「line-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(68ページ目) - Weblio英語例文検索

The lamp unit 40 includes a reflector 47 to reflect direct light of an LED 25 arranged backward of a projection lens 45 to the front, and a shade 49 to form a cutoff line of the light distribution pattern by shielding one part of reflected light from the reflector 47 and one part of the direct light from the LED 25.例文帳に追加

灯具ユニット４０は、投影レンズ４５の後方に配置されたＬＥＤ２５の直接光を前方に反射させるリフレクタ４７と、リフレクタ４７からの反射光の一部及びＬＥＤ２５からの直接光の一部を遮蔽して配光パターンのカットオフラインを形成するシェード４９と、を備える。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming a pad oxide film on a semiconductor substrate, forming a silicon nitride film on the pad oxide film, and providing a resist pattern containing at least one droplet capturing area in plan view, in an area that serves as a scribe line on the silicon nitride film.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、半導体基板上にパッド酸化膜を形成する工程と、パッド酸化膜上にシリコン窒化膜を形成する工程と、シリコン窒化膜上のスクライブラインとなる領域に平面から見て少なくとも１つの水滴捕獲領域を含むレジストパターンを設ける工程とを有している。 - 特許庁

A geometrical shift at the time of overlapping the images of the rectangular pattern 50 viewed when moving the eyeglass lenses 10 by a first horizontal angle to right and left with a head in a range without moving a sight line from the geometrical center 55 so that the geometrical centers 55 of the images coincide with each other, is obtained as shake indices IDd and IDs.例文帳に追加

視線が幾何学的中心５５から動かない範囲で頭部とともに眼鏡用レンズ１０を第１の水平角度だけ左右に動かしたときに見える矩形模様５０の画像を幾何学的中心５５が一致するように重ね合わせた際の幾何学的なずれをゆれ指標ＩＤｄおよびＩＤｓとして求める。 - 特許庁

Further, since conventionally the connection test has been conducted between the logic section and the line address, the column address in the whole LSI operation test resulted in low defect detection rate; however it can be conducted in a scan test and a test pattern which has a high detection rate of the circuit defects can be created automatically.例文帳に追加

さらには、ロジック部とメモリ間の行アドレス及び列アドレスの接続テストを従来は、ＬＳＩ全体の実動作テストで行っていたため、回路の故障検出率を低かったが、この発明によりスキャンテストにより行うことができ、回路の故障検出率が高いテストパターンを自動で作成することができる。 - 特許庁

The manufacturing method of the electronic part includes steps of cutting a wiring board having a base substrate, a wiring pattern 18 formed on the first surface of the base substrate and a reinforcement member 20 provided on the second surface of the base substrate, and cutting the wiring board along a line which intersects with the periphery of the reinforcement member 20.例文帳に追加

電子部品の製造方法は、ベース基板と、ベース基板の第１の面に設けられた配線パターン１８と、ベース基板の第２の面に設けられた補強部材２０とを有する配線基板に切断加工を行って、配線基板を、補強部材２０の外周と交差する線に沿って切ることを含む。 - 特許庁

To provide a combined structure body of a chassis and a printed board provided with a signal transmission line of high frequency signals capable of being prepared without depending on the thickness of the printed board, for which an area to form a conductive pattern is not reduced, the need of the process of soldering or the like is eliminated and its attaching process is not complicated.例文帳に追加

プリント基板の厚さに依存することなく作成でき、導電パターンを形成する領域を減少させることなく、また、半田付け等の工程を必要とせずその取り付け工程が複雑でない、高周波信号の信号伝送線路を有するシャーシとプリント基板の組合せ構造体を提供する。 - 特許庁

In the reflecting surface 24a of a reflector 24, a part of a reflective region 24a1 contributing to formation of the opposing lane side horizontal cutoff line of a light distribution pattern for the low beam is formed as a reflecting surface 24e for condensation to reflect light from a light source 22a toward the vicinity of the rear side focus F of a projection lens 28.例文帳に追加

リフレクタ２４の反射面２４ａにおいて、ロービーム用配光パターンの対向車線側の水平カットオフラインの形成に寄与する反射領域２４ａ１の一部を、光源２２ａからの光を投影レンズ２８の後側焦点Ｆ近傍へ向けて反射させる集光用反射面２４ｅとして構成する。 - 特許庁

To make a circuit small-sized by saving an area on a coplanar plane circuit board that a coupling portion requires while suppressing an unnecessary propagation mode resulting from the presence of a signal input/output line itself and to make it easy to independently adjust parameters of an external coupling quantity, a resonance frequency, etc., after the generation of a circuit pattern.例文帳に追加

信号入出力線自身の存在による不要な伝搬モードを抑制しつつ、結合部が要するコプレーナ平面回路基板上の面積を節約して回路の小型化を図り、かつ回路パターン生成後の外部結合量、共振周波数等のパラメータの独立した調整を容易とする。 - 特許庁

To provide an image forming device mounted with a dividing optical scanner to divide and expose plurally by a plurality of laser beams, which can prevent a line pattern or turbulence of an image which is generated in a joint paying attention to a kind of information in a near area including an overlap area.例文帳に追加

複数のレーザビームによって、複数に分割露光する分割光走査装置を搭載した画像形成装置において、オーバーラップ領域を含むその近傍の領域における情報の種類に着目し、当該つなぎ目で発生する筋模様や画像の乱れを防止することができる画像形成装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a partially hydrophilic sheet in which whole layer of a thick and hydrophilic nonwoven cloth or a piece of paper is made hydrophobic in pattern-like state and applicable for multipurpose uses such as a simple printing plate material, a line drawing for coloring or an embossed drawing by an aqueous coloring agent and a member of a tacky sheet combined with a sterilizing gauze.例文帳に追加

厚手の親水性を有する不織布又は紙の全層がパターン状に疎水性化されていて、簡易型の印刷用版材や水性着色剤による塗り絵、浮き出し絵のほか、消毒ガーゼ等を兼ねた粘着シートの部材など多目的に使用できる部分親水性シートを提供する。 - 特許庁

When a front frame 20 is opened, by interrupting a detection signal transmission line 54 and disabling the transmission of detection signals from a touch detection means 24 to a hitting control circuit 32, a drive unit 42 is driven and displaced on the basis of a holding energizing pattern, and a hitting rod 50 is stopped and held at a prescribed position.例文帳に追加

前枠２０が開けられた場合に、検出信号伝送路５４を遮断してタッチ検出手段２４から発射制御回路３２への検出信号の伝送を不能にすることにより、保持通電パターンに基づいて駆動装置４２を駆動変位せしめて、発射杆５０を所定の位置で停止保持するようにした。 - 特許庁

To provide a polymer which has dry etching resistance, is high in sensitivity, resolution and light transmittance, when used for resist compositions for DUV excimer laser lithography or the like, has small line edge roughness of resist patterns and can resist to thin resist films, to provide a resist composition, and to provide a method for producing a substrate on which a resist pattern is formed.例文帳に追加

ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、レジストパターンのラインエッジラフネスが小さく、レジスト膜の薄膜化に耐えることができるドライエッチング耐性を有する重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metal transfer plate usable for producing a multi-layered printed wiring board which solves problems wherein large damage is given to a copper wiring pattern in a final soft etching process and inter-line insulation reliability is low since unwanted base copper layer between the copper wiring patterns can not be completely removed.例文帳に追加

最後のソフトエッチング工程では銅配線パターンに強いダメージを与え、しかも銅配線パターン間の不要となった下地銅層を完全に除去できず、線間絶縁信頼性が低かったという問題を解決できる多層プリント配線板の製造に用いることのできる金属転写板を提供する。 - 特許庁

This pleated skirt for students is obtained by sewing a fabric cut along a paper pattern having at least one or more darts around left and right trunk parts of the hem part so that the circumferential width of the hem part of a front body and a back body is rather short than that of the hip part and making the silhouette line of the waist-hip-hem appear beautiful.例文帳に追加

本発明は、裾部の左右胴部周辺にダーツを少なくとも１ケ以上設けた型紙に沿って裁断した生地を、前身頃及び後見頃裾部の円周幅がヒップ部より短めになるように逢着し、ウエスト−ヒップ−裾のシルエットラインが綺麗にでるようにした学生用のプリーツスカートに関するものである。 - 特許庁

Each correlation between a normalized light quantity distribution acquired by normalizing an output from the line sensor and an approximate expression acquired by approximating a light quantity distribution pattern by Fresnel diffraction is calculated, respectively, by differentiating a reference position in the approximate expression, and a position where a correlation value is peaked is detected as the edge position of a detection object.例文帳に追加

ラインセンサの出力を正規化処理した正規化光量分布と、前記フレネル回折による光量分布パターンを近似した近似式との相関を該近似式における基準位置を異ならせてそれぞれ計算し、相関値がピークとなる位置を前記被検出体のエッジ位置として検出する。 - 特許庁

The uppermost inspecting wiring pattern 7 is formed along a single continuous line, so that it crosses all inspecting wiring patterns 31-33, 51-53 lower than it, it passes through all regions 81-89 having different overlapping states of these lower inspecting wiring patterns, and electrode pads 76, 77 are formed at both ends thereof.例文帳に追加

最も上側の検査用配線パターン７を、これより下側の全ての検査用配線パターン３１〜３３，５１〜５３と交差するように、且つ、これら下側の検査用配線パターンの重なり状態が異なる全ての領域８１〜８９を通るように一筆書きで形成し、両端に電極パッド７６，７７を形成する。 - 特許庁

The information transmission means 69 of the main control means 60a performs control so as not to transmit information relating to the drawing result of a symbol combination to the sub control means 60b in games after a game in which the special symbol combination is won until a pattern combination corresponding to the special symbol combination stops on an effective line.例文帳に追加

メイン制御手段６０ａの情報送信手段６９は、特別役に当選した遊技以降の遊技であって特別役に対応する図柄の組合せが有効ラインに停止するまでの遊技では、役の抽選結果に係る情報をサブ制御手段６０ｂに送信しないように制御する。 - 特許庁

A microcomputer 26 provided for a rear ECU 24 controls LED drivers (a scan driver 27 and a data driver 28) so as to turn on and display the LED plate 23 with a lamp pattern read from a data storage part 29 based on a lamp command signal inputted from a lamp system multiplex communication line or the like.例文帳に追加

そして、リアＥＣＵ２４に備えられるマイコン２６が、灯火系多重通信線などから入力される灯火指令信号に基づき、データ記憶部２９から読み出した灯火パターンでＬＥＤ板２３を灯火表示するように、ＬＥＤドライバ（走査ドライバ２７およびデータドライバ２８）を制御する。 - 特許庁

To provide a high-frequency printed board design support device capable of carrying out electric property design rule checking on-time in a pattern design of a high-frequency printed board having transmission line property, without design and analysis being divided, and without needing knowledge of electric property and an analysis technique.例文帳に追加

伝送線路特性を有する高周波プリント基板の設計支援装置において、高周波プリント基板のパターン設計で、設計と解析が分業されず、電気特性の知識や、解析テクニックを必要とせず、電気特性デザインルールチェックが、オンタイムで実施できる高周波プリント基板板設計支援装置を提供する。 - 特許庁

Since the output currents are outputted as the video signals by using signals having a frequency ϕVSn which is lower than that ϕHSm of signals given to a horizontal selection line 5, the influence of capacitive coupling can be reduced even when the ON-resistances of the MOS transistors T3 which cause the fixed-pattern noise are reduced.例文帳に追加

よって、水平選択線５に与えられる信号φＨＳｍよりも低周波の信号φＶＳｎによって出力電流が映像信号として出力されため、固定パターンノイズの原因となるＭＯＳトランジスタＴ３のＯＮ抵抗を小さくしても、容量結合による影響を小さくすることができる。 - 特許庁

To provide a vehicular head light configured to form a predetermined light distribution pattern having a cutoff line on its upper edge by the light irradiation from a plurality of lighting fixture units, optical axes of which units are adapted to be collectively adjusted while the thickness reduction of the lighting fixtures are achieved without complicating the lighting fixture structure.例文帳に追加

複数の灯具ユニットからの光照射により、上端縁にカットオフラインを有する所定の配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、灯具の薄型化を図った上で、灯具構成を複雑化することなく、複数の灯具ユニットの光軸調整を一括して行えるようにする。 - 特許庁

Information area read while directing the longitudinal direction of lines (92) on a measuring line pattern including a plurality of lines (92) formed of dot rows corresponding to recording elements respectively to a sub-scanning direction of an image reading apparatus, and reducing the read resolution of the sub-scanning direction of the image reading apparatus as compared to the reading resolution of a main scanning direction.例文帳に追加

各記録素子に対応したドット列による複数のライン（92）を含んだ測定用ラインパターン上のライン（92）の長手方向を画像読取装置の副走査方向に向け、当該画像読取装置の副走査方向の読取解像度を主走査方向の読取解像度に比べて低解像度として読み取りを行う。 - 特許庁

The developing device is provided with an atmospheric pressure measuring part 101, and a control part 106 controls the projection pressure of a developing solution 105 projected from a nozzle 103 by a developing solution projection part 104 on the basis of correlation information between dimensional errors in the line width of a pattern which are generated under a plurality of atmospheric pressures and the measured atmospheric pressures.例文帳に追加

現像装置に気圧計測部１０１を設け、制御部１０６が複数の気圧下において生じるパターンの線幅の寸法との誤差を計測した気圧との相関関係情報を基に、現像液射出部１０４がノズル１０３から射出する現像液１０５の射出圧を気圧に応じて制御する。 - 特許庁

When an up-shift command is output, maximum wheel driving force F is obtained based on an engine load corresponding to present vehicle speed on the down-shift line in a high speed stage in a shifting pattern or the gear ratio of the high speed stage.例文帳に追加

S11 では、変速パターンにおける高速段から現在の変速段へのダウンシフト線上での現在の車速に対応するスロットル開度TVO _DWN を検索し、S12 で、TVO _DWN およびN _t から、高速段での最大タービントルクＴ_t (2) を検索し、S13 で、Ｔ_t (2) と、高速段ギヤ比Ｇ_RTO (2) と、定数ｋとを掛けて高速段での最大車輪駆動力F2を算出する。 - 特許庁

When a third reel 9c is stopped with predetermined timing at this time, the symbol '7' when a BB winning flag is released by conducting realized bonus distributing drawing or a pattern 'BAR' otherwise stops on the prize line 45 in the center and the BB shifting bonus or the RB shifting bonus is won.例文帳に追加

このときに、所定のタイミングで第３リール９ｃを停止させると、放出役振り分け抽選を行ってＢＢ当選フラグを放出させる場合には絵柄「７」が、それ以外の場合には絵柄「ＢＡＲ」が中央の入賞有効ライン４５上に停止して、ＢＢ移行役又はＲＢ移行役が入賞する。 - 特許庁

In the Japanese kana syllabary key arrayed part 10 where keys are arrayed in 5 steps of 10 columns, the Japanese kana syllabary arrayed part 10 is put into an array configuration that both the column directions and the step directions are arranged in tile pattern, and the keys allocated with each line of the Japanese kana syllabary by each column are provided in a keyboard main body 1 of a keyboard 100.例文帳に追加

１０列５段にキーが配列される、かなキー配列部１０において、そのかなキー配列部１０を列方向、段方向ともに整列した升目状の配列形態とするとともに、各列毎に、かな五十音の各行を割り付けたキーをキーボード１００のキーボード本体１に備える構成にした。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤160 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to specifically provide a positive resist composition which exhibits satisfactory transmittance when a light source of 157 nm is used, ensures good pattern profile and line edge roughness, and produces little residue on development (scum).例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、パターンプロファイルとラインエッジラフネスの特性が良好で、現像残渣（スカム）の少ないポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The method includes: (a) making a molding material 10 get in line contact with an open molding mold 16 and stamping a microfluid treatment structure pattern on the molding material 10 to mold a molding; and (b) separating the molding from the molding surface.例文帳に追加

（ａ）成形可能材料（１０）と成形面を有する開放成形型（１６）とを互いに線接触させて、ミクロ流体処理構造パターンを成形可能材料（１０）上に捺印することにより、成形品を形成することと、（ｂ）成形品を成形面から分離することとを含む成形品を作製する方法。 - 特許庁

To provide a resin having a uniform composition distribution, to provide a production method for supplying the same in excellent reproducibility, to provide a positive type photosensitive composition having an improved resist performance (LER (line edge roughness), further exposure latitude) by a positive type photosensitive composition containing the resin and to provide a method for forming a pattern, using the same.例文帳に追加

組成分布が均一な樹脂、およびそれをを再現性良く供給できる製造方法を提供し、さらに、それを含有するポジ型感光性組成物によってレジスト性能（ＬＥＲ（ラインエッジラフネス）・露光ラチチュード）が改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is used in the manufacturing step of a semiconductor such as an IC, in manufacturing step of a circuit board such as liquid crystals and thermal heads, and other photofabrication steps, having an excellent resolution and line edge roughness; and to provide a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

With this, a combination (RGBY) of light beams of each color reflected at the reflecting member is reversed as to a relative relation in a progressing direction line position of each color from a combination of light beams not reflected at the reflecting member to cancel color unevenness at end parts of an illumination pattern, so that color-mixing properties are improved with restraint of efficiency degradation.例文帳に追加

これにより、反射部材で反射された各色の光線の組（ＲＧＢＹ）は、各色の進行方向の相対関係が、反射部材で反射されない光線の組と比較して逆転し、照射パターン端部の色むらが打ち消されるため、効率低下を抑えて、混色性を向上することができる。 - 特許庁

The first rendering mode decision means 2958a determines a rendering pattern for a "ultra-big chance" rendering as a rendering which is executed to determine whether a ready-for-win state is formed in a valid line within the set frequency of a variation rendering at a prescribed ratio after the presentation of the set frequency of the variation rendering at the start of rendering.例文帳に追加

第一演出態様決定手段２９５８ａは、演出開始時に変動演出の設定回数を提示した後、この変動演出の設定回数内に有効ライン上にリーチ状態が形成されるか否かを実行する演出となる「ドデカチャンス」演出の演出パターンを所定割合で決定するものである。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which solves problems relating to the techniques to improve the performance in microfabrication of semiconductor elements using high energy beams, in particular, which has high sensitivity and high resolution and satisfies both of a preferable pattern profile and line edge roughness for KrF excimer laser, X-rays, electron beams or ion beams.例文帳に追加

高エネルギー線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

On a screen shown in Fig. 10 (A), three special patterns '7' are arranged on a big hit line inclined to the right side, but the color of spotlight applied onto the center special pattern is blue, while the color of spotlight applied onto two other special patterns is red, and since the colors are not coincident, it is a miss.例文帳に追加

図１０（Ａ）に示す画面では、右下がりの大当りラインには、３つの特別図柄「７」が揃っているが、中央の特別図柄の上に当てられているスポットライトの色彩が青色であり、他の２つの特別図柄の上に当てられているスポットライトの色彩が赤色であり、色彩が一致しないため、ハズレとなる。 - 特許庁

When the player presses a your technique level key 630 on a technique level guide image, this drum type game machine statistically processes the shift amount of the position of a target pattern and a valid line on which the patterns of a role should be arranged at the time of a reel stopping operation and displays the technique level 804 of the spot pushing of the player at a variable display device 609.例文帳に追加

回胴式遊技機は、遊技者が技術レベル案内画面であなたの技術レベルキー６３０を押すと、リール停止操作時における狙った図柄の位置と役の図柄を揃えるべき有効ラインとの偏移量を統計処理し、遊技者の目押しの技術レベル８０４を可変表示装置６０９に表示する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition simultaneously satisfying sensibility, high resolution, a pattern profile, line edge roughness and dry etching resistance, particularly in lithography using an electron beam, an X-ray or EUV light as an exposure light source, as well as a resist film and a patterning method using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

On the basis of prize winning of a ball in a start prize winning hole 20, picture pattern fluctuation play is executed on a variable display device 30 and when reach display appears in the middle of that play, the reach display is transited to the great success display with a prescribed probability corresponding to the size of respective display parts arranged on a reach line.例文帳に追加

始動入賞口２０への球の入賞に基づき、可変表示装置３０で図柄変動遊技が実行され、その途中でリーチ表示が出現した場合には、リーチライン上に並ぶ各表示部３１の大きさに対応する所定確率で、リーチ表示から大当たり表示へと移行する。 - 特許庁

To prevent deterioration of a reflection characteristic and the increase of pass loss in a full frequency band, in the case of constructing a transmission line provided with a desired frequency characteristic by forming an electrode elimination pattern on a ground plane.例文帳に追加

接地面に電極削除パターンを形成することにより、所望の周波数特性を備えた伝送線路を構成する際、反射特性の劣化と通過損失の増大の問題を回避するとともに、所望の周波数特性を備えた伝送線路、フィルタ、デュプレクサおよびそれらを用いた通信装置を提供する。 - 特許庁

To solve the problems of a performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device and to provide a negative resist composition which simultaneously satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good line edge roughness particularly in microfabrication of a semiconductor device using an electron beam or X-ray.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線又はＸ線を用いた半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

In a photograph vending machine, a plurality of image regions "B", "O", "N" are set for a pattern image "BON" to be inputted and edited into a photographed image, and control information for controlling to display the image while changing the image according to a reference line based on the locus of a touch pen is set for each image region.例文帳に追加

写真自動販売機においては、撮影画像に編集入力される模様画像「ＢＯＮ」に対して複数の画像領域「Ｂ」，「Ｏ」，「Ｎ」が設定され、各画像領域に対して、タッチペンの軌跡に基づいた基準線に応じて変化させて表示する制御を行なうための制御情報が設定される。 - 特許庁

To effectively use the interiors of trench regions for a wiring, to contrive reduction in a chip size, to reduce the size of a cell pattern in the direction intersecting orthogonally a word line in the case where a semiconductor device is applied to the memory cell of a CMOS STRAM, and to enable the speedup of the STRAM in the device using a trench element isolation structure.例文帳に追加

トレンチ型素子分離構造を用いた半導体装置において、トレンチ領域の内部を配線のために有効に活用し、チップサイズの縮小化を図り、ＣＭＯＳ型のＳＲＡＭのメモリセルに適用した場合には、ワード線に直交する方向のセルパターン寸法を縮小化し、ＳＲＡＭの高速化を実現する。 - 特許庁

The shade mechanism 29 is provided with a first movable shade 33 which moves between a shield position to form a cut-off line and a shield relaxation position and a second movable shade 37 which moves between an additional shield position which increases shielding volume more than the light distribution pattern which the first movable shade 33 forms at the shield position and a retreating position.例文帳に追加

シェード機構２９は、カットオフラインを形成する遮蔽位置と遮蔽緩和位置との間を移動する第１可動シェード３３と、第１可動シェード３３が遮蔽位置において形成する配光パターンよりも遮蔽量を増加させる付加遮蔽位置と退避位置との間を移動する第２可動シェード３７と、を備える。 - 特許庁

To appropriately perform the matching of the color tone of a printing machine to a specimen or the like by feeding back post-printing color tone which is detected by installing a sensor on the line of the printing machine in the consideration of dry-down with respect to an image display apparatus and method for printing pattern, and a printing color tone control apparatus and method.例文帳に追加

印刷絵柄の画像表示装置及び方法並びに印刷色調制御装置及び方法に関し、印刷機のライン上にセンサを取り付けて検出される印刷後の色調をフィードバックして印刷機の色調を見本等に合わせる際に、ドライダウンを考慮しながら適正に行なえるようにする。 - 特許庁

To solve the problems of a performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device and to provide a negative resist composition which satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness and few development defects particularly in microfabrication of a semiconductor device using an electron beam or X-ray.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線又はＸ線を用いた半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン形状、ラインエッジラフネス、現像欠陥の特性を満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

By using a mask having a pattern for forming the source electrode 20c of a thin film transistor 20 and data lines 22, the source electrode 20c is formed in the peripheral region of pixels where the pixel electrode 16 is located in the vicinity of the data line 22, and the source electrode 20c and the pixel electrode 16 are coupled.例文帳に追加

本発明は、薄膜トランジスタ２０におけるソース電極２０ｃとデータライン２２とを形成するためのパターンを備えたマスクによって、画素電極１６がデータライン２２に近隣する辺縁にソース電極２０ｃを形成し、ソース電極２０ｃと画素電極１６を連接することを特徴とする。 - 特許庁