「line-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(64ページ目) - Weblio英語例文検索

A difference |L1-L2| between dimensions L1 and L2 on both sides by sandwiching the center line C of the dynamic pressure grooves 3a and 3b is set to 1% or less of the total length (L1+L2), so as to restrain generation of the shaft directional flow of the lubricating fluid caused by shaft directional asymmetry of herringbone pattern.例文帳に追加

動圧溝３ａ（３ｂ）の中心線Ｃを挟んでその両側の寸法Ｌ_1とＬ_2 の差｜Ｌ_1 −Ｌ_2 ｜を、その全長（Ｌ_1 ＋Ｌ_2 ）の１％以下とすることにより、ヘリングボーンパターンの軸方向への非対称性に起因する潤滑流体の軸方向への流れの発生を抑制する。 - 特許庁

The pattern length of a gate line GL formed in the upper layer of a diffusion layer RS of a wafer SI is grasped, and sub-field division is carried out by arranging connecting parts DP1 and DP3 in an NRS outside the region of the diffusion layer RS so that the number of sub-field connecting parts DP2 on the diffusion layer RS can be minimized.例文帳に追加

ウエーハＳＩの拡散層ＲＳの上層に形成されるゲートラインＧＬのパターン長さを把握し、例えば拡散層の領域外ＮＲＳに接続部ＤＰ１，ＤＰ３を配置し、拡散層ＲＳ上での接続数ＤＰ２を最小となるように配置したサブフィールド分割とする。 - 特許庁

And also, temperature/ stress/distortion are estimated from the inputted on-line measurement data by using temperature/stress distribution pattern matching, the lifetime is evaluated from the estimated temperature/stress/distortion and the characteristics of materials constituting the prime mover and the operation limit of the prime mover is judged/displayed on the basis of the evaluated lifetime.例文帳に追加

また、入力されたオンライン計測データから温度・応力分布パターンマッチングを用いて温度・応力・ひずみを推定し、これと原動機を構成する材料の特性とから寿命を評価し、これに基づき原動機の運転制限について判定・表示する。 - 特許庁

Then, when the pattern variable display device 13 is stopped to make a display, if the combination of figures stopped as displayed on a valid line is as specified, a bonus game is executed in which a large number of Pachinko balls are put out together with prize balls for a short period of time from a game ball putout device.例文帳に追加

そして、図柄変動表示装置１３が停止表示されたときに、有効ラインに表示される停止図柄の組み合わせが特定の組み合わせであると、遊技球払出装置により短期間に大量のパチンコ球が賞球と払出されるボーナスゲームが実行される。 - 特許庁

To prevent disconnection of a coil pattern by increasing the line widths of conductor patterns by reducing the stains of the conductor patterns, which become larger when the connection between the end sections of the conductor patterns is extended in a direction perpendicular to the boundary (step) of an insulating layer and a squeegee is moved in parallel with the boundary (step) of the insulating layer.例文帳に追加

導体パターンの端部と導体パターンの端部との接続部が絶縁体層の境目（段差）と垂直な方向に延在すると共に、スキージを絶縁体層の境目（段差）と平行な方向に移動させるので、導体パターンの接続部の滲みが大きくなる。 - 特許庁

When closing of a power source switch 11 is detected by a power source-on detecting part 14-1 of a control means 14, a specific pattern display signal is sent to a drum unit 16, specific patterns are arranged on a prize-winning line and further, the time of that closing is judged by a closing time judging part 14-2.例文帳に追加

電源スイッチ１１の投入が、制御手段１４の電源投入検出部１４−１で検出されと、ドラムユニット１６へ特定図柄表示信号が送られて、特定図柄が入賞ライン上に並べられ、さらに、その投入時刻が投入時刻判断部１４−２で判断される。 - 特許庁

To provide a photoresist composition having sufficient basic characteristics such as sensitivity and excellent lithographic performances represented by an MEEF (mask error enhancement factor) and LWR (line width roughness) as an indicator, to provide a method for forming a resist pattern using the photoresist composition, and to provide a polymer and a compound to be used for the resist composition.例文帳に追加

感度等の基本特性を満足し、ＭＥＥＦ及びＬＷＲを指標とするリソグラフィー性能に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法、上記フォトレジスト組成物に用いられる重合体、及び化合物の提供。 - 特許庁

When the drawing instruction does not consider the resolution (S225: NO), the printer driver executes a drawing processing by increasing the width of a line used as a drawing object or the size of a unit pattern used for fill at magnification equivalent to a ratio of the resolution of a drawing area for display to that of a drawing area for print (S235).例文帳に追加

解像度を考慮していない場合は（Ｓ２２５：ＮＯ）、表示用描画領域と印刷用描画領域との解像度比に相当する倍率で、描画対象となる線の太さないし塗りつぶしに使う単位パターンの大きさを拡大して、描画処理を実行する（Ｓ２３５）。 - 特許庁

When the pattern variable display device 13 is stopped to make a display, if the combination of stop figures to be shown on a valid line is as specified, a bonus game is executed in which large amounts of game balls are paid out together with prize balls from a game ball pay-out device for a short period of time.例文帳に追加

そして、図柄変動表示装置１３が停止表示されたときに、有効ラインに表示される停止図柄の組み合わせが特定の組み合わせであると、遊技球払出装置により短期間に大量の遊技球が賞球と払出されるボーナスゲームが実行される。 - 特許庁

To provide a variable rigidity type dynamic vibration absorbing device, capable of solving the problem of a pattern formation phenomenon if any generated due to vibration of a contact roll system, for example, to which there is no fundamental measure of prevention at site, giving fatal damage to the product, or causing a situation of setting an upper limit of line speed.例文帳に追加

例えば、接触ロール系の振動により発生するパターン形成現象に対する現場の根本的な対策方法はなく、このパターン形成現象が発生した場合、製品に致命的なダメージを与たり、ライン速度の上限を設定せざるを得ない状況に陥る。 - 特許庁

Thereby, a photosensitive film pattern is formed including a first portion positioned in a channel area between the source electrode and the drain electrode and having a first thickness, and a second portion having a larger thickness than the first thickness and positioned in a wire area corresponding to the data line and a drain electrode.例文帳に追加

これにより、ソース電極及びドレイン電極の間のチャンネル領域に位置して第１の厚さを有する第１部分と、第１の厚さよりも厚い厚さを有してデータ線及びドレイン電極に対応する配線領域に位置する第２部分とを有する感光膜パターンを形成する。 - 特許庁

To obtain a polymer for a resist, having small line edge roughness and slightly forming microgel and defects when used as a resist resin in DUV excimer laser lithography, electron beam lithography, etc., and a resist composition and to provide a method for pattern production using the resist composition.例文帳に追加

ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト樹脂として用いた場合に、ラインエッジラフネスが小さく、マイクロゲル及びディフェクトの生成も少ないレジスト用重合体、レジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供する。 - 特許庁

A reception device B12 has a function of inputting the clock pattern from the data line 13, generating the best edge for the sampling of the data, and sampling the data by using the edge and then faster data transmission becomes possible, so the bus bandwidth can be increased.例文帳に追加

また、受信デバイスＢ１２はデータ線１３上からクロックパターンを入力して、データをサンプリングするための最適なエッジを生成し、そのエッジを用いてデータのサンプリングを行う機能を備えることにより、より高速なデータ伝送ができることからバス帯域を増やすことことが可能となる。 - 特許庁

The L side line memory controlling part 121L similarly receives ambient pixel data necessary to pattern matching from the part 121F, forms the matrix of the processing object pixel and its ambient pixels and gives the matrix to an isolated point detecting 122L and a ruggedness detecting part 123L.例文帳に追加

Ｌ側ラインメモリ制御部１２１Ｌも同様に、パターンマッチングに必要な周辺画素データをＦ側ラインメモリ制御部１２１Ｆからけ取って処理対象画素およびその周辺画素のマトリクスを形成し、孤立点検出部１２２Ｌおよび凹凸検出部１２３Ｌへ渡す。 - 特許庁

A network configuration display panel 10 displays connection relation and inclusion of network components as a network configuration diagram, and a traffic display panel 20 displays the traffic pattern and the traffic amount between the network configuration components as a line segment tying points on a circle and its thickness.例文帳に追加

ネットワーク構成表示パネル１０はネットワーク構成要素の接続関係および包含関係をネットワーク構成図として表示し、トラフィック表示パネル２０はネットワーク構成要素間のトラフィックパターンおよびトラフィック量を円周上の点間を結ぶ直線およびその太さで表示する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device having one signal line shared between two display pixels adjacent in a row direction, and capable of suppressing influences of surface flicker, horizontal stripes, and vertical stripes even in the case where a pattern deviation among pixel electrodes or the like occurs.例文帳に追加

１本の信号線を行方向に隣接する２つの表示画素で共用する液晶表示装置において、画素電極等のパターンずれが発生した場合であっても面フリッカと横縞と縦縞の影響を抑制可能な液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

Along the scribe line on a semiconductor wafer 360, a groove 363 is formed using a cutter blade 201 thicker than the width of a test pattern 362 on the semiconductor wafer and then the inside of the groove 363 is cut by means of a thinner cutter blade 202.例文帳に追加

半導体ウエハ３６０におけるスクライブラインに沿って、まず、半導体ウエハ上のテストパターン３６２の幅よりも厚い刃厚を有する切断刃２０１を用いて凹溝３６３を形成し、次に、この凹溝３６３内を、薄い刃厚を有する切断刃２０２によって切り込み、切断する。 - 特許庁

Thus, it is realized to form the deep source/drain regions prior to the shallow source/drain regions, and to control an overlap of the impurities ion-implanted into the shallow source/drain regions created through the gate pattern line width gradually reducing with the second spacer for offsetting.例文帳に追加

これにより、深いソース/ドレーン領域を浅いソース/ドレーン領域より先に形成することと同時に前記オフセット用第２スペーサにより次第に縮まるゲートパターン線幅により発生する浅いソース/ドレーン領域にイオン注入される不純物の重畳を抑制できる。 - 特許庁

By the constitution like this, a scanning pattern can be changed every frame while avoiding the position of the final scanning line where electrostatic charges are seemed to be most accumulated by the beam scanning in the preceding frame, thereby forming a charged particle beam image having no partial imbalance of brightness.例文帳に追加

このような構成によれば、前フレームでのビーム走査によって、帯電が最も蓄積されていると考えられる最終走査線位置を避けつつ、フレーム毎に走査パターンを変化させることができるため、部分的な明るさの偏りがない荷電粒子ビーム画像を形成することが可能となる。 - 特許庁

The received signal level is improved since the maximum direction of an antenna radiation pattern is matched with the installation direction of the transmission and reception terminal of the destination by inclining the angle, specifically at 45° if the transmission and reception terminal is in the position of the diagonal line between upper and lower stages.例文帳に追加

また、送受信端末が上下階間で対角線の位置関係にある場合、角度を傾ける、特に４５度に傾けることにより、相手先の送受信端末の設置方向に対して、アンテナの放射パターンの最大方向が合致するため、受信信号レベルが向上する。 - 特許庁

In the thin-film solar cell module having a conductive metal oxide layer, a photoelectric conversion layer, and a back electrode on a translucent insulating substrate, the finger electrode of a preset pattern of a narrow line width for reducing the resistance loss of the conductive metal oxide layer is provided.例文帳に追加

透光性絶縁基板上に、導電性金属酸化物層と、光電変換層及び裏面電極とを有する薄膜系太陽電池モジュールにおいて、導電性金属酸化物層の抵抗損を低減する、線幅の細く予め設定したパターンのフィンガー電極が設けられる。 - 特許庁

To shorten the time to be required for optical axis adjustment while securing a sufficient amount of irradiated light, in a lighting fixture for vehicles which forms a light distribution pattern having a cut off line on a top edge, by irradiation of light from a lighting fixture unit using light emitting elements as light sources.例文帳に追加

発光素子を光源とする灯具ユニットからの光照射により、上端縁にカットオフラインを有する配光パターンを形成する車両用照明灯具において、十分な照射光量を確保可能とした上で光軸調整に要する時間を短縮する。 - 特許庁

To provide an exposure device for exposing efficiently different kinds of color filter patterns with one exposure line, in the exposure device for pattern-exposing the color filter patterns for imposition on a treated substrate formed with a photosensitive layer, and to provide an exposure method for the different kinds of patterns.例文帳に追加

面付け用のカラーフィルタパターンを感光層が形成された処理基板にパターン露光するインラインの露光装置において、１台の露光ラインで効率良く異種のカラーフィルタパターンを露光できる露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A moving vector detecting part 24 detects moving vectors in the respective areas of the image on the basis of these frame image data and car speed data and a moving vector processing part 25 evaluates the pattern of the moving vector on a reference horizontal line and finds a distance and road width up to the wall surface of a road end.例文帳に追加

移動ベクトル検出部２４では、これらのフレーム画像データと車速データに基づき画像の各領域の移動ベクトルを検出し、移動ベクトル処理部２５では、基準水平ライン上の移動ベクトルのパターンを評価して、道路端の壁面までの距離と道幅を求める。 - 特許庁

To provide an image evaluation device and an image forming method capable of quantitatively evaluating the void volume, that is, wormhole volume of color agent to be generated in the image of a character or thin line including a secondary color by automatically extracting an image pattern without being affected by the influence of color deviation.例文帳に追加

色ズレの影響を受けることなく、画像パターンを自動抽出して、２次色を含む文字や細線の画像に発生する色剤の抜け量、いわゆる虫食い量を定量的に評価できる画像評価装置および画像形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To detect automatically with high sensitivity a print defect of a phosphor formed on a glass substrate such as a plasma display panel without being influenced by a phosphor applied pattern, and to realize low-cost and high-speed defect inspection by being installed easily on a manufacture line of the panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル等のガラス基板に形成された蛍光体の印刷欠陥を、蛍光体塗布パターンに影響されず、高感度に自動的に検出し、また、パネルの製造ラインに容易に設置でき、低価格、高速度の欠陥検査を実現したパターン欠陥検査方法を提供することである。 - 特許庁

The pattern edge of a discharge inactive membrane 22 is formed at a position near the bus-bar portion b side or at the position at a distance of 50 μm or more from the electrode part fb, and the line width of the portion of the address electrode W facing the membrane 22 is narrower than the portion of the electrode YG facing the electrode part fp.例文帳に追加

放電不活性膜２２のパターンエッジは、母線部ｂ側に近い位置か、電極部ｆｐから５０μｍ以上の距離を隔てた位置に設けられ、アドレス電極Ｗの膜２２に対面する部分の線幅は、電極ＹＧの電極部ｆｐに対面する部分よりも細い。 - 特許庁

Before inspecting an inspection object 1, the light quantity of a test pattern 1a is measured with an accumulation type line sensor 7, whether the measurement results are within a predetermined reference value range is judged, calibration is conducted according to the judgment, and then the inspection object 1 is inspected.例文帳に追加

検査対象１を検査する前には、テストパターン１ａの光量を蓄積型ラインセンサ７で測定し、測定結果が予め定められている基準値範囲内に入っているかを判断し、それに応じてキャリブレーショウンを行い、その後に検査対象１を検査する。 - 特許庁

Data on the position, kind, size, and vertical and horizontal directions of the pattern and/or the character printed inside the marks are read from the marks 20 and 22; and the patterns and/or the characters printed inside the marks 20 and 22 are cut along the desired cut line 12, on the basis of the data.例文帳に追加

そして、それらのマーク２０、２２から、そのマーク内側にプリントされた絵図又は／及び文字の位置、種類、大きさ、上下左右方向のデータを読み取って、それらのデータに基づき、そのマーク２０、２２内側にプリントされた絵図又は／及び文字を所望のカット線１２に沿ってカットする。 - 特許庁

One end of the stub 4 is connected to the conductor pattern 3 constituting a power supply or a grounding line, the other end thereof is opened, and the length L of the stub 4 is equal to 1/4 or not more than 1/4 of the wavelength at the frequency of the electromagnetic noise produced by a semiconductor device 5 etc.例文帳に追加

スタブ４は、一端は電源または接地用ラインを構成する導体パターン３と接続していると共に、他端は開放しており、スタブ４の長さＬは、半導体素子５等により発生する電磁波ノイズの周波数の１／４波長、あるいは１／４波長以下の長さで構成される。 - 特許庁

The gate driving module is connected with gate driving signal input lines (253 etc.), and gate driving signal by-pass lines (254 etc.), and it is made possible to easily inspect whether or not the gate driving signals are effective by providing either or both of the lines with a pattern having a width larger than each line.例文帳に追加

ゲート駆動モジュールにはゲート駆動信号入力線（２５３等）及びゲート駆動信号バイパス線（２５４等）が接続されており、これらの一方あるいは両方に各線より大きな幅寸法のパターンを設けゲート駆動信号の有効可否を容易に検査することができるようにした。 - 特許庁

A pattern of electromagnetic wave shielding ink comprising two or more ink lines each of which has a width of L and crosses with each other to form a mesh is provided on one surface of the film base material to form the electromagnetic wave shielding member, and the intersections of the ink lines are each 1.2 to 3 times as thick as the ink line.例文帳に追加

電磁波遮蔽性インキからなるメッシュ等の２本以上の線幅Ｌのラインが交差するパターンがフィルム基材の一面上に配設された、電磁波遮蔽性を有する電磁波シールド用の部材であって、ライン交点部分の膜厚がライン部分の１. ２倍〜３倍である。 - 特許庁

To raise a controllability of a line width of a pattern, while reducing a developing defect, in case of forming a protective film of a water repellent property on a substrate an which a resist film is formed, and performing a development processing to the substrate after forming a liquid layer on a front surface of the protective film and carrying out an oil immersion exposure.例文帳に追加

レジスト膜が形成された基板の上に撥水性の保護膜を形成し、その表面に液層を形成して液浸露光した後の基板に現像処理を行うにあたって、現像欠陥を低減させると共にパターンの線幅の制御性を向上させること。 - 特許庁

Before the communication body, a training part, based on a short code diffusion for repeating the same pattern in each symbol length is formed, and propagation of a transmission line is measured by the training part, while setting the length of the short code as a measuring section and setting the N periods of a carrier as the time resolution of measurement.例文帳に追加

通信本体に先立ち、シンボル長毎に同一パターンを繰り返すショートコード拡散によるトレーニング部を設け、トレーニング部を用いて前記ショートコードの長さを測定区間とし搬送波のＮ周期分を測定の時間分解能にして伝送路の伝播測定を行なう。 - 特許庁

The inclination of an LR camera is aligned with that of a reference line of a master plate, a focus of the LR camera is changed from a pattern formation plane of the master plate to a nozzle formation plane of the head, so that the inclinations of the heads are aligned to that of the LR camera to align the inclinations of a plurality of the heads.例文帳に追加

ＬＲカメラの傾きとマスタープレートの基準線の傾きとを一致させ、ＬＲカメラの焦点をマスタープレートのパターン形成面からヘッドのノズル形成面に切り替え、ヘッドの傾きをＬＲカメラの傾きと一致させて、複数のヘッドの傾きを一致させる。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition excelling in PED stability and prifile, significantly improved in the developing faulty problems and free from any shortening on the line pattern end (lengthwise direction), when using far ultraviolet rays, especially ArF excimer laser beam as its exposure illuminant.例文帳に追加

露光光源として、遠紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光を用いた場合、ＰＥＤ安定性及びプロファイルに優れ、現像欠陥の問題を著しく改善され、更にラインパターン端部（長手方向）のショートニングが生じないポジ型感光性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁

The shade 40 has a bent edge 41 which is bent in a plane vertical to the optical axis Ax for forming a cutoff line of the low beam light distribution pattern, and is constituted rotatably in the plane vertical to the optical axis Ax, with a bent part 41a of the bent edge 41 as a center.例文帳に追加

シェード４０は、すれ違い配光パターンのカットオフラインを形成するための、光軸Ａｘに垂直な面内で屈曲された屈曲エッジ４１を有し、屈曲エッジ４１の屈曲部４１ａを中心に光軸Ａｘに垂直な面内で回動可能に構成されている。 - 特許庁

To prevent adverse effect on the product quality by preventing the line width of a conductive convex pattern layer formed by the "drawing primer system intaglio printing method" from becoming thicker when the print speed is increased in order to highly reconcile the electromagnetic wave shielding performance and the optical transparency of an electromagnetic wave shielding material.例文帳に追加

電磁波遮蔽材の電磁波遮蔽性能と光透過性を高度に両立させる為に、「引抜プラマイ方式凹版印刷法」で形成した導電性凸状パターン層の線幅が印刷速度を高速化した時に太るのを防いで製品品質への悪影響を防ぐ。 - 特許庁

A dielectric constant of the capping layer 21 or absorption layer 30 is adjusted so as to balance an electrostatic charging state near a surface of a line portion 31a of the pattern 31 where the absorption layer 30 remains with that near a surface of a space portion 21a where the capping layer 21 is exposed.例文帳に追加

パターン３１のうち吸収層３０が残存したライン部３１ａの表面近傍とキャッピング層２１が露出したスペース部２１ａの表面近傍の帯電状態のバランスを取るために、キャッピング層２１または吸収層３０の誘電率を調整する。 - 特許庁

To avoid an adverse influence on product quality even if the line width of a conductive convex pattern layer formed by a draw-out primer intaglio printing method becomes thick when its printing speed is made extremely high in order to make the electromagnetic wave shielding performance highly compatible with light permeability of an electromagnetic wave shielding material.例文帳に追加

電磁波遮蔽材の電磁波遮蔽性能と光透過性を高度に両立させる為に、「引抜プラマイ方式凹版印刷法」で形成した導電性凸状パターン層の線幅が印刷速度を高速化した時に太っても、製品品質への悪影響を防ぐ。 - 特許庁

To provide an excellent actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition suppressing development defect even in patterning by ordinary light exposure and immersion exposure, having a wide exposure latitude and suppressing line edge roughness, and a pattern-forming method to use the composition.例文帳に追加

通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

An opening 4 for making a connector 3 face the outside is formed on a case 2 storing a printed circuit board 1 where control circuit components are mounted, and a conductive pattern 5 connected to a ground line of a power source is arranged on a section corresponding to the opening 4 of the printed circuit board 1.例文帳に追加

制御回路部品を実装したプリント基板１を収納するケース２にコネクタ３を外部に臨ませるための開口部４を形成し、前記プリント基板１の開口部４と対応する部位には電源のグランドラインへ接続された導電性パターン５を設けたものである。 - 特許庁

The bevel indicator 11 is a painted line which is at least a part of a hub 3 and has a color, a texture or a pattern contrasted with that of the surface of the hub 3 and, when the injection of the needle 6 into the patient is ready, a user can linearly place it at the substantial top of the hub.例文帳に追加

傾斜指示器１１は、ハブ３の表面のそれと対比される色，外観，又は模様の少なくとも一部である塗られた線であり、使用者は、患者への注射針６の注射の準備が整った時にハブの実質的な頂にそれを直線状に配置することが出来る。 - 特許庁

The freeze performance control means 140 starts the freeze performance when determined that the stop switch 34 is operated within the range in which the symbols corresponding to the internal winning pattern can be stopped on the effective winning line during the execution of the specified performance, and ends the freeze performance after the end of the specified performance.例文帳に追加

フリーズ演出制御手段140は、特定演出の実行中に、当選した役に対応する図柄を有効入賞ライン上に停止可能な範囲内でストップスイッチ34が操作されたと判定されると、フリーズ演出を開始し、特定演出の終了後に、フリーズ演出を終了する。 - 特許庁

To provide a game machine for allowing a drawing state of a specific role to stay in a specific drawing state even if a pattern combination triggering transition of the drawing state of a specific role from a specific drawing state to another drawing state is displayed on a valid line.例文帳に追加

特定役の抽選状態を特定の抽選状態から他の抽選状態に移行させる契機となる図柄組合せが有効ラインに表示される場合であっても、特定役の抽選状態を特定の抽選状態に滞在させることができる遊技機を提供する。 - 特許庁