「process development」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

In a process P5, a first pattern 72 corresponding to the microlens 14 and a second pattern 74 corresponding to the spacer 16 are formed by development of the photosensitive layer 52.例文帳に追加

工程Ｐ5では、マイクロレンズ１４に対応する第１パターン７２とスペーサー１６に対応する第２パターン７４とを感光層５２の現像により形成する。 - 特許庁

To provide a method for defining security permissions in a manner that distributes the assignment of security permissions among multiple levels of the software development and delivery process.例文帳に追加

ソフトウェア開発および配送プロセスの複数のレベルの間でセキュリティ許可の割り当てを分配する態様で、セキュリティ許可を定義する方法を提供する。 - 特許庁

It has been developed and used for offerings, Chanoyu (the tea ceremony), wakes and weddings, and various skills, including uchimono-gashi, unpei-zaiku and aruhei-zaiku, are applied during its development process. 例文帳に追加

供物や茶の湯、冠婚葬祭用として発達し、打物菓子や雲平細工、有平細工など、さまざまな技巧が施されるようになった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a sweat-absorbent sheet which gives a user's sweaty skin feeling of coolness and at the same time has effect to prevent development of miliaria, and to provide a process for making the sheet.例文帳に追加

汗をかいた肌に清涼感を与えると同時にあせもの発症に対する防止効果を有する吸汗性シートとその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material for a photomechanical process having small temperature and humidity dependence of maximum density (Dmax) in development.例文帳に追加

最高濃度（Ｄｍａｘ）の現像時の温湿度依存性の小さい写真製版用熱現像感光材料熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

Companies are beginning to shift to East Asia the product development process for analogue televisions and other products which have reached technological maturity, echoing the trend described above for automobiles.例文帳に追加

アナログテレビ等技術的に成熟した製品は、前述した自動車の事例のように商品開発プロセスの東アジアへの移転が始動している。 - 経済産業省

To provide a development device capable of suppressing fluctuation in density of an image formed on an image carrier body when changing a peak-to-peak voltage value of a pulse voltage; and to provide a process cartridge and an image forming apparatus having the development device.例文帳に追加

パルス電圧のピークトゥピーク電圧値を変更したときの像担持体上に形成される画像の濃度の変動を抑制できる現像装置、並びに、その現像装置を備えたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a development apparatus, capable of obtaining a stable image free from uneven image density by reducing the lowering of the image density at the axial end part of a developer carrier, and to provide an image forming apparatus and a process cartridge which uses the development apparatus.例文帳に追加

現像剤担持体の軸方向端部における画像濃度低下を低減し、画像濃度ムラのない安定した画像を得ることができる現像装置、並びにこれを用いた画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a resist pattern, capable of forming a fine resist pattern with good lithography characteristics by a negative development process using a developer containing an organic solvent, and a resist composition for negative development used in the method.例文帳に追加

有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法、該方法に用いられるネガ型現像用レジスト組成物の提供。 - 特許庁

In the one-component developing device for non-contact development and contact development, fine structure by nanoimprint process is formed on a surface of a developing sleeve, whereby triboelectricity on the developing sleeve is increased, and triboelectricity distribution of toner is sharpened.例文帳に追加

１成分現像装置において、現像スリーブをナノイン加工による微細構造を表面に形成する事により、非接触現像及び接触現像装置において、現像スリーブ上のトリボを上げ、シャープにする事が出来る。 - 特許庁

To provide an airbag device capable of easily realizing the desired development characteristic, easily suppressing the impact and the pressure of an airbag in the development process of the airbag to an adequate level, and preventing a space for a peripheral equipment from being compressed.例文帳に追加

所望の展開特性を容易に実現でき、エアバッグの展開過程におけるエアバッグの衝撃や圧力を適切な水準まで容易に抑制できると共に、周辺機器のためのスペースを圧迫しないエアバッグ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a packaging progress measuring apparatus capable of calculating a percentage of completion less in error from a practical packaged state in order to manage the progress of packaging in a software development project adopting a repetitive development process.例文帳に追加

反復型の開発プロセスを採用しているソフトウェア開発プロジェクトにおいて、実装の進捗を管理するため、実際の実装状態からの誤差の小さい完成度を算出することのできる実装進捗計測装置を提供する。 - 特許庁

To provide: a photoresist composition useful for photolithography pattern formation by negative tone development; a method of forming a photolithography pattern by a negative tone development process; and a base substance coated with the photoresist composition.例文帳に追加

ネガティブトーン現像によるフォトリソグラフィパターン形成に有用なフォトレジスト組成物の提供、及び、ネガティブトーン現像プロセスによってフォトリソグラフィパターンを形成する方法、並びに当該フォトレジスト組成物でコーティングされた基体の提供。 - 特許庁

To provide a development roller, a development device, a process cartridge and an image forming device capable of suppressing the lowering of conveying amount of developer due to change over time and of preventing variation in image density from occurring without using high precision material.例文帳に追加

経年変化による現像剤の搬送量の低下を抑制でき、高精度な材料を用いなくても画像の濃度ムラが生じることを防止できる現像ローラ、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an automatic development replenishing method of an automatic development device for a sensitive lithographic printing plate that can minimize variation in developer sensitivity with change of developing process conditions although a development part of the automatic development device has simple and inexpensive constitution as to a conductivity reference replenishment system in processing of the photosensitive lithographic printing plate having been exposed to a high-definition image.例文帳に追加

高精細画像が露光処理された感光性平版印刷版の処理において、電導度基準補充方式において、自動現像装置の現像部を簡易で安価な構成としながら、現像処理条件の変化に対する現像液感度の変動を最小限に抑えることができる、感光性平版印刷版用自動現像装置の現像補充方法を提供する。 - 特許庁

A development process sheet 81 time-sequentially displaying the developing process for the internal panel of an automobile of a project P300 is presented from a management computer through a communication network to the terminal of a user so as to be displayed.例文帳に追加

開発プロセスシート８１は、プロジェクトＰ３００の自動車のインパネ開発のプロセスを時系列に表示するものであり、管理コンピュータから通信ネットワークを介してユーザの端末に表示可能に提供される。 - 特許庁

In this case, the substrate 10 is located so that the one side with the pattern formed thereon is directed downward for example between the development process and the heating process, and the substrate 10 is heated while the one side is directed downward.例文帳に追加

このとき、たとえば、現像工程と、加熱工程との間にパターンが形成された一方の面が下側を向くように基板１０を配置し、一方の面が下側を向いている状態で基板１０を加熱する。 - 特許庁

A method of forming a resist pattern is executed by the immersion lithography process including a process for removing adhered water on the surface of a wafer subjected to immersion exposure with a water purge agent including at least a nonaqueous solvent prior to the heating after exposure before development.例文帳に追加

現像前の露光後加熱に先立って、液浸露光したウェハ表面の付着水を少なくとも非水溶剤を含む水パージ剤で除去する工程を含む液浸リソグラフィプロセスによるレジストパターン形成方法。 - 特許庁

The crack development testing method has a crack-forming process for forming the crack 2 in a test piece 1 and a holding process for holding the test piece 1, while applying definite displacement to the test piece 1 in a direction 4 vertical to the extending direction of the crack 2.例文帳に追加

き裂進展試験方法は、試験片１に、き裂２を形成するき裂形成工程と、試験片１に、き裂２が延びる方向に垂直な方向４に一定の変位を加えたまま保持する保持工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a distributed server system and a server for easily controlling the start order of an application process(AP) and for realizing the reduction of development workloads and the enlargement of a process application range and the improvement of the stabilization of this system.例文帳に追加

アプリケーションプロセス（ＡＰ）の起動順序の制御を容易にし、また、開発作業量の軽減、プロセス適用範囲の拡大、システム安定性の向上が図れる、分散サーバシステムおよびサーバを提供する。 - 特許庁

To provide an effective computation method for clarifying a dynamic process, not a conventional static computational result, in a quantum dot formation process expected to be a basis for development of next-generation optical semiconductor devices.例文帳に追加

次世代の光半導体デバイス開発の基礎になるものと期待されている、量子ドットの形成過程について、従来の静的な計算結果ではなく、動的過程を解明するための有効な計算方法を提供する。 - 特許庁

In the upper-layer forming process, the thickness of the upper layer is 100 to 300 nm and in the developing process, development is carried out for 75 to 150 seconds by using a developer of 0.30 to 0.55 N in normality.例文帳に追加

前記上層形成工程では、上層の厚さを１００ｎｍ〜３００ｎｍとし、前記現像工程では、現像液として規定度が０．３０Ｎ〜０．５５Ｎのものを用いて７５秒〜１５０秒間現像する。 - 特許庁

A development waste liquid containing a resist exfoliation and TAAH is regulated to have pH 8-12, is subjected to a membrane separation process by an MF membrane module 1, and a permeated water is subjected to a membrane separation process by a nanofiltration (NF) membrane module 2.例文帳に追加

レジスト剥離物とＴＡＡＨとを含有する現像廃液をｐＨ８〜１２に調整してＭＦ膜モジュール１で膜分離処理し、透過水をナノフィルトレーション（ＮＦ）膜モジュール２により膜分離処理する。 - 特許庁

When a developer or the like for performing the new product development business refers to this screen and clicks the procedure button of the procedure desired to be performed, the server displays the procedure process screen showing the process for performing the procedure.例文帳に追加

新製品開発業務を行う開発者等が、この画面を参照して、実行したい手続きの手続きボタンをクリックすると、サーバは、手続きを実行するための手順を示す手続き手順画面を表示させる。 - 特許庁

Invention shall mean an inventor’s idea that is poured into an activity of solving a specific problem in the field of technology, either in the form of a product or process, or an improvement and development of a product or a process. 例文帳に追加

「発明」とは，当該技術分野における特定の問題の解決のために注がれた発明者の思想であって，物若しくは方法又は物若しくは方法の改良及び開発の形をとり得るものをいう。 - 特許庁

To provide a means and a method, modifying development or change of cell (movement) process resulting in disease states, based on the fact that many physiological injuries and damages are associated with change of the cell movement process.例文帳に追加

多くの生理学的傷害または損傷が細胞の移動プロセスの変化に関連する事実を考慮し、病気の状態をもたらす発達または細胞（移動）プロセスの変化を修飾する手段および方法の提供。 - 特許庁

To prevent decreases in area efficiency, performance and wiring efficiency which result from imbalances in dimensional ratios with miniaturized control circuits brought by the development of microfabrication process such as a process of fabricating large-capacity DRAMs as hard macros.例文帳に追加

大容量のＤＲＡＭをハードマクロとして構成する場合等、プロセス微細化に伴い、制御回路群の微細化に伴うスケール比の不均衡により面積効率、性能、配線効率の低下要因を防止する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a stamper capable of simplifying a manufacturing process by mainly eliminating a development process, and a manufacturing method of an optical information recording medium using the stamper.例文帳に追加

本発明は、主に、現像工程を無くすことで製造工程を簡易化することができるスタンパの製造方法およびスタンパを用いた光情報記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A development process (d) is carried out to a photosensitive paste layer 12 of a height of about 13 μm under a condition that exposure is repeated twice, a baking process (e) is finished after that, and a circuit pattern 20 is formed.例文帳に追加

露光を２回繰り返した状態にて、図１（ｄ）において、高さ１３μｍ程度の感光性ペーストの層１２に対して現像工程を実施し、その後焼成工程を終え、配線パターン２０を形成する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive lithographic printing plate material, relating to a photosensitive lithographic printing plate material for performing water development, in which sludge and development unevenness are improved when a developing process is continued by using a process device, and excellent contamination preventing property, ink deposition property and uniformity of ink deposition are obtained.例文帳に追加

水による現像を行う感光性平版印刷版材料に関して、処理装置を用いて現像処理を続けていった場合のスラッジおよび現像ムラの発生を改善し、耐汚れ性、インキ乗り性およびインキ乗りの均一性に優れたネガ型の感光性平版印刷版材料を提供する。 - 特許庁

When a PDL development processing for print job data is performed by PDL interpretation sections 23 and 24 and it is determined that the page cannot be printed, a job management section 22 immediately interrupts the PDL development process for the print job data and makes the interpretation sections 23 and 24 start PDL development processing for the next print job data.例文帳に追加

ＰＤＬ解釈部２３，２４で印刷ジョブデータのＰＤＬ展開処理を行ったとき、そのページを印刷できないと判断された場合は、ジョブ管理部２２は、即、その印刷ジョブデータのＰＤＬ展開処理を中断し、次の印刷ジョブデータのＰＤＬ展開処理をＰＤＬ解釈部２３，２４に実行開始させる。 - 特許庁

To provide a development method by which toner flying-off can be effectively suppressed over a prolonged period of time, with respect to a development method in which a thin toner layer is formed on a development roll through a magnetic roll with a two-component developer and an electrostatic latent image formed on an electrostatic latent image bearing member is developed by a noncontact process.例文帳に追加

二成分現像剤を用いて、磁気ロールを介して現像ロール上にトナー薄層を形成し、非接触により静電潜像担持体上に形成された静電潜像の現像を行う現像方法において、長期間にわたってトナー飛散を有効に抑制することが可能な現像方法を提供する。 - 特許庁

To provide a toner for electrostatic charge image development which suppresses image degradation and also suppresses odor generation in heat fixing regardless of fixing conditions and a method for manufacturing the same, a developer for electrostatic charge image development, a developer cartridge for electrostatic charge image development, an image forming apparatus and a process cartridge.例文帳に追加

本発明の課題は、画質の低下を抑制し、定着条件によらず加熱定着時における臭気の発生を抑制した静電荷現像用トナー及びその製造方法、静電荷現像用現像剤、静電荷像現像用現像剤カートリッジ、画像形成装置、並びに、プロセスカートリッジを提供することである。 - 特許庁

NISA focuses on the safety research for aging management of nuclear installations as one of its important research programs on the Nuclear Safety, and is carrying out the research on clarification of aging phenomena, development of prediction methods of aging process, development of methods for early detection of cracks and deterioration and fine measurement approach, and development of structural integrity evaluation.例文帳に追加

原子力安全・保安院は、原子炉施設の高経年化の安全研究を、重点安全研究課題の一つと位置付け、高経年化現象の解明と高経年化プロセスの予測手法、亀裂と劣化の早期検知と精細測定手法の開発、構造健全性評価手法の開発等のテーマを取りあげている。 - 経済産業省

The processing apparatus performing at least a development process and a rinsing process in this order to process a planographic printing plate, is equipped with a pair of rollers to introduce a planographic printing original plate into a developing process tank while immersing the plate in a developing process solution, wherein the developing solution surface is kept at ≤1 cm above the nip point with respect to the pair of rollers.例文帳に追加

少なくとも現像プロセス、水洗プロセスを順に有し、平版印刷原版を処理する処理装置において、現像処理液に浸漬させながら平版印刷原板を現像処理槽に導入する一対のローラを設けた平版印刷版処理装置において、前記一対のローラに対する現像液面をニップ点上方１ｃｍ以下の範囲に維持するようにした。 - 特許庁

This is the sensitization development testing method for chemicals which includes (a) process to provide a test object for electroorganic reaction, (b) process to mix fluorescent cysteine derivative with the test object provided for electroorganic reaction, and (c) process to determine presence of bound substance by instrumental analysis.例文帳に追加

(a)被験物質を有機電解反応に供する工程；及び、(b)蛍光システイン誘導体と、有機電解反応に供した被検物質とを混合させる工程：及び(c)結合物の有無を機器分析により判定する工程：を有する化学物質の感作性発現検定方法。 - 特許庁

To provide a liquid photoresist resin composition for printed circuit board improving the solubility and stability during a process for modifying resist composition, reducing the amount of residual solvent during a process for forming resist film, and improving the uniformity of line width and an adhesive property during a development process.例文帳に追加

レジスト組成物調製時の溶解性並びに安定性を高めると共に、レジスト成膜時にレジスト膜中の残存溶剤量を減少させ、線幅均一性、現像時のレジスト膜の密着性等の特性を向上させたプリント配線板用液状フォトレジスト樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

This preprocessing method of prefix includes a process of degenerating a prefix length to a shorter prefix length, a process of developing the prefix length to a longer prefix length, and a process of storing a corrected prefix set obtained after performing the degeneration and development into a database.例文帳に追加

本発明のプリフィックスの前処理方法は、プリフィックス長をより短いプリフィックス長に縮退する処理、プリフィックス長をより長いプリフィックス長に展開する処理、縮退及び展開を行った後に得られる修正プリフィックス集合をデータベースに格納する処理を含む。 - 特許庁

At that time, after a transfer process ST, with the use of the image carrier capable of storing the electrostatic latent image written, the electrostatic latent image stored in the image carrier is again visualized at the development process ST4, and then, the transfer process ST5 is carried out on another substrate for the electro-optical device.例文帳に追加

その際、像担持体として、書き込まれた静電潜像を記憶可能な像担持体を用い、転写工程ＳＴの後、像担持体に記憶されている静電潜像を再度、現像工程ＳＴ４で可視化した後、別の電気光学装置用基板に対して転写工程ＳＴ５を行う。 - 特許庁

The photoresist polymer containing a proper amount of silicon element has largely improved etching resistance and is not only suitable for a thin resist process and a process using a bilayer resist but also can extremely increase a contract ratio between a development area and a nondevelopment area.例文帳に追加

シリコン元素を適正量含んでいる本発明のフォトレジスト重合体はエッチング耐性が大きく向上し、シンレジスト工程（thin resist process）及び二分子層レジストを用いた工程に適するだけでなく、露光地域と非露光地域の間の対照比を大きく増加させることができる。 - 特許庁

Further the developing machine has an evaporation thickening section 90 which blends an applied and used color developer solution discharged from a color development process performed before the fixing process or the bleaching fixing process with the applied and used fixing solution or bleaching fixing solution and subjects the mixture to evaporation thickening.例文帳に追加

定着または漂白定着工程に先立って行なわれる発色現像工程から排出される塗付使用済み発色現像液と、塗付使用済み定着液または漂白定着液を混合して蒸発濃縮する蒸発濃縮部９０を有する。 - 特許庁

The method of manufacturing the flat panel display includes a process to form a photosensitive film bx on a substrate 21, a process to form an alignment mark 51 by exposing the photosensitive film bx using an exposure mask 41, and a process to make positioning of the exposure mask by recognizing the alignment mark 51 before development of the photosensitive film.例文帳に追加

基板２１上に感光性膜ｂｘを形成する工程と、露光マスク４１を用いて感光性膜ｂｘを露光してアライメントマーク５１を形成する工程と、感光性膜を現像する前の状態でアライメントマーク５１を認識して、位置合わせを行う工程とを有する。 - 特許庁

To prevent the surface of a photoreceptor drum from being contaminated by a pressing trace (a nip line) of a development roller at the pressing section of a photoreceptor drum when transporting and storing a process cartridge and by an oil constituent migrating from the rubber constituent of the development roller with simple fitting operation.例文帳に追加

簡単な装着動作によって、プロセスカートリッジの輸送、保管時の感光体ドラムの圧接部に現像ローラの圧接痕（ニップライン）や、現像ローラのゴム成分から移行するオイル成分によって感光体ドラム表面汚染を防止する。 - 特許庁

To provide a coating development device and a coating development method that perform liquid processing on respective substrates of a substrate group comprising a plurality of substrates one after another, and shorten a processing time even when different process flows share one liquid processing module.例文帳に追加

複数の基板よりなる基板群の各基板を順次液処理し、かつ、異なるプロセスフローが同一の液処理モジュールを共有している場合において、処理時間を短縮することができる塗布現像装置及び塗布現像方法を提供する。 - 特許庁

To provide a toner for electrostatic image development which satisfies both image quality and storage stability while ensuring low-temperature fixing performance, and a method for manufacturing the toner for electrostatic image development which ensures a simplified manufacturing process and a shortened manufacturing time.例文帳に追加

低温定着性能を確保しつつ、画像品質および保管安定性能とを両立させた静電荷像現像用トナーを、製造工程を簡易化し、且つ製造時間を短縮化した静電荷像現像用トナーの製造方法の提供。 - 特許庁