「process device」に関連した英語例文の一覧と使い方(261ページ目) - Weblio英語例文検索

According to this constitution, the bonding wire 3 can be fixed so as to be unlikely to flow, by the pouring pressure of the sealing material 4 in the sealing process of the sealing material 4 which is the manufacturing process after wire bonding; and even if the bonding wire 3 is made to flow, short-circuiting of the wire can be prevented, whereby a semiconductor device of superior quality can be provided.例文帳に追加

この構成によれば、ワイヤボンド後の製造過程である封止部材４の封止工程において、封止部材４の注入圧力によりボンディングワイヤ３を流れにくくでき、万一ボンディングワイヤ３が流されてもこのワイヤのショートを防止することができ、品質の優れた半導体装置を提供できる。 - 特許庁

In the case that a start storage number displayed in a special pattern start storage number display device 8 is the prescribed one, the pattern reproduction process of stopping and holding a part of patterns and varying, establishing and displaying only the other patterns is executed in the pattern variation process of the next time at all times or in the case that an additional condition is satisfied.例文帳に追加

特別図柄始動記憶数表示装置８で表示される始動記憶数が所定の場合に、常に又は付加条件が具備した場合に、次回の図柄変動行程で、一部の図柄を停止保持し、それ以外の図柄のみを変動して確定表示する図柄再生行程を実行するようにした。 - 特許庁

This scum disintegrator of the oil-containing waste water treatment system is disposed between a scum floatation separation process raking and recovering the scum by a scum floating and separating device, and a scum dewatering and drying process, and is provided with an agitator 60 having agitating blades 68 and disintegrating blades 70 and a liquid level detector 62 in a disintegration tank 58.例文帳に追加

含油廃水処理システムにおいて、スカム浮上分離装置によりスカムを掻き集め回収するスカム浮上分離工程とスカム脱水・乾燥工程との間に配するスカム破砕装置であって破砕槽５８内に攪拌羽根６８と破砕羽根７０を付設した攪拌機６０および液面検出器６２とを備えている。 - 特許庁

To improve the even speed characteristic of a helper roll by composing a control device of a helper roll having an entering side roll, exiting side roll, and helper roll and processing a strip-shaped process material in such a manner as preventing the unbalanced tension of a process material between each roll caused by a rotational speed difference between each roll on acceleration and deceleration of each roll.例文帳に追加

入側ロール、出側ロール、ヘルパロールを備え、帯状の被処理材のプロセス処理するヘルパロールの制御装置の構成を各ロールの加減速時に各ロールの回転速度に差が生じて、各ロール間で被処理材の張力がアンバランスになることを防止し、ヘルパーロールの揃速性を向上させる。 - 特許庁

An image formation device is provided with a process information acquisition part 117 that acquires item data of a logging item based on a setting file 301 in which the logging items in control services (for example, ECS 124 and MCS 125) or process information on applications 130 (for example, a copy application 112) are set.例文帳に追加

画像形成装置において、コントロールサービス（例えば、ＥＣＳ１２４、ＭＣＳ１２５など）またはアプリケーション１３０（例えば、コピーアプリ１１２など）のプロセス情報の中のロギング項目が設定された設定ファイル３０１に基づいて、ロギング項目の項目データを取得するプロセス情報取得部１１７を備えた。 - 特許庁

The device for performing fluid-tight inspection after repair of fluid leakage of the piping includes: an AE sensor 10 for measuring an elastic wave from the piping of the fluid filling process after piping repair; and an analyzing part 20 for evaluating operation and fluid re-leakage of an air valve connected to the piping of the fluid filling process by analyzing signals from an AE sensor.例文帳に追加

配管の漏液の補修後の液密性検査を行う装置は、配管補修後の充液過程の配管からの弾性波を測定するためのＡＥセンサ１０と、ＡＥセンサからの信号を解析し、充液過程の配管に接続される空気弁の動作及び再漏液の評価を行う解析部２０とを具備する。 - 特許庁

Since bulk stacking faults c of at least 1×10^3 piece/cm^2 are previously formed in silicon wafers B, C, not only slip b generated at the time of each high temperature thermal treatment in the later wafer manufacturing process, but also expansion to slip b in each high temperature thermal treatment in the device process, can be restrained.例文帳に追加

予めシリコンウェーハＢ、Ｃの内部に１×１０^３個／ｃｍ^２以上のバルク積層欠陥ｃを形成させるので、後のウェーハ製造工程での各高温熱処理時に発生するスリップｂだけでなく、デバイス工程における各高温熱処理中のスリップｂに対する伸長も抑制できる。 - 特許庁

A pattern inspection device is provided with: an optical image acquiring unit to acquire the optical image of the pattern of an inspection sample; an alignment processing unit to carry out an alignment process including correction processing of the optical image by a reference image; and a comparing unit to compare optical images different from each other subjected to the alignment process.例文帳に追加

被検査試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得部と、光学画像を参照画像により補正処理を含むアライメント処理するアライメント処理部と、アライメント処理部で処理された異なった光学画像同士を比較処理する比較処理部と、を備える、パターン検査装置。 - 特許庁

To provide an image forming device which does not include a process for forming an image again on a transfer material curled by a fixing process, generates no conveyance failure of the transfer material, and prevents image defect, etc., due to the image transferred to the curled transfer material, so that excellent images can be formed on the both sides of the transfer material.例文帳に追加

定着工程によってカールした転写材に再び画像を形成する工程を含まないので、転写材の搬送不良が発生せず、更にカールした転写材への画像形成のために発生する画像欠陥などを防止し、両面共に良好な画像を形成することが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

This article supply system 1 is provided with a work-in-process slip issuing unit 4 in which information(inter No) is written in a work-in-process slip 9 for extracting parts; an extraction device 5 for controlling the extraction of necessary parts from an article rack 8 and an unmanned conveyance vehicle 7 for conveying parts extracted from the article rack 8 to a manufacturing area B.例文帳に追加

物品供給システム１は、部品取出用仕掛票９に情報（インタＮｏ）を書き込む仕掛票発行機４と、必要な部品を物品棚８から取り出すための制御を行う取り出し装置５と、物品棚８から取り出された部品を製造エリアＢに運搬する無人搬送車７とを備えている。 - 特許庁

This device includes a resolution conversion (RC) unit 103 for reducing an original image 10 to an image 20 of desired size; an RC process controller 1051 which controls the operation of the RC unit 103 so that the specified resolution conversion process is repeated twice or more; and a memory 110 for storing an image 30 of intermediate size.例文帳に追加

装置は、オリジナル画像１０を目標サイズ画像２０に縮小する解像度変換（ＲＣ）ユニット１０３と、規定の解像度変換プロセスを２回以上繰り返すようにＲＣユニット１０３の動作を制御するＲＣプロセス・コントローラ１０５１と、中間サイズ画像３０を記憶するメモリ１１０とを備えている。 - 特許庁

The disclosed method includes, in a flash memory device comprising a stack gate electrode, a step of performing a radical oxidization process on the entire resulting surface including the stack gate electrode to form a sidewall oxide film on sidewalls of the stack gate electrode, and to maintain the profile of the stack gate electrode before the radical oxidization process.例文帳に追加

スタックゲート電極が備えられたフラッシュメモリ素子において、前記スタックゲート電極の含まれた結果物の全面にラジカル酸化工程を行い、前記スタックゲート電極の側壁に側壁酸化膜を形成すると共に前記ラジカル酸化工程前の前記スタックゲート電極のプロファイルを維持させる段階を含む。 - 特許庁

To provide a structure of a semiconductor substrate for evaluating contamination, which is used so that contaminant of transition metal impurities in a semiconductor silicon substrate manufacturing process or a semiconductor device manufacturing process is exactly evaluated, and to provide a method for evaluating contaminant of metal impurities or the like by using the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体シリコン基板の製造或いは半導体デバイス製造工程に於ける遷移金属不純物等の汚染物質を正確に評価するのに用いる汚染評価用半導体基板の構造、及び該半導体基板を用いた金属不純物等の汚染物質の汚染評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide a producing method of a liquid crystal display device integrated with a film-type touch panel, that improves the quality, as well as simplifies producing processes by implementing a process to attach a touch panel during a process of producing liquid crystal display modules.例文帳に追加

本発明はタッチパネルとの一体型液晶表示装置に関するもので、特に液晶表示モジュール製造工程中にタッチパネルを取り付ける工程を実行することで製造工程を単純化すると共に品質を向上させるフィルムタイプタッチパネルとの一体型液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an information reproducing device which can end a reproducing process normally with a retrial frequency lower than before if an error occurs to the reproducing process since addresses can not be read successively owing to inaccuracy of information on a recording medium due to variance of recording conditions at recording time.例文帳に追加

記録時の記録条件ばらつき等による記録媒体上の情報の不正確さが原因となって、アドレスが連続してリードできずに、再生処理でエラー発生した場合に、従来よりも少ないリトライ回数で再生処理を正常終了することができる情報再生装置を提供する。 - 特許庁

To obtain an impurity diffusion processing method in a semiconductor element manufacturing process which forms a uniform impurity diffusion layer and can carry on an impurity diffusion process high in performance and a yield, an impurity diffusing device for use in the same method, and a semiconductor element containing a solar cell, etc., high in a yield.例文帳に追加

均一な不純物拡散層を形成し、性能や歩留まりの高い不純物拡散処理が可能な半導体素子製造工程における不純物拡散処理方法および同方法に用いる不純物拡散装置、並びに、歩留まりの高い太陽電池等を含む半導体素子を得ること。 - 特許庁

To provide a contact electrification system which can uniformly charge the surface of a body to be charged without generating small wrinkles on a rotating charge body, provide a process cartridge having the contact electrification system, and provide an image forming device having the contact electrification system or the process cartridge.例文帳に追加

回転帯電体の表面に極微小なしわを発生することなく、被帯電体表面を均一に帯電することができる接触帯電装置、この接触帯電装置を有したプロセスカーリッジ、及び前記接触帯電装置を有した、もしくは前記プロセスカートリッジを有した画像形成装置の提供。 - 特許庁

A process wherein an impurity diffusion layer 4 to be used to control threshold voltage is performed by implanting ions, and a process wherein a high temperature heat treatment is performed for a short period to recover the crystal defect generated by the ion implantation, are performed continuously without performing heat treatment in this manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法が、イオン注入によってしきい値電圧制御のための不純物拡散層を形成する工程と、イオン注入によって発生した結晶欠陥の回復のための高温短時間熱処理を行う工程とを、熱処理を実施することなく連続的に行う。 - 特許庁

This method for producing the emulsified cosmetic containing hydrophobized powder, is characterized by consistently carrying out in one device a process for dispersing non-hydrophobized powder and a powder-coating agent in an oil phase portion with a medium-stirring mill to hydrophobize the powder and the subsequent process for adding an emulsifier and a water phase portion to the obtained dispersion to emulsify the mixture.例文帳に追加

媒体攪拌ミルにより油相部に未疎水化粉体と粉体被覆剤を分散し疎水化する工程と、これに続き乳化剤と水相部を添加し乳化する工程を一つの装置内で一貫して行うことを特徴とする疎水化処理粉体を含む乳化化粧料の製造方法。 - 特許庁

When an error has occurred in an image forming, at the time of driving a main motor which rotatingly drives a photosensitive body 8, after an image forming device 21 turns off control signals of the main motor and a polygon motor by executing a first process-stopping sequence including the operation control of the main motor, it turns off a process voltage control signal.例文帳に追加

画像形成装置２１は、画像形成のエラー発生時において、感光体８を回転駆動するメインモータの駆動時には該モータの動作制御を含む第１のプロセス停止シーケンスを実行して、メインモータおよびポリゴンモータの制御信号をオフとした後、プロセス電圧制御信号をオフとする。 - 特許庁

A manufacturing method of a display device includes: a lamination process for forming a laminated substrate base material 34 by laminating a first substrate base material 31 to a second substrate base material on each of which terminal portions are formed in each panel formation area 40; and a division process for dividing the laminated substrate base material 34 in each panel formation area.例文帳に追加

パネル形成領域４０毎に端子部がそれぞれ形成された第１基板母材３１と、第２基板母材３２とを貼り合わせて貼合せ基板母材３４を形成する貼り合わせ工程と、貼合せ基板母材３４をパネル形成領域４０毎に分断する分断工程とを備える。 - 特許庁

This screen process printing device comprises a squeegee which fills apertures formed in the thickness direction of a screen process printing mask with a cream solder by moving the squeegee along the surface of the mask, and a line sensor integrally formed with the squeegee for optically reading the surface of the mask.例文帳に追加

その厚み方向に開口が貫通するスクリーン印刷用マスク表面に沿って移動することにより前記開口にクリームはんだを充填するスキージと、前記スキージと一体的に設けられ前記スクリーン印刷用マスク表面を光学的に読み取るラインセンサと、を備えることを特徴とするスクリーン印刷装置。 - 特許庁

This semiconductor device manufacturing method comprises a CVD film forming process for forming a CVD film with a nitriding treatment or an oxynitriding treatment by CVD method after a silicon oxide film is formed on a silicon substrate, and a CVD film annealing process for annealing the CVD film in the atmosphere of gaseous ozone.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、シリコン基板上にシリコン酸化膜を形成した後、シリコン酸化膜をＣＶＤ法により窒化処理または酸窒化処理してＣＶＤ膜を形成するＣＶＤ膜形成工程と、ＣＶＤ膜をオゾンガス雰囲気下でアニーリングするＣＶＤ膜アニーリング工程とを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device has a process that forms one arbitrary lump of dopant regions off the surface of a semiconductor inside a semiconductor substrate, and a process that performs ion implantation a plurality of times with the disposition of a mask pattern end for the ion implantation changed.例文帳に追加

上記の課題を解決するため、本発明は、半導体表面から離れた任意の一固まりの不純物領域を半導体基板内部に形成する工程であって、イオン注入用のマスクパターン端の配置の変更を伴った、複数回のイオン注入を行う工程を備える半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that, in a manufacturing process for a semiconductor wafer wherein only an element forming part is made thinner and an initial thickness of a semiconductor substrate is left in the peripheral part, a thick peripheral part remains in a final process, so that a conventional dicing device for dividing a semiconductor chip of the element forming part cannot be used, and that a new equipment investment is required.例文帳に追加

素子形成部のみ薄化し周辺部は初期の半導体基板の厚みを残した半導体ウエハの製造工程においては、最終工程で厚い周辺部が残るため、素子形成部の半導体チップを分割する従来のダイシング装置を用いることができず、新たな設備投資が必要となる。 - 特許庁

A substrate drying method executed by the control program of the control device 50 includes a process for drying a central area as a range where the center of rotation Wc of the substrate W exists in a range where a dried air flow Gf collides with the substrate W, and a process for drying the outside of the central area.例文帳に追加

制御装置５０の制御プログラムで実行される基板乾燥方法は、乾燥気体流Ｇｆが基板Ｗに衝突する範囲に基板Ｗの回転中心Ｗｃが存在する範囲である中心エリアを乾燥させる工程と、中心エリアの外側を乾燥させる工程とを備える。 - 特許庁

When the frame processing part 11 does not detect a frame after outputting a lock signal from the lock detecting part 7, the optical reception device 100 performs a signal inverting process for inverting and recognizing the logic of a signal to be input to the frame processing part 11, or performs an initial value changing process for changing a bias initial value.例文帳に追加

ロック検出部７からのロック信号出力後において、フレーム処理部１１がフレームを検出しなかったとき、光受信装置１００は、フレーム処理部１１に入力される信号の論理を反転して認識する信号反転処理、または、バイアス初期値を変更する初期値変更処理を実施する。 - 特許庁

The manufacturing method of an organic EL light-emitting device includes: a first applying process for forming a plurality of pixels having an organic EL layer by applying an organic EL material on a pixel-forming area on a substrate, and a removing process for removing the organic EL layer from at least a part of the plurality of pixels with the use of plasma gas.例文帳に追加

有機ＥＬ発光装置の製造方法は、基板上の画素形成領域に有機ＥＬ材料を塗布して有機ＥＬ層を有する複数の画素を形成する第１の塗布工程と、プラズマガスを用いて複数の画素のうちの一部の画素から少なくとも有機ＥＬ層を除去する除去工程と、を備える。 - 特許庁

To provide an etching protective material, along with a manufacturing method of a device substrate that uses the material, which provides by a method of simple and low cost, all of high resistance with respect to an etchant (alkaline and acid), heat resistance during processing, proper adhesion to a wafer applied with etching process, and ease in removing, after etching process.例文帳に追加

簡便かつ安価な方法により、エッチング液（アルカリおよび酸）に対する良好な耐性、加工時の耐熱性、エッチング処理を施すウェハへの良好な密着性およびエッチング処理後の易除去性のすべてを兼ね備えるエッチング保護材およびその保護材を用いたデバイス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

This proxy device 3 establishes an SA (security association) with an MN (mobile terminal) 2 in advance, suspends an SA establishing process with the MN, performs a process of establishing an SA with an HA (home agent) 4, restarts the SA establishment with the MA after establishing the SA with the HA 4, and allocates a fixed IP address HoA (home address) in accordance with the ID of the MN to the MN.例文帳に追加

事前に、プロキシ装置３は、ＭＮ（移動端末）２との間のSAを確立し、ＭＮとの間のSA確立処理を一時中断し、ＨＡ４との間でSAを確立する処理を行い、ＨＡ４との間にSAを確立後、ＭＮとの間のSA確立を再開し、ＭＮにMNのIDに応じた固定IPアドレスHoAを割り当てる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor substrate, made of silicon single crystals, which includes a wafer sorting process that allows optimal semiconductor substrates to be supplied to a tip device by execution of cleanliness evaluation by the SPV method in a manufacturing process even if being recent semiconductor substrates having high cleanliness.例文帳に追加

近年の清浄度の高い半導体基板であっても、清浄度評価を製造過程においてＳＰＶ法によって行うことによって、先端デバイスに最適な半導体基板を供給することができるようなウェーハ選別工程が組み込まれたシリコン単結晶からなる半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

This document file management device managing a document file related to a process has a document file management means 25 managing correction data on correction added in a step constituting the process, correction attribute information about the correction data, and the document file by making them associated to each other.例文帳に追加

プロセスに係る文書ファイルを管理する文書ファイル管理装置であって、プロセスを構成するステップにおいて付加された加筆に係る加筆データと、加筆データに係る加筆属性情報と、文書ファイルとを関連付けて管理する文書ファイル管理手段２５を有することによって上記課題を解決する。 - 特許庁

SCA is analyzed in Postscript language and ICCProfile, which became the basis of CSA, is determined and it is unified into one process using the ICCProfile so that the process can pass through a color conversion path using the same ICCProfile in the CIE base color space and in the Device color space.例文帳に追加

Ｐｏｓｔｓｃｒｉｐｔ言語においてＣＳＡを解析し、そのＣＳＡのもとになったＩＣＣＰｒｏｆｉｌｅを判定し、ＩＣＣＰｒｏｆｉｌｅを使った処理に一本化することで、ＣＩＥベース色空間とＤｅｖｉｃｅ色空間で同じＩＣＣＰｒｏｆｉｌｅを使用した色変換経路を通るようにする。 - 特許庁

In step S1, a defect detection processing for extracting the ordinates of a new defect and a detection size by a prescribed process is performed, after a prescribed process by using an area reducing function of an inspection device, and in step S3, existence of a new defect is determined in chip unit by a discrimination condition validating all detected new defects.例文帳に追加

ステップＳ１で、検査装置の面積縮小機能を用いて所定の工程後に所定の工程による新規欠陥の座標及び検出サイズを抽出する欠陥検出処理を行い、ステップＳ３で、検出されたすべての新規欠陥を有効とする識別条件で新規欠陥の有無をチップ単位に判定する。 - 特許庁

To respond needs of restraining the amount of treatment liquid consumption while miniaturizing and simplifying a device and, further, reducing the amount of grinding in a grinding process or eliminating the grinding process itself even when a film is formed on the surface of a substrate having a recessed and projected pattern.例文帳に追加

処理液の使用量を抑え、しかも、装置としての小型・コンパクト化を図り、更に、例え凹凸のパターンを有する基板の表面に膜を形成する場合にあっても、研磨工程での研磨量を少なくしたり、研磨工程そのものを省略したりしたいというニーズに応えることができるようにする。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive lithographic printing plate material, relating to a photosensitive lithographic printing plate material for performing water development, in which sludge and development unevenness are improved when a developing process is continued by using a process device, and excellent contamination preventing property, ink deposition property and uniformity of ink deposition are obtained.例文帳に追加

水による現像を行う感光性平版印刷版材料に関して、処理装置を用いて現像処理を続けていった場合のスラッジおよび現像ムラの発生を改善し、耐汚れ性、インキ乗り性およびインキ乗りの均一性に優れたネガ型の感光性平版印刷版材料を提供する。 - 特許庁

In an output device, printed matters having superior color reproductivity, good quality, etc. can be outputted by performing an optimizing process after referencing the added recipe information even though information for performing the optimizing process relating to the RGB image data is not given previously in producing the layout data.例文帳に追加

レイアウトデータの作成時に、あらかじめＲＧＢ画像データに対して最適化処理を行うための情報が与えられていなくても、出力装置においては、付加されたレシピ情報を参照して最適化処理を行うことによって、色再現性等に優れた、品質の良い印刷物を出力することができる。 - 特許庁

The device carries out a cleaning process of rotating the rotator 16 with the tray by the rotation drive of the motor 40 and injecting the liquid through the nozzle 52, and a drying process of rotating the rotator 16 with the tray by the rotation drive of the motor 40 so as to clear off the liquid deposited on the 3D spectacles by a centrifugal force.例文帳に追加

モータ４０からの回転駆動によりトレーと共に回転体１６を回転させると共にノズル５２からの噴射を行う洗浄と、モータ４０からの回転駆動によりトレーと共に回転体１６を回転させて、遠心力により３Ｄメガネに付着する液体を吹き飛ばす乾燥と、を行う。 - 特許庁

To provide a device and a method for controlling a treating apparatus by which a mean value within a certain definite period of time can be controlled below a prescribed value even when the process value temporarily deviates from a set value because of sudden change of the process value or the like and the consumption of a reducing agent such as ammonia can be suppressed to the minimum.例文帳に追加

プロセス値の突変等により、プロセス値が一時的に設定値から逸脱しても、ある一定時間内の平均値を所定の規定値以下に制御することができ、かつアンモニア等の還元剤の消費を最小限に抑えることができる処理装置の制御装置及び方法を提供する。 - 特許庁

Relating to the developing device, an agitating member 4 inside a developing unit 1 which starts to be drived before driving of an image carrier 6 and a toner carrier 2, etc., when a printing process is started and stops to be drived before the image carrier 6 and the toner carrier 2, etc., when the printing process is finished, is arranged.例文帳に追加

この現像装置は、印字行程を開始する際に、像担持体６、トナー担持体２等の駆動に先駆けて駆動を開始し、印字行程を終了する際に、像担持体６、トナー担持体２等の停止に先駆けて駆動を停止する現像ユニット１内の攪拌部材４を備えることを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the die 1 for forming the optical device is provided with a process (S01) for forming the prototype 6 of the forming surface 3 on a die base material 2 by sintering sintering powder containing chromium oxide using a discharge plasma sintering method and a process (S02) for forming the forming surface 3 by precisely machining the formed prototype 6.例文帳に追加

光学素子成形用型１の製造方法は、型母材２に放電プラズマ焼結法を用いて酸化クロムを含む焼結用粉末を焼結して、成形面３の原型６を作製する工程（Ｓ０１）と、作製した原型６を精密加工して成形面３とする工程（Ｓ０２）とを備えている。 - 特許庁

The invention relates to the device and the method for manufacturing the foam in the continuous foaming process, and comprises the following steps: measuring actual surface temperatures of the foam or the facing layers along a conveying direction and determining a control variable for the foaming process as the function of a deviation of the actual surface temperature from the nominal surface temperature.例文帳に追加

連続発泡プロセスでフォームを製造する装置および方法に関し、次の工程；搬送方向に沿って、フォームまたはフェーシング層の実表面温度を測定する工程、および公称表面温度からの実表面温度の偏差の関数として、発泡プロセスに関する制御変数を決定する工程を含む。 - 特許庁

The micromirror device is obtained by using a semiconductor anisotropic etching process to process a silicon substrate and has a structure, wherein a shear-type strain gauge 3 which measures the angle of rotation of a mirror 1 and utilizes a piezoresistance effect is provided in a torsion bar 2 divided p-type or n-type semiconductor areas in a perpendicular direction of the silicon substrate.例文帳に追加

半導体異方性エッチングプロセスを使用してシリコン基板を加工したマイクロミラーデバイスであって、シリコン基板の厚さ方向にｐ型またはｎ型の半導体領域に分割したトーションバー２に、ミラー１の回転角を測定するピエゾ抵抗効果を利用したせん断型歪ゲージ３を設けた構造を特徴とする。 - 特許庁

The semiconductor device has the process (d) irradiating the amorphous silicon film 40 with pulse laser beams 50 and forming a crystallite silicon film 41 formed by crystallizing the amorphous silicon film 40 and the process (e) removing the crystallite semiconductor film 41 excepting the crystallite semiconductor film 41 on the upper side of the gate electrode 20.例文帳に追加

そして、（ｄ）非晶質シリコン膜４０にパルスレーザ光５０を照射し、当該非晶質シリコン膜４０を結晶化した微結晶シリコン膜４１を形成する工程と、（ｅ）ゲート電極２０上側の微結晶半導体膜４１以外の微結晶半導体膜４１を除去する工程とを備える。 - 特許庁

This progress management device 10 stores one or more pieces of electronic information associatively to the process, acquires a reference history to the stored electronic information, and decides the progress of the process based on reference frequency and presence/absence of reference to the electronic information acquired based on the acquired reference history.例文帳に追加

進捗管理装置１０は、工程に１又は複数の電子情報を関連づけて記憶し、記憶される電子情報への参照履歴を取得し、取得される参照履歴に基づいて取得される電子情報への参照の有無と参照頻度とに基づいて、工程の進捗を判断する。 - 特許庁