「lower process」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

To increase terminals by forming an external terminal on the lower surface of a lead frame while suppressing the complication of a manufacturing process and/or the decline of mounting reliability in a resin sealed semiconductor device using the lead frame.例文帳に追加

リードフレームを用いた樹脂封止型の半導体装置において、製造プロセスの複雑化及び／又は実装信頼性の低下を抑制しながら、リードフレームの下面に外部端子を形成して多端子化を実現する。 - 特許庁

In the preheating process, the rear side is dipped in an inert heating medium 230 contained in a rear side liquid tank 220 where the rear side is heated to a preheat temperature lower than the heat resistant temperature of the component 120.例文帳に追加

予熱過程では、上記の裏面側が部品１２０の耐熱温度よりも低い予熱温度に加熱された不活性の熱媒体２３０が入っている裏面側液槽２２０内の熱媒体２３０に浸される。 - 特許庁

To provide a novel method for producing a small size of conductor and/or semiconductor at a degree of the 10 and several nano scale costing lower and generating heat smaller than the conventional process.例文帳に追加

従来の方法よりもコストの低い、そして熱生成の低い、１０数ナノスケール程度の小型の導体および／または半導体の装置を製造するための新たな方法を提供することを目的の１つとする。 - 特許庁

In order to handle large errors for initial registration parameters and to avoid local minima in the minimization process, the image pair may be registered in a lower resolution and then refined in a higher resolution.例文帳に追加

初期位置合わせパラメーターについて大きなエラーに対処し、最小化プロセスにおいて極小を避けるために、画像ペアをより低い解像度で位置合わせし、次により高い解像度において精緻化することができる。 - 特許庁

A ceramic porous sheet 3 is used as a spacer in a process where a zirconia green sheet 2 is calcined, the end faces of the ceramic porous sheet 3 having a lower porosity than at a middle part on the upper surface thereof.例文帳に追加

セラミック多孔質シート３はジルコニアグリーンシート２を焼成する工程でスペーサーとして用いられ、当該多孔質シート３の端面が、上表面の中央部よりも気孔率が低いことを特徴とする。 - 特許庁

Thereafter, when executing a reflow process, all of the molten bump electrode materials are made to equally wet the side faces of the barrier metals 17 in the lower layers thereof, and bump electrodes 18 uniformized in height H can be formed.例文帳に追加

その後、リフロー処理を行うと、溶融したバンプ電極材料がいずれもその下層のバリアメタル１７側面に同等に濡れるようになり、高さＨを均一化したバンプ電極１８が形成可能になる。 - 特許庁

To prevent generation of defective leak due to breakdown through an upper electrode and a capacitance dielectric film because of difference in contact depth at the upper and lower electrodes during the etching process of via holes in an MIM type capacitance element.例文帳に追加

ＭＩＭ型容量素子において、ヴィアホールのエッチング時に上部電極と下部電極ではコンタクト深さが異なるため、上部電極及び容量誘電膜の突き抜けによるリーク不良が発生する。 - 特許庁

To provide a recycling method for an image forming apparatus part providing a lower-cost image forming apparatus by effectively recycling used parts, without carrying out regenerating process and saving resources.例文帳に追加

使用された部品を再生処理を行うことなく有効に再利用し、資源を節約し、より低コストの画像形成装置を提供することができる画像形成装置用部品の再利用方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a process which can produce lower alkyl esters of fatty acids from a triglyceride contained in fats and oils with high reaction efficiency and, in addition, can simplify or eliminate the steps of separating and recovering the catalyst used.例文帳に追加

油脂類に含まれるトリグリセリドから高い反応効率で脂肪酸の低級アルキルエステルが製造でき、しかも触媒の分離・回収工程を簡略化乃至省略することのできる方法を提供する。 - 特許庁

Then, the photoresist layer is removed, and a field oxidizing process is advanced, so that a field oxide film can be formed at the lower side of the field oxide mask layer on the surface of the exposed semiconductor substrate and the isolation region.例文帳に追加

そして、フォトレジスト層を除去し、フィールド酸化工程を進行することにより、露出された半導体基板の表面と分離領域上において、フィールド酸化マスク層の下側にフィールド酸化膜が形成される。 - 特許庁

To provide a standing assist chair safely used by preventing a user from frontward slipping off in a process of changing a posture when the user with disabled lower legs secures a standing state from a sitting state.例文帳に追加

下肢不自由搭乗利用者が腰掛け状態から起立状態を確保する場合、使用者が姿勢変化の過程において前方へ、ずり落ちることなく、安心して使用できる起立補助椅子を提供する。 - 特許庁

To provide a process for synthesis of halogenated nitrogen useful as a raw material of difluoro amino alkane synthesis from NF_3 useful for the cleaning of the inside of a semiconductor manufacturing device such as a CVD device or a lower normal alkyl mercury compound.例文帳に追加

ＣＶＤ装置等の半導体製造装置の内部洗浄に有用なＮＦ_３や低級ノルマルアルキル水銀化合物からジフルオロアミノアルカン合成の原料として有用なハロゲン化窒素の合成法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device forming an upper layer bump on a lower layer bump without a grinding process, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

本発明は上記問題点に鑑み案出されたものであり、その目的は研削工程を経ることなく下層バンプ上に上層バンプを形成できる半導体素子及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a low dielectric constant insulating film having a high film strength capable of adapting to the existing semiconductor manufacturing process and capable of forming an insulating film having a lower dielectric constant.例文帳に追加

既存の半導体製造プロセスに適合する強い膜強度を有し、かつより低い比誘電率を有する絶縁膜を形成することができる低誘電率絶縁膜の形成方法を提供するものである。 - 特許庁

The main electrifier of the image forming means in nonuse is turned off, a voltage for attracting toner is applied as a developing bias voltage, and a voltage lower than that required at a transfer process is applied on a transfer means.例文帳に追加

使われない画像形成手段の、主帯電はＯＦＦ、現像バイアスはトナーを引きつける電圧、転写手段には転写時より低い電圧を印加することにより、簡単な構成で上記問題を解決できる。 - 特許庁

To provide a method for designing a mounting board and a board for mounting electronic parts with which a suitable lower holding state can be secured in a mounting process on the second side of a mounting board.例文帳に追加

実装基板の第２面側の実装工程において適切な下受け状態を確保することができる実装基板の設計方法および電子部品実装用の基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

An engaging rib 224 is formed that is to be engaged with an engaging part A2 formed in the process frame (drum lower frame 52A) when the cleaner holder 220 is located at the standby position, on the other end of the cleaner holder 220.例文帳に追加

そして、クリーナホルダ２２０の他端側には、クリーナホルダ２２０が待機位置に位置するときに、プロセスフレーム（ドラム下フレーム５２Ａ）に形成される係合部Ａ２に係合する係合リブ２２４が形成されている。 - 特許庁

To provide a magnetic tape cartridge in which a compression coil spring mounted on a reel lock or an upper half can be prevented from falling down in conveying a lower half or the upper half in an assembling process of a magnetic tape cartridge.例文帳に追加

磁気テープカートリッジの組立工程において下ハーフまたは上ハーフを搬送する際に、リールロックまたは上ハーフ上に載置された圧縮コイルばねが転倒するのを防止できる磁気テープカートリッジを提供する。 - 特許庁

Upon completion of the connecting work, the wire feed pipe 33 is moved to a process position positioned at more upward portion than a wire detection sensor 36 and at a lower portion of a wire disposal mechanism portion 50, thus maintaining a third position at the time of processing.例文帳に追加

結線完了後、ワイヤ送りパイプ３３を、ワイヤ検出センサ３６よりも上方であって、且つ、ワイヤ廃棄機構部５０の下部に位置される加工位置に移動させ、加工時においてもその第３の位置を維持する。 - 特許庁

To improve the productivity in arrangement process without increasing the number of equipments in a heading machine equipped with position adjusting functions of the upper and lower parts, the left and the right, and the front and the back of plural punches.例文帳に追加

複数のパンチの上下、左右及び前後の位置調整機能が備えられた圧造成形機において、いたずらに備品の個数を増加させることなく、段取り替え時の作業性の向上を図ることを課題とする。 - 特許庁

The lower resist layer 103 is composed of a resist material, which is not resolved by developer employed in a next process and which is provided with an ashing speed higher than that of the resist material constituting the upper resist layer 104.例文帳に追加

下層レジスト層１０３は、次工程で用いられる現像液には溶解しないレジスト材料であって、アッシング速度が上層レジスト層１０４を構成するレジスト材料のそれよりも速いレジスト材料でなる。 - 特許庁

To provide a laminated battery pack which can lower a manufacturing cost, compared to that by the prior art, by automating manufacturing process for increasing battery capacity and also can give a strong structure against force from outside.例文帳に追加

電池を大容量化するための製造工程を自動化することで、製造コストを従来と比べ安価とすることを可能とし、しかも外部からの力に強い構造を有する積層型組電池の提供。 - 特許庁

A semiconductor substrate 1 which has finished an exposure process is heated to a temperature WT1 lower than one at which the photo resist 3 is hardened by means of a heater plate 7 arranged inside a PEB chamber 5, and is then left as it is for a time period of ta.例文帳に追加

露光工程を終了した半導体基板１をＰＥＢ室５に配置されたヒータプレート７により、フォトレジスト３が硬化する温度よりも低い温度ＷＴ１に加熱し、ｔａ時間放置する。 - 特許庁

To provide fittings of such a structure as to simplify the working process for the end face of an upper frame and reduce the manufacturing cost in the fittings where a door is erected in the frame formed by right and left vertical frames and upper and lower frames.例文帳に追加

左右の縦枠と上下の枠で構成される枠体に戸体を建て込んでなる建具において、上枠の端面の加工工程が簡単になり、製造価格の低減が図れる構造の建具を提供する。 - 特許庁

In a process in which hydraulic pressure water is introduced from the lower side of the generator body, and the hydraulic pressure water is blown from the upper part of the power generating device, hydraulic pressure is regulated by a compression cover-cum-turbine 5, so that the efficient hydraulic power generating device is provided.例文帳に追加

装置本体の下方より、水圧水を取り入れ、装置上部より水圧水をブロ—させる過程において、圧縮蓋兼タ—ビン５で水圧調整をし、効率の良い水圧発電装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a bag state knitted fabric capable of being used as a bag by forming its bottom surface part with closing the lower end of a cylindrical knitted fabric by using a conventional circular knitting machine without providing a sewing process.例文帳に追加

筒状編地の下端を閉じて底面部を形成し、袋物としての利用を可能とした袋状編地を、従来の丸編機を用いて、縫製の工程を設けることなく製造する方法を提供する。 - 特許庁

The reflow soldering apparatus is provided, at the positions lower than the carrying path, with an importing port for carrying a printed wiring board into the reflow furnace, and an exporting port for carrying out of the printed wiring board after the soldering process from the reflow furnace.例文帳に追加

印刷配線基板をリフロー炉に搬入する搬入口と、リフロー炉からハンダ付け処理後の印刷配線基板を搬出する搬出口とがそれぞれ搬送路より下方に位置するリフローハンダ付け装置。 - 特許庁

A load device (such as a measuring test head) can be lifted or lowered by winding a transmission rope at the upper edge of a first (fixed) pulley and the lower edge of a second (moving) pulley by using a double-process principle.例文帳に追加

倍行程原理を利用し、伝動ロープを第一（定）滑車の上縁及び第二（動）滑車の下縁に巻回することにより、荷重装置（例えば、測定試験ヘッド）を上昇・下降させることが可能となる。 - 特許庁

To provide a production method of black type sintered quarts, without becoming discolored at firing and/or by the exposure at high temperature and with good feature in chemical resistance, which enables to ease process control at lower production cost.例文帳に追加

焼成においても、また高温の環境に曝されても変色せず、耐薬品性に優れているばかりでなく、低い製造コストでプロセス管理を容易とすることのできる黒色系焼結石英を提供する。 - 特許庁

At a first process, an FPC 11 and an FPC 15 are vertically laid one upon the other so as to make the upper surface of a conduction part 13 of the FPC 11 contact with the lower surface of a conduction part 17 of the FPC 15.例文帳に追加

第一工程では、ＦＰＣ１１の導体部１３の表面にＦＰＣ１５の導体部１７の裏面が接触するように、ＦＰＣ１１及び１５同士が上下方向に重ね合わせられて配置される。 - 特許庁

The block 3 has strength set up so that the block may be crushed by power lower than power for crushing a waste wood to chips thereof but should not be broken during a process of loading, storing and handling the block 3.例文帳に追加

ブロック３の強度は、廃木材をチップ状に破砕するときの破砕動力よりも低い動力で解砕でき、かつ、ブロック３の積載保管およびハンドリングの過程で破損しないように設定されている。 - 特許庁

The unit assembling process makes lower ends 52B of the respective rotor shafts 52 fit to two bearings B1 fixed to the case body 20 when the cover unit CU is mounted on the case body 20 to which the respective stators 40 are fixed.例文帳に追加

ユニット組付け工程では、カバーユニットＣＵを各ステータ４０が固定されたケース本体２０に組付ける際に、各ロータシャフト５２の下端部５２Ｂをケース本体２０に固定された二つのベアリングＢ１に嵌合させる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device, preventing attack on a lower part of an SOG film induced at the time of wet cleaning owing to difference in density of the film which is made by film thickness dependency on hardening process of the SOG film.例文帳に追加

ＳＯＧ膜の硬化時に膜厚さの依存性によって発生する膜の緻密度の差によって、湿式洗浄時誘発されるＳＯＧ膜下部のアタックを防止できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The laminated patterns 3 of the eaves structure are obtd. by executing patterning by the process of preventing the contact of the substrate surface with the water or the aq. soln. after successively depositing a lower layer resist 2 and an upper layer resist 4 on the substrate 1 having the large ruggedness.例文帳に追加

凹凸の大きい基板１に下層レジスト２、上層レジスト４を順次成膜した後、基板表面が水あるいは水溶液に接触しないプロセスによりパターニングして庇構造の積層パターン３を得る。 - 特許庁

The glass coating film 20 is formed to have a difference in coating film intensity in its thickness direction in the process of forming the glass coating film 20 so as to have lower intensity on a front surface side than near the component body 10.例文帳に追加

ガラス塗膜２０を形成する際に、ガラス塗膜２０の膜厚方向に塗膜強度差を設け、部品本体１０の近くよりも表面側で、ガラス塗膜２０の強度が低いように、ガラス塗膜２０を形成する。 - 特許庁

To avoid over etching of the bottom of an upper layer wiring groove when a recessed part is formed on a surface of lower layer wiring through a connecting plug hole by etching, in manufacturing a wiring structure by a dual damascene process.例文帳に追加

デュアルダマシン法による配線構造の製造において、接続プラグ用のホールを通じて下層配線の表面に凹部をエッチング形成するとき、上層配線用の溝の底部が過剰エッチングされないようにする。 - 特許庁

Then, a covered layer 18A which is formed of an inorganic material other than metal and has a lower etching speed than that of the metal layer in a subsequently performed second etching process is formed so as to cover the metal layer and the polishing stop layer.例文帳に追加

次に、金属層と研磨停止層とを覆うように、後に行われる第２のエッチング工程におけるエッチング速度が金属層よりも小さい、金属以外の無機材料よりなる被覆層１８Ａを形成する。 - 特許庁

To provide an organic EL device and its production process about which electric field concentration resulting from foreign objects on a first electrode and short circuit between upper and lower electrodes are hard to occur while controlling deterioration of a luminescence characteristic.例文帳に追加

発光特性の低下を抑制しつつ、第一電極上の異物による電界集中や上下電極間の短絡が生じにくい有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a new silver salt exhibiting excellent processing performance composed of an inorganic silver salt and an organic amine and producing conductive silver readily through reaction to heat or light, and a process for forming conductive silver at a lower temperature.例文帳に追加

無機銀塩と有機アミンより成る、熱または光に反応することにより容易に導電性銀を生じる、加工性の良い新規な銀組成物と、さらに、より低温で導電性銀を形成するプロセスを提供する。 - 特許庁

With the airtight container erected with a suction hole 7 located at the lower side, a dust-suction process for suctioning the inside from the suction hole by dust-suction means 5 while tapping from both sides of the airtight container to produce vibration is executed.例文帳に追加

吸引穴７が下に来るように気密容器を立てた状態で、気密容器の両面からタッピングを行って振動を与えつつ、吸引穴から吸塵手段５で内部を吸引する吸塵工程を行なう。 - 特許庁

To provide a deburring device capable of removing burrs caused on at least upper and lower surfaces of a heavy cylinder block with a simple structure by using of a rotary brush without providing any vertically inverting process.例文帳に追加

重量物であるシリンダブロックＷの少なくとも上面と下面に生じるバリを、上下反転工程を設ける必要なく、かつ、回転ブラシを利用した簡単な構造にて取り除くバリ取り装置の提供にある。 - 特許庁

This refining process comprises reusing, as a recrystallization solvent for acrylamidoalkanesulfonic acid, a filtrate generated by the recrystallization of the subject acid using a lower alcohol as a solvent.例文帳に追加

低級アルコールを溶媒とするアクリルアミドアルカンスルホン酸の再結晶において生じたろ液を、アクリルアミドアルカンスルホン酸の再結晶溶媒として再使用することを特徴とするアクリルアミドアルカンスルホン酸の精製方法。 - 特許庁

Although there wasn't any acts of violence, the Minister for Education, Teiyu AMANO, mentioned this "incident" the next day, November 13, at the Lower House Education Committee in the process of the deliberation of the draft law of the university administration. 例文帳に追加

何ら暴力的な事件が起こっていなかったにもかかわらず、翌11月13日、衆議院文部委員会では、大学管理法案審議の過程で天野貞祐歴代の文部大臣がこの「事件」に言及した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a deodorizer and its manufacture process, and a deodorizing filter, highly efficiently removing a lower aldehyde including acetaldehyde and formaldehyde at room temperature without using any expensive catalyst such as platinum, palladium.例文帳に追加

白金やパラジウムなどの高価な触媒を用いることなく、室温でアセトアルデヒド、ホルムアルデヒドを含む低級アルデヒド類を高性能に除去しうる脱臭材、その製造方法および脱臭フィルタを提供する。 - 特許庁

The temperature drop at the surface of the steel material during a hot rolling process is suppressed by jetting and firing a firing agent, such as a liquid fuel having a firing point lower than the temperature of the surface of the steel material.例文帳に追加

熱間圧延中の鋼材表面に、その鋼材が有する表面温度以下の発火点を有する液体燃料等の発火剤を噴射して燃焼させることにより、鋼材の表面温度の低下を抑制する。 - 特許庁