |
line-patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3517件
When an angle formed by a straight line connecting a central position in the radial direction of the magnet and a central position in the radial direction of the FG pattern with respect to a central axis of a driving shaft is taken as θ, and an angle formed by a direction of the FG magnetization with respect to the central axis of the driving shaft is taken as A, 0 degree<A≤θ is satisfied.例文帳に追加
磁石の半径方向中央位置とFGパターンの半径方向中央位置とを結ぶ直線が駆動軸の中心に対してなす角度θ、FG着磁の方向が駆動軸の中心に対してなす角度Aが、0度<A≦θを満足する。 - 特許庁
To provide a substrate processing method that reduces variance in line widths of resist patterns between substrates without increasing a processing time when the resist pattern is formed on each substrate having a resist film formed by performing exposure a plurality of times and also carrying out heating processing and developing processing.例文帳に追加
レジスト膜が形成された各基板に、露光を複数回行い、加熱処理及び現像処理を行うことによってレジストパターンを形成する際に、処理時間を増大させず、基板間のレジストパターンの線幅のばらつきを低減できる基板処理方法を提供する。 - 特許庁
Further, for every pattern of the operation time zone, the operation time zone of the production line excluding the non operation time from the predetermined reference time and the absolute time is registered for every absolute time as the relative time of the absolute time to the reference time in a relative time table storing device 24.例文帳に追加
また、稼働時間帯パターンごとに、所定の基準時刻からその絶対時刻までの間の生産ラインの非稼働時間を除いた時間を、前記基準時刻に対するその絶対時刻の相対時刻として各絶対時刻ごとに、相対時刻テーブル記憶装置24にデータ登録する。 - 特許庁
To provide a positive photoresist composition which simultaneously satisfies sufficiently high sensitivity, high definition, successful pattern geometry and good invacuo PED and line edge roughness under irradiation with electron beams or X-rays, further has high sensitivity and high contrast in characteristic evaluation by irradiation with EUV light.例文帳に追加
電子線又はX線照射下で十分な高感度、高解像性、良好なパターン形状と、良好な真空中PEDとラインエッジラフネスを同時に満足し、さらにEUV光の照射による特性評価においても高感度で高コントラストなポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
To determine steps or unevenness formed on a sample by a simple technique or obtain three-dimensional information by using a charge particle beam device such as a scanning electron microscope, and particularly to provide a determination method or its device suitable for unevenness determination of a line and space pattern formed on a sample.例文帳に追加
走査電子顕微鏡等の荷電粒子線装置で、簡単な手法で試料上に形成された段差及び凹凸の判定、或いは3次元情報を得ることにあり、特に試料上に形成されたライン&スペースパターンの凹凸判定に好適な判定方法、及び装置を提供する。 - 特許庁
When inspecting, the two virtual lines the same as that have been set are set on the binarized image of the linear pattern of an object to be inspected, and whether, while the contour tracing with an edge point on one virtual line as the starting point is performing, a detected edge point is contained in the route allowable range.例文帳に追加
検査では、検査対象の線状パターンの2値画像に設定時と同一の2本の仮想ラインを設定し、一方の仮想ライン上のエッジ点を起点にした輪郭追跡を行いながら、検出されたエッジ点が経路許容範囲に含まれるかを判別する。 - 特許庁
Further, each manufacturing-error correcting pattern has such a deformed shape that its conductive line portion has adjacent portions to each other, and the spaces between the adjacent portions are so varied gradually that the rate of the adjacent portions being contacted with each other is controlled correspondingly to the manufacturing accuracy of the element.例文帳に追加
そして製造誤差補正パターンの形状は、導電ライン部が隣り合う部分を有するように変形したパターンであって、その隣り合う部分の間隔が暫時変化しており、製造精度に応じて隣り合う部分の接触割合が制御されるようにしている。 - 特許庁
The plurality of lines constituting the detection object color pattern extend in the main scanning direction with one virtual straight line running in the sub scanning direction defined as a reference position, and the length dimension of the respective lines in the main scanning direction are formed stepwise long or short at uniform length dimensions.例文帳に追加
検出対象色パターンを構成する複数本のラインは、副走査方向に走る一つの仮想直線を基準位置として主走査方向に伸びており、各ラインの主走査方向の長さ寸法は、均等な長さ寸法で段階的に長くまたは短く形成されるようになっている。 - 特許庁
To see to it that a low-beam light distribution pattern with a clear cutoff line at a top end part is formed, so as not to trouble an oncoming vehicle driver with big glare, in case a projector-type lamp tool unit with a light-emitting element as a light source is adopted for a vehicle headlight.例文帳に追加
車両用前照灯の灯具ユニットとして、発光素子を光源とするプロジェクタ型の灯具ユニットを採用した場合において、上端部に鮮明なカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成するようにした上で、対向車ドライバに大きなグレアを与えてしまわないようにする。 - 特許庁
To provide a pleated skirt performing the most natural and stable pleats while comprising straight line pleats not causing a decline in a mass production property, and designed in view of the lady's body shape; to provide a method for making the skirt; and to provide a paper pattern of the pleated skirt suitable for making the pleated skirt.例文帳に追加
女性の体型の特徴に着目し、量産性を低下させることがない直線プリーツでありながら、最も自然で安定したプリーツを得ることができるプリーツスカート、及び、その製造方法、並びに、同プリーツスカートの製造に適するプリーツスカート用型紙の提供を図る。 - 特許庁
To provide a semiconductor device manufacturing method, capable of surely connecting the divided patterns together, lessening a width change in a line at a joint between the transferred patterns, when the divided patterns are formed on a mask and then transferred to a resist for the formation of the pattern of a semiconductor device.例文帳に追加
分割されたパターンをマスク上に形成し、レジストに転写して半導体装置のパターンを形成する際に、転写されたパターンの接続部の線幅変化を小さくし、分割されたパターンを確実に接続できるような半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
In the method for forming the refractive index pattern, a hybrid material comprising a polysilane compound and an inorganic compound is irradiated with an active energy line via a mask, a polysilane decomposition product of the irradiated part is removed, and then the whole hybrid material is hardened by heating.例文帳に追加
ポリシラン化合物と無機化合物からなるハイブリッド材料にマスクを介して活性エネルギー線を照射し、この照射部分のポリシラン分解物を除去した後に、ハイブリッド材料全体を加熱して硬化させることを特徴とする屈折率パターンの形成方法。 - 特許庁
The plural number of polyhedron patterns are positioned on each of the plural number of lines arbitrary formed in vertical direction, horizontal direction and diagonal direction and when the identification pattern display is stopped at the predetermined combination on one of the line the winning of a special game is announced.例文帳に追加
複数の多面体図柄は、縦方向、横方向及び斜め方向のうちの任意の方向に形成される複数のライン上に夫々複数配置され、ライン上の何れかにおいて識別図柄が所定の組合せで停止表示した場合、特別遊技への当選が報知される。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive resin composition prevented from occurrence of change of the line width of a resist pattern by PED and that of T forms and that of stationary waves even on a substrate high in reflectance and high in resolution and useful as a chemically sensitizable resist.例文帳に追加
PEDによりレジストパターンが線幅の変化を生じたりT型形状になったりすることがなく、反射率の高い基板上でも定在波を発生することがなく、解像性能に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a resist polymer capable of obtaining a resist composition which excels in a pattern shape, resistance to dry etching, line width stability against the change in heating temperature after exposure and the like and has sufficient sensitivity and an excellent image resolving degree, and a resist monomer for obtaining the polymer.例文帳に追加
パターン形状、ドライエッチング耐性、露光後の加熱温度の変化に対する線幅安定性等に優れ、十分な感度を有し、解像度にも優れるレジスト組成物を得ることができるレジスト用重合体、および該重合体を得るためのレジスト用単量体を提供する。 - 特許庁
To provide a translucent electromagnetic wave shielding film that forms a thin line pattern of an electromagnetic wave shielding material exhibiting high EMI shieldability and high transparency simultaneously, and can be employed in inexpensive mass production of translucent electromagnetic wave shielding film.例文帳に追加
高いEMIシールド性と高い透明性とを同時に有する電磁波シールド材料を細線のパターンに形成可能であり、かつ安価に大量生産できる透光性電磁波シールド膜の製造方法及びその製造方法により得られたモアレの問題のない透光性電磁波シールド膜の提供。 - 特許庁
The drum type game machine such as a slot machine is provided with a CB game role for imparting a CB game in which the range of patterns stoppable after a stop operation until reel stoppage is narrowed and opportunities to stop the pattern relating to a winning role on an effective line are made more than usual to the next game.例文帳に追加
スロットマシン等の回胴式遊技機であって、ストップ操作されてからリールを停止するまでに停止可能な図柄の範囲を狭くし、通常よりも入賞役に係る図柄を有効ラインに停止させる機会が増加するCB遊技を次回の遊技に付与するCB遊技役を備える。 - 特許庁
To provide a positive-type photoresist composition, which ensures improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and has an effect of improving the margin for exposure (particularly a margin for exposure of isolated lines), that is, ensures small changes in the line width of isolated lines when light exposure is varied.例文帳に追加
半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に露光マージン(特に孤立ラインの露光マージン)に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
Second index faces S2.S2, each of which comprises a line pattern where lines in parallel with the main scanning direction are formed with intervals providing roughness and fineness, are provided to areas P2.P2 at both outsides of the area P1 on the upper side of the 2nd reference white board 68 in the main scanning direction.例文帳に追加
第2基準白板68の上面の領域P1より主走査方向両外側の領域P2・P2に、ライン同士が主走査方向に平行となるラインパターンをライン同士の間隔に疎密を持たせた状態で形成した第2指標面S2・S2を設ける。 - 特許庁
That is, when the single character information column is varied, since there is no column to be a comparison object like the plurality of common decorative pattern columns, whether or not the single or the plurality of ready-to-win states are to be stopped on the effective line is not predicted until the single character information column is stopped.例文帳に追加
すなわち、単数の文字情報列が変動する場合には、複数の共通装飾図柄列のように比較対象となる列がないことから、単数の文字情報列が停止するまで、有効ライン上に単数または複数のリーチ状態が停止されるか否かが予測されることがない。 - 特許庁
In a CMOS image sensor wherein an imaging section 10A includes a valid pixel part 1 and invalid pixel parts 2-5 and signal processing is performed by reading signals of pixels for the unit of a pixel line, an optical black part (OB part) 2 for fixed pattern noise correction is provided in a part of the invalid pixel parts 2-4.例文帳に追加
撮像部10Aに有効画素部1と無効画素部2〜5を有し、各画素の信号を画素列単位で読み出して信号処理を行うCMOSイメージセンサにおいて、無効画素部2〜4の一部に固定パターン雑音補正用のオプティカルブラック部(OB部)2を設ける。 - 特許庁
In the game at the second stage executed after ending in failure at the first stage, a success appears even when a predetermined pattern is stopped and displayed at a position on the outer frame variable display portion 32 corresponding to the extension of a line where the game ends in failure via the reach state at the first stage.例文帳に追加
第1段階で外れになって実行された第2段階のゲームで、外枠可変表示部32のうち第1段階でリーチ状態を経由して外れになったラインの延長上に該当する箇所に所定の図柄が停止表示されたときにも当たりが出現する。 - 特許庁
Consequently, the capacitor microphone 11 can ensure steady conduction by a ground-side conductive line formed by electrically connecting the calking portion 47 and the ground pattern 63 on the side of the circuit board 62 even if the calking force of the calking portion 47 decreases, and therefore the generation of hum noise can be avoided.例文帳に追加
これにより、コンデンサマイクロホン11は、かしめ部47のかしめ力が緩和しても、かしめ部47と回路基板62側のグランドパターン63とを導通接続させて形成したグランド側導電路が強固な導通を確保できるので、ハム雑音の発生を回避させることができる。 - 特許庁
To estimate the amount of frequency offset precisely even if the number of repetition fixed patterns in a preamble section is small and CNR is small, when estimating the amount of frequency offset using the repetition fixed pattern under the multipath fading in the radio propagation line of a radio communication system.例文帳に追加
無線通信システムの無線伝搬路のマルチパスフェージング下において繰返し固定パタンを用いて周波数オフセット量の推定を行う際に、プリアンブル区間の繰返し固定パタンの数が少なく、CNRが小さい場合においても、周波数オフセット量を精度良く推定可能にする。 - 特許庁
The transmitter, having an array antenna first uses a beam- forming network to estimate a transmission line space gain pattern, estimates the number of transmission beams and an angle of each beam, applies the beam space - time block coding processing to an input signal, and transmits the coded signal.例文帳に追加
アレイアンテナを有する送信機において、まずビームフォーミングネットワークを用いて、伝送路空間利得パターンを推定し、そして送信用ビーム数及び各ビームの角度を推定し、入力信号に対してビーム空間−時間ブロック符号化処理を行い、符号化した信号を送信する。 - 特許庁
The tool 3 or the substrate 1 is rotatively controlled so that the blade surface direction defined by the projection line of the normal of the cutting surface of the tool 3 to the surface of the substrate 1 and the optical axis direction of the optical waveguide pattern 2 conform each other at all times and, at the same time, the recessed groove is cut.例文帳に追加
工具3の切削すくい面の法線を、基板1の表面に射影した線で定義される刃面方向と、光導波路パターン2の光軸方向とが、常に一致するように工具3又は基板1を回転制御しつつ、凹溝が切削加工される。 - 特許庁
The fashion article selection and coordinate proposal are repeatedly performed, a fashion article sale is carried out, when the selection of all fashion articles is finished (step S106), thereby a general on-line commerce is implemented, and the data of a customer DB 306 are updated based on this behavior pattern of the customer.例文帳に追加
服飾品選択、コーディネート提案は繰り返し実行され、総ての服飾品の選択を終了したとき服飾品販売(ステップS106)を実行し、一般的なオンライン商取引の実行と、今回の顧客の行動パターンに基づいた顧客DB306のデータ更新とを行う。 - 特許庁
A zero-order moment computing unit and a first-order moment computing unit find a zero-order moment and a first-order moment in a direction perpendicular to a direction in which the line pattern light is extended in respective positions in the direction, in such a way that digital signals corresponding to the output signals obtained in nearly the same time by the photodetector array are integrated.例文帳に追加
0次モーメント演算器と1次モーメント演算器とが、ラインパターン光が延びる方向における各位置での該方向に対して垂直の方向での0次、1次モーメントを、受光素子アレイにて略同時刻に得られた出力信号に相当するデジタル信号を積分して求める。 - 特許庁
Further, the angle of inclination (precise angle) in a straight line connecting the temporary center and the point at the position of the edge part separated by the integer multiple of the unit element to an x axis from the temporary center is obtained, and the inclination is corrected with the precise angle, thus the inclination of the repeated pattern is perfectly compensated.例文帳に追加
さらに、仮中心と、仮中心からx軸方向に単位要素の整数倍離れた端部位置の点とを結ぶ直線の傾き角度(精密角度)を求め、精密角度で傾きを補正することで繰り返しパターンの傾きが完全にうち消される。 - 特許庁
Figures are front views showing a conductor pattern 1d1 in a conductor film 1d, Figure (A) shows a front face (contacting face, namely, an outer face when the conductor film is folded along the center line defined in the vertical direction), and the figure (B) shows a back face (non-contacting face, namely the inner face).例文帳に追加
図は、導体フィルム1dにおける導体パターン1d1を示す正面図であり、(A)は、表面(接触面、すなわち、上下方向に引かれた中央線により導体フィルムが2つ折りされたときの外面)を示し、(B)は、裏面(反接触面、すなわち内面)を示す。 - 特許庁
When symbols designated for display on an LCD 3 by a command 52 for designating stopped symbols coincide with a preset pattern of a small win (in the present embodiment, symbols '7' appear or three losing symbols appear on one line), a predetermined number of prize balls are dispensed from a dispensing control board H.例文帳に追加
停止図柄指定コマンド52により指定されてLCD3に表示される図柄が、予め定められた小役のパターンと一致する場合(本実施例では「7」の図柄の現出、又は、1ライン上に3つのはずれ図柄の現出)に、払出制御基板Hから所定数の賞球が払い出される。 - 特許庁
This vehicular headlamp is so structured as to be provided, between a projection lens 28 and a reflector 24, with a first shade 32 for forming the cut-off line as a shade for shading a part of reflected light from a reflector 24, and a second shade 34 for forming a dark part at a lower end center part of the light distribution pattern.例文帳に追加
投影レンズ28とリフレクタ24との間に、該リフレクタ24からの反射光の一部を遮蔽するシェードとして、カットオフラインを形成するための第1シェード32と、配光パターンの下端中央部に暗部を形成するための第2シェード34とを備えた構成とする。 - 特許庁
In the case of other image pattern, the signal charges obtained from the photoelectric conversion elements by k-lines are transferred while being sequentially outputted by each line and the signal chares obtained from the remaining photoelectric conversion elements including the OB part are transferred at high-speed and discharged as unnecessary electric charges.例文帳に追加
他の画面の場合は、k行分の光電変換素子から得られる信号電荷は、1行毎に順次出力されるように転送し、OB部を含む残りの光電変換素子から得られる信号電荷は、高速転送を行い不要電荷として排出する。 - 特許庁
The magnetic field detecting parts 12x, 12y are made of a high magnetic permeability thin film, and formed on nonmagnetic substrates 10x, 10y as a slender zigzag long pattern formed by turning up a straight line multiple times along the magnetic field detecting direction in the X, Y direction.例文帳に追加
磁界検知部12x、12yは高透磁率磁性薄膜から成り、X、Y方向の磁界検知方向に沿って直線を複数回平行に折り返した細長いつづら折り状の長手パターンとして、非磁性基板10x、10y上にそれぞれ形成されている。 - 特許庁
The protection tape P is integrally peeled with the peeling tape T from a direction where a groove (d) by dicing, which forms a pattern on the semiconductor wafer W, and a peeling line (h) becoming a boundary where the protection tape is peeled from the semiconductor wafer are not matched in a protection tape peeling process.例文帳に追加
半導体ウエハW上のパターンを形成するダイシングによる溝dと半導体ウエハから保護テープが剥離される境目となる剥離ラインhとが保護テープ剥離過程で一致しない方向から保護テープPを剥離テープTと一体にして剥離してゆく。 - 特許庁
According to this, since the human eye has the feature of recognizing an object having the highest contrast first (Weber-Fechner law), an observer recognizes the pattern 110 first, and the dark line 120 is extremely difficult to recognize since it is buried in the recognition of the high contrast.例文帳に追加
これにより、人間の目は最もコントラストが高いものを最初に認識するという特性(ウェーバー・フェヒナーの法則)をもっているため、観察者は、図柄110を最初に認識し、暗線120はその高いコントラストの認識に埋没してしまうために非常に認識し難くなる。 - 特許庁
Since the intervals between two voltage impression parts 2 of the same color become what are approximated can to be even between the direction of a sequence and the direction of a line as compared with the conventional stripe pattern, when natural images or moving images are displayed, the display quality can be made almost uniform between both the directions.例文帳に追加
同色の電圧印加部2間の間隔が、従来のストライプパターンと比較すると、列方向及び行方向間で近似したものとなっているため、自然画又は動画を表示する場合であっても、表示品質を両方向間でほぼ均一なものとすることができる。 - 特許庁
To provide an exposure method, and exposure apparatus, a method of manufacturing a device, and a device, where a pattern having a line width larger than resolution limit is transferred in desired contrast to secure desired resolution when a projection optical system clearing in midsection and a phase shift mask are used.例文帳に追加
本発明は、中抜けのある投影光学系と位相シフトマスクを使用した場合に、限界解像よりも大きな線幅のパターンを所望のコントラストで転写して所望の解像度を確保する露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイスを提供する。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive resin composition excellent in dry etching resistance, sensitivity, resolution, etc., as a chemical amplification type resist, capable of avoiding a change of the line width of a resist pattern due to a change of the time elapsed from exposure to post-exposure heating and having superior process stability.例文帳に追加
化学増幅型レジストとして、ドライエッチング耐性、感度、解像度等に優れるとともに、露光から露光後の加熱処理までの引き置き時間の変動によるレジストパターンの線幅変動を回避でき、優れたプロセス安定性を示す感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
The second transistor 222 is controlled in the invalid pixel 220 to bias the gate of the first transistor 221 and signals of each vertical signal line 23 at the time are outputted from the pixel part 2 as the measuring signals of the fixed pattern noise components due to the dispersion of the electrical characteristics of the route of the signals.例文帳に追加
非有効画素220で第2のトランジスタ222を制御して第1のトランジスタ221のゲートをバイアスし、このときの各垂直信号線23の信号を、当該信号の経路の電気的特性のばらつきに起因した固定パターンノイズ成分の測定信号として画素部2から出力する。 - 特許庁
In a state of displaying a flicker pattern wherein black display parts and neutral color display parts are alternately arranged along a direction of extension of a source line, in a display region DR, a DC level of a voltage applied to a common electrode is adjusted so as to minimize flicker.例文帳に追加
表示領域DRに、黒色表示部と中間色表示部とがソースラインの延びる方向に沿って千鳥状に配列されたフリッカパターンを表示した状態で、フリッカが最小となるように上部共通電極に印加する電圧の直流レベルを調整する。 - 特許庁
In this measuring system, a control generalizing device 5 for controlling generally respective in-line measuring instruments 3a, 3b introduces image informations for a work required for recognition of the work from the measuring instruments 3a, 3b, to generate individual informations (work pattern, position, important dimension and the like) of the work based on the image informations.例文帳に追加
各インライン測定機3a,3bを統括的に制御する制御統括装置5が、インライン測定機3a,3bからワークの認識に必要なワークの画像情報を導入し、この画像情報に基づいてワークの個別情報(ワークパターン、位置、主要寸法等)を生成する。 - 特許庁
Before a communication body, a training part based on a short code diffusion for repeating the same pattern in each symbol length is formed, and the propagation of a transmission line is measured by the training part while setting the length of the short code as a measuring section and setting the N periods of a carrier as the time resolution of measurement.例文帳に追加
通信本体に先立ち、シンボル長毎に同一パターンを繰り返すショートコード拡散によるトレーニング部を設け、トレーニング部を用いて前記ショートコードの長さを測定区間とし搬送波のN周期分を測定の時間分解能にして伝送路の伝播測定を行なう。 - 特許庁
To provide a simple flaw inspection device, capable of inspecting flaws of a substrate, without shortening the wavelength of an illumination light source, even when the line width of the repeated pattern on the substrate is fine enough to exceed the lower light value (lower limiting value, based on the wavelength of the illumination light source) in the conventional device.例文帳に追加
基板上の繰り返しパターンの線幅が従来装置における下限値(照明光源の波長に基づく下限値)を超えて微細な場合でも、照明光源の波長を短くすることなく基板の欠陥検査を行える簡易な欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
This non-contact data carrier 42 has 1st and 2nd antenna coils composed of a circulating line pattern formed on one surface 39A of an insulating substrate 39 and an IC chip 38 connected to one end of the inner circumferential side of the 1st antenna coil and one end of the inner circumferential side of the 2nd antenna coil.例文帳に追加
非接触式データキャリア42は、絶縁基材39の一方の面39Aに形成された周回する線パターンからなる第1および第2のアンテナコイルと、第1のアンテナコイルの内周側の一端と第2のアンテナコイルの内周側の一端とに接続されたICチップ38とを有する。 - 特許庁
This pattern 3 has current introducing pads 4 and 4 for receiving the supply of a current on its left and right end parts and at the same time, bonding pads 5 are respectively projected between the laser diode arrays corresponding to the laser diodes 1 and the bonding pads 5 are wire-bonded with a package side power supply line 9 formed in the vicinity of the substrate 2.例文帳に追加
この電源パターン3は左右端部に電流の供給を受ける電流導入パッド4、4を有すると共に、各レーザダイオード1に対応するレーザダイオード列の各間にボンディングパッド5を突設し、基板近傍に形成したパッケージ側電源ライン9にワイヤボンディング接続した。 - 特許庁
A first mark M1 and a second mark M2 are formed on the surface of a wafer W, as a mark M measured by scatterometry, so that they are a line and space pattern in which they are repeated on the surface of the wafer W in the direction orthogonal to each other at a different pitch.例文帳に追加
スキャッタロメトリによって計測されるマークMとして、第1マークM1と第2マークM2とのそれぞれを、ウエハWの面において互いに直交する方向であって互いに異なったピッチで繰り返されたライン・アンド・スペース・パターンになるように、ウエハWの面に形成する。 - 特許庁
A digital display parts 31-36 are arranged in a matrix pattern of 3×3 in which passing type initial prize ports 21-23 arranged in one vertical row is made to form a second line and pseudo display locations in a matrix of 3×3 corresponding thereto are disposed on a liquid crystal display part 60.例文帳に追加
縦一列に並べた通過型始動入賞口21〜23を第2列とした縦3列横3行の行列形式にデジタル表示部31〜36を配置し、これに対応した3×3の行列状の疑似表示箇所を液晶表示部60上に設ける。 - 特許庁
A binarizing part 2 binarizes a video signal VD1 to be inputted from an A/D converter 12 and a video signal VD2 to be outputted from a line memory 1, by using a mean luminance value LU to be applied from an in- detecting window video signal processing part 5 as a threshold value, and outputs a binary pattern BI.例文帳に追加
2値化部2はA/Dコンバータ12より入力される映像信号VD1およびラインメモリ1から出力される映像信号VD2を検出ウィンドウ内映像信号処理部5から与えられる平均輝度値LUをしきい値として2値化し、2値化パターンBIを出力する。 - 特許庁
The clear case formed by bending a transparent plastic sheet is provided with an embossed part (11) with an uneven height difference of ≥0.01 mm and <0.3 mm and a line pitch of ≥0.01 mm and <0.3 mm on the surface of the plastic sheet (10) in a pattern-like form.例文帳に追加
透明なプラスチックシートを折り曲げ加工して形成されたクリアケースであって、プラスチックシート(10)の表面に凹凸の高度差が0.01mm以上、0.3mm未満で、線ピッチが0.01mm以上、0.3mm未満の凹凸部(11)がパターン状に設けられている。 - 特許庁
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