「lower process」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a stable electrophotographic photoreceptor which does not lose its high sensitivity or lower its electrification ability even by repetitive use, to provide an electrophotographic process by which few abnormal images are formed even by repetitive use and a stable image is obtained, and to provide an electrophotographic device and an electrophotographic process cartridge.例文帳に追加

高感度を失うことなく繰り返し使用によっても帯電性の低下を生じない安定な電子写真感光体を提供し、また、繰り返し使用によっても異常画像の少ない、安定した画像を得ることのできる電子写真方法、電子写真装置、電子写真用プロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁

In the case of forming a lower electrode of a wire or a non-linear element by a tantalum pattern 13x containing nitrogen, a nitrogen-contained resist pattern 60 having an inverted pattern of the tantalum pattern is formed on a substrate 20x in a resist pattern formation process, and then a tantalum film 13 is formed on the substrate 20x in a film formation process.例文帳に追加

配線や非線形素子の下電極を窒素含有のタンタルパターン１３ｘにより形成するにあたって、レジストパターン形成工程において、タンタルパターンの反転パターンを有する窒素含有のレジストパターン６０を基板２０ｘ上に形成した後、成膜工程において、基板２０ｘ上にタンタル膜１３を成膜する。 - 特許庁

To provide an apparatus capable of suppressing temperature rise in a space between a lower surface of a pressing member and an upper surface of a substrate, by improving uniformity of in-plane temperature of the substrate, even when a high-temperature process liquid is used when the pressing member is arranged, while facing and coming into close proximity to the top surface of the substrate to process it.例文帳に追加

基板の上面に対向し近接して押付部材を配置し基板の処理を行う場合に、高温の処理液を使用するときでも、基板の面内温度の均一性を高め、押付部材の下面と基板上面とで挟まれる空間における温度の上昇を抑えることができる装置を提供する。 - 特許庁

To provide a polyimide precursor solution that can be cured at a low temperature (250°C or lower) and has a low viscosity although it has a high concentration, to provide a process for producing the polyimide precursor solution, to provide a polyimide coating film that is produced from the polyimide precursor solution and has good physical properties, to provide a photosensitive resin composition and to provide a process for producing the photosensitive resin composition.例文帳に追加

本発明の課題は、低温（２５０℃以下）で硬化可能であって高濃度にもかかわらず、低粘度であるポリイミド前駆体溶液及びその製造方法、それから得られる良好な物性を有するポリイミド塗膜、並びに、感光性樹脂組成物及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The method for preparing the planographic printing plate comprises a process of preparing a photo-insensitive ink receptor layer containing a water soluble polymer on the support, and forming an image part by discharging the ink composition on the ink receptor layer by the inkjet recording system, and a process evaporating the solvents contained in the image part at 45°C or lower.例文帳に追加

支持体上に、水溶性ポリマーを含有する非感光性のインク受容層を設け、該インク受容層上に、該インク組成物をインクジェット記録方式により吐出して画像部を形成する工程と、該画像部に含まれる溶剤を４５℃以下の温度で揮発させる工程とを有する平版印刷版の作製方法。 - 特許庁

When the concentration of the dissolved oxygen drops below a preset lower control limit, the concentration of the dissolved oxygen is increased through an oxidation process; when the concentration rises above a preset upper control limit, the concentration of the dissolved oxygen is reduced through a reduction process, whereby the concentration of the oxygen dissolved in the liquid metal is controlled.例文帳に追加

そして、この溶解酸素濃度が予め設定された管理下限以下になった時、酸化処理により溶解酸素濃度を増加させ、予め設定された管理上限以上になった時、還元処理により溶解酸素濃度を減少させることにより液体金属中の溶解酸素濃度を制御する。 - 特許庁

One or plural freely swingable guide blades 4 are fitted to the upper part, or the lower part, or the central part of the polygon divided body 10 by a pivot 25 and can be freely turned to change the direction of a flow of a mixture of fluid and pulverized material to optimize a pulverizing process and a classifying process.例文帳に追加

一枚または複数枚の旋回自在の案内ブレード４がポリゴン分割体１０の上部、または下部、または中央部に旋回軸２５によって取り付けられ、旋回自在として、流体と粉砕物との混合物の流れの方向を変えて粉砕工程と分級工程との最適化を行う。 - 特許庁

When forming, for example, the surface of a lower electrode for a capacitor on the surface of a semiconductor wafer W which is an object to be processed, a process of depositing a HSG polysilicon film (rugged polysilicon film) 16 non-selectively and a process of doping an impurity such as phosphorus into the polysilicon film are conducted continuously in one and the same processing container 28.例文帳に追加

被処理体である半導体ウエハＷの表面に例えばキャパシタ用の下部電極の表面を形成する場合、非選択でＨＳＧポリシリコン膜（ラグドポリシリコン膜）１６を堆積させる工程と、このポリシリコン膜中に不純物、例えばリンをドープさせる工程とを、同一の処理容器２８内で連続的に行なう。 - 特許庁

This refrigerant having a cooking chamber is provided for extracting deliciousness by the taste seeping effect by partially breaking a cell of the food 29 by alternately repeating a cooling process for setting a freezing point of the food 29 as a lower limit and a melting process for heating a temperature of the food to a range of a freezing point to 5 °C.例文帳に追加

食品２９の凍結点を下限とする冷却工程と、食品の温度を凍結点以上で５℃以下の範囲に加温する融解工程を交互に繰り返し行うことで食品２９の部分的な細胞破壊を行い味の染み込み効果による旨みを引出す調理室を備えた冷蔵庫を提供する。 - 特許庁

The assembly process of a double cylinder compressor comprises the steps of installing an upper cylinder 2 eccentrically with an upper bearing 4, installing a shaft 6 and an upper roller 7, and temporarily fixing a lower cylinder 3 to the upper cylinder 2 through an intermediate plate 1.例文帳に追加

ダブルシリンダ式圧縮機の組立工程において、上シリンダ２と上軸受４とを偏心組立し、シャフト６及び上ローラー７を組み付けた後、上シリンダ２に中板１を挟んで下シリンダ３を仮止めする。 - 特許庁

To solve a problem that the finished surface of a semiconductor mirror wafer is flawed with a probability not lower than 1% and sometimes cracked during a process for beveling, grinding and polishing a semiconductor wafer into a mirror wafer, and to protect the finished surface against flaw or crack.例文帳に追加

半導体ウエハーを面取り、研削、研磨してミラーウエハーとする工程において、半導体ミラーウエハーの仕上げ面に１％以上の確率で傷が入っていることがあり、ときに割れが発生することもある。 - 特許庁

To provide a manufacturing system for surfactant, which is capable of rapidly detecting abnormality in a process, where the volume of a treating liquid is changed with time and the upper and lower limits of the volume are set corresponding to the change.例文帳に追加

処理流体の容量が時間的に変化し、且その変化に応じて容量の上限値及び下限値を設定している工程における異常を迅速に把握できる界面活性剤の製造システムを提供する。 - 特許庁

A device for monitoring a wash process inside the mechanical washing apparatus comprises an upper housing part 1 and a lower housing part 2 separated by a circumferential slot 3 extending radially outward from a central cavity 4.例文帳に追加

機械洗浄装置内部の洗浄プロセスを監視する装置は、中心キャビティ４から径方向外側に延在した周方向スロット３によって分離された上側ハウジング部１および下側ハウジング部２を備える。 - 特許庁

The apparatus notifies that it is abnormal when a correlative peak value Ph does not satisfy a previously set lower limit value Phth in a search process of the corresponding point, and stops measurement of the three-dimensional position thereafter.例文帳に追加

この対応点の探索過程において、相関ピークの値Ｐｈが予め定められている下限値Ｐｈｔｈに満たない場合、異常である旨を通知すると同時に、以降の３次元位置の計測を中止する。 - 特許庁

To provide a deposition remover which can realize an improvement in the quality stability of a process step for processing a thin film of a thin-film device and can lower a manufacturing cost by the curtailment of the time for maintenance.例文帳に追加

薄膜デバイスの薄膜加工工程の品質安定性向上を実現し、かつメンテナンス時間の削減による製造コストを下げることが可能な付着物除去装置およびその方法提供すること。 - 特許庁

In this gypsum board manufacturing process, the hollowed-out holes forming insertion holes for an anchor 20 for the board are provided in right and left end parts or upper and lower end parts of the board.例文帳に追加

本出願人発明［特許文献1］特願2005-360363「ボード用アンカー」装着を前提に、石膏ボード製造工程において、該ボード用アンカー(20)挿入孔を形成する「刳り孔」をボード左右端部または上下端部に設ける。 - 特許庁

Its shape is modeled on a general plane-back type and the head body with the sole width (a distance from the lower end of a face 2 to the rear end of the sole) of 13-18 mm is manufactured of carbon steel S25C by forging process.例文帳に追加

形状は一般的なプレーンバック形状に倣い、ソール幅（フェース２の下端からソール後方端までの距離）が１３ｍｍ〜１８ｍｍのヘッド体を炭素鋼Ｓ２５Ｃを用いて鍛造製法により作製した。 - 特許庁

Upon receipt of the notification IDP before process start, the interruption control section 262 acquires a voltage value BKV from a BKP power supply voltage monitoring section 410 and judges whether or not the voltage vale BKV is lower than or equal to a predetermined voltage value.例文帳に追加

処理開始前報告ＩＤＰを受けた中断制御部２６２は、ＢＫＰ電源電圧監視部４１０から電圧値ＢＫＶを取得し、電圧値ＢＫＶが所定電圧値以下であるか否かを判断する。 - 特許庁

The exhaust variable valve train 78 is used to open the exhaust valve 76 during a period, in which the cylinder-inside pressure is lower than the exhaust pressure in a compressing process, in addition to the normal opening/closing operation for exchange of gas.例文帳に追加

排気可変動弁機構７８を用いて、ガス交換のための通常の開閉に加え、圧縮行程において筒内圧力が排気圧力よりも低くなる期間中に、排気弁７６を開弁させる。 - 特許庁

In a vibration press molding process in manufacturing an inorganic board, vacuum suction (B) is started at a stage wherein a press top force (2) is allowed to descend to a position (H0) 2-5 mm upper than its pressurizing lower limit (H).例文帳に追加

無機質板の製造における中空品の振動プレス成形の工程において、プレス上型（２）をその加圧下限（Ｈ）よりも２〜５ｍｍ上方の位置（Ｈ_0 ）にまで降下させた段階で真空吸引（Ｂ）を開始する。 - 特許庁

The flexible cable 1 extending between the moving body 4 moving forward and backward between a home position and a process end and the wiring board 5 has a curved folded-back part 12, an upper extension part 13, and a lower extension part 14.例文帳に追加

ホームポジションと工程端との間で前後進する移動体４と配線基板５との間に亘る可撓ケーブル１に、湾曲形状の折返し部１２と、上側延出部１３と、下側延出部１４とが備わっている。 - 特許庁

To provide a fuel tank for a vehicle with a simple manufacture process which prevents the fuel shortage in braking when little fuel remains, and positively uses the fuel accumulated in the lower part without waste.例文帳に追加

燃料残量が少ない場合における制動時等の燃料不足を防ぎ、低位部に溜まった燃料を積極的に、かつ、無駄なく利用でき、しかも製造加工が簡単な車輌用燃料タンクを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device of organic insulating film material, along with its manufacturing method, wherein lower dielectricity is realized, with no failure, such as film peel-off, occurs in a manufacturing process.例文帳に追加

低誘電率化を実現するとともに、製造工程において膜剥離などの不良を発生することのない有機絶縁膜材料を用いた半導体装置および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

During a resist liquid application process, a high-concentration solvent gas in a circulation circuit 83 is supplied into a casing 17a, and an atmosphere inside the casing 17a is exhausted through an exhaust port 64 positioned at the lower part of a cup 62.例文帳に追加

レジスト液の塗布工程時には，循環管路８３内の高濃度の溶剤気体がケーシング１７ａ内に供給され，ケーシング１７ａ内の雰囲気は，カップ６２の下方の排気口６４から排気される。 - 特許庁

In upshift, at a point of time t2 when a change gear ratio (r) monitored at a process of gear shifting is synchronized with a reference change gear ratio R2' lower than a change gear ratio R2 before gear shifting, control of an inertia phase is started.例文帳に追加

アップシフトにおいて、変速の過程においてモニタリングされている変速比ｒが、変速前の変速比Ｒ2 よりも小さい基準変速比Ｒ2 ’と同期した時点ｔ2 に、イナーシャ相制御を開始する。 - 特許庁

To increase process margin, while reducing manufacturing cost in the formation of a trench capacitor which is increased in a capacitor area, by forming a silicon film having an uneven surface on an inner wall in the lower part of the trench.例文帳に追加

トレンチの下部内壁上に表面が凹凸状のシリコン膜を形成し、キャパシタ面積の増大を図ったトレンチキャパシタの形成方法において、プロセスマージンの増大および製造コストの削減を図ること。 - 特許庁

In the process of calculating the advance correction value, calculation of the advance correction value is started when time elapsed after the engine speed has fallen within a range between a lower limit threshold and an upper limit threshold reaches a prescribed time threshold value.例文帳に追加

進角補正値を算出する工程では、エンジン速度が下限閾値と上限閾値との間の範囲となってから経過した時間が所定の時間閾値に達したとき前記進角補正値の算出を開始する。 - 特許庁

In a process in which this hot air is circulated in the bottom space 20, the left side space 19, and the lower divided path 17b, the hot air exchanges heat with a partition 12 defining the warming chamber 13 to keep the temperature of the chamber 13 indirectly.例文帳に追加

この温風が、底部空間２０、左側部空間１９および下分割路１７ｂを循環する過程で、温蔵室１３を画成する隔壁１２と熱交換して該温蔵室１３を間接的に保温する。 - 特許庁

The method for producing a flat synthetic fiber involves subjecting the synthetic fiber to a compression treatment within a temperature range between a temperature not lower than (the softening point of the resin constituting the fiber -5°C) and a temperature not higher than the melting point in the production process of the fiber.例文帳に追加

合成繊維を、その繊維の製造工程において、繊維を構成する樹脂の軟化点−５℃以上、融点以下の温度範囲で圧搾処理することを特徴とする扁平合成繊維の製造方法。 - 特許庁

To solve the problem that a process to form a thin film is unnecessarily required in a laminated photoelectric conversion device for forming a metallic thin film or a silicide film between an upper unit cell and a lower unit cell, thereby causing deterioration in the productivity of the photoelectric conversion device.例文帳に追加

積層型の光電変換装置において、上層ユニットセルと下層ユニットセルの間に金属薄膜若しくはシリサイド膜等を形成するためには、その薄膜を形成する工程が余計に必要になる。 - 特許庁

Further, the manufacturing process of the element substrate comprises: a step of forming the pixel electrode as the lower electrode; a step of forming an FFS insulation film; and a subsequent step (S26) of forming second CHs on parts corresponding to the electrode wiring lines which correspond to the upper electrode.例文帳に追加

そして下部電極である画素電極が形成され、ＦＦＳ絶縁膜が形成された後、上部電極に対応する電極配線に対応する箇所に第２ＣＨが形成される（Ｓ２６）。 - 特許庁

Since a step part ST is formed at a lower-surface edge part of the shielding member 5, a process liquid sticking to a ring part 50b is prevented from moving to a side opposed to a substrate by the step part ST.例文帳に追加

また、遮断部材５の下面周縁部に段差部ＳＴが形成されており、環状部５０ｂに付着した処理液などが基板対向面側に移動しようとしても、当該移動は段差部ＳＴにより阻止される。 - 特許庁

Meanwhile, the reactor 2 is supplied with iron powder of the by-product of an iron and steel making process, and reduces the CO_2 in the exhaust gas by contacting the iron powder with the exhaust gas blown up from the lower side of the bed 2a.例文帳に追加

一方、反応器２には、製鉄プロセスの副生物である鉄粉が供給され、流動床２ａ上に堆積し、流動床２ａの下側から吹き上げる排ガスと接触して、排ガス中のＣＯ_２を還元する。 - 特許庁

In a preheating process, heating is performed such that the temperature of a fitting surface 80 between the fuel passage member 30 and the first cylindrical portion 41 converges at a first temperature which is lower than the melting points of the fuel passage member 30 and the first cylindrical portion 41.例文帳に追加

予熱工程では燃料通路部材３０と第１筒部４１との嵌合面８０の温度が燃料通路部材３０および第１筒部４１の融点より低い第１温度に収束するよう加熱する。 - 特許庁

At the same time, as an anode electrode side process, the control unit controls a main stop valve 43 to stop supply of hydrogen gas, and makes the fuel cell 2 generate power to lower a pressure of hydrogen gas on the anode electrode side down to pressure Pb.例文帳に追加

一方、アノード極側の処理として、主止弁４３を制御して水素ガスの供給を停止させ、燃料電池２に発電させてアノード極側の水素ガスの圧力を圧力Ｐｂに低下させる。 - 特許庁

Since the height of the SiO_2 protruding part 14 agrees with the total thickness of the dielectric film 18 and the upper electrode film 20, the lower electrode film 16 is exposed from the SiO_2 protruding part 14 by a CMP process.例文帳に追加

ＳｉＯ_２凸部１４の高さが、誘電体膜１８及び上部電極膜２０の合計の厚さと一致しているため、ＣＭＰプロセスにより、ＳｉＯ_２凸部１４上に下部電極膜１６が露出するようになる。 - 特許庁

The stopper films 26 in lower polishing rate by CMP process than that of the copper film 25 are formed on the surface of the copper film 24 (a) and (d) so as to polish the copper film 25 and the stopper films 26.例文帳に追加

銅膜２５の表面にそのＣＭＰ法による研磨速度が銅膜２５の研磨速度よりも小さいストッパ膜２６を形成し（（ａ）および（ｄ））、ＣＭＰ法により銅膜２５およびストッパ膜２６を研磨する。 - 特許庁

Since the upper surface of the ridge protective layer 10 is lower than the upper surface of the waveguide 11, the ridge waveguide 11 is protected against damage during fabrication process of element and chipping of crystal is reduced significantly.例文帳に追加

このリッジ保護層１０の上面の高さは、導波路１１の上面の高さよりも低いので、素子作製工程でリッジ状の導波路１１を傷つけることが無くなり、結晶カケなどが大幅に低減される。 - 特許庁

After the temperature of the raw material 9 reaches the set temperature at the stationary time, the pressure in the heating furnace 1 is set to a pressure for depositing the raw material 9, that is lower than the pressure in the temperature-raising process.例文帳に追加

そして、原料９の温度が定常時の設定温度に達した後に、前記加熱炉１内の圧力を、この昇温過程における圧力よりも低い、原料を析出させるための圧力にする。 - 特許庁

A removing process step of removing the lower clad layer and the upper clad layer to the form of belts 50 and 51 from the top of the substrate 1 along a position cut in the fourth step during the third step and the fourth step.例文帳に追加

第３の工程と第４の工程との間に、第４の工程で切断される位置に沿って、下部クラッド層および上部クラッド層を基板１上から帯５０，５１状に除去する除去工程を行う。 - 特許庁

In a first process, a molding synthetic resin 17 is melted in a low temperature heating atmosphere that is higher than ordinary temperature and lower than 150°C and that is solidified by cooling, is made to adhere to an inner wall of a molding die 15.例文帳に追加

第１の工程では、常温より高く１５０℃より低い低温加熱雰囲気中で溶融するとともに冷却によって固化する成形用合成樹脂１７を成形型１５の内壁に付着する。 - 特許庁

At the time, a high load device operation, for example, an iris operation time or shutter operation time, the number of times of comparison when the battery voltage Vs is lower than a reference voltage VL happens once, the control device 10 performs the ending process.例文帳に追加

高負荷の装置が作動した時、例えば、アイリスや、シャッター駆動時においては、電池電圧Ｖｓが基準電圧ＶLよりも低いという比較回数が１回あると、制御装置１０は装置のエンド処理を行う。 - 特許庁

To provide a flame resistant core material and its manufacturing process, wherein the core material is composed of a sound absorbing, heat insulating polyester material, has a density of 70 kg/m^3 or lower, and exhibits compression and bending strengths nearly corresponding to those of a glass wool.例文帳に追加

７０ｋｇ／ｍ^３以下の密度を有し且つガラス綿とほぼ同様の圧縮強度と屈曲強度を発現する、ポリエステル吸音断熱材を主材とする難燃芯材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To support a holder plate 14 from the lower side so that the holder plate 14 which holds a container 2 may not be deformed when being pressed in a sealing process or the like, and at the same time, to prevent the supporting member from coming into contact with the holder plate 14 when the holder plate 14 moves.例文帳に追加

容器２を保持しているホルダプレート１４がシール工程等で押圧された際に変形しないように下方から支持するとともに、ホルダプレート１４の移動時には接触しないようにする。 - 特許庁

Even if the inner cylinder 12 together with the lower rubber elastic body 8 is about to fall off by the deadweight in the assembly process, the engagement between the slant projection 14 and the annular projection 15 prevents further falling-off.例文帳に追加

組付過程で内筒１２が下側ゴム弾性体８とともに自重にて抜け落ちようとしても、上記斜状突起部１４と環状突起部１５との係止をもってそれ以上の脱落を阻止する。 - 特許庁