「method process」に関連した英語例文の一覧と使い方(635ページ目) - Weblio英語例文検索

The method which has a process of reacting a composition containing a polyol ingredient and a polyfunctional isocyanate in the presence of a catalyst is characterized in that it uses the particle as the catalyst.例文帳に追加

触媒の存在下に、少なくともポリオール成分と多官能性イソシアナートとを含有する組成物を反応させる工程を有するポリウレタン発泡体の製造方法において、該触媒として金属酸化物微粒子を用いることを特徴とするポリウレタン発泡体の製造方法。 - 特許庁

This biomolecule interaction measuring method has a process for immobilizing the biomolecule on a solid surface, using a bifunctional hetero group type hydrophilic polymer as a crosslinker, and for measuring an interaction between the immobilized molecule and a biomolecule or a biomolecule aggregate.例文帳に追加

架橋剤としてヘテロ二官能基型親水性高分子を用いて、固体表面上に生体分子を固定化し、固定化した生体分子と、生体分子あるいは生体分子集合体との相互作用を測定する工程を有する生体分子相互作用測定方法。 - 特許庁

The problem is solved by an improved process of a method for removing water from a hydride gas, and it includes the utilization of a mixture of metal oxides consisting of at least one alkali metal oxide and at least one alkaline earth metal oxide used as a drying agent.例文帳に追加

少なくとも１つのアルカリ金属酸化物と、少なくとも１つのアルカリ土類金属酸化物とから成る金属酸化物の混合物を乾燥剤として利用することを含んで成る、水素化物ガスから水を除去するプロセスの改良された方法によって上記課題を解決する。 - 特許庁

To provide an electrostatic charge image developing toner and a method for producing the toner for improving toner powder flowability, low temperature fixability and offset resistance during fixing, and to provide an electrostatic charge image developer, a toner cartridge, a process cartridge and an image forming device using the toner.例文帳に追加

トナー粉体流動性、低温定着性、及び定着時の耐オフセット性が向上する静電荷像現像用トナー及びその製造方法、並びにそれを用いた静電荷像現像用現像剤、トナーカートリッジ、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a method and a device for recovering carbon dioxide surely from gasification equipment while preventing inclusion of nitrogen and oxygen into combustion exhaust gas discharged during generation of gasified gas without employing any special process for carbon dioxide absorption etc.例文帳に追加

ガス化ガスを生成する際に排出される燃焼排ガス中に窒素や酸素が含まれることを防止して、二酸化炭素吸収の特別なプロセス等を用いることなく、二酸化炭素を確実に回収し得るガス化設備の二酸化炭素回収方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for treating contaminants capable of reducing an initial cost of facilities that detoxify contaminants containing undegradable hazardous organic compounds such as dioxins with a supercritical water oxidation decomposition process and improving decomposition efficiency.例文帳に追加

ダイオキシン類等の難分解性の有害有機化合物を含む汚染物質を超臨界水酸化分解により無害化する設備のイニシャルコストを低減することができ、かつ分解効率を向上させることができる汚染物質の処理方法及び処理装置を提供する。 - 特許庁

The method for regenerating cellulose acetate film comprises a process in which cellulose acetate film containing acetone-soluble cellulose acetate is treated with an organic solvent which does not dissolve cellulose triacetate having a degree of acetylation of 60% but dissolves acetone-soluble cellulose acetate, at 23°C.例文帳に追加

アセトン可溶性セルロースアセテートを含有するセルロースアセテートフィルムを、酢化度６０％のセルローストリアセテートを２３℃において溶解せずかつアセトン可溶性セルロースアセテートを溶解する有機溶媒で処理する工程を含むことを特徴とするセルロースアセテートフィルムの再生方法によって達成した。 - 特許庁

To provide a method of forming a patterned thin film or making a polymer composite of carbon nanotubes by introducing oxirane or anhydride groups into the surfaces of carbon nanotubes by a chemical process and photocuring or heat-curing the surface-modified carbon nanotubes.例文帳に追加

オキシラン基又はアンハイドライド基をカーボンナノチューブの表面に化学的方法で導入し、このように表面修飾されたカーボンナノチューブの光硬化によってパターン薄膜を形成し、或いは熱硬化によってカーボンナノチューブの高分子複合体を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing high-purity bis-β-hydroxyethyl terephthalate through eliminating as thoroughly as possible ions as impurities inevitably found in the process for producing bis-5-hydroxyethyl terephthalate, for example, ions derived from esterification and/or transesterification catalyst.例文帳に追加

ビス−β−ヒドロキシエチルテレフタレートを製造する際にその中に不可避的に存在する不純物としてのイオン例えばエステル化やエステル交換触媒に由来するイオンを可及的に除去することによって高純度のビス−β−ヒドロキシエチルテレフタレートを製造する方法を提供すること。 - 特許庁

This production method comprises introducing the polycarbonate oligomer-containing organic solvent emulsion solution obtained in the production process of the polycarbonate oligomer to a coalescer to separate the polycarbonate oligomer-containing organic solvent phase from the water phase, and subjecting the polycarbonate oligomer-containing organic solvent phase to the polycondensation reaction.例文帳に追加

ポリカーボネートオリゴマーの製造工程で得られたポリカーボネートオリゴマー含有有機溶媒エマルジョン溶液をコアレッサーに導入してポリカーボネートオリゴマー含有有機溶媒相と水相とに分離し、ポリカーボネートオリゴマー含有有機溶媒相を重縮合反応に供するようにする。 - 特許庁

The manufacturing method is almost the same as that of sencha (green tea of middle grade), but its ingredients include tea leaves harvested after the summer (sanbancha [third picked tea leaves], yobancha [fourth picked tea leaves]), tea leaves gathered when branch is shaped for next cultivation (shutobancha [tea leaves picked in autumn and winter]), large leaves (senryu) removed during the sencha manufacturing process. 例文帳に追加

その製法は煎茶とほぼ同一であるが、原料として夏以降に収穫した茶葉（三番茶・四番茶）・次期の栽培に向けて枝を整形したときの茶葉（秋冬番茶）・煎茶の製造工程ではじかれた大きな葉（川柳）などを用いている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide the manufacturing method of a semiconductor device for using a mask material that has excellent dry etching resistance and can be formed at low temperature to achieve a fine via hole and a high yield in a semiconductor via hole-machining process, and achieving a high-performance ultra-high-frequency semiconductor device.例文帳に追加

半導体ヴィアホール加工工程において、ドライエッチング耐性良好、かつ低温において形成可能なマスク材料を使用することにより、ヴィアホール微細化や高歩留まり化を達成させ、高性能な超高周波半導体装置が実現できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing the optical film using a solution-casting film-making process includes a casting zone A, a web drawing zone B and a web drying zone C, wherein after the casting zone A, one of the drawing zone B and the drying zone C is disposed, and the other is disposed after that.例文帳に追加

溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法は、流延ゾーン（Ａ）と、ウェブ延伸ゾーン（Ｂ）と、ウェブ乾燥ゾーン（Ｃ）とを備え、流延ゾーン（Ａ）の後に、延伸ゾーン（Ｂ）及び乾燥ゾーン（Ｃ）のうちのいずれか一方が配置され、その後に、同他方が配置される。 - 特許庁

The signal processing method performs binominal-coefficient-added addition three times or more using a so-called polarity-inverted signal, or a signal capable of forming a state where the polarities of the unnecessary component are alternately reversed in a processing process, so as to suppress the unnecessary component generated by Doppler effect.例文帳に追加

極性反転状況信号と呼ぶ、処理過程において不要成分の極性が交互に反転する状況を形成可能な信号を利用し、二項係数加重による３回以上の加算を行うことにより、ドップラー効果により発生する不要成分を抑圧する。 - 特許庁

The method for producing the aqueous suspension of the filtration auxiliary is characterized in that the quantity of the deaeration gas such as carbon dioxide, nitrogen gas or helium gas, blown in a process for blowing the deaeration gas to remove oxygen gas from the aqueous suspension of the filtration auxiliary in a mixing tank 21 is determined on the basis of the quantity of the suspension.例文帳に追加

混合タンク２１中の濾過助剤の水懸濁液を酸素を含まないものとするために炭酸ガス、窒素ガス又はヘリウムガス等の脱気ガスを吹き込む工程で、前記脱気ガスの吹き込み量は製造すべき前記懸濁液の量に基づいて決定される。 - 特許庁

To provide a QoS setting/issuing system and a method capable of preventing modification and falsification of QoS setting and equal control of a utilization band for each communication terminal by enabling to provide QoS setting information in an IP layer and its issuing process in a classified mode, and to provide a program.例文帳に追加

ＩＰレイヤにおけるＱｏＳ設定情報及びその発行プロセスを秘匿した形で提供することができ、ＱｏＳ設定の改変および詐称の防止と、および通信端末毎の利用帯域の公平制御が可能なＱｏＳ設定発行システムおよび方法、プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a practical film-forming process which allows selection of a suitable film-forming method when forming a film from a coating agent for photocatalysis-related coated films containing amorphous-type titanium oxide, etc., at sites such as buildings, environmental structures, engineering structures, etc.例文帳に追加

建築物・環境構築物・土木構築物などの現場に赴いて、アモルファス型過酸化チタン等を含む光触媒関連被膜用コーティング剤を造膜するに際し、より適切な造膜施工工法を選択することができる実用的な造膜施工方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method capable of selecting a proper slime control agent in a short time even when resistance-inducing microorganisms are generated and effectively suppressing slime by adding a small amount of the slime control agent to the source, in a papermaking process where slime is controlled by using a slime control agent.例文帳に追加

スライムコントロール剤を用いてスライムの抑制を行っている製紙工程において、抵抗性微生物が出現した場合にも適切なスライムコントロール剤を短時間で的確に選定し、その発生源に対して添加することにより少量の添加量で効率よくスライムを抑制する。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a process in which a panel 13 is pressurized and deformed from the outside toward inside by a required pressure equivalent to vacuum deformation and the panel 13 in the state of deformation is placed on the exposure table 12 and exposure is made on the photosensitive coating film coated on the inner face of the panel.例文帳に追加

パネル１３を外面からパネル内面に向けて真空変形に相当する所要の圧力で加圧して変形させ、この変形した状態のパネル１３を露光台１２上に載置してパネル内面に塗布した感光性塗膜に対して露光を行う工程を有する。 - 特許庁

In the production method of an electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer on a substrate at least the surface of which is conductive, the substrate is immersed in a coating liquid for the photosensitive layer containing a solvent and then the substrate is drawn up from the coating liquid to apply the coating liquid film on the surface in the coating process.例文帳に追加

少なくとも表面が導電性である基体上に感光層を備える電子写真感光体の製造方法において、塗布工程では、溶剤を含有する感光層用塗液中に基体を浸漬し、その後基体を塗液から引上げて、その表面に塗液膜を塗布する。 - 特許庁

To provide a flow sensor for an infrared gas detector that is used for the sensor section of a detector in an infrared gas analysis meter, can be manufactured accurately by a process for simultaneous mass production, and achieves stable measurement without much variation, and the manufacturing method of the flow sensor.例文帳に追加

赤外線ガス分析計における検出器のセンサ部に用いられ、一度に大量生産できる工程で精度良く生産可能で、ばらつきの少ない安定した測定を可能とする赤外線ガス検出器用フローセンサおよびフローセンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

In a dry cleaning method, a resist is provided on a plurality of portions of a metal layer formed on a semiconductor device and the metal layer is etched, and after the remaining metal-contaminated resistor is ashed through reactive ion etching(RIE), downstream type microwave process is performed so as to make the remaining resist easily removable.例文帳に追加

半導体デバイス上に形成された金属層の複数の部分上にレジストを設け、該金属層をエッチングし、このとき残留する金属汚染されたレジストをＲＩＥアッシングした後、ダウンストリーム型マイクロ波プロセスを行って残留レジストを除去しやすくする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor wafer structure which makes the interior of a wafer surface uniform in reflection factor, in order to acquire an uniform temperature change over a wafer whole region, when a rapid thermal annealing process of a semiconductor structure including a combination of different semiconductor materials is carried out.例文帳に追加

異なる半導体材料の組み合わせを含む半導体構造の急速熱アニール・プロセスを実施する時に、ウェハ全域にわたる一様な温度変化を得るため、ウエハー面内を一様な反射率にする半導体ウェハ構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for treating a carbon fiber bundle, by which even a thick carbon fiber bundle such as a large tow can eliminate treatment irregularity at the level of single fibers in a surface-electrolyzing treatment process on the production of the carbon fiber bundle to give the carbon fiber bundle having excellent adhesiveness to matrix resins and excellent composite characteristics.例文帳に追加

炭素繊維束の製造において、ラージトウ等の太物炭素繊維束であっても、表面電解処理工程での単繊維レベルの処理ムラを解消することにより、マトリックス樹脂との接着性、およびコンポジット特性にも優れた炭素繊維束の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment apparatus of a substrate, which can accurately process a substrate by increasing a radical species density suitable for substrate processing, can control ion radical energy to an energy value suitable for substrate processing and to a small band energy width, and can form an excellent embedded film, and to provide a plasma treatment method thereof.例文帳に追加

基板の加工に適したラジカル種密度を増大させ、イオンラジカルエネルギーを基板の加工に適したエネルギー値、狭帯域エネルギー幅に制御して、精緻加工を行うことができ、また、優れた埋め込み成膜を行うことが可能な基板のプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a module assembling method capable of preventing generation of unexpected stress on other members such as a leaf spring in an axle module assembling process when an axle member is placed in a regular position on a working base, not the reverse side, and the leaf spring is attached.例文帳に追加

アクスル・モジュールの組立て工程において、アクスル部材を作業台に（裏返しでなく）正位置に載置してリーフ・スプリングの組付けを行うとき、リーフ・スプリングその他部材に予期しないストレスが発生することがあり、これを防止するためのモジュール組立て工法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of preventing characteristic degradation caused by surface roughness of a wafer by sufficiently preventing the surface roughness of the wafer in a heat treatment process, and to provide a semiconductor device whose characteristic degradation caused by surface roughness is prevented.例文帳に追加

熱処理工程においてウェハの表面荒れを十分抑制することにより、当該表面荒れに起因した特性の低下を抑制することが可能な半導体装置の製造方法、および表面荒れに起因した特性の低下が抑制された半導体装置を提供する。 - 特許庁

To realize shortening of a manufacturing process, improvement of workability, and reduction of a manufacturing cost by a method therein a gap between a pipe and an end face member is sealed by utilizing a nature to shrink resin during molding of a resin molding product.例文帳に追加

樹脂成形品の成形時に樹脂が収縮する性質を利用して、パイプと端面部材との間をシールすることにより、製造工程の短縮、作業性の向上、製造コストの削減を実現することができる樹脂成型品及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

This method for detecting snake growth of a single crystal is one for detecting the snake growth of crystal happening in the process of growing a single crystal 12 which comprises the steps of charging a silicon raw material into a crucible 1 to melt it, dipping a seed crystal 15 in the molten liquid and pulling it up while rotating.例文帳に追加

単結晶くねり成長検出方法は、坩堝１内にシリコン原料を充填して溶解し、その溶融液に種結晶１５を浸漬して回転させながら引上げて単結晶１２を成長させる際に生じる結晶くねり成長を検出する方法である。 - 特許庁

The method for fixing the line 25, or adjusting the position of the line after it is thus fixed includes a process of grasping the line, stretching a sleeve 20 installed on the line to be able to resist the motion of the line along its length direction axial line to the sleeve, while making it narrower.例文帳に追加

ライン２５を患者に固着し又はこのように固着されたラインの位置を調節する方法は、ラインを把持すると共に、スリーブに対するその長手方向軸線に沿ったラインの動きに抵抗し得るようにラインに取り付けられたスリーブ２０を引伸ばし且つ狭小にすることを備えている。 - 特許庁

To provide a Cu wiring film forming method which can improve, using a simple structure and a simple process, the adhesiveness between a diffusion barrier base film and a Cu wiring film, when Cu wiring is used in a semiconductor device, and can realize low manufacturing cost and improved production efficiency.例文帳に追加

半導体デバイスでＣｕ配線を用いる場合に、拡散バリア用下地膜とＣｕ配線膜との密着性を、簡易な構成と簡略な工程で向上させることができ、製作コストの低下と生産効率の向上を実現できるＣｕ配線膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a treatment method of waste water containing sulfur-based COD components capable of suppressing the generation of hydrogen sulfide in a treatment process, preventing an environmental pollution, and stabilizing the COD concentration in the waste water to be within an appropriate range at or below an effluent standard, and a processing facility therefor.例文帳に追加

処理工程における硫化水素の発生を抑止して環境汚染を防止し、かつ、廃水中のＣＯＤ濃度を排水基準以下の適正範囲内に安定させることができる硫黄系ＣＯＤ成分を含有する廃水の処理方法およびその処理設備を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a laminated fluorocarbon resin sheet having a desired thickness and characteristics necessary for a structural material member such as bending resistance and tear resistance by a series of continuous processes without repeating an impregnation/baking process.例文帳に追加

本発明は、含浸・焼成工程を繰り返さずに一連の連続した工程によって、所望の厚さを有し、さらに耐屈曲性、耐引裂性等の構造材料部材として必要な特性を有するフッ素樹脂積層シートの製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an annealed wafer which can easily reduce DNN defects without changing conditions the crystal growing step or heat treating conditions of a heat treating process in a step of manufacturing the annealed wafer.例文帳に追加

アニールウエーハを製造する工程において、結晶成長工程の条件や熱処理プロセスの熱処理条件の変更を行うことなく、ＤＮＮ欠陥の発生を容易に低減することができるアニールウエーハの製造方法及びＤＮＮ欠陥の低減したアニールウエーハを提供する。 - 特許庁

To provide copper foil for a laser drilling process, to provide copper foil fitted with resin using the same and to provide their producing methods so that the existent equipment and technique can be used as they are and the adoption of a Cu direct method by which reduction in cost by the reduction of stages can be attained.例文帳に追加

これまでの設備や技術をそのまま使用でき、且つ工程削減によりコストダウンが図れるCuダイレクト法の採用を可能にするため、レーザ穴あけ加工が可能なレーザ穴あけ加工用銅箔及びそれを用いてなる樹脂付き銅箔、ならびにそれらの製造方法を提供する。 - 特許庁

This method for producing activated carbon-dispersed water comprises the following process: activated carbon powder is previously dispersed in high-pressure water, a mixed gas of oxygen and hydrogen is combusted in the high-pressure water, and the activated carbon powder is melted by the resulting combustion gas to disperse the resultant activated carbon ultrafine particles in the water.例文帳に追加

予め高圧水中に活性炭粉末を分散させておき、さらに高圧水中で酸素と水素の混合ガスを燃焼させ、その燃焼ガスで活性炭粉末を融解させることにより活性炭超微粒子が水中に分散した活性炭分散水を製造する。 - 特許庁

To provide a solidified material of steelmaking dust for the purpose of recycling it, which does not contain an excess additive such as a binder, has superior handleability, and is inexpensively manufactured by solidifying steelmaking dust produced in a steel production process with the use of a melting furnace; a manufacturing method therefor; and a manufacturing apparatus therefor.例文帳に追加

溶解炉等による鉄鋼生成過程で生じる製鋼ダストを、バインダー等の余分な添加物を含まずに、再利用のための取扱性に優れた固形化物とでき、また低コストで製造することができる製鋼ダスト固形化物、およびその製造方法、製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of forming a good resist pattern in a shrinking process for making a resist pattern narrow by carrying out a treatment such as heating after forming the resist pattern, and to provide a layered product using the resist composition and a resist pattern forming method.例文帳に追加

レジストパターンを形成した後に加熱等の処理を行うことにより当該レジストパターンを狭小させるシュリンクプロセスにおいて、良好なレジストパターンを形成することができるレジスト組成物、該レジスト組成物を用いた積層体及びレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed matter by an ink ejecting print system in which a barrier wall having an ideal shape is obtained in an efficient manufacturing process and thereby, a color composition in each pixel is formed flat showing no color irregularity.例文帳に追加

インキ吐出印刷方式による印刷物の製造方法において、理想的な形状の隔壁を効率的な製造工程により提供し、これにより各画素内の着色組成物が平坦な色ムラのない印刷物の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The method of producing the graphite film is carried out by heat-treating a polymer film having birefringence of ≥0.12 at 2,000°C and includes a process for heat-treating under a condition that a temperature rising rate in a range of ≤1,000°C is >5 °C/min.例文帳に追加

複屈折が０．１２以上の高分子フィルムを２０００℃以上の温度で熱処理するグラファイトフィルムの製造方法であって、１０００℃以下の温度領域における昇温速度が１分間に５℃を超える熱処理をする工程を含むことを特徴とするグラファイトフィルムの製造方法、とする。 - 特許庁

To provide a reference voltage driving circuit with a compensating circuit, and a compensating method of the same capable of minimizing an effect of a difference between a gain of an operation amplifier itself and a gain per operation amplifier originating in a low temperature polysilicon manufacturing process to a voltage level of a reference voltage.例文帳に追加

オペアンプ自体のゲイン並びに低温ポリシリコン製造工程に起因するオペアンプごとのゲインの相違が基準電圧の電圧レベルに及ぼす影響を最小限に抑えることができる補償回路を有する基準電圧駆動回路とその補償方法を提供する。 - 特許庁

The radiation image conversion panel, having at least a stimulable phosphor layer and a protective layer on a support body, is produced through a process using the gas phase deposition method, and each of the support body and the protection layer has flexibility.例文帳に追加

支持体上に、少なくとも輝尽性蛍光体層、保護層を有する放射線画像変換パネルにおいて、該輝尽性蛍光体層が気相堆積法を用いる工程を経て作製され、且つ、該支持体及び該保護層が、各々可撓性を有することを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 特許庁

To provide a reflection ground photosensitive element which is inexpensive, whose fine defects when the element is laminated at normal pressure are reduced and with which production yield and reliability can be enhanced in a production process of the reflection plate and to provide a manufacturing method for the reflection plate using the same.例文帳に追加

安価な反射下地感光性エレメントで、常圧でのラミネート時の微小欠陥を低減し、反射板の製造工程において、製造歩留り、信頼性を向上することができる反射下地感光性エレメント及びそれを用いた反射板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a molding mold which can improve productivity by preventing defects such as 'wetting' of a molding caused by gas generated from a resin during molding and obviating a mold cleaning process for removing a deposit caused by the generated gas, and a molding method using the mold.例文帳に追加

成形時に樹脂材料から発生するガスによる成形品における「濡れ」等の欠陥を確実に防止し、発生したガスに起因する堆積物を取り除くための金型のクリーニング工程を不要にし、生産効率を向上させることができる成形金型及び成形方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device, which prevents reduction in hFE in low current due to an increase of the surface recombination current in a bipolar transistor and can microscopically form the device by forming an external base region in a self alignment manner to an emitter polycrystalline silicon film in a BiCMOS process.例文帳に追加

ＢｉＣＭＯＳプロセスにおいて、バイポーラトランジスタの表面再結合電流の増大による低電流でのｈ_FEの低下を防止し、外部ベース領域をエミッタ多結晶シリコンに対して自己整合的に形成することで微細化が可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁