「pattern object」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索

An image pickup element 42 in a touch pen 4 images a unit region 20 in the altered image frame, and a coordinate position specifying part 43 decides the position of the unit region 20 based on the pixel pattern 60 of the imaged altered image frame, and specifies an input object coordinate position 21.例文帳に追加

タッチペン４内の撮像素子４２が改変画像フレームにおける単位領域２０を撮像し、座標位置特定部４３が、撮像された改変画像フレームの画素パターン６０に基づいて、その単位領域２０の位置を判定し、入力対象座標位置２１を特定する。 - 特許庁

The plurality of lines constituting the detection object color pattern extend in the main scanning direction with one virtual straight line running in the sub scanning direction defined as a reference position, and the length dimension of the respective lines in the main scanning direction are formed stepwise long or short at uniform length dimensions.例文帳に追加

検出対象色パターンを構成する複数本のラインは、副走査方向に走る一つの仮想直線を基準位置として主走査方向に伸びており、各ラインの主走査方向の長さ寸法は、均等な長さ寸法で段階的に長くまたは短く形成されるようになっている。 - 特許庁

A plurality of objects having at least one attribute out of a shape, a size, a color and a pattern, are set in a preliminarily provided prescribed area, and a relative positional relationship between the objects and an attribute of each object, as features for searching the objective image are extracted.例文帳に追加

予め設けられた所定領域に、形状、大きさ、色、または模様の少なくとも一つの属性を有するオブジェクトを複数設定し、オブジェクト間の相対的な位置関係および各オブジェクトの属性を、目的の画像を検索するための特徴として抽出する。 - 特許庁

That is, when the single character information column is varied, since there is no column to be a comparison object like the plurality of common decorative pattern columns, whether or not the single or the plurality of ready-to-win states are to be stopped on the effective line is not predicted until the single character information column is stopped.例文帳に追加

すなわち、単数の文字情報列が変動する場合には、複数の共通装飾図柄列のように比較対象となる列がないことから、単数の文字情報列が停止するまで、有効ライン上に単数または複数のリーチ状態が停止されるか否かが予測されることがない。 - 特許庁

Even when a charged conductive object touches the driving electrodes (13a, 13b) or a driving power source pattern (35) connected to them during the non-operation period, a DC voltage is not applied to a part between the paired driving electrodes (13a, 13b), so that the depolarization of the piezoelectric board (13) is prevented.例文帳に追加

非動作期間中に、駆動電極（１３ａ、１３ｂ）やこれらに接続する駆動電源パターン（３５）に、帯電する導電物が触れても、一組の駆動電極（１３ａ、１３ｂ）間に直流電圧が加えられることがなく、圧電基板（１３）の消極を防止できる。 - 特許庁

A plurality of frames are selectively positioned in an irradiation region 228 of the incident light by feeding an array of the plurality of frames, a sheet-like mask 200 extended in a longitudinal direction in a longitudinal direction for sequentially projecting the plurality of pattern light beams to the object.例文帳に追加

複数のパターン光を順次、物体に投影するために、シート状を成して長さ方向に延びるマスク２００であって複数のフレームが並んだものを長さ方向に送ることにより、複数のフレームを選択的に前記入射光の照射領域２２８に位置決めする。 - 特許庁

Consequently, the display state of auxiliary attributes relating to the whole contents or object such as the attributes changing in, for example, the color, the thickness, the shape, and the pattern can be changed according to the zooming operation contents of the browsing person, so the operability of zooming can be improved.例文帳に追加

これにより、例えば、色、太さ、形状、パターンが変化する属性のようなコンテンツ全体もしくはオブジェクトに係る補助的な属性の表示状態を閲覧者のズーム操作内容に従って変化させることができるので、ズーミングにおける操作性を向上させることができる。 - 特許庁

A complex correlation section 110 applies complex multiplication of a known pattern, to distinguish a signal of each base station with a baseband signal resulting from applying frequency conversion to a known signal sent from a base station unit which is the object of a communication opposite party to have a baseband frequency to conduct inverse spread on the baseband signal and to obtain an amplitude.例文帳に追加

複素相関部１１０は、通信相手の候補である基地局装置から送信された既知信号がベースバンド周波数に周波数変換されたベースバンド信号に各基地局装置の信号を区別する既知パターンを複素乗算して逆拡散を行い、振幅値を求める。 - 特許庁

According to this, since the human eye has the feature of recognizing an object having the highest contrast first (Weber-Fechner law), an observer recognizes the pattern 110 first, and the dark line 120 is extremely difficult to recognize since it is buried in the recognition of the high contrast.例文帳に追加

これにより、人間の目は最もコントラストが高いものを最初に認識するという特性（ウェーバー・フェヒナーの法則）をもっているため、観察者は、図柄１１０を最初に認識し、暗線１２０はその高いコントラストの認識に埋没してしまうために非常に認識し難くなる。 - 特許庁

In a method for manufacturing a semiconductor device and other fine-structured parts, by using a projection objective lens (5), the image of a pattern arranged in the object plane of the projection objective lens is projected on a photosensitive substrate arranged in the region of an image surface (12) of the projection objective lens.例文帳に追加

半導体素子およびその他の微細構造部品を製造する方法において、投影対物レンズ（５）を用いて、該投影対物レンズの物体平面内に配置されるパターンの像が、前記投影対物レンズの像面（１２）の領域内に配置される感光性基板上に投影される。 - 特許庁

To reduce tone quality deterioration by setting a basic frequency pattern being a synthetic object so that a basic frequency change rate of a voice element used for synthesis becomes as small as possible within the range that an intonation doesn't become unnatural.例文帳に追加

合成目的とする基本周波数パターンを、イントネーションが不自然にならない範囲内で、なるべく合成に用いる音声素片の基本周波数変更率が少なくなるように設定することで、音質劣化を軽減できる音声合成方法とその装置を提供する。 - 特許庁

When prescribed processing is called, on the basis of interruption setting information describing in a prescribed pattern which interruption processing is called at what point of time for what kind of calling, the calling of prescribed interruption processing and the calling of calling object processing are controlled and executed.例文帳に追加

所定の処理の呼び出しがあった場合、どのような呼び出しに対してどの時点でどの割り込み処理を呼び出すのかについて所定のパターンで記述された割り込み設定情報に基づいて、所定の割り込み処理の呼び出しと、呼び出し対象処理の呼び出しとを制御し実行する。 - 特許庁

In this satellite observation method for emitting a radar along a substantial nadir direction from the satellite toward a ground surface to observe a position of the scattering object distributed between the ground surface and the artificial satellite by measuring a reflected wave therein, radar waves are emitted by a prescribed pulse pattern.例文帳に追加

人工衛星から地表面に向けて略天底方向にレーダを発射し、その反射波を測定することにより該地表面と該人工衛星との間に分布する散乱体の位置を観測する衛星観測方法において、所定のパルスパターンによるレーダの発射を行う。 - 特許庁

A deterioration correction part 1-6 uses the decision result to calculate a correction coefficient from the simplicity and complicity of a local area and corrects a feature vector using the black pixel connection length of the object character that a feature extraction part P4 extracts from a normalized character pattern by using the correction coefficient.例文帳に追加

劣化補正部１−６は、局所領域の単純度と複雑度から補正係数を算出する際に該判定結果を利用し、特徴抽出部１−４が正規化文字パターンから抽出した対象文字の黒画素連結長利用の特徴ベクトルを、該補正係数で補正する。 - 特許庁

When the extracted node group corresponds to the pattern of the node group as a candidate of a molecule switch, that is, any of switch patterns type 1 to type 3 (S13: YES), the information processor stores object node information, type information and relevant node information as information showing the node group in a Switch file (S14).例文帳に追加

情報処理装置は、抽出されたノード群が、分子スイッチの候補となるノード群のパターン、即ち、スイッチパターンtype1乃至type3のうちの何れかに該当する場合（Ｓ１３ＹＥＳ）、そのノード群を示す情報として、対象ノード情報、type情報、関連ノード情報をSwitchファイルに格納する（Ｓ１４）。 - 特許庁

A contact probe 13 is arranged corresponding to an arrangement pattern of a test pad 11 provided in a circuit formation domain 5a which is an inspection object on the upper surface of a holder substrate 15 provided on this contact unit 2, and an inspection probe group 14a-14d is arranged corresponding to dummy pads 7a-7d.例文帳に追加

コンタクトユニット２に備わるホルダ基板１５の上面には、検査対象たる回路形成領域５ａに備わるテストパッド１１の配置パターンに対応してコンタクトプローブ１３が配置されると共に、ダミーパッド７ａ〜７ｄに対応して、検出プローブ群１４ａ〜１４ｄが配置される。 - 特許庁

To achieve measurement at high accuracy in the order of μm, in a three-dimensional shape measuring device using a light-plane-intersecting sectioning method as the principle, particularly in a three-dimensional irregularity inspection such as paper money performed by creating a slit light pattern to be projected on an object by a liquid crystal element.例文帳に追加

光切断法を原理とする３次元形状測定装置に関し、特に、物体に投影するスリット光パターンを液晶素子で作成することにより、紙幣のような３次元的な凹凸検査においてμｍオーダーでの高精度な計測を可能としたものである。 - 特許庁

To provide a method of forming a thin film pattern which is capable of preventing a thin film that is not an object of etching from being etched even when thin films is subjected to etching under the condition that etching selectivity is set low, and to provide an electro-optical device, its manufacturing method, and an electronic apparatus.例文帳に追加

同一基板上に形成された薄膜をエッチング選択性の低い条件でエッチングする場合でも、エッチング対象とされない薄膜がエッチングされることを防止可能な薄膜パターンの形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供すること。 - 特許庁

To provide a conductive ink composition and the like by which, when applying a conductive ink to an object of application to form a pattern, a volume resistivity close to that of bulk silver can be obtained even by firing at ≤150°C for 30 min (low temperature firing), though depending on the thickness of the film applied.例文帳に追加

導電性インキを塗布対象物に塗布してパターンを形成するにあたり、塗布された膜厚にも依存するが１５０［℃］以下３０分間の焼成（低温焼成）によっても、バルク銀に近い体積抵抗率が得られる、導電性インキ組成物などを提供する。 - 特許庁

But when a varying pattern PC1-2 is determined, the driving of the solenoid 53 for wings is started after the time T2 required prior to the opening of the wings passes to open or close the role object thereby letting the game balls approaching into the variable prize winning device pass through the specified region.例文帳に追加

これに対して、変動パターンＰＣ１−２に決定された場合には、羽根開放前時間Ｔ２が経過してから羽根用ソレノイド５３の駆動が開始されて役物開閉動作が行われることにより、可変入賞装置の内部に進入した遊技球が特定領域を通過する。 - 特許庁

To conduct accurate measurement by correcting a measuring error caused by a value of fine parasitic resistance such as a cable between a measuring instrument and a measured object, a probe and a wire on a test pattern, in a measuring system by a direct current for an electric sample having three or more of terminals.例文帳に追加

３つ以上の端子を持つ電気的試料の直流での測定系において、測定器と被測定物の間のケーブル、プローブ、テストパターン上の配線等の微小な寄生抵抗の値による測定誤算を補正することで、より高精度な測定を行うことを目的とする。 - 特許庁

The mask 109 for exposure having a micro opening pattern is elastically deformed and contacted to or exfoliated from an object 110A to be exposed with the pressurizing and depressurizing operation by a pressurizing and depressurizing means 51, and a controlling means 200 controls the pressurizing and depressurizing operation by the pressuring and depressuring means 51.例文帳に追加

加減圧手段５１により、微小開口パターンを有する露光用マスク１０９を加減圧により弾性変形させて被露光物１１０Ａに接触、又は剥離させると共に、制御手段２００により加減圧手段５１による加減圧動作を制御する。 - 特許庁

To provide a current sensor that has a function for detecting a failure and does not cause such a situation where despite breakage of a wiring pattern around a detection element, an output signal is output by considering that a current flows in a measuring object current detection member.例文帳に追加

本発明は、検出素子部周りの配線パターンが断線しても、被電流検出部材に電流が流れているとして、出力信号を出力してしまうということのない、故障を検出する機能を有する電流センサを提供することを目的とするものである。 - 特許庁

The object includes a music bar code 100, and the pattern is the music bar code 100.例文帳に追加

対象物を携帯情報端末２００の撮影手段２０４で撮影することで取得した撮影画像に含まれるパターンから、画像処理手段２１０が当該パターンに対応つけられた情報を読み取る情報取得方法であって、対象物はミュージックバーコード１００を含んでおり、パターンはミュージックバーコード１００である。 - 特許庁

In the voice recognition device which analyzes inputted voice into acoustic parameters and recognizes the voice by comparing the parameters with comparison-object pattern candidates, the likelihood of recognition is weighted employing the values that are set based on the time of the uttering and external factors to conduct converging of word recognition.例文帳に追加

入力された音声を音響的パラメータに分析して、比較対象パターン候補と比較して音声を認識する音声認識装置において、発声された時刻および外部要因に着目して設定された値を用いて、認識の尤度に重み付けを行い、単語の絞り込みを行う。 - 特許庁

When a start winning is generated, whether to be a big winning or a small winning, a big winning kind and a variation pattern kind are determined at the winning, and in variable display turned to the object of determination at the winning, a performance belonging to one of two or more kinds of categories is executed.例文帳に追加

始動入賞が発生したときに、大当りや小当りとなるか否かや、大当り種別、変動パターン種別を入賞時判定し、入賞時判定の対象となった変動表示において、複数種類のカテゴリのうちのいずれかのカテゴリに属する演出を実行する。 - 特許庁

The pattern inspecting method comprises photographing an object substrate to obtain a digital picture, detecting defects, using the digital picture, and switching to indicate or not indicate those defects agreeing with registered features among the detected defects or indicating the detected defects distinguishable from others.例文帳に追加

又本発明によるパターン検査方法においては、対象物基板を撮像してディジタル画像を得、このディジタル画像を用いて欠陥を検出し、この検出した欠陥のうち登録した特徴に一致する欠陥の表示非表示を切替えるか他と識別可能なように表示するようにした。 - 特許庁

The defect part is detected from the changing rate of a brightness gradient of a gradation pattern acquired by projecting the inspection object surface through a screen 3 where plural regular-hexagonal patterns are printed closely in the honeycomb shape and the concentric gradation patterns are printed on the respective regular-hexagonal patterns.例文帳に追加

複数個の正六角形のパターンが隙間なくハニカム状に印刷されて、これら正六角形の個々のパターンに同心円状のグラデーションパターンが印刷されたスクリーン３を介して検査対象面を投影して得られるグラデーションパターンの明暗勾配の変化率から欠陥部分を検出する。 - 特許庁

To prevent a foreign object from easily entering a connector opening from which a connector for the outside connection is exposed, and to securely prevent fraudulent access to the wiring pattern of a control board even if the entrance should be permitted in a control board assembly in which the control board of a game machine is stored.例文帳に追加

遊技機の制御基板を収容する制御基板アッセンブリにおいて、外部接続用のコネクタを露出させるコネクタ開口部からの異物の侵入を困難にし、また仮に侵入を許したとしても制御基板の配線パターンに対する不正なアクセスを確実に防止する。 - 特許庁

To provide a method and a device for speech analysis, which are not affected by the environment and mental state of a speaker by excluding a feature vector having a small variation quantity from standard pattern learning object data by using a time variation parameter of delta cepstrum.例文帳に追加

デルタケプストラム等の時間変動パラメータを用いて、変化量の少ない特徴ベクトルを標準パターン学習対象データから除外することにより、発声者の環境，心理状態により影響されることのない音声認識方法および装置を提供すること。 - 特許庁

In the case of dimension measurement, a focusing position is changed in order until it is judged that a signal curve obtained by manual focusing is not similar to signal curves relating to the other patterns 32, 33 and sufficiently similar to the signal curve relating to the measuring object pattern 31.例文帳に追加

寸法測定の際には、自動焦点合わせにより得られた画像に係る信号曲線が、他のパターン３２，３３に係る信号曲線に類似せず、測定対象パターン３１に係る信号曲線に充分類似していると判定されるまで焦点合わせ位置を順次変更する。 - 特許庁

A display list converting device 2 fetches a mask pattern and the bitmap of a transmission object from an external storage device 1, prepares a black image drawn in black and a white image drawn in white for images of a frame buffer 5 and respectively adds the black and whit images as objects for a black image and a white image to a display list 3.例文帳に追加

ディスプレイリスト変換装置２では、外部記憶装置１からマスクパターンと透過オブジェクトのビットマップを取り出してフレームバッファ５のイメージに黒で描く黒イメージと白で描く白イメージとを作成し、それぞれ、黒イメージ用、白イメージ用のオブジェクトとしてディスプレイリスト３に追加する。 - 特許庁

A font information conversion means 1b extracts the font information corresponding to the learning object font selected by the selection means 1a, learns characteristics of an image pattern of a character based on the font information and then converts the font information into character recognition information.例文帳に追加

フォント情報変換手段１ｂは、フォント選択手段１ａによって選択された学習対象フォントに対応するフォント情報を記憶手段から抽出し、フォント情報に基づく文字の画像パターンの特徴を学習することによって、フォント情報を文字認識情報に変換する。 - 特許庁

To provide a shading method in computer graphics capable of representing a dark part by pasting an image with a pattern not by reducing a luminance of a surface to darken the surface when executing representation such that the surface of a three-dimensionally shaped object onto which light reaches with difficulty stepwise becomes dark.例文帳に追加

３次元形状の物体の光の届きにくい面に対して、段階的に暗くなるような表現を行うとき、面の輝度を下げて暗くするのではなく、模様の入った画像を貼ることにより暗い部分を表現できるコンピュータグラフィックスにおける陰影付け方式を提供する。 - 特許庁

Measuring range of the waveform data as the processing object of waveform processing simulation, differentiated data of the waveform data, edge candidate position, each line mark position, relationship between each line mark position and edge candidate position, mark detecting position, error information, and template pattern or the like are displayed corresponding to the waveform data.例文帳に追加

波形処理シミュレーションの処理対象となった波形データの計測範囲、波形データの微分データ、エッジ候補位置、各ラインマークの位置、その位置とエッジ候補位置との関連付け、マークの検出位置、エラー情報、テンプレートパターンなどを波形データと対応付けて表示している。 - 特許庁

To provide an exposing mask prevented from being damaged due to the electrification of an object to be exposed at the time of exposure and capable of preventing the positional accuracy and resolution of an exposure pattern from being deteriorated due to vibration, a method for manufacturing the exposing mask, an exposing method, and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

露光時に、露光対象の帯電に起因する露光用マスクの破損の心配がなく、振動による露光パターンの位置精度や解像度の劣化がない露光用マスクとその製造方法及び露光方法、並びに半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and device for acquiring the three-dimensional information capable of enhancing the lamination accuracy of the shape information and surface attribute information of an object photographed by correcting the dislocation of a pattern light photographed image from a normally photographed image.例文帳に追加

本発明は、パターン光撮影画像と通常撮影画像とのずれを補正することによって、被撮影物の形状情報と表面属性情報の張り合わせ精度を向上させることを可能とした３次元情報取得装置及び３次元情報取得方法を提供する。 - 特許庁

An operator group 100 which describes a drawing object 200 formed by painting out a part of a drawing area 201 (an area of a shading pattern 202) with shading and uniformly painting out a background section 204 with a prescribed background color is replaced between a first operator group 106 and a second operator group 108.例文帳に追加

描画領域２０１の一部（シェーディングパターン２０２の領域）をシェーディングで塗り潰し、且つ、背景部２０４を所定の背景色で均一に塗り潰す描画オブジェクト２００を記述するオペレータ群１００を、第１オペレータ群１０６と第２オペレータ群１０８とに置換する。 - 特許庁

The reflection type projection optical system for projecting a pattern on an object plane onto an image plane, is characterised in that a condensed luminous flux is made incident on the 2nd mirror from the image plane along the optical path, and also, the paraxial magnification of the 2nd mirror is ≤-0.14.例文帳に追加

物体面上のパターンを像面上に投影する反射型投影光学系であって、前記像面から光路を辿って２番目のミラーに集光光束が入射すると共に、当該ミラーの近軸倍率が−０．１４以下であることを特徴とする反射型投影光学系を提供する。 - 特許庁

This image recognition method of recognizing the object included in the original image data by comparing two-dimensional FFT image data obtained by mapping the original image data to the orthogonal base, with a registration pattern comprising the two-dimensional FFT image data, has a mapping process, a mosaic process and a similarity degree detecting process.例文帳に追加

原画像データを直交基底に写像した２次元ＦＦＴ画像データと２次元ＦＦＴ画像データからなる登録パターンとを比較して原画像データに含まれる物体を認識する画像認識方法であって、写像工程とモザイク化工程と類似度検出工程とを有する。 - 特許庁

When the pixel determination section 71 determines that the target pixel is a pixel to be the processing object by the data correction section 17, the pixel determination section 71 outputs the determination result and information of the pixel pattern for the target pixel and the surrounding pixels to a pixel conversion section 74 and a correction value storage section 73.例文帳に追加

注目画素がデータ補正部１７での処理対象となる画素であると画素判定部７１が判定した場合、画素判定部７１は、画素変換部７４および補正値記憶部７３に、判定結果および注目画素と周辺画素との画素パターンの情報を出力する。 - 特許庁

For example, when 'Aichi Prefecture, Kariya City, Showa town' is erroneously recognized as 'Aichi Prefecture, Kariya City, Shoei town' and 'Showa town' is inputted with voice for correction, only the town name part (concretely, Showa town, Shoei town, or the like) following Aichi Prefecture, Kariya City is taken as the comparison object pattern candidate.例文帳に追加

例えば「愛知県刈谷市昭和（しょうわ）町」が「愛知県刈谷市松栄（しょうえい）町」と誤認識され、訂正のために「昭和町」と音声入力した場合、愛知県刈谷市に続く町名部分（具体的には、昭和町、松栄町……など）のみを比較対象パターン候補とする。 - 特許庁

A masking material layer 44 is formed on a substrate 31 which is composed of a silicon substrate 42 and a single crystal silicon device layer 43 interposing an intermediate layer 41 of silicon dioxide (Fig. A), the masking material layer 44 is patterned, a mask 45 is formed having a pattern which is the same as the flat figure of an object optical device.例文帳に追加

二酸化シリコンの中間層４１を挟むシリコン基板４２及び単結晶シリコンのデバイス層４３からなる基板３１にマスク材層４４を形成し（図１０Ａ）、これをパターニングし、目的とする光デバイスの平面形状と同一パターンのマスク４５を形成する。 - 特許庁

A compound containing a resin (A) and a substance (B) having a refractive index different from that of the resin (A) is controlled in an extrusion molding process so that a gap part is partially present in the volume of a screw compression part to leave a laminated pattern at every screw pitch in the extruded molded object.例文帳に追加

樹脂（Ａ）と、これと屈折率の異なる物質（Ｂ）を含むコンパウンドを押出成形する工程において、スクリュー圧縮部容積内に部分的に空隙部が存在するように制御し、押出される成形体にスクリューピッチ毎の積層模様が残るようにする。 - 特許庁

In an inspection repair system 10, an XY table 14 for holding a glass substrate 6 including a wiring pattern 8 of an inspection object is loaded on a substrate 12, and a probe 16 and a repair mechanism section 20 connected to an inspection unit 18 are formed at the upper part while a predetermined position relation is held.例文帳に追加

検査リペア装置１０は、基台１２の上に、検査対象物の配線パターン８を含むガラス基板６を保持するＸＹテーブル１４が搭載され、その上方に検査器１８に接続されるプローブ１６とリペア機構部２０とが所定の位置関係を保って設けられる。 - 特許庁