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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > lower processに関連した英語例文

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lower processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1989



例文

To provide a baking auxiliary which can accelerate a thermal decomposition of a binder resin, even when a heating temperature in a baking process is lower than that of a conventional baking process, is excellent in self burning, and can improve the dispersibility of inorganic particles in the binder resin.例文帳に追加

本発明は、焼成工程での加熱温度が、従来より低温であっても、バインダー樹脂の熱分解を促進でき、自己燃焼性にも優れ、さらにはバインダー樹脂中における無機粒子の分散性を向上させることが可能な焼成助剤を提供することである。 - 特許庁

A colored waste water treatment method comprises a hydrogen peroxide treatment process A for treating the colored waste water with hydrogen peroxide to reduce COD to 90% or lower, and an ozone treatment process B for treating the treated water, which has been subjected to the hydrogen peroxide treatment, with ozone.例文帳に追加

本発明の着色廃水の処理方法は、着色廃水に過酸化水素処理を施してCODを90%以下に低減する過酸化水素処理工程Aと、過酸化水素処理を施した処理液にオゾン処理を施すオゾン処理工程Bとを含む。 - 特許庁

To provide a method for producing a metal phthalocyanine, by which the inhibition in the crystal growth of the metal phthalocyanine at a synthesis step, the production of the uniformly fine metal phthalocyanine at a lower temperature than those by conventional methods, and the large reduction in the load of a graphitising process after the synthesis process can be achieved.例文帳に追加

合成段階で金属フタロシアニンの結晶成長を抑制し、均一で微細な金属フタロシアニンを従来法に比べて低い温度で製造し、合成工程後の顔料化工程の負荷を大幅に低減する金属フタロシアニンの製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, after the movable die 73 for the second molding process is made attached with the fixed die 71, ABS resin P2 of a lower melting point than ABS resin P1 is made injected into a space S formed among the movable die 73 for the second molding process, the fixed die 71 and the inner panel 55.例文帳に追加

そして、第2成形工程用可動金型73を固定金型71に合わせることによって第2成形工程用可動金型73と、固定金型71及びインナーパネル55との間に形成された空間S内に、ABS樹脂P1より低融点のABS樹脂P2を注入させる。 - 特許庁

例文

To provide a composition for an organic anti-reflection film which can prevent reflection in the lower film layer of a photoresist film in a process for forming hyperfine patterns in a semiconductor producing process, to provide a method for producing the composition and to provide a method for forming organic anti-reflection film patterns by using the composition.例文帳に追加

半導体製造工程中の超微細パターン形成工程において、フォトレジスト膜の下部膜層での反射が防げる有機反射防止膜用組成物及びその製造方法と前記組成物を用いる有機反射防止膜パターン形成方法を提供する。 - 特許庁


例文

At the end of an elevating process and at the end of a lowering process, a control circuit for the floating unit 20 prolongs the interval of pulses to be supplied to the stepping motor 30, slows the rotation of the stepping motor 30 and makes the elevating speed and lowering speed of the front base plate 3a lower than before, respectively.例文帳に追加

浮上ユニット20用制御回路は、上昇工程の末期及び下降工程の末期になると、ステッピングモータ30に与えるパルスの間隔を長くし、ステッピングモータ30の回転を遅くして、フロントベースプレート3aの上昇速度及び下降速度をそれぞれそれまでよりも小さくする。 - 特許庁

In another method, the peripheral velocity of the grinding wheel of one wheel spindle stock is set to be the peripheral velocity lower than that of the grinding wheel of the other wheel spindle stock, and the grinding is performed in the rough grinding process by the grinding wheel of the other wheel spindle stock, and the grinding is performed in the fine grinding process by the grinding wheel of one wheel spindle stock.例文帳に追加

また、その他の方法として、一の砥石台の砥石車の周速を他の砥石台の砥石車の周速よりも遅い周速に設定し、粗研削工程は他の砥石台の砥石車で研削し、微研削工程は一の砥石台の砥石車で研削するようにする。 - 特許庁

To provide a structure of a magnetic head which prevents electrostatic destruction between a magneto resistance effect film 5 and a lower-part shield film 3 caused in a process, in which a wafer takes an electrical charge, such as an ion milling and so on in the manufacturing process of a magneto resis tance effective type magnetic head, and also provide its manufacturing method.例文帳に追加

磁気抵抗効果型磁気ヘッドの製造プロセスにおいて、イオンミリング等のウエハ表面に帯電が生じる工程で発生する磁気抵抗効果膜5と下部シールド膜3間の静電破壊を防止する磁気ヘッドの構造及び製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the molding includes a filling process for filling a raw material 50 containing powder, into a molding space formed of a mill body 2 and a molding face 42 of a lower rod 4 arranged in an inside of the mill body 2, and a molding process for making an upper rod 3 go down into the mill body 2, to compression-mold the raw material 50.例文帳に追加

臼体2と、臼体2内に配置された下杵4の成形面42とによって形成された成形空間に、粉体を含む原料50を充填する充填工程と、臼体2内に上杵3を降下させ、原料50を圧縮成形する成形工程とを備える。 - 特許庁

例文

To provide a method which produces β-alumina solid electrolyte which unnecessitates a synthesizing process of a starting material for magnesium - aluminum spinel and enables the production of the β-alumina solid electrolyte which is more low-cost and has lower electrical resistance in the method for producing the β-alumina solid electrolyte which obviates a calcination process of the raw material.例文帳に追加

原料の仮焼工程を省略したベータアルミナ固体電解質の製造方法において、マグネシウム−アルミニウムスピネル原料の合成工程を不要とし、より低コストで低抵抗なベータアルミナ固体電解質を製造することができる方法を提供する。 - 特許庁

例文

In the same process as a process wherein the bit lines 6 is formed on a cell contact interlayer film 8 by etching, etching is so performed that the upper surface of the cell contact 9 which is not connected to the bit line 6 is made lower than the upper surface of the cell contact 9 connected to the bit line 6.例文帳に追加

そして、ビット線6をセルコンタクト層間膜8上にエッチングにより形成する工程と同一の工程において、ビット線6と接続しないセルコンタクト9の上面が、ビット線6と接続するセルコンタクト9の上面よりも低くなるようにエッチングする。 - 特許庁

When it is decided that an input level APL is lower than a last reference level APLla, as shown in section (d) by a reference value, a process of using the input level APL as an output level APLad and a process (Flag=1) of setting a status flag F indicating fine variation are carried out.例文帳に追加

区間dのように、入力レベルAPLが直前の参照レベルAPLlaより基準値だけ低いと判断されたときは、その入力レベルAPLが出力レベルAPLadとして使用する処理と、微少変動を示す状態フラグFをセットする処理(Flag=1)が行われる。 - 特許庁

To provide a process for producing polyesters which can reuse germanium dioxide lower in recovery cost by increasing its recovery ratio in the process for producing polyesters by purifying and recovering a germanium compound to be distilled in the polycondensation reaction to reuse it as the polycondensation reaction catalyst.例文帳に追加

重縮合反応時に留出するゲルマニウム化合物を精製回収して重縮合触媒として再使用するポリエステルの製造方法において、回収率を高めることにより、より回収コストの安価な二酸化ゲルマニウムを再利用することができるポリエステルの製造方法を提供する。 - 特許庁

An information processing apparatus includes a first subsystem and a second subsystem, wherein the first subsystem updates a first counter with higher priority than a predetermined process task executed by the first subsystem and updates a second counter with lower priority than the predetermined process task.例文帳に追加

本発明の情報処理装置は、第1のサブシステム及び第2のサブシステムを備え、第1のサブシステムは、第1のサブシステムが実行する所定の処理タスクよりも高い優先度で第1のカウンタを更新し、前記所定の処理タスクよりも低い優先度で第2のカウンタを更新する。 - 特許庁

An annular thermal oxide film 17 is formed though the thermal oxidation process under the condition that the silicon nitride films 11, 11a are left and moreover a deep N well 3 is also formed at the lower entire surface of the silicon nitride film 11a like an island with the lateral diffusion of phosphorus through the annealing process (b).例文帳に追加

シリコン窒化膜11,11aを残した状態で熱酸化処理を施して環状の熱酸化膜17を形成し、さらにアニール処理を施してリンの横方向拡散によって島状のシリコン窒化膜11aの下部全面にもディープNウエル3を形成する(b)。 - 特許庁

The method of manufacturing the cement clinker while charging the combustible wastes into a cement firing process step comprises charging the combustible wastes K onto a fluidized bed in the lower part of a furnace casing of the fluidized bed calcining furnace 10 installed before a rotary kiln 2 of the cement firing process step.例文帳に追加

セメント焼成工程に可燃性廃棄物を投入しながらセメントクリンカを製造する方法において、セメント焼成工程のロータリーキルン2の前段に設けられている流動層仮焼炉10の炉体内下部の流動層上に可燃性廃棄物Kを投入する。 - 特許庁

A control unit of a power conversion device subjects a first duty command signal D11 for a voltage applied to a first winding pair to a lower solid two-phase modulation process, and a second duty command signal D12 for a voltage applied to a second winding pair to an upper solid two-phase modulation process.例文帳に追加

電力変換装置の制御部は、第1巻線組に印加される電圧に係る第1デューティ指令信号D11を下べた二相変調処理し、第2巻線組に印加される電圧に係る第2デューティ指令信号D12を上べた二相変調処理する。 - 特許庁

When an envelope 40 of a PDP is formed and thereafter entered into a heating furnace 51, and a process for sealing the circumferential parts of both panels 10, 20 together by the use of a sealing material is carried out, the process is carried out while adjusting the pressure so as to set the internal pressure of the envelope 40 lower than the external pressure thereof.例文帳に追加

PDPの外囲器40を形成した後、加熱炉51に入れて、その両パネル10,20の外周部どうしを封着材で封着する工程を行う際に、外囲器40の内部圧力が外部圧力よりも低くなるよう圧力調整しながら行う。 - 特許庁

To provide a superposing deviation inspection apparatus, marks for inspecting superposing deviations and overlap deviation inspection method, which enable automatic inspection of the presence of a superposing deviation in a shorter time between a lower layer pattern and a resist pattern, in a lithographic process during the production process of semiconductors.例文帳に追加

半導体の製造工程中のリソグラフィ工程において、下層パターンとレジストパターンとの重ね合わせずれの有無を短時間でかつ自動的に検査することができる重ね合わせずれ検査装置、重ね合わせずれ検査用マークおよび重ね合わせずれ検査方法を提供する。 - 特許庁

A partition plate 5 is arranged on the pressing surface of a lower mold 4 to extend nearly vertically in a partition plate arrangement process, packing spaces are formed on the pressing surface, and powdered tile raw materials 11, 12 of different colors are packed in the respective packing spaces in a powdered tile raw material packing process.例文帳に追加

仕切板配置工程で下型4のプレス面に略垂直方向に延びるよう仕切板5を配置し、そのプレス面上に複数の充填空間を形成し、粉状タイル原料充填工程で充填空間の各々に異色の粉状タイル原料11,12を充填する。 - 特許庁

To provide a heat exchange system including a heat exchanger with heat medium side pressure lower than process side pressure capable of detecting the leakage of a process fluid to a heat medium side and safely and stably performing heat exchange operation.例文帳に追加

熱媒体側の圧力がプロセス側の圧力より低い熱交換器を含むシステムであって、プロセス流体の熱媒体側への漏れを検出することができ、よって安全かつ安定に熱交換操作を実施することができるという優れた特徴を有する熱交換システムを提供する。 - 特許庁

The inspection method includes a process which carries out an electrical measurement for a first object to be measured by a first voltage, and a process which carries out an electrical measurement for a second object to be measured different from the first object to be measured by a second voltage lower than the first voltage.例文帳に追加

検査方法においては、第1の電圧によって第1の測定対象の電気的測定を行う工程と;前記第1の電圧よりも低い第2の電圧によって、前記第1の測定対象とは異なる第2の測定対象の電気的測定を行う工程とを含む。 - 特許庁

In a segment piece forming process P1, a plurality of segment pieces each having a lower hole previously formed on a coil connection portion are formed, and in a cartridge attaching process P2, the segment pieces are attached on a resin-made cartridge so as to have a predetermined space in a circumferential direction.例文帳に追加

セグメント片形成工程P1においてコイル接続部に予め下孔が形成された複数のセグメント片が形成され、次いで、これらのセグメント片がカートリッジ装着工程P2により樹脂製のカートリッジに周方向に所定の間隔を空けて並べて装着される。 - 特許庁

The invention relates to the process for preparation of the cyclodextrin/alpha lipoic acid complex characterized in that, in a first step of a two step process, the alpha lipoic acid and the cyclodextrin are dissolved in an aqueous alkaline solution having a pH above pH 7, and in a second step, an acid is added to lower the pH of the solution to a pH below pH 7.例文帳に追加

第一工程としてアルファリポ酸とシクロデキストリンとを7より高いpHを有するアルカリ性水溶液中に溶解させ、そして第二工程として酸を添加して溶液のpHをpH7未満のpHにまで低下させる二工程法を採用する。 - 特許庁

The manufacturing process for the cellulose acylate film includes a liquid adjusting process for adjusting a polymerizable unsaturated monomer and/or a polymerizable unsaturated monomer having functional group and a cellulose acylate dope composition containing a photopolymerization initiator, a casting process for casting the dope composition, and a polymerization process for polymerizing the polymeizable monomer, wherein casting speed is made 30m/min or lower.例文帳に追加

重合性不飽和モノマー及び/又は官能基を有する重合性不飽和モノマー、及び光重合開始剤を含有するセルロースアシレートドープ組成物を調製する調液工程、このドープ組成物を流延する流延工程、および該重合性モノマーを重合させる重合工程を含むセルロースアシレートフィルムの製造方法であって、流延速度が30m/分以下であることを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。 - 特許庁

When the image buffer 4 has a lower capacity to spare compared with the threshold value, a process thus far performed by a raster image generation part 5, is instead, to be performed by an image generation part 3 and thus the processing load of the part 5 can be miligated.例文帳に追加

イメージバッファ4の空きが閾値より小さくなった場合、ラスタイメージ生成部5で行っていた処理を画像生成部3で行うことにより、ラスタイメージ生成部5の処理負荷を軽減する。 - 特許庁

In the relatively early period of a key depression stroking process, the lower end part 5a of the elastic engaging body 50 and the guide rail 40a are engaged with each other in a static frictional state and then the state is changed into a dynamic frictional state.例文帳に追加

押鍵往行程の比較的初期においては、弾性係合体50の下端部50aとガイドレール40aとは、静止摩擦状態で係合し、その後、動摩擦状態へと移行する。 - 特許庁

To make a hard disk device, having a base disposed with a disk and an actuator and a cover for covering this base lighter in weight, simpler in production process and lower in manufacturing cost.例文帳に追加

本発明はディスク及びアクチュエイターが配設されたベースとこのベースを覆うカバーとを有するハードディスク装置に関し、軽量化,製造工程の簡略化,及び製品コストの低減を図ることを課題とする。 - 特許庁

In a weaving process, warps 8 for a fringe are woven into each of two upper and lower ground woven fabrics 9 and 10 while forming floating parts 11 by jumping over a plurality of ground wefts 4 and 6.例文帳に追加

織成工程において、房用経糸8を、複数本の地緯糸4および6を飛び越えて浮く部分11を形成しながら上下2枚の地織物9および10の各々に織り込む。 - 特許庁

The capacitor is manufactured by a method wherein the deposit of a dielectric material is effected with a speed less than 0.1 nm/s, and the substrate 4 is heated at a temperature lower than 500°C in a dielectric film forming process.例文帳に追加

誘電体膜形成工程において、誘電体材料の蒸着を0.1nm/s以下の速度で行い、基板4を500℃以下の温度で加熱するコンデンサの製造方法である。 - 特許庁

To provide a size measuring mark which can detect a fault at the initial stage of a process by combining the step difference of a lower layer and the pattern roughness, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device and a semiconductor device.例文帳に追加

下層の段差とパターン疎密を組み合わせることにより、プロセス初期段階での異常検出が可能な寸法測定マーク、半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a developing apparatus that can maintain image density and suppress fog or density irregularity to an allowable level or lower even when the outer diameter of a developer carrier is 12 mm or smaller, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

現像剤担持体の外径が12mm以下であっても、画像濃度が維持され、カブリや濃度ムラが許容レベル以下に抑えられる現像装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

A lightly-doped film 4 is formed on the heavily-doped film 3, by applying a dispersing agent with a dopant concentration which is lower than that of the earlier applied dispersant agent onto the entire light-receiving surface of the silicon substrate 1 by using a spin coating process.例文帳に追加

シリコン基板1の受光面全体にスピンコートによって、先に塗布した拡散剤よりもドーパント濃度の低い拡散剤を塗布して、低濃度膜4を高濃度膜3に重ねて形成する。 - 特許庁

To solve a problem on a sintered gear manufactured by a powder metallurgical process, that the impact resistance is low as its density is lower than a gear obtained by cutting a steel material, in particular, the density of a tip is low in comparison with a dedendum.例文帳に追加

粉末冶金法により製造された焼結歯車を使用する場合、鋼材切削歯車に比べ密度が低く特に歯先の密度が歯元に比べて低くなるため耐衝撃性が劣る。 - 特許庁

In a collection process, the magazine 71 of the buffer unit 62 is taken out by a lower hand 113, a lead frame accommodation is moved to a pass line 32, and the lead frame after bonding is accommodated in the lead frame accommodation.例文帳に追加

回収工程にてバッファーユニット62のマガジン71を下部ハンド113で取り出してリードフレーム収容部をパスライン32へ移動し、ボンディング後のリードフレームをリードフレーム収容部に収容する。 - 特許庁

The method for manufacturing the single crystal semiconductor comprises controlling the rotation speed ω2 of the single crystal semiconductor being pulled to be not lower than a prescribed value and applying a magnetic field having an intensity within a predetermined range in the process for pulling the single crystal semiconductor.例文帳に追加

単結晶半導体を引き上げる過程で、引き上げられる単結晶半導体の回転速度ω2を所定値以上に調整し、かつ所定範囲の強度の磁場を融液に印加する。 - 特許庁

A coil 3 is accommodated at the lower section inside a die 12 in a pressure forming machine 11, and mixed powder P in which magnetic powder and binder are mixed is filled into the die 12 for burying the coil 3 by the setting process.例文帳に追加

セット工程により、コイル3を加圧成形機11のダイ12内の下部に収容した後に、磁性粉末とバインダーとを混合した混合粉末Pをダイ12内に充填してコイル3を埋める。 - 特許庁

To provide an adhesive and a method for producing the same which is moldable at a high temperature without progress of excessive hardening during a process of its molding and is also thermosettable after molding at a lower temperature than that when it was molded.例文帳に追加

高温で成形可能であり、成形中に硬化が過度に進行せず、かつ成形後は成形温度よりも低い温度で熱硬化可能である接着剤及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film capacitor, where the loss by an electrode is small, even at high frequencies, accordingly a Q-value is high, and the lower electrode layer hardly peels off in the manufacturing process.例文帳に追加

特に高周波においても電極による損失が小さく、従ってQ値が大きく、さらに製造工程時に下部電極層が剥がれにくく信頼性が高い薄膜コンデンサを提供する。 - 特許庁

Also, by setting a threshold value in the changes of the yields, the regeneration time is extended in the case that the change of the yield of the aromatic hydrocarbon in the reaction process is lower than the threshold value.例文帳に追加

また、前記収率の変化にしきい値を設定し、前記反応工程で芳香族炭化水素の収率の変化がしきい値より低かった場合に前記再生工程の再生時間を延長する。 - 特許庁

In a process for feeding the reed piece 1 which is carried within the pipe 5, the reed piece 1 is forced to temporarily stop or lower a carrying speed by a magnetic action in the vicinity of the exit of the pipe 5.例文帳に追加

パイプ5内を搬送されたリード片1を供給する工程において、パイプ5の出口近傍に磁気作用によりリード片1を一時的に停止させ、又は搬送速度を低下させるようにした。 - 特許庁

To provide a glass master, and a manufacturing method for the glass master in which a manufacturing process is simplified, and a protruding part can be formed without using a lower layer, and to provide an optical disk substrate, and a manufacturing method for the optical disk substrate thereof.例文帳に追加

製造工程が簡単で、かつ下層を用いることなく突起部を形成できるガラス原盤、ガラス原盤の製造方法、光ディスク基板、光ディスク基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A first vertical hole 30 is excavated through a first excavation process where the first vertical hole 30 is excavated down to a lower side of a boundary surface 28 between a contaminated layer 20 and an impermeable layer 22 by penetrating a ground surface layer 18 as well as the contaminated layer 20.例文帳に追加

第1掘削工程により、地盤表層18と汚染層20を貫通して、汚染層20と不透水層22との境界面28の下方まで第1縦穴30が掘削される。 - 特許庁

To solve such a problem that a threshold voltage is greatly shifted to a negative value due to heat treatment of an a-IGZO thin film, and to suppress the maximum temperature in a device production process lower than a softening point of a plastic substrate.例文帳に追加

a−IGZO薄膜の熱処理による閾値電圧が大きく負の値にシフトしてしまう問題の解決とデバイス作製プロセスの最高温度をプラスチック基板の軟化点よりも低く抑える。 - 特許庁

To provide a mounting structure that is improved in strength of connection between a surface-mounted device as an upper layer and a surface-mounted device as a lower layer without performing post-process reinforcement such as resin reinforcement.例文帳に追加

樹脂補強等の後工程補強を行うことなく、上層の表面実装デバイスと下層の表面実装デバイスとの接続強度を向上させた実装構造体を提供する。 - 特許庁

The process (C) passes the inert gas or air from the upper part of the fixed-bed reactor, so as to extract the waste cleaning water from the lower part, and evaporate and remove the water in the catalyst.例文帳に追加

(C)当該固定床反応器の上部から不活性ガス若しくは空気を通気して、当該反応器の下部から洗浄廃水を抜くとともに、触媒中の水を蒸発除去する工程。 - 特許庁

To improve production efficiency by reviewing the manufacturing process or the like with respect to metallic products to which more excellent mechanical properties are imparted through the forging treatment, and to execute production at lower costs.例文帳に追加

鍛造処理により優れた機械的性質を付与される金属製品について、その製造工程等の見直しを行い、より生産効率向上を図り、より低コストで生産可能とすること。 - 特許庁

There is provided a cooling means 5 for cooling the components mounted on the lower surface of the printed wiring board 1 during second reflow in a reflow soldering process for the printed wiring board 1.例文帳に追加

プリント配線板1のリフロー半田付け工程において、セカンドリフロー時におけるプリント配線板1の下面に取り付けられた部品を冷却するための冷却手段5を設けて構成される。 - 特許庁

Further, one of the upper and lower ends of the panel is brought into contact with the peripheral wall of the supply opening in the final process of the panel opening and closing motion, so that the supplied air is efficiently discharged to a distance without leakage.例文帳に追加

さらに、パネルの開閉動作の最終工程でも、パネルの上下端のうちいずれか一端を吹出し口の周壁に接触させ、吹出し空気を漏れなく効率よく遠方に放出する。 - 特許庁

例文

Next, at a coating process, coating liquid 14 is applied on the inside wall surface of the glass tube 5 by sucking the coating liquid 14 from the lower end of the glass tube 5 and releasing and discharging the sucked coating liquid 14 afterwards.例文帳に追加

次に、塗布工程において、ガラス管5の下端から塗布液14を吸引した後、吸引を解除し塗布液14を排出することで、ガラス管5の内壁面に塗布液14を付着させる。 - 特許庁




  
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