「process device」に関連した英語例文の一覧と使い方(262ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an image forming device which can perform image formation while switching the process speed without any trouble such as time wait and keep the picture quality of front and reverse surfaces in both-surface print mode constant at each process speed through simple control with simple constitution without switching the transfer voltage and fixation temperature.例文帳に追加

プロセス速度を切り換えての画像形成が、時間待ちなどの不具合を伴うことなく実施可能であって、また、各プロセス速度において、両面印字モードにおける表裏の画質を、転写電圧や定着温度の切り換え等を行うことなく簡単な構成かつ制御で一定とできる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The processing method of the liquid crystal display device having a liquid crystal panel assembly fabricated by joining a liquid crystal panel and an attachment unit includes: a first process of fixing the liquid crystal panel; and a process of separating the attachment unit from the liquid crystal panel.例文帳に追加

本発明の液晶表示装置の加工方法は、液晶パネルと付属ユニットとを接合し組み立てた液晶パネル組品を有する液晶表示装置の加工方法であって、液晶パネルを固定する第１の工程と、付属ユニットを液晶パネルから分離する工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device includes a process of manufacturing a thickened resist pattern by forming a resist pattern on a base layer and then coating the resist pattern surface with the thickening material to thicken the resist pattern and a process of patterning the base layer by etching the base layer by using the thickened resist pattern.例文帳に追加

下地層上にレジストパターンを形成後、該レジストパターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該レジストパターンを厚肉化し厚肉化レジストパターンを製造する工程と、該厚肉化レジストパターンを用いてエッチングすることにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

Electrical noise is applied to the optical detector 24 and the vicinity thereof during a period when either one of the weighing process and the injection process is performed but, since the detection signal S1 is transmitted to a control device as an optical signal by an optical fiber cable 22, it is not affected by the noise.例文帳に追加

計量工程、射出工程のいずれの工程においてもその遂行中、電気的ノイズが光学的検出部２４及びその近傍に与えられるが検出信号S1は光信号として光ファイバーケーブル２２により制御装置まで伝送されるのでこれらのノイズに影響されることがない。 - 特許庁

To provide a method for producing a hydroxy group-containing compound, capable of producing the hydroxy group-containing compound in a good efficiency by a simple device and operation even by using a very small amount of catalyst, thereby reducing catalyst-recovery process and catalyst-neutralizing process widely, and also without requiring catalyst regeneration, catalyst exchange, etc.例文帳に追加

簡単な装置と操作により、非常に少ない触媒量でも効率よく水酸基含有化合物を製造することができ、これにより触媒回収工程、触媒中和工程を大幅に削減し、かつ触媒再生および触媒交換等を必要としない水酸基含有化合物の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The wafer identification method identifies a wafer 3 in a process for manufacturing a semiconductor including a process for putting a protective sheet 1 on a surface at the side of the device of the wafer 3, and for polishing the back of the wafer 3 for thinning the wafer.例文帳に追加

ウェーハ３のデバイス側表面に保護シート１を貼り、ウェーハ３の裏面を研磨しウェーハ厚みを薄くする工程を含む半導体製造工程でウェーハ３を識別するウェーハ識別方法であって、保護シート１にウェーハ３毎に識別情報２を付け、識別情報２によりウェーハ３を個体識別する。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet which has heat curable and radiation curable properties and is excellent in reliability of adherence and workability in a dicing process and a die bonding process of a semiconductor element, and a semiconductor device which is reliable and mounts the semiconductor element on a semiconductor mounting support member by using the adhesive sheet.例文帳に追加

熱硬化性と放射線硬化性とを有し、半導体素子のダイシング工程およびダイボンド工程における接着信頼性、作業性に優れる接着シートと、該接着シートにより半導体搭載用支持部材に半導体素子を実装した信頼性の良好な半導体装置とを提供する。 - 特許庁

To provide a plastic substrate for display elements having a reflecting surface at the substrate itself by simplifying a manufacturing process step for the reflecting surface of a reflection type liquid crystal display device manufactured by many process steps and adopting plastic for the substrate heretofore made of glass and further the reflection type liquid crystal display using the same.例文帳に追加

多数の工程によって作製されていた反射型液晶表示装置の反射面の製造工程を簡易化すると共に、従来ガラスで作られていた基板をプラスチック化することで、基板自体に反射面をもつ表示素子用プラスチック基板を提供し、さらにこれを用いた反射型液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

This arithmetic operating device 1 has a setting part 20 setting in one or more unused bits of a single instruction, extended instruction information to instruct at least one of a register 11 and arithmetic operators 12b, 12e to perform an extended process different from an ordinary process executed by the single instruction.例文帳に追加

演算装置１が、一の命令における一以上の未使用ビットに、該一の命令によって実行される通常処理とは異なる拡張処理の実行指示をレジスタ１１と演算器１２ｂ，１２ｅとの少なくとも一方に対して行なう拡張指示情報を設定する設定部２０を有する。 - 特許庁

The operating condition analyzing device 60 is provided with functions such as a data acquiring part 100 and a neck process extracting part 102, and configured to automatically acquire necessary operating condition data from the data storing server 50 corresponding to the kind of an analytic menu designated by a user from an input part 74, and to execute operating condition analysis such as neck process extraction.例文帳に追加

稼動状況解析装置６０は、データ取得部１００、ネック工程抽出部１０２等の機能を有し、入力部７４からユーザが指定した解析メニューの種類に対応して、自動的にデータ蓄積サーバ５０から必要な動作状態データを取得し、ネック工程抽出等の稼動状況解析を行う。 - 特許庁

To solve the following problems: the conventional dicing device which divides semiconductor chips at an element formation portion cannot be used since a thick peripheral portion is left in a final process in a process of manufacturing a semiconductor wafer in which only the element formation portion is made thin and the peripheral portion still has the initial thickness of a semiconductor substrate, and a new facility investment is necessary.例文帳に追加

素子形成部のみ薄化し周辺部は初期の半導体基板の厚みを残した半導体ウエハの製造工程においては、最終工程で厚い周辺部が残るため、素子形成部の半導体チップを分割する従来のダイシング装置を用いることができず、新たな設備投資が必要となる。 - 特許庁

The inner pressure corresponding to the viscosity at the time of charging of a molding material M is detected by a pressure sensor 15 and the detection data is processed by a control device 24 to output a command value signal and, when the viscosity of the molding material is changing, a changeover position where a filling process is changed over to a dwelling process is corrected.例文帳に追加

成形材料Ｍのチャージ時に粘度に対応する内圧を圧力センサ１５で検知し、その検知データを制御装置２４で処理して指令値信号を出力し、成形材料Ｍの粘度が変化している場合に充填工程から保圧工程に切り替える切り替え位置を補正するものである。 - 特許庁

To provide a locking mechanism mounted on a post process unit of a post process device for locking/unlocking two members (receiving side unit 30a and cover unit 30b) spaced with an adjustable distance, preventing a handle member 1 from rotating when the two members are returned to a proximity position from the distant position.例文帳に追加

後処理装置の後処理ユニットに設けられ，離間自在に設けられた２つの部材（受け側ユニット３０ａ及びカバーユニット３０ｂ）を固定及び固定解除するロック機構において，離間状態の両部材を近接位置に復帰させる際に，当該ロック機構を解除させる把手部材１が回動しないものを提供すること。 - 特許庁

Each cashbox installation chamber 3 of the device 1 is installed with antennas 8A, 8B, 8C executing a process for reading data such as the number of bills in each denomination stored in each the tag 90 attached to each the cashbox 400 (500) and a process for writing data such as the number of reception/payment bills in each denomination into each the tag 90.例文帳に追加

紙幣入出金装置１の各金庫装着室３には、金庫４００（５００）に取り付けられた各タグ９０に記憶された金種毎の紙幣枚数などのデータを読み出す処理、および、各タグ９０に金種毎の入出金枚数などのデータを書き込む処理を行うアンテナ８Ａ、８Ｂ、８Ｃが取り付けられている。 - 特許庁

To provide a precision orientation polycrystal ceramic sintered compact, whose a-axis or c-axis orientates in a given direction, and another c-axis or a-axis makes an in-plane orientation perpendicular to the former a-axis or c-axis orientated to the given direction; a manufacturing process of the sintered compact; and a device used for the manufacturing process.例文帳に追加

ａ軸又はｃ軸が所定方向に配向し、かつｃ軸又はａ軸が前記所定方向に配向したａ軸又はｃ軸と垂直な方向に面内配向した精密配向多結晶セラミックス焼結体、並びに該焼結体の製造方法、及び該製造方法に使用する装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for the semiconductor device has a process of heating the metal film to the stress yield point of the metal ±50°C (B) and holding it at the temperature for a certain time and a process of growing crystal particle size of the metal film by heating the metal film up to a temperature (C) where the crystal particle size is grown above the keeping temperature.例文帳に追加

金属膜をその金属の応力降伏点±５０℃（Ｂ）まで加熱してこの温度に所定時間保持する工程と、金属膜を保持温度以上の結晶粒径が成長する温度（Ｃ）に加熱することで金属膜の結晶粒径を成長させる工程とを備えている半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

An exchange processing means 40 of the prize exchange device 4 executes a pickup ball process processing that the counting information associated with the pickup information out of the counting information received from the side of the game medium counter 3 relates to the game media of the unknown owner, instead of the exchange process.例文帳に追加

景品交換装置４の交換処理手段４０は、遊技媒体計数装置３側から受信した計数情報のうち、拾い玉情報が関連付けされた計数情報については、交換処理に代えて、持ち主不明の遊技媒体に関するものであるとして処理する拾い玉処理を実施する。 - 特許庁

To provide an image forming unit capable of obtaining a satisfactory image in a stable state at any time while keeping the center distance between a photoreceptor and a developing roller constant, irrespective of an environmental change such as a change in temperature, to provide a process cartridge equipped with the image forming unit and an image forming device equipped with the process cartridge.例文帳に追加

温度等の環境変化があっても感光体と現像ローラの中心間距離を一定に保ち、常に安定して良好な画像を提供できる作像ユニット、前記作像ユニットを設けたプロセスカートリッジ、及び前記プロセスカートリッジを備えた画像形成装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

This method of detecting the tip of the disposable tip applied for the dispensing device for conducting dispensing, by attaching the disposable tip to a nozzle, is provided with the process of moving the nozzle attached with the disposable tip to the tip end detector, and a process of detecting the tip position of the disposal tip by the tip detector.例文帳に追加

使い捨てチップをノズルに装着して分注を行う分注装置に適用される使い捨てチップの先端検出方法において、前記使い捨てチップが装着されたノズルをチップ先端検出器に移動させる工程と、該チップ先端検出器で前記使い捨てチップの先端位置を検出する工程とを備えた。 - 特許庁

This masking device executes a second masking process on the image signal processed by the first masking process on each pixel in the both sides of the image signal where the first mask area M1 is defined as the pedestal level L1 and inside one pedestal of the first masking area M1, and defines the pixel corresponding to the second masking area M1 as a prescribed gray level L2.例文帳に追加

第１のマスク処理が施された画像信号に対して、第１マスク領域Ｍ１がペダスタルレベルＬ１とされた映像信号の両側、第１マスク領域Ｍ１の一画素内側の各画素に対して第２のマスク処理を施し、第２マスク領域Ｍ２に対応する画素を所定のグレーレベルＬ２とする。 - 特許庁

This method for producing the transparent substrate plate used for the electronic device is provided by performing a loading process of loading an uncured resin material containing an epoxy resin expressed by formula (1) and a cationic curing catalyst on a sheet-formed substrate material and a curing process of curing the resin material to form the transparent core substrate plate continuously.例文帳に追加

電子デバイスに用いる透明基板の製造方法であって、式（１）で示されるエポキシ樹脂およびカチオン系硬化触媒を含む未硬化の樹脂材料を、シート状基材に担持する担持工程と、前記樹脂材料を硬化する硬化工程とを実行して連続的に透明コア基板を形成することを特徴とする。 - 特許庁

The typing game device 1 determines a condition for updating the music distributed from a server 80 in an updating condition setting process (S11), and determines the music with the lowest frequency in use as the data to be updated among the music stored in a music data storage area 56 in an updated data determining process (S12).例文帳に追加

タイピングゲーム装置１は、更新条件設定処理（Ｓ１１）において、サーバ８０から配信される楽曲の更新条件を決定すると共に、更新対象データ決定処理（Ｓ１２）により、楽曲データ記憶領域５６に記憶された楽曲の内で、最も使用頻度の低い楽曲を更新対象データに決定する。 - 特許庁

After the initial hot water supply operation, when an operation start switch is turned on (S10), the device executes a cleaning operation made up of a cleaning process (S11) in which dishes in the cleaning chamber are cleaned by cleaning water by driving a cleaning pump, and a rinsing process in which dishes after cleaning are rinsed by rinsing water by driving a rinsing pump (S16).例文帳に追加

初期給湯動作後、運転開始スイッチがオン操作されると（Ｓ１０）、洗浄ポンプを駆動して洗浄室内の食器を洗浄水により洗浄する洗浄工程（Ｓ１１）と、すすぎポンプを駆動して洗浄後の食器をすすぎ水によりすすぐすすぎ工程（Ｓ１６）とからなる洗浄運転を実行する。 - 特許庁

To provide a process for producing a noble-metal-containing fine-particle dispersion in which gold-coated fine silver particles or the like agglomerate in the form of chains to make up chainlike aggregates, a transparent conductive layer forming coating liquid obtained by the process, a transparent conductive substrate by the use of the coating liquid, and a display device.例文帳に追加

金コート銀微粒子等が鎖状に凝集して鎖状凝集体を構成している貴金属含有微粒子分散液の製造方法とこの方法により得られる透明導電層形成用塗布液およびこの塗布液を用いた透明導電性基材と表示装置を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing a piezoelectric device in which the piezoelectric vibrating piece is joined to the inside of the package, if a predetermined time elapses after the conductive adhesive is applied in an applying process, the joining process is not performed for the package in which the conductive adhesive is applied.例文帳に追加

パッケージ内に圧電振動片を接合するようにした圧電デバイスの製造方法であって、塗布工程において、導電性接着剤を塗布した後で、所定時間を経過した場合には、当該導電性接着剤が塗布された前記パッケージについて、前記接合工程を行わないようにした、圧電デバイスの製造方法。 - 特許庁

This method for producing the nano device comprises a production process of the potential singular point for placing the potential singular point on a substrate, and a contact process for bringing the compound molecules having a functional group which interacts with the potential singular point into contact with the substrate having the potential singular point.例文帳に追加

本発明は、基板にポテンシャル特異点を設けるポテンシャル特異点製造工程と、前記ポテンシャル特異点と相互作用する官能基を有する化合物と、前記ポテンシャル特異点を有する基板とを接触させる接触工程を含む、ナノデバイスの製造方法などにより上記課題を解決するものである。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device comprises a laminated wafer formation process wherein, after stacking a metal plate 6 on one face of a semiconductor wafer 12 via a solder sheet 5, these components are integrated into one by vacuum press to form a laminated wafer 7, and a dicing process of dicing the laminated wafer 7 into individual laminated chips 7a.例文帳に追加

半導体ウエハ１２の一側面にはんだシート５を介して金属板６と積層させた後、減圧プレスにより一体化して積層体ウエハ７を形成する積層体ウエハ形成工程と、積層体ウエハ７をダイシングして個片の積層体チップ７ａを形成するダイシング工程とを備えている。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device is the method of subjecting the semiconductor substrate to a processing including a pre-process and a post-process, inspects the characteristics of the semiconductor substrate to be processed, judges whether it passes the predetermined standard or not, and subjects the semiconductor substrate not passing the standard to the re-processing to pass the standard.例文帳に追加

前工程と後工程とを含む処理を半導体基板に対して行う半導体装置の製造方法であって、処理された半導体基板の特性を検査して所定の規格に適合するか否かを判断し、規格に適合しない半導体基板に対して、規格に適合するように再処理を行う。 - 特許庁

To provide a specification management method and a specification management system, for easily managing a specification information list wherein standard information of a product in each process and setting information or the like of a device in each processing process are arranged in each revision generation, for the product produced through a plurality of processing processes.例文帳に追加

複数の処理工程を通じて製造を行う製品に対し、各工程での製品の規格情報や処理工程での装置の設定情報などをまとめた仕様情報一覧を、改訂世代ごとに容易に管理することを特徴とする仕様管理方法および仕様管理システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate sealing device for allowing the mass production of a flat fluorescent lamp by continuously performing a firing process and a sealing process in the state of holding an upper substrate and a lower substrate of the fluorescent lamp while minimizing work for supplying/pulling the substrates into/out of a heating furnace.例文帳に追加

蛍光ランプの上部基板と下部基板をホールディングした状態において焼成工程と封着工程を連続的に行うことにより、加熱炉への基板の供給及び引出し作業を最小化し、平板型蛍光ランプの大量生産が可能なようにする平板型蛍光ランプの基板封着装置を提供する。 - 特許庁

In a carbon fouling detecting process executed in an ECU, an ignition device for an internal combustion engine calculates the integral value of a discharged electric current passing in the spark plug during discharge period by a discharged electric current integration process, if judging that it is the occurrence time of spark discharge (YES in S110).例文帳に追加

第１実施例の内燃機関用点火装置１は、ＥＣＵ２１で実行されるくすぶり検出処理において、火花放電の発生時期であると判断する（Ｓ１１０でＹＥＳ）と、放電電流積分処理によって、放電期間中に点火プラグを流れる放電電流の積分値を算出する。 - 特許庁

The semiconductor device fabrication method is provided with a process for introducing indium (In) into a channel region of a silicon substrate 1 and a subsequent process for forming a gate oxide film 5 on the silicon substrate 1 by implementing heat treatment at a higher temperature (about 1,000°C) than that at which a viscous flow of the silicon oxide film occurs.例文帳に追加

この半導体装置の製造方法は、シリコン基板１のチャネル領域に、インジウム（Ｉｎ）を導入する工程と、その後、シリコン酸化膜の粘性流動が起こる温度以上の温度（約１０００℃）で熱処理することによって、シリコン基板１の主表面上にゲート酸化膜５を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device using SiC for the substrate comprises: a process for forming an alignment mark 2 on a {0001} plane in the SiC substrate 1; and a process for forming a prescribed pattern on the SiC substrate 1 by aligning a transfer mask and the SiC substrate 1, based on the alignment mark 2.例文帳に追加

本発明は、ＳｉＣを基板に用いた半導体装置を製造する方法であって、ＳｉＣ基板１の｛０００１｝面に、アライメントマーク２を形成する工程と、アライメントマーク２に基づき、転写マスクとＳｉＣ基板１との位置合わせを行いＳｉＣ基板１上に所定のパターンを形成する工程とを備える。 - 特許庁

To provide a process for producing a silicon wafer inexpensively in which a DZ layer of sufficient thickness is ensured in the region of a wafer surface layer and, at the same time, a sufficient amount of oxygen deposit functioning as a gettering site can be secured in a bulk region in the earlier stage of heat treatment of the device process.例文帳に追加

ウエーハ表層領域に十分な厚さのＤＺ層を確保すると同時に、デバイス工程の熱処理のより早い段階でゲッタリングサイトとして機能する酸素析出物がバルク領域内に十分な量を確保できるシリコンウエーハを安価に製造することのできる製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a stable electrophotographic photoreceptor which does not lose its high sensitivity or lower its electrification ability even by repetitive use, to provide an electrophotographic process by which few abnormal images are formed even by repetitive use and a stable image is obtained, and to provide an electrophotographic device and an electrophotographic process cartridge.例文帳に追加

高感度を失うことなく繰り返し使用によっても帯電性の低下を生じない安定な電子写真感光体を提供し、また、繰り返し使用によっても異常画像の少ない、安定した画像を得ることのできる電子写真方法、電子写真装置、電子写真用プロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁

To provide a program and a device for controlling processing flow, and a data processing system for processing processing processes included until a second processing process after a first processing process included in each item of processing flow information in a desired order among a plurality of items of processing flow information to be processed in parallel with one another.例文帳に追加

並列処理される複数の処理フロー情報間で、各処理フロー情報に含まれる第1の処理工程より後であって第２の処理工程までに含まれる処理工程を所望の順序で処理することができる処理フロー制御プログラム、処理フロー制御装置及びデータ処理システムを提供する。 - 特許庁

To solve a problem that a developing device, a photoreceptor and an intermediate transfer body are worn out when toner concentration adjusting processing is performed at monochrome printing process speed (high speed) and color printing process speed (low speed) immediately after the power source of an image forming apparatus is turned on, immediately after a sleep mode is canceled or every time the specified number of sheets are printed.例文帳に追加

装置の電源が投入された直後、あるいはスリープモードが解除された直後、あるいは規定枚数印刷毎に、モノクロ印刷プロセス速度（高速）とカラー印刷プロセス速度（低速）とでトナー濃度調整処理を実行すると、現像装置、感光体、中間転写体が消耗する。 - 特許庁

An opening/closing control process of the variable winning device unit is performed based on the output of a detection signal from a first ball-entering detecting means which is provided in the starting port, and a transition process to a special game state being advantageous to a game player is performed when a game ball which has entered a specified ball entering unit is detected.例文帳に追加

始動口に設けられた第１入球検出手段からの検出信号の出力に基づき、可変入賞装置ユニットの開閉制御処理が実行され、特定入球部へ入球した遊技球が検出されると、遊技者に有利な特別遊技状態への移行処理が実行される。 - 特許庁

Safety is heightened by using both the bimetal 5 and the PTC 4, and since the bimetal 5 and the PTC 4 are not required to be connected to the electrical circuit and the small bimetal 5 and PTC 4 can be used, the safety device can be miniaturized, and a contact processing process and a connecting process to the electrical circuit are not required.例文帳に追加

バイメタル５とＰＴＣ４の併用により、安全性が高くなり、また、バイメタル５及びＰＴＣ４を電気回路と接続する必要がないため、小型のバイメタル５及びＰＴＣ４を使用できるため、小型化が可能であり、接点加工工程及び電気回路との接続工程が不要となる。 - 特許庁

The facsimile machine is configured as a device in which a process for registering received FAX data into a FAX database and a process for printing FAX data registered in the FAX database are performed, respectively, as transactions to which save points are set in various timings, by a main program and an RDBMS on a controller 12.例文帳に追加

ファクシミリ装置を、コントローラ１２上のメインプログラムとＲＤＢＭＳとにより、受信したＦＡＸデータをＦＡＸデータベースへ登録する処理と、ＦＡＸデータベースに登録されているＦＡＸデータの印刷を行う処理とが、それぞれ、各種タイミングでセーブポイントが設定されるトランザクションとして行われる装置として構成しておく。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device includes a process of subjecting a semiconductor substrate having a region where a silicide film is formed on a surface to a plasma treatment in a gas atmosphere containing an oxygen element to form an oxide film on the silicide film and a process of forming a silicon nitride film covering the surface of the semiconductor substrate after the oxide film is formed.例文帳に追加

表面にシリサイド膜が形成された領域を有する半導体基板を、酸素元素を含むガス雰囲気中でプラズマ処理してシリサイド膜の上に酸化膜を形成する工程と、その酸化膜を形成した後、半導体基板の表面を覆うシリコン窒化膜を形成する工程と、を備えた。 - 特許庁

(2) To provide a method and a device for producing a non-woven fabric by using a continuous fiber, capable of performing a spinning process and a process of a dissolved adhesion or melt adhesion among fibers at a time, also freely changing the fiber density or thickness and further freely stretching the fiber.例文帳に追加

紡糸工程と繊維間の溶着又は融着工程とを一度に行うことができると共に、繊維密度や厚みを自由に変化させることができ、さらに繊維に自在に延伸を加えることができる、連続繊維を用いた不織布の製造方法及び装置を提供することを第二の課題とする。 - 特許庁

When three patterns stopped and displayed in a certain process become a prescribed state included in a prescribed failure state, a pachinko game machine 10 performs control to display a change display state which is different from the change display state in the certain process on a display device 32 in the succeeding state of the certain state.例文帳に追加

パチンコ遊技機１０は、ある行程において停止表示された３つの図柄の態様が、所定のはずれ態様に含まれる所定の態様となった場合には、ある行程の次の行程において、ある行程における変動表示の態様とは異なる変動表示の態様を表示装置３２に表示する制御を行う。 - 特許庁

As to this battery module 1 of the battery, this welding method includes a first process to remove the boehmite coats 34a, 44a of an electron terminal part by laser irradiation of a laser device, and a second process to laser-weld the terminal parts 34, 44 of the battery cell 3 and the battery cell 4 to the terminal 65 of a lower case 6.例文帳に追加

バッテリの電池モジュール１において、レーザー装置のレーザー照射により、電子端子部のベーマイト皮膜部３４ａ，４４ａを除去する第１工程と、レーザー装置のレーザー照射により、電池セル３及び電池セル４の端子部３４，４４と、ロワケース６の端子６５をレーザー溶接する第２工程とを備えた。 - 特許庁

To realize that an authentication system, which needs an authentication process when reading out data stored in a storage element in a recording medium from a host device, easily verifies operation of the storage element without the authentication process, and does not need a dedicated circuit for verification of the operation of the storage element in the storage medium.例文帳に追加

記憶媒体内の記憶素子に記憶されたデータをホスト装置から読み出す際に認証手続きを必要とする認証システムにおいて、記憶素子の動作検証を認証手続を取ることなく容易に行うことができ、また、記憶媒体内部に記憶素子の動作を検証するための専用回路を不要とする。 - 特許庁