「process device」に関連した英語例文の一覧と使い方(263ページ目) - Weblio英語例文検索

The control section 2 repeats a process for extracting the data of each electronic message stored in the storing section 1 from the forefront of an untransmitted section at a designated rate and another process for transmitting the extracted data of each electronic message to the electronic message browsing device 20 by multiplexing the data in one packet.例文帳に追加

送信制御部２は、記憶部１に格納された各電子メッセージのデータを未送信分の先頭から各々指定された割合で抽出する処理と、抽出した各電子メッセージのデータを一つのパケットに多重化して前記電子メッセージ閲覧装置２０に送信する処理とを繰り返すこと等。 - 特許庁

To provide an optical pickup device provided with a spherical aberration correcting apparatus which can correct spherical aberration caused in a process, in which a laser beam emitted from a light source is made incident on an optical recording medium and in a process in which the laser beam is reflected by the optical recording medium, and to provide its spherical aberration correcting method.例文帳に追加

光源から出射されるレーザビームが光記録媒体に入射される過程および光記録媒体から反射される過程で発生する球面収差を補正することができる球面収差補正装置を備えた光ピックアップ装置およびその球面収差補正方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing apparatus of a semiconductor device includes: a first plating tank in which a surface of a semiconductor wafer 200 in which an insulating film 330 is formed on the surface is performed with a plating process by using a first plating liquid; and a second plating tank in which the surface of the semiconductor wafer 200 is performed with a plating process by using a second plating liquid.例文帳に追加

この製造装置は、表面に絶縁膜３３０が形成された半導体ウェハ２００表面を第１のめっき液を用いてめっき処理する第１のめっき処理槽と、半導体ウェハ２００表面を第２のめっき液を用いてめっき処理する第２のめっき処理槽と、を備える。 - 特許庁

In the case that the image data to be subsequently fed to the printing processor are not prepared by the controlling device, the printing processor is made to wait the feed of image data in a state of suspending the process of respective image data of latent image, development and transfer process.例文帳に追加

印刷処理装置が１頁の画像を形成している最中に、制御装置が印刷処理装置に対して次に供給するべき画像データが準備できていないときは、印刷処理装置が当該画像データの潜像、現像及び転写処理を休止した状態で画像データの供給を待つ。 - 特許庁

The manufacturing method of the organic EL display device is provided with an element substrate manufacturing process (S301) for manufacturing the element substrate, having an anode, a cathode, and a plurality of organic compound layers on the substrate, and an aging process (S302) of aging the element substrate by applying an aging voltage between the anode and the cathode.例文帳に追加

本発明に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法は、基板上に陽極と陰極と複数の有機化合物層とを有する素子基板を製造する素子基板製造工程（Ｓ３０１）と、陽極と陰極の間にエージング電圧を印加して素子基板をエージングするエージング工程（Ｓ３０２）とを備えている。 - 特許庁

This method for manufacturing the microchannel device includes a pasting process to obtain a joint by pasting together a resin substrate with a channel groove formed in one of the surfaces and a resin film arranged in a way that the resin film covers the surface in which the channel groove is formed, and a heating process to thermally treat the joint.例文帳に追加

本発明のマイクロ流路デバイスの製造方法は、一方の面に流路用溝が形成された樹脂基板と、前記流路用溝が形成された面を覆うように配置される樹脂フィルムとを、貼り合わせて接合体を得る貼着工程と、前記接合体を加熱処理する加熱工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a cutting finishing device for a winding roll capable of carrying out a cutting process and an end surface finishing process by one unit of machine, smoothly and efficiently carrying out cutting and end surface finishing and making an outer appearance favourable by finishing a winding roll end surface elegant and its method.例文帳に追加

切断工程と端面仕上げ工程とが一台の機械により行なうことができて、切断および端面仕上げを円滑かつ効率的に行うことができ、しかも、巻きロール端面を流麗に仕上げて、外観の体裁を良好とすることができる巻きロール用切断仕上げ装置およびその方法を提供する。 - 特許庁

A method includes the steps of defining a lithography matter, designing a patterning device, deciding a first lighting structure and a radiation-sensitive material process which can print the positive tone of the lithographic features, and deciding a second lighting structure which can print the negative tone of the lithographic features by a radiation-sensitive material process.例文帳に追加

方法は、リソグラフィ問題を画定することと、パターニングデバイスを設計することと、リソグラフィフィーチャのポジのトーンを印刷できる第一照明構成および放射線感光材料プロセスを決定することと、放射線感光材料プロセスでリソグラフィフィーチャのネガのトーンを印刷できる第二照明構成を決定することとを含む。 - 特許庁

In a pressure rotation heating process for a member of the surface of an elastic member (rubber roller) used for the image forming apparatus using the electrophotographic process, the method of manufacturing the high precise elastic roller comprises applying a voltage during molding, and having the uniform resistance value by controlling the molding device by the electric resistance value of a measured roller.例文帳に追加

電子写真プロセスを利用した画像形成装置に用いる弾性部材（ゴムローラ）表面の部材による加圧回転加熱工程において、成形時に電圧を印加し、測定されるローラの電気抵抗値で成形装置を制御することで、均一な抵抗値をもつ高精度な弾性ローラを製造する方法。 - 特許庁

The processing device comprises a process tub 1 having a liquid inlet 5 at a bottom thereof, a current plate 4 disposed in between a position arranged with an article 2 to be processed and the bottom of the process tub 1, and a dispersion 10 spread so as to coat the liquid inlet 5 between the current plate 4 and the liquid inlet 5.例文帳に追加

処理装置は、底部に液体注入口５を有する処理槽１と、処理すべき物品２が配置される位置と処理槽１の底部との間に配置された整流板４と、整流板４と液体注入口５との間に液体注入口５を覆うように広がった分散部１０とを備える。 - 特許庁

Since soldering process is required only once and the work for binding the insulating substrates 2a, 2b and the cooling fins 4 to regulate relative movement thereof is also required only once, a power electronic circuit device excellent in heat dissipation performance can be manufactured by a simple manufacturing process.例文帳に追加

したがって、半田付け工程は一回で済み、かつ、この時、絶縁基板２ａ、２ｂ、冷却基板１および冷却フィン４をバインドしたりするなどしてそれらの相互相対移動規制のための作業も一回で済み、簡単な製造工程で優れた放熱性能を有するパワー電子回路装置を製造することができる。 - 特許庁

The method of signal processing for a sensitive signal generated from a positioning device, which includes steps of: acquiring an accelerating signal; forming a filtering signal by a first filtering process to filter the accelerating signal; and processing a second filtering process to form a processed signal.例文帳に追加

加速信号を取得するステップと、加速信号をフィルタリングするために第一のフィルタリングプロセスによってフィルタリング信号を形成するステップと、処理された信号を形成するために第二のフィルタリングプロセスを処理するステップとを備える、位置決め装置から発生する感知可能信号を信号処理する方法。 - 特許庁

A medical device manufacturing method includes: a process to apply adhesive matrix material to a plurality of filaments to provide filament-reinforced composite fiber; and a process to coat at least one barb on the surface of the filament-reinforced composite fiber.例文帳に追加

さらに、医療用デバイスを作製する方法であって：複数のフィラメントに接着マトリックス材料を付与する工程であって、フィラメント補強コンポジットファイバーを提供する工程；および該フィラメント補強コンポジットファイバーの表面上に少なくとも１つのとげをコーティングする工程、を包含する、方法が提供される。 - 特許庁

Moreover, the solid-state imaging device is manufactured by having a process of depositing the silicon nitride film 14 by a reduced pressure CVD (chemical vapor deposition) method by connecting with the transfer electrode or the buffer layer 11d and a process of depositing the refractory metal layer 13 on that to form the shunt wiring layer 7d.例文帳に追加

また、転送電極又は緩衝層１１ｄに接続して、減圧ＣＶＤ（化学的気相成長）法により窒化珪素膜１４を成膜する工程と、その上に高融点金属層１３を成膜してシャント配線層７ｄを形成する工程とを有して前記固体撮像素子を製造する。 - 特許庁

To dispense with a process of forming an alignment mark through an exposure process, to reduce the manufacturing cost, to provide the alignment mark and a method of forming the same, a display device, and an electronic apparatus, and to provide a method of detecting the position of the alignment mark so as to accurately position the substrate.例文帳に追加

露光処理によるアライメントマークを形成する工程の無駄と、製造原価を削減し、アライメントマーク及び形成方法及び表示装置及び電子機器を提供し、また、アライメントマークの位置を検出することで、高精度な基板の位置決めが可能となるアライメントマーク位置検出方法を提供する。 - 特許庁

To provide a developing device, a process cartridge, and an image forming apparatus where image deterioration which may be generated in a developing/transfer process can be prevented and an image of high quality can be formed over a long period from the initial stage of its use by increasing the charging rate of a toner layer on an image carrier even in the case of using the same toner.例文帳に追加

同一トナーを使用した場合においても、像担持体上のトナー層の充填率を高くして、現像・転写工程において生ずる画像劣化を防ぎ、使用初期から長期に渡って高品位の画像を形成できる現像装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a GaN-based semiconductor device which is capable of lowering its operation voltage while making productivity improvements and reducing manufacturing costs by manufacturing a p-type GaN-based semiconductor without performing additional heat treatment process after the lamination process a semiconductor layer is completed.例文帳に追加

半導体層の積層工程後に別途の熱処理工程を行うことなくｐ型ＧａＮ系半導体を作製することで、生産性の向上およびコストの低下を図りつつ、素子の動作電圧を低くすることが可能な、ＧａＮ系半導体素子の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an efficient glass substrate regenerating device and an efficient glass substrate regenerating method for processing substrates to be regenerated, produced in the manufacturing process of a color filter substrate on the optimal alkali treatment conditions for peeling BM/RGB layers by each substrate for regeneration in a continuous regeneration process of sequentially peeling the substrates for regeneration from the upper layer part of a color filter film.例文帳に追加

カラーフィルタ基板の製造工程で発生した再生対象基板を、カラーフィルタ膜の上層部より順に剥離する連続再生プロセスにおいて、再生対象基板毎に最適なＢＭ／ＲＧＢ層剥離用アルカリ処理条件で処理する効率的なガラス基板再生装置及び再生方法を提供する。 - 特許庁

The process simulation device receiving a manipulated variable from a controller and outputting a controlled variable simulating a response of a process to the controller is provided with a data association means reading the manipulated variable to an input port and writing the controlled variable, obtained by applying a predetermined computation on the manipulated variable, to an output port.例文帳に追加

コントローラからの操作量を入力し、プロセスの応答を模擬する制御量を前記コントローラに出力するプロセスシミュレーション装置において、 前記操作量を入力ポートに読み込み、これに対して所定の演算を実行した結果を制御量として出力ポートに書き込むデータ連携手段を備える。 - 特許庁

This paper stacking and feeding device including a stacking process dropping and stacking carried paper sheets on a stack part and a feeding process feeding the stacked paper sheets is provided with the rotary member having one or more sides radially extendable from a folded state, in a place adjacent to the stack part.例文帳に追加

搬送された紙葉類を集積部に落下させて集積させる集積処理と、該集積した紙葉類を繰り出す繰出処理とを設定した紙葉類集積繰出装置に対し、畳んだ状態から略放射状に広がり得る１以上の辺を有する回転部材を前記集積部近傍に設けた。 - 特許庁

For an ECR plasma etching device D1, a mechanism is provided where a movable diaphragm 110 is lifted for a wafer processing vessel 100a to be shielded from a process gas exhaust port 106, and a switching valve 108 allows a gas inlet port 103 to communicate with a high-pressure gas inlet piping 105, while being shielded from a process gas inlet piping 104.例文帳に追加

ＥＣＲプラズマエッチング装置Ｄ１の場合、可動式隔壁１１０を上昇させウェハ処理槽１００ａをプロセスガス排気口１０６から遮断し、切り替えバルブ１０８によりガス導入口１０３を高圧ガス導入配管１０５と導通させプロセスガス導入配管１０４から遮断する機構を備えている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which simplifies manufacturing processes and reduces manufacturing costs by primarily omitting a difficult process such as a process for forming a resist of a given shape on the surface of a substrate having a through hole, and prevents reduction in yield caused by residues of the resist or the like.例文帳に追加

主として、貫通穴が形成された基板表面への所定形状のレジストの形成等の困難な工程を省略して製造工程の簡略化を図るとともに製造コストを低下させ、更にはレジストの残渣等の原因による歩留まりの低下を起こすことがない半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide cleaning liquid for removing resist enhanced in a removing function of resist residual dross and resistance against corrosion of a copper film and an insulator film, when the resist residual dross after etching or ashing, and other etching residual dross are removed in a semiconductor manufacturing process including a copper wiring process, and a manufacturing method for a semiconductor device using the cleaning liquid.例文帳に追加

銅配線プロセス等の半導体装置製造方法工程において、エッチング後またはアッシング後のレジスト残さ物およびその他のエッチング残さ物を除去する際に、レジスト残さ物等の除去性、銅および絶縁体膜の耐腐食性が高いレジスト除去用洗浄液を提供する。 - 特許庁

The semiconductor laser device has a first current constriction layer 17 formed between a p-side electrode 19 and an active layer 14 on a substrate 11 through an oxidation process, and a second current constriction layer 22 formed between the active layer 14 and the first current constriction layer 17 not through the oxidation process.例文帳に追加

基板１１上のｐ側電極１９と活性層１４との間に酸化工程を経て形成される第１の電流狭窄層１７を有し、かつ、活性層１４と第１の電流狭窄層１７との間に酸化工程を経ることなく形成された第２の電流狭窄層２２を有する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical device which uses a method for accurately evaluating a forming mold before applying for a forming process to define whether it is good or not and simply evaluating and judging the life of a carbon thin film exhausted by continuous press forming and the forming mold suitable for the forming process.例文帳に追加

成形用型を、成形工程に適用する前に的確に評価し、良否を識別すること、および、連続プレスによって消耗する炭素薄膜の寿命を、簡便に評価判定する方法を用いた光学素子の製造方法、及び成形工程に適した成形用型を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate for a liquid crystal display device of a CF-on-TFT structure in which a color filter is formed on the side of an array substrate in which a switching element is formed, and which enables simplification of a manufacturing process typified by a photolithography process and has high reliability.例文帳に追加

本発明は、スイッチング素子が形成されたアレイ基板側にカラーフィルタを形成したＣＦ−ｏｎ−ＴＦＴ構造の液晶表示装置用基板に関し、フォトリソグラフィ工程を代表とする製造プロセスを簡略化でき、且つ高い信頼性を有する液晶表示装置用基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the photoelectric conversion device comprises a process of substrate surface treatment for improving the wettability of the surface of the substrate of a first conduction type and the coating liquid, and a coating process of coating the coating liquid to the surface of the substrate to which the substrate surface treatment is carried out using a pressure-type air spray system.例文帳に追加

第一導電型の基板の表面と塗布液との濡れ性が向上するように基板表面処理する工程と、前記基板表面処理を施した前記基板の表面に加圧式エアレススプレー方式を用いて前記塗付液を塗付する塗付工程とを有する光電変換素子の製造方法である。 - 特許庁

To provide a process design method which is capable of designing a process of performing the prescribed working of a work object by an NC machine tool having an end mill as a tool, without depending upon a designer's experience neither requiring complicated work, and to provide a device and a computer program for use in the implementation of this method.例文帳に追加

エンドミルを工具とするＮＣ工作機械により被加工物に所定の加工を行わせるための工程を、設計者の経験に頼ることなく、また煩雑な作業を必要とすることなく設計することができる工程設計方法を提供し、またこの方法の実施に用いる装置及びコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁

To improve a manufacturing yield by reducing a short-circuit failure of wiring and also shorten a process time by eliminating a heat treatment process to fulfill voids by forming an insulation film without the generation of voids between wirings of fine structures in a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法において、微細構造を有する配線間にボイドを発生させること無く絶縁膜を成膜することによって、配線のショート不良を低減させて歩留まりの向上を図るとともに、ボイドを埋めるための加熱処理工程を不要にしてプロセス時間の短縮化を図る。 - 特許庁

In this active-type EL display device, wiring from a negative electrode 55 of an EL panel 33 to a connection terminal 36 of a signal input board 35 is integrated into a multilayer structure along with a negative electrode material and a conductive material used in a thin-film transistor forming process, or formed of only the conductive material used in the thin-film transistor forming process.例文帳に追加

アクティブ型EL表示装置において、ELパネル３０，４０の陰極５５から信号入力基板３５の接続端子３６までの配線を、陰極材料と薄膜トランジスタの形成工程で使用する導電材料との多層構造とするか、薄膜トランジスタの形成工程で使用する導電材料のみで構成する。 - 特許庁

To provide a management chart preparation device which can be used for determining whether or not a manufacturing process is put in a stable status from the fluctuation of a quality characteristic value due to a temporal difference, and for determining whether or not the manufacturing process is put in the stable status from the fluctuation of a quality characteristic value due to a spatial location difference.例文帳に追加

時間的な違いによる品質特性値の変動から製造工程が安定状態にあるか否かを判断するためだけでなく、空間的な位置の違いによる品質特性値の変動から製造工程が安定状態にあるか否かを判断するためにも利用できる管理図作成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of orienting obliquely a polymer film which shows a high score rate in a polarizing plate cutting process or in a phase difference film cutting process, to provide a polarizing plate and a phase difference film constituted of the obtained obliquely oriented polymer film, having a high performance and being inexpensive and to provide a liquid crystal display device using the polarizing plate.例文帳に追加

偏光板打ち抜き工程や位相差膜打ち抜き工程における得率が高いポリマーフィルムの斜め延伸方法を提供すること、得られた斜め延伸ポリマーフィルムからなる高性能で安価な偏光板、位相差膜を提供すること、及び上記偏光板を用いた液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

This design support device 100 has a design pattern data input part 810, a process variation input part 820, a materialization value generation part 854 of process variation, a minimum interval calculation part 855, a cumulative distribution function decision part 856 of a dielectric breakdown time, and a materialization value generation part 857 of the dielectric breakdown time.例文帳に追加

設計支援装置１００は、設計パターンデータ入力部８１０と、工程ばらつき入力部８２０と、工程ばらつきの実現値生成部８５４と、最小間隔算出部８５５と、絶縁破壊時間の累積分布関数確定部８５６と、絶縁破壊時間の実現値生成部８５７とを備えている。 - 特許庁

To provide a developing device capable of uniformly supplying initial developer in the direction of the centeral axis line of a developing sleeve even when detaching an initial developer case sealing member in a state where the developing device is inclined, and to provide an image forming apparatus and a process cartridge.例文帳に追加

現像装置を傾けた状態で初期現像剤ケースシール部材を取り外す場合でも、現像スリーブの中心軸線方向について初期現像剤を均一に供給することが可能となる現像装置、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a supply method of adhesive for temporarily fixing a mounting component in which a thickness of adhesive corresponding to the type of a mounting component can be obtained easily by single print process, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device, a substrate for mounting a component and a semiconductor device.例文帳に追加

実装部品の品種別に見合った接着剤厚さを一度の印刷工程で容易に得ることができる実装部品仮固定用接着剤の供給方法、半導体装置の製造方法、部品実装用基板および半導体装置を提供する。 - 特許庁

A plurality of image processing operations are applied to image data by repeating downloading of an image processing function to a programming device mounted in the device as a substitute for the image processing LSI, data processing, and storage of processing data in a memory in a one-time image forming process.例文帳に追加

１回の画像形成プロセスにおいて、画像処理ＬＳＩの代替用として装置内に実装されたプログラミングデバイスへの画像処理機能のダウンロード、データ処理、処理データのメモリへの格納を繰り返し、複数の画像処理を画像データに対し施す。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which allows bulky structures of a source and a drain to be formed in a MISFET with a gate electrode formed of a metallic material by a low-temperature process in the formation and can be manufactured efficiently, and a manufacturing method for the semiconductor device.例文帳に追加

金属材料で形成されたゲート電極を有するＭＩＳＦＥＴにおけるソース・ドレイン部のかさ上げ構造の形成において、その形成を低温プロセスで実現し、かつ効率よく製造できる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device substrate, suppressing contraction of a substrate generated in a production process of a semiconductor device substrate, reducing faults generated by one cause of displacement of pattern portions or the like to be formed, and suppressing increasing of manufacturing costs and lowering of productivity.例文帳に追加

例えば、半導体装置用基板の製造プロセス中に生じ得る基板の収縮を抑制し、形成されるべきパターン部等の位置ずれを一因として生じる不具合を低減でき、且つ製造コストの増大及び生産性の低下を抑制する。 - 特許庁

To provide manufacturing method of semiconductor substrate, semiconductor substrate, semiconductor device, electro-optic device and electronic instrument, which are capable of obtaining a highly reliable matter which prevents floating effect of a substrate through simple process and, as a result, which has realized the reduction of a manufacturing cost.例文帳に追加

基板浮遊効果を防止できる信頼性の高いものを簡便な工程で得ることができ、ひいては製造コストの低減を実現した、半導体基板の製造方法、半導体基板、半導体装置、電気光学装置、及び電子機器を提供する。 - 特許庁

A headquarters server apparatus 1 inputs prescription data having doses in pricing units via a communication device 14, converts the prescription data into packaging units by a pricing-packaging unit conversion process, and outputs the prescription data from the communication device 14.例文帳に追加

本部サーバ装置１は、通信装置１４を介して薬価単位の服薬数量を有する処方箋データを入力し、薬価・包装単位変換処理によって当該処方箋データが包装単位に変換され当該処方箋データが通信装置１４から出力される。 - 特許庁

When power failure is caused by lightning or the like during operation of a toilet device, management object information indicating a management object of the toilet device and stage information indicating a stage of process performed for the management object when the power failure occurs will be stored in an EEPROM.例文帳に追加

トイレ装置の動作中に、落雷等により停電が発生すると、停電発生時のトイレ装置の管理対象を示す管理対象情報および管理対象で行われている処理の段階を示す段階情報がＥＥＰＲＯＭに記憶される。 - 特許庁

In this hot and warm liquid circulating device 11, instead of separately forming both split bodies by casting as in a conventional hot and warm liquid circulating device, a tank body 15 can be formed by casting in the manufacturing process for a cast reserve tank 13.例文帳に追加

温暖液体循環装置１１では、鋳物製であるリザーブタンク１３の製造工程において、従来の温暖液体循環装置のように両分割体を別々に鋳物成形するのではなく、１つのタンク本体１５を鋳物成形することができる。 - 特許庁

To provide an image processing method capable of reducing a circuit scale and a processing time related to an image process of distortion compensation and shading compensation for an image imaged by an imaging element through a lens optical system; an image processing device; and an image formation device.例文帳に追加

レンズ光学系を通して撮像素子により撮像された画像についての歪み補正及びシェーディング補正の画像処理に関する回路規模及び処理時間の縮小化を実現できる画像処理方法、画像処理装置及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a substrate for a semiconductor device including a process capable of simply and absolutely removing an electric supply line for plating without constituting a limiting factor of a high-density interconnection, and to provide a high-density substrate for the semiconductor device manufactured by using the method.例文帳に追加

配線の高密度化を阻害することなく簡易かつ確実にめっき用給電線の除去を行うことのできるプロセスを含んだ半導体装置用基板の製造方法およびそれによって作製される高密度な半導体装置用基板を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum processing device constituted of an enclosure with a plurality of separated chambers formed inside, a gas distribution assembly arranged at each process chamber, a gas source connected to the separated chambers, and a power source device connected to each gas distribution assembly.例文帳に追加

複数の分離されたチャンバが内部に形成されたエンクロージャと、各処理室に配置されたガス分配アセンブリと、分離チャンバに接続されたガス源、および各ガス分配アセンブリに接続された電源装置によって構成される真空処理装置を提供する。 - 特許庁