「line-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(67ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a radiation-sensitive resin composition for a chemically amplifying resist having excellent sensitivity even at a low PEB (post exposure baking) temperature, highly balanced lithographic performances such as LWR (line width roughness) and DOF (depth of focus), and sufficient etching durability, and to provide a pattern forming method, a polymer and a compound of the composition.例文帳に追加

ＰＥＢ温度が低温であっても、感度等に優れ、ＬＷＲ、ＤＯＦ等のリソグラフィー性能が高度にバランスし、エッチング耐性をも十分に満足する化学増幅型レジスト用の感放射線性樹脂組成物、そのパターン形成方法、その重合体、及び化合物を提供する。 - 特許庁

Then, when the pattern variable display device 13 is stopped to make a display, if the combination of figures stopped as displayed on a valid line, a bonus game is executed in which a large number of game balls are put out together with prize balls for a short period of time from a game ball putout device.例文帳に追加

そして、図柄変動表示装置１３が停止表示されたときに、有効ラインに表示される停止図柄の組み合わせが特定の組み合わせであると、遊技球払出装置により短期間に大量の遊技球が賞球と払出されるボーナスゲームが実行される。 - 特許庁

To provide an organic electroluminescence element in which a luminous pattern of fine line width can be formed in any shape, and improvement of manufacturing efficiency and reduction of manufacturing cost can be made by forming easily a layer of uniform thickness, and a manufacturing method of the organic electroluminescence element.例文帳に追加

微細な線幅の発光パターンを任意の形状に形成可能であり、しかも層厚が均一な層を容易に形成して生産効率の向上や、製造コストの低減が可能な有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The flexible wiring board comprising a base material made of a flexible film and a wiring pattern formed on one side or both sides of the base material, is characterized by being equipped with a bending auxiliary section for facilitating bending with the edge line of the bending section as a boundary.例文帳に追加

フレキシブルフィルムで構成されたベース材料と、前記ベース材料の片面または両面に形成された配線パターンとで構成されたフレキシブル配線基板において、前記フレキシブル配線基板が、折り曲げ部のエッジラインを境に、折り曲げを容易にする折り曲げ補助部を具備したことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when a source of light with 157 nm is used, having a wide defocus latitude, less liable to cause line edge roughness, free of concern for negative formation because a resist film is substantially thoroughly dissolved when developed with a developer and ensuring slight trailing of a line-and-space pattern.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、デフォーカスラチチュードが広く、ラインエッジラフネスが発生し難く、現像液で現像した際にレジスト膜が実質的に完全に溶解してネガ化の懸念がなく、ラインアンドスペースパターンの裾引きが小さいポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

An index pattern paper 7 has a TV outer line index 71 representing an outer size of a flat-panel television T with a full scale; and screw position indexes 72, 73 representing positions at which support fittings 2 are secured with screws disposed at four right-left symmetrical positions in an inner peripheral area of the TV outer line index 71.例文帳に追加

指標型紙７に、薄型テレビＴの外観サイズを原寸指標するテレビ外形線指標７１と、その内周域に支持金具２をビス固定する位置を左右対称となる４カ所に配して指標せしめたビス位置指標７２、７３とを指標せしめて、壁面に仮止めし、各ビス位置指標７２、７３に紙面上から壁面にビス止め位置の目印痕を付けて支持金具２を順次にビス固定するよう指標する。 - 特許庁

A shape of a resonator pattern of the filter with the resonator formed on a board is configured to comprise a circular-arc part 221, first and second straight line parts 222, 223 and first and second connection parts 224, 225 respectively placed between both sides of the circular-arc part 221 and the first and second straight line parts 222, 223.例文帳に追加

基板上に共振器が形成されてなるフィルタにおいて、共振器のパターン形状が、円弧部分２２１と、この円弧部分２２１から想定される円の直径よりも小さい間隔で互いに平行な第１、第２の直線部分２２２、２２３と、円弧部分２２１の両側と第１、第２の直線部分２２２、２２３との間にそれぞれ設けられた第１、第２の接続部分２２４、２２５とを有するものとなっている。 - 特許庁

Provided is a pattern for a gravure screen used for manufacture of a gravure printing plate, in which a plurality of square-shaped exposure parts are regularly arranged vertically and horizontally at predetermined intervals, and each of the square-shaped exposure parts and the square-shaped exposure part adjacent to a direction of one diagonal line thereof have a line-shaped exposure part connecting at vertices of angles facing each other.例文帳に追加

グラビア印刷版の作製に用いるグラビアスクリーンのパターンであって、 複数の正方形状の露光部分が所定の間隔をおいて縦横に規則正しく配置され、 かつ、前記の各正方形状の露光部分と、その一方の対角線の方向に隣り合った正方形状の露光部分とは、互いに対向する角の頂点にて連結する線状の露光部分を有することを特徴とする、グラビアスクリーンのパターン。 - 特許庁

Concerned M×(N+1) pixels on an SRAM101 are read out, smoothing is performed by a pattern matching circuit 102, the 1st line is outputted as VDATA1 by a horizontal synchronizing signal LSYNC1, and the 2nd line is temporarily stored on a FIFO memory 103 by the horizontal synchronizing signal LSYNC1 and afterwards outputted as VDATA2 by a horizontal synchronizing signal LSYNC2.例文帳に追加

ＳＲＡＭ１０１におけるの注目画素のＭ×（Ｎ＋１）画素の読み出しを行い、パターンマッチング回路１０２により、平滑化処理を行い、１ライン目は水平同期信号ＬＳＹＮＣ１によりＶＤＡＴＡ１として出力し、２ライン目は水平同期信号ＬＳＹＮＣ１により一度ＦＩＦＯメモリ１０３に蓄えられた後、水平同期信号ＬＳＹＮＣ２によりＶＤＡＴＡ２として出力する。 - 特許庁

A semiconductor chip 213 having a high frequency semiconductor element secured to a substrate 212 is wired to a conductor pattern formed on the substrate 212 by a bonding wire, and the bonding wire is connected to a bonding position J in the way of a distributed constant line formed by the conductor pattern so that a first inductor L22 and a second inductor L23 are handled separately and subjected to frequency matching or output load matching.例文帳に追加

基板２１２に固定した高周波用半導体素子を有する半導体チップ２１３を、基板２１２に形成された導体パターンにボンディングワイヤにより配線するとともに、前記ボンディングワイヤを、前記導体パターンにより形成された分布定数線路の途中にボンド位置Ｊに接続して前記第１のインダクタＬ２２と第２のインダクタＬ２３とに分割して取り扱い周波数整合または出力負荷整合されている。 - 特許庁

In a suspension substrate 1 having a base layer 6 on which a conductor circuit pattern 4 is formed such that the line width Lw and/or the space width Sw are wide in the intermediate region 10 but narrow in the opposite end regions 11, the base layer 6 is formed thick in the intermediate region 10 where the conductor circuit pattern 4 is formed and formed thin in the opposite end regions 11.例文帳に追加

中間領域１０において、ライン幅Ｌｗおよび／またはスペース幅Ｓｗがより広く形成され、また、両端領域１１において、ライン幅Ｌｗおよび／またはスペース幅Ｓｗがより狭く形成されている導体回路パターン４がベース層６上に形成されている回路付サスペンション基板１において、その導体回路パターン４が形成されるベース層６の中間領域１０をより厚く、両端領域１１をより薄く形成する。 - 特許庁

To rationally manufacture a conveyor belt producing no step at a bonded portion of a film composing the conveyor belt and no fold line of the conveyor belt in manufacturing a tubular conveyor belt on which an electrode pattern is formed to absorb an item to be recorded such as a recording paper sheet and the like by an electrostatic force.例文帳に追加

記録用紙等の被記録媒体を静電的な力によって吸着するために電極パターンが形成された管状の搬送ベルトを製造する際に、搬送ベルトを構成するフィルムの接合個所で段差が生じることがなく、また、搬送ベルトに折り目が付くことがなく、搬送ベルトを合理的に製造する。 - 特許庁

To provide a transmission device for video data in which the power consumption and EMI radiation level can be reduced by suppressing variation of the whole internal video data even when an image having a repetition of a pattern frequently changing in the display state of pixels in the same line, over a plurality of lines is displayed.例文帳に追加

同一ライン中で画素の表示状態が頻繁に変化するパターンが、複数のラインに渡って繰り返されている画像を表示する場合であっても、内部映像データ全体の変化を抑制し、消費電力およびＥＭＩ輻射レベルを削減可能な映像データの伝送装置を実現する。 - 特許庁

The configuration, in which the datum lines Lr aligned in the sub-scanning direction X is captured by the line camera 50, can control a position of a pattern to be formed on the substrate W in the sub-scanning direction by a simple configuration compared with the conventional technique using an encoder.例文帳に追加

このように、副走査方向Ｘに並んで形成された基準線Ｌrをラインカメラ５０で撮像するといった構成を備えることで、エンコーダを用いた従来技術と比較してより簡便な構成によって、基板Ｗに形成されるパターンの副走査方向Ｘへの位置を制御することができる。 - 特許庁

An electromagnetic wave shielding sheet 20 is manufactured, in such a way that after a copper foil mesh 3 forming a geometrical mesh pattern composed of many holes 3a and line sections 3b which are composed of copper foil sections surrounding the holes 3a, is obtained by boring the holes 3a through copper foil (metal foil), an adhesive layer 4 is formed on at least one surface of the mesh 3.例文帳に追加

銅箔（金属箔）に多数の孔３ａを穿設し、該孔３ａと、孔３ａの周囲の銅箔部分であるライン部３ｂとからなる幾何学模様のメッシュパターンが形成された銅箔メッシュ３を得た後、この銅箔メッシュ３の少なくとも片面に粘着剤層４を形成して電磁波シールドシート２０を作製する。 - 特許庁

The quantity of crosstalk to superimpose the radiation noise is discriminated and the electrostatic capacitor cells (correct electrostatic capacitor C300 and C301) of values based on this crosstalk quantity are arranged on the input terminal side of differential buffers of the reference signal line 220 in a grid-shaped pattern respectively longitudinally and laterally turning out two patterns.例文帳に追加

放射ノイズが重畳するクロストーク量を判別し、このクロストーク量に基づいてた値の静電容量セル（補正静電容量Ｃ３００，Ｃ３０１）を、リファレンス信号ライン２２０の差動バッファの入力端子側に、二つのパターンをそれぞれ縦方向及び横方向で折り返した格子状パターンで構成して配置する。 - 特許庁

The display panel 10 has pixel formation regions for respective display pixels (color pixels PXr, PXg, and PXb), arrayed in the columnar direction, defined by banks 19 which project from one surface side of an insulating substrate 11, are successively arranged, having a fence- or grating-shaped pattern and also used in common as a common voltage line Lc.例文帳に追加

表示パネル１０は、絶縁性基板１１の一面側から突出し、柵状又は格子状の平面パターンを有して連続的に配設され、共通電圧ラインＬｃとして兼用されるバンク１９により、列方向に配列された各表示画素（色画素ＰＸｒ、ＰＸｇ、ＰＸｂ）の画素形成領域が画定される。 - 特許庁

The receiving interface part of a slow-speed side receiving transmission line is provided with a frame synchronization detecting part for taking frame synchronization and performing synchronous protection, the frame synchronization detecting part detects a frame synchronous pattern in a received signal, and a multi-frame configuration is accordingly identified even at the transparent mode transmission.例文帳に追加

低速側受信伝送路の受信インタフェース部に、フレーム同期をとり、同期保護をおこなうフレーム同期検出部を設けて、そのフレーム同期検出部で、受信信号中のフレーム同期パターンを検出することにより、トランスペレントモード伝送のときでもマルチフレーム構成の識別をおこなうようにする。 - 特許庁

An injection groove 4 is formed by removing a transparent acrylic resin interlayer insulating film 3, placed between thin film transistors and wiring pattern to drive them on the lower side glass substrate 2 and display pixel electrodes, so as to stand in line with an injection port 35 on a rectangular frame 34 made of a sealing resin to enclose a liquid crystal.例文帳に追加

下側のガラス基板２上の薄膜トランジスタおよびこれを駆動するための配線パターンと表示画素電極との間の透明アクリル樹脂製の層間絶縁膜３を、液晶を囲い込むシール樹脂製の矩形枠３４の注入口３５に連なるように除去して注入溝４を作る。 - 特許庁

The underwater floating body is formed by printing a pattern of humankind, fish, an animal, a plant, a toy, or the like, cutting it out in its form, bonding a lead line to the upper part, bonding a floating implement further to the upper part, bonding a weight to the lower part, and pouring water into the container so as to be submerged for appreciation and enjoyment.例文帳に追加

水中浮遊体を薄い板状の表面に人類、魚類、動物、植物、玩具等の図柄を印刷し、その形態に切り抜き上部に道糸を着接し其の上部に浮具を設け、下部に重りを着接し、容器に水を注ぎ其の中に沈める事により観賞し楽しめる事を特徴とする水中浮遊体である。 - 特許庁

The water container 11 is formed by setting up a surrounding wall 13 on a bottom wall and housing a self-heat generation can 80 containing a heat generation substance by addition of water to be added with a predetermined amount of water and is a resin molded article, and a pattern transferred from a molding mold is provided as a water level line on the outer surface of the surrounding wall 13.例文帳に追加

底壁に周壁１３を立設して形成されて、加水発熱物質を収容した自己発熱缶８０が収納されるとともに所定量の水が注がれる水容器１１は、樹脂成形品であって、成形型から転写された模様が水位線として周壁１３の外面に設けられている。 - 特許庁

In this connector connecting device, the periphery surfaces 13, 22 of a male connector 10 mounted on a cable wiring 1 and a female connector 20 mounted on a pattern line 3, which are concealed when the respective connectors are engaged with each other, are colored in a color different from the case colors of the connectors 10, 20.例文帳に追加

ケーブル配線１に装着されたオス型コネクタ１０とパターン線路３に装着されたメス型コネクタ２０とが係合された際に隠蔽される上記各コネクタの外周面１３，２２が，上記各コネクタ１０，２０の外装着色とは異なる色に着色されて構成されたコネクタ接続装置。 - 特許庁

To solve the problem wherein a manufacturing line for laminating photosensitive resin composition by coating composition prepared for coating is made large and long when each layer of a color filter is deposited by performing the lamination, pattern exposure and development of the photosensitive resin composition on a transparent plastic sheet.例文帳に追加

カラーフィルターの各層を透明プラスチックシート上に、感光性樹脂組成物の積層、パターン露光、および現像によって形成する際に、感光性樹脂組成物の積層を、塗布用に調製された組成物のコーティングによって行う際の製造ラインが長大化する点を解消することを課題とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer processing system for improving the manufacturing yield of a semiconductor by drastically making uniform the thickness distribution of a photoresist film on a wafer, for reducing the deviation of the line width of a pattern, and efficiently suppressing the contamination of the wafer in a housing by dust or the like.例文帳に追加

ウェハ上のフォトレジスト膜の厚さ分布が格段に均一になってパターンの線幅の偏差が減少し、しかも塵埃等によるハウジング内におけるウェハの汚染を効率よく抑制することによって、半導体の製造収率を向上させることができる半導体ウェハプロセッシングシステムを提供すること。 - 特許庁

In the charged particle beam scanning method scanning charged particle beams in the prescribed scanning pattern and the charged particle beam device, in accordance with a replacement of a frame, a scanning starting point in the vertical direction of a scanning line is changed by the prescribed amount in the prescribed direction.例文帳に追加

上記目的を達成するための一態様として、所定の走査パターンにて荷電粒子ビームを走査する荷電粒子ビーム走査方法、及び装置において、フレーム更新に従って、走査線の垂直方向における走査始点を、所定の方向に、所定量ずつ変化させる方法、及び装置を提案する。 - 特許庁

The child's clothing management apparatus is connected via a communication line to a clothing database holding appropriate body sizes for a plural kinds of child's clothes as allowable sizes, and a growth pattern database in which a plural kinds of growth patterns showing the relation between the age and the body size of a child is set.例文帳に追加

子供衣類管理装置は、複数種類の子供衣類について着用可能な身体サイズを許容サイズとして保持する衣類データベース、および、子供の年齢と身体サイズの関係を示す成長パターンが複数種類設定されている成長パターンデータベースと通信回線を介して接続される。 - 特許庁

To provide a resist composition that can be preferably used in an ultra-micro lithography process such as manufacture of an ultra LSI and a high-capacity microchip and the other photo-fabrication and is superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

The stop control means changes the number of slip pieces for drawing patterns constituting the pattern combination of a specific prize winning combination, into a position of a validated prize winning line according to the number of game media bet on the game in which the specific prize winning combination is internal won when internally winning the specific prize winning combination.例文帳に追加

停止制御手段は、特定の入賞役に内部当選したとき、当該特定の入賞役に内部当選したゲームに賭けられた遊技媒体の数に応じて、特定の入賞役の図柄組合せを構成する図柄を有効化された入賞ラインの位置に引き込むための滑りコマ数を変化させる。 - 特許庁

In the one line printing processing, the flushing printing is executed on a cloth while moving a cloth holding frame in the forward moving direction in a main scanning direction, and pattern printing is executed on the cloth so as to overlap on the flushing printing while moving the cloth holding frame in the backward moving direction in the main scanning direction.例文帳に追加

その１ライン印刷処理においては、主走査方向において、布保持枠を主走査方向における往動方向へ移動させながら布地にフラッシング印刷を行い、布保持枠を主走査方向における復動方向へ移動させながら、フラッシング印刷に重ねるように布地に模様印刷を行う。 - 特許庁

The diffraction grating pattern 5 is provided with: a first cell 10 in which a blazed grating 11 of diffracting incident light Li in the specified direction is formed on substrate surface; and a second cell 20 in which a blazed grating 21 having the grating line direction different from that of the blazed grating 11 of the first cell 10 by about 180° is formed.例文帳に追加

回折格子パターン５は、基材表面に、入射光Ｌｉを特定方向に回折するブレーズド格子１１が形成された第１セル１０と、第１セル１０のブレーズド格子１１とは、格子線方向が略１８０度異なるブレーズド格子２１が形成された第２セル２０とを備えている。 - 特許庁

At the time of deciding a big bonus as the internal winning role, the CPU (31) decides the order of the stop operation for permitting arrangement along a valid line among a plurality of pattern combinations indicating the winning establishment of the big bonus, and does not hold the result of deciding an increase role as the internal winning role in the next and succeeding games.例文帳に追加

ＣＰＵ（３１）は、ビッグボーナスを内部当選役として決定したとき、ビッグボーナスの入賞成立を示す複数設けられた図柄組合せのうち、有効ラインに沿って並ぶことを許可する停止操作の順序を決定するとともに、増加役を内部当選役として決定した結果を次のゲーム以降に保持しない。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition through which performance improvement technology in the microfabrication of semiconductor elements is provided using high energy rays and high sensitivity, high resolution, good pattern shapes and good line edge roughness are simultaneously satisfied while using electron beams or ion beams.例文帳に追加

高エネルギー線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent positive photoresist composition for exposure to far UV rays and having a wide defocus latitude of an isolated line pattern.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決されたポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、より具体的には、孤立ラインパターンのデフォーカスラチチュードが広い、優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

In a state where a surface 20a to be processed is irradiated with irradiation light 22 from an illumination lamp 32 while conveying an etched substrate 20 to be processed, a line sensor 33 captures image data of the surface 20a to be processed, and an etching pattern formed on the surface 20a to be processed is specified based on the image data.例文帳に追加

エッチング処理が施された被処理基板２０を搬送させながら、被処理面２０ａに照明ランプ３２による照射光２２を照射させた状態で、ラインセンサー３３により、被処理面２０ａの画像データを撮影し、該画像データに基づいて、被処理面２０ａに形成されたエッチングパターンを特定する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using a high energy beam, X-ray, electron beam or EUV light and satisfies high sensitivity, high resolution, good line width roughness and process margin at the same time, and a developer used for the method.例文帳に追加

本発明は、高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネス、プロセスマージンを同時に満足するレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。 - 特許庁

To provide a simply structured substrate exposure apparatus capable of reducing variations in a gap between a substrate to be exposed and a photomask, at a proximity exposure without having to prepare special peripheral equipment for correcting the deflection, thereby attaining reduction in the variations in the line width and the film thickness of a pattern formed on the substrate to be exposed.例文帳に追加

構造が単純であり、撓み補正に特別な周辺機材を準備することなく、被露光基板とフォトマスクとの近接露光時のギャップのバラツキを低減させ、それにより被露光基板に形成されるパターンの線幅、膜厚バラツキの低減を図ることを可能とする基板露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an active light sensitive or radiation sensitive resin composition and a method of forming a pattern using the resin composition improved in line edge roughness, BLOB defects and generation of scum, and having good conformability to an immersion liquid in immersion exposure.例文帳に追加

ラインエッジラフネス、ＢＬＯＢ欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a high frequency attenuator that can be manufactured by a designing method with extra capacity to manufacturing restriction in a process of manufacturing a resistive element or conductive pattern gap that is connected with high frequency transmission line without degrading accuracy in attenuation, and that furthermore attenuates high frequency energy by a minute amount.例文帳に追加

高周波伝送線路に接続された抵抗体すなわち導体パターンギャップ製作工程の製造限界に対して余裕を持つ設計手法により製作でき且つ減衰量の精度を劣化させずに製作可能であり、更に高周波エネルギを微小量だけ減衰させ得る高周波減衰器を提供する。 - 特許庁

The antenna comprises: a printed circuit board formed inside of the radome for protecting the antenna; at least one radiation part which is formed so as to be optimized as a Hilbert-type meander line of a single pattern on the printed circuit board, and generates multiple band resonance frequencies; and a power supply for applying signals to the radiation part.例文帳に追加

アンテナを保護するレードームの内部に形成されるプリント基板と、該プリント基板に単一パターンのヒルベルト型のメアンダーラインとして最適化するように形成されて多重帯域の共振周波数を発生する少なくとも一つの輻射部と、前記輻射部に信号を印加する給電部とが設けられる。 - 特許庁

The interlayer insulation films 47 are formed by screen printing in a fine line shape after forming a high surface free energy region on the wettability changing layer by irradiating a region where the interlayer insulation films 47 are formed in the terminal part 40 with DeepUV rays at a wavelength 254 nm through a photomask with a pattern drawn thereon.例文帳に追加

層間絶縁膜４７は、端子部４０の層間絶縁膜４７を形成する領域にパターンが描画されたフォトマスク越しに波長２５４ｎｍのＤｅｅｐＵＶ光を照射し、濡れ性変化層上に高表面自由エネルギー領域を形成した後、微細なライン形状でスクリーン印刷法によって形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an extremely low carbon steel plate for galvanizing having excellent surface property in which a bamboo grass leaf pattern on a surface of a galvanized steel plate is eliminated, very small scale flaws on the surface of a steel plate for plating are extinguished, and the productivity of a hot rolling line of the steel plate for plating is enhanced.例文帳に追加

亜鉛めっき鋼板の表面における笹の葉模様を解消し、めっき用鋼板の表面における微小スケール疵を消滅せしめ、かつ、めっき用鋼板の熱延ラインの生産性を高めることを可能とする、表面性状の優れた亜鉛めっき用極低炭素鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition for improving the performance of essential micro-photofabrication using far UV light, in particular, ArF excimer laser light, and also to provide a positive photoresist composition for exposure to far UV rays which suppresses pattern collapse or LER (line edge roughness).例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上のための技術における課題を解決するポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、パターン倒れ性、ＬＥＲ（ラインエッジラフネス）が抑制できる遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

When detection signals outputted from each photodetector of the line sensor of an image reading unit 28 are corrected as the inspection chart has been completely read, the correction data corresponding to the combination of the photodetector and the color of a read pattern are read out from the filter correction table 32, and a correction process is carried out by use of the correction data.例文帳に追加

検査チャートを読み取った時に画像読取部２８のラインセンサの各光検出器が出力する検出信号を補正する際、当該光検出器とそのとき読み取っているパターンの色との組合せに対応する補正データをフィルタ補正テーブル３２から読み出し、これを用いて補正を行う。 - 特許庁

To provide a method of inspecting a color filter defect in a color filter substrate which allows extraction of contaminations and defects (singularities) such as white pins on the color filter substrate with high accuracy by simultaneously imaging a color filter pattern by a line sensor and setting an inspection area used as a reference, and comparatively inspecting adjacent repetitive patterns.例文帳に追加

ラインセンサでカラーフィルタパターンを撮像すると同時に基準となる検査エリアを設定し、隣り合う繰り返しパターンを比較検査して、カラーフィルタ基板の異物、白ピン等の欠陥（特異点）を精度良く抽出するためのカラーフィルタ基板のカラーフィルタ欠陥検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A pattern for alignment of a read line is formed outside an effective area part, with respect to an optical element having had a high rotational eccentricity sensitivity with respect to an optical axis and high eccentricity sensitivity in a subscanning direction because the optical element has a power asymmetric with respect to the optical axis, to thereby facilitate the alignment adjustment.例文帳に追加

そこで、本発明では、光軸非対称なパワーを有することが原因で、光軸に対して回転の偏心敏感度や副走査方向の偏心敏感度の高かった光学素子に対して、読み取りラインのアライメント用のパターンを有効領域部外に形成し、アライメント調整を容易に行えるようにした。 - 特許庁