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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > process valueに関連した英語例文

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process valueの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2833



例文

Next, for each pixel, it is determined whether or not the value for that color is used in an averaging process, on the basis of the distance between the bounding region of the pixel and the bounding regions of neighborhood pixels.例文帳に追加

次に、各画素について、当該カラーに関する該画素の値が平均化処理において使用されるべきであるかが、当該画素の境界領域と隣接する画素の境界領域との間の距離に基づいて決定される。 - 特許庁

The dither matrix stores each threshold value such that a number of dots to be allocated to each of the plurality of dot groups is determined according to a dot formation order of each of the plurality of dot groups in the common print region in the halftone process.例文帳に追加

ディザマトリクスは、ハーフトーン処理において、共通の印刷領域における複数のドット群の各々のドット形成順序に応じて、複数のドット群の各々のドット数の配分が定まるように各閾値が格納されている。 - 特許庁

To provide a production process of a semiconductor device that assures a measuring structure without increasing the area of the semiconductor device and directly measures the capacity value of the manufactured semiconductor device as well as the structure of the semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の面積を増大させることなく、測定用の構造を確保し、かつ製造した半導体装置の容量値を直接測定できる、半導体装置の製造方法と半導体装置の構造を提供する。 - 特許庁

The surface of the spacer for roll to roll process is made to be a smooth surface (Rz value<1 mm), a roughening portion protruding from the surface of an opposite plane is installed respectively in the side along the two long sides of the surface of the opposite plane.例文帳に追加

本発明のロールツーロール工程用スペーサの表面は平滑面(Rz値<1mm)とし、その反対面の表面にその二つの長辺に沿った側辺にそれぞれその表面より突出する粗化部を設置する。 - 特許庁

例文

If a first kind special value given by the opening/closing of a first kind variable prize means 150 attains all the maximum continuation process in a first kind state originally set, second kind starting conditions are set to be established.例文帳に追加

初期設定された第1種状態において、第1種可変入賞手段150の開閉による第1種特別価値がその最大継続行程を総て達成した場合に、第2種始動条件が成立可能に設定される。 - 特許庁


例文

To provide a fabric for polishing used in a texturing process for magnetic recording disc etc. capable of managing well with a lower Ra value and suppressing generation of scratches at the surface processed while a sufficient processing rate, uniformity of texture marks, and sharpness are held.例文帳に追加

磁気記録ディスク等のテクスチャリング加工において、低Ra値化に対応でき、かつ十分な加工レートや、テクスチャー痕の均一性、シャープさを保持しつつ、加工面のスクラッチ発生を抑制できる研磨用織物を提供する。 - 特許庁

A CPU 12 operates according to a value measured by each of the sensors and stored by a memory 16 for control definition and operation input information that is information showing relation with a process to be executed or a character to be inputted.例文帳に追加

そして、制御定義用メモリ16が記憶している各センサが測定した値と、実行すべき処理または入力すべき文字との関係を示す情報である動作入力情報とに従って、CPU12が動作する。 - 特許庁

The second and first light receiving elements 240, 230 receive transmitted lights L1t, L2t from the first and second light emitting elements 210, 220 so as to implement the process for correcting a reference signal value of the quantity of light emission in the optical sensor.例文帳に追加

光センサの発光量の基準信号値を補正するための処理を実行するために、第1と第2の発光素子210,220からの透過光L1t,L2tをそれぞれ第2と第1の受光素子240,230に受光させる。 - 特許庁

If the memory utilization calculated in the process of step S1002 is determined to be equal to or greater than a threshold value in step S1003, then in step S1004, a host CPU sets hibernation as a stopped state into which it is making transition.例文帳に追加

ステップS1003において、ホストCPUは、ステップS1002の処理で算出されたメモリ使用率が閾値以上であると判定された場合、ステップS1004において、ホストCPUは、遷移しようとする休止状態を、ハイバネーションにする。 - 特許庁

例文

To provide high molecular weight polyisocyanurates having excellent heat resistance, optical property and the like which are obtained by self- crosslinking of an alicylic diisocyanate up to a definite value of the amount of the remaining NCO groups, and a process for producing the same.例文帳に追加

本発明の目的は、脂環式ジイソシアナートを残存NCO基量である一定の値以下まで自己架橋させた、耐熱性、光学物性等に優れた高分子量のポリイソシアヌレートおよびその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

例文

To arrange a calibrating second pressure gage in the same environment in a vacuum treatment chamber in order to keep a pressure zone in a normal condition in film formation treatment, and to calibrate a controlling first pressure gage with a pressure value in an actual process.例文帳に追加

成膜処理時の圧力帯を正常な状態で維持する為に、真空処理室内の同じ環境下に校正用の第2の圧力計を配置し、制御用の第1の圧力計を実プロセス時の圧力値で校正する。 - 特許庁

To move to a redundant process for recovering data by disconnecting a hard disc deemed to be failed when a real processing time of the hard disc exceeds a time-out threshold value even when any of a plurality of recording and reproducing modes is selected.例文帳に追加

複数の記録再生モードのいずれが選択された場合も、ハードディスクの実処理時間がタイムアウト閾値を越えた場合、故障とみなされた当該ハードディスクを切り離してデータを修復する冗長処理に移行できるようにする。 - 特許庁

To obtain a plasma system having a capacitance compensator for keeping the total capacitance, between a chuck being set with a wafer and a ground terminal, at a constant value at all times, and a plasma system in which process variables can be kept at constant values at all times.例文帳に追加

ウェーハが置かれるチャックと接地端子間の全体チャックキャパシタンスを常に一定値に維持できるキャパシタンス補償機を備えるプラズマ装置及び工程変数を常に一定に維持できるプラズマ装置を提供する。 - 特許庁

The amount of change to change the value of a game parameter used in the game process is calculated on the basis of at least one of the first data and the second data so that the amount of change is greater as the degree of similarity is greater.例文帳に追加

ゲーム処理に用いられるゲームパラメータの値を変化させる変化量は、上記類似度が大きいほど当該変化量が大きくなるように、第1データおよび第2データの少なくとも一方に基づいて算出される。 - 特許庁

A solution which dissolves the ceramic powder is mixed with the ceramic powder, and a process in which the ceramic powder is dissolved is detected by an optical, magnetic or electrical method, and the activity of the ceramic powder is evaluated, on the basis of the change with time in its measured value.例文帳に追加

セラミック粉末を溶解させる液と該セラミック粉末とを混合し、該セラミック粉末が溶解する過程を光学的、磁気的または電気的な方法で検出し、これらの測定値の時間変化から活性度を評価する。 - 特許庁

The outputs of the time-series receiving-data buffer circuits 11a, 11b are stored in time-series in time-series instantaneous-value data-storing circuits 13a, 13b, after performing a predetermined digital filter process by digital-filter processing circuits 12a, 12b.例文帳に追加

時系列受信データバッファ回路11a,11bの出力は、ディジタルフィルタ処理回路12a,12bにて所定のディジタルフィルタ処理が実行された後、時系列瞬時値データ格納回路13a,13bに時系列に格納される。 - 特許庁

Therefore, players can play game visually enjoying the duration until the lottery figures are stopped and defined (the process up to the generation of the specified game value such as 'jackpot') until the lottery figures are stopped and defined thereby enhancing playing performance and expectations.例文帳に追加

したがって、遊技者は、抽選図柄が停止して確定するまでの間(「大当り」等の所定の遊技価値を生じるまでの過程)を視覚的に楽しみながらゲームをすることができ、遊戯性や期待感が向上する。 - 特許庁

To provide a printed circuit board with a resistor built therein in which a desired resistance value can be realized by a process of economic and superior mass production without having no invest for a new plant.例文帳に追加

新規設備の投資なく経済的で量産性に優れた工程によって所望の抵抗値を実現することが可能な、内蔵レジスタを有するプリント回路基板、その製造方法及びその最適化方法を提供すること。 - 特許庁

However, in a first detection process, the bending of the terminal T in the thickness direction is detected based on the average variable density value of the terminal T after correction, thereby detecting the bending of the terminal T without being affected by the shadow N.例文帳に追加

しかして、第1検出過程では、補正後の端子Tの平均濃淡値に基づいて端子Tの厚み方向の曲がりを検出することにより、影Nの影響を受けることなく端子Tの曲がりを検出することができる。 - 特許庁

Predicted time t_h1 for washing start is calculated when the filtering resistance reaches 1.5m, and the first washing is started with the predicted time reaching earlier a value set in advance, to avoid overlapping of washing process time.例文帳に追加

そして、ろ過抵抗1.5mに到達するときの洗浄開始予測時間t_h1を演算し、予め設定した値に早く到達した方の予測時間で最初の洗浄を行うようにして洗浄工程時間が重ならないようにした。 - 特許庁

In the gas detecting device 10 which uses a gas sensor element 11 changing its sensing resistance Rs in response to the concentration of the specific gas such as NOx or the like, a sensor output value S(n) being subjected to an A/D conversion process is input to a microcomputer 16.例文帳に追加

NOxなどの特定ガス濃度に応じてセンサ抵抗Rsが変化するガスセンサ素子11を用いるガス検出装置10では、マイクロコンピュータ16にA/D変換されたセンサ出力値S(n)が入力される。 - 特許庁

To provide a correction circuit of a semiconductor element and a method of driving the same capable of correction in a short time even after a package is assembled, when a set-up or hold value does not meet with high frequency operation due to the influence of variation in process, voltage, temperature, etc.例文帳に追加

工程、電圧、温度などの変動の影響でセットアップ値またはホールド値が高周波動作に合わない場合に、パッケージアセンブリ後でも短時間で補正できる半導体素子の補正回路及びその駆動方法を提供する。 - 特許庁

When the CPU in action is reset, the initial value of a timer variable TIME is set at nn, and the lottery process will not be executed regardless of the switch input until the timer variable is zero by nn times of timer interruption.例文帳に追加

動作中のCPUがリセットされた場合には、タイマ変数TIMEの初期値をnnに設定して、nn回のタイマ割込みによってタイマ変数がゼロになるまでスイッチ入力に係わらず抽選処理を実行しない。 - 特許庁

To automatically detect a new target velocity and to apply it as a new target value to be controlled by making invalid a control process up to the moment when changing velocity, and storing the momentary velocity at the point of time as the new target velocity after the end of velocity change.例文帳に追加

ドライバに対し付加的なプログラミングの煩雑さを与えることなく制御装置により新たな目標速度を自動的に検出して、コントロールすべき新たな目標値としてまえもって与えることができるようにする。 - 特許庁

At least one kind of the coefficient set value included in the model is set so as to change depending on the length of the single crystal rod 116 or an elapsed time in a forming process of the shoulder part and the straight barrel part of the single crystal rod 116.例文帳に追加

モデルに含まれる少なくとも一種の係数設定値は、単結晶棒116の肩部及び直胴部の形成過程において単結晶棒の長さ又は経過時間に応じて変化するように設定される。 - 特許庁

The injection molding machine, which injects a molten resin into a mold in the state of mold clamping, is provided with a means for variably controlling the mold clamping force that controls so as to reduce the mold clamping force to a predetermined value on the way of the injection process.例文帳に追加

型締め状態にある金型内に溶融樹脂を射出する射出成形機において、射出工程の途上で型締め力を所定値まで低減させるように制御する型締め力可変制御手段を設ける。 - 特許庁

In a manufacturing process of a stepped junction variable- capacitance diode, a moderate thermal treatment is so performed to a prescribed proper specification range that a target capacitance value becomes slightly larger than the median of the proper specification range.例文帳に追加

階段接合型可変容量ダイオードの製造過程において、所定の適正規格範囲に対して、目標容量値を適正規格範囲の中央値よりも若干高めの値となるような、少な目の熱処理を与える。 - 特許庁

To provide a modifier for a cellulose ester resin, capable of imparting excellent moisture resistance and high Rth (retardation value) to the film comprising the cellulose ester resin, having excellent bleeding resistance at high temperature in high humidity, and hardly volatilized at production process.例文帳に追加

本発明は、セルロースエステル樹脂からなるフィルムに優れた耐透湿性及び高Rthを付与でき、高温多湿下での耐ブリード性に優れ、かつ製造工程で揮発しにくいセルロースエステル樹脂用改質剤を提供することである。 - 特許庁

To provide a pretreating method for metal analysis and its device capable of preventing recontamination such as re-oxidation of the surface of a sample in a sputtering process, and thus providing a correct analyzed value always even when the sputtering is repeated.例文帳に追加

スパッタリングの過程で生ずる再酸化などの試料表面の再汚染を防止し、それによりスパッタリングを繰り返しても常に正しい分析値を与えることのできる金属分析の予備処理方法および装置を提供する。 - 特許庁

In this process, an input voltage to the copper circuit is detected, and if the detected value is low, a PWM control circuit 8 controls a drive of FETQ1 which is a switching element for the chopper circuit to restrict the output voltage Vo to the lamp 1.例文帳に追加

その際、チョッパ回路の入力電圧を検知し、その値が低いときにはPWM制御回路3によりチョッパ回路のスイッチング素子であるFETQ1の駆動を制御し、ランプ1への出力電圧Voを制限する。 - 特許庁

When cement clinker G2 is produced by feeding a mixture K of the waste tires T and the waste plastics P in a cement firing process, the mixing ratio of the waste tires T is controlled according to the measured value of the iron concentration in the cement clinker G2.例文帳に追加

廃タイヤTと廃プラスチックPの混合物Kをセメント焼成工程に投入してセメントクリンカG2を製造するに際し、セメントクリンカG2中の鉄分濃度の測定値に応じて廃タイヤTの混合率を調整する。 - 特許庁

The heavy addition averaging process is performed by using data (restoration of the value below the decimal point) having no rounding error although data of a last line is used, and follow-up ability to variation of an input signal is improved to enable accurate black shading corrections.例文帳に追加

重加算平均化処理は、前ラインのデータを用いるが、丸め誤差を含まない(小数点以下の値を復元)データを用いて行い、入力信号の変動への追従性を改善し、正確な黒シェーディング補正を可能とする。 - 特許庁

To provide a supercritical water reaction device capable of keeping the concentration of an organic chlorine compound in a gas to be released into the atmosphere at a level below a specified value, when a liquid to be treated containing the organic chlorine compound is treated by a supercritical water reaction process.例文帳に追加

有機塩素化合物を含む被処理液を超臨界水反応処理する際、大気に放出する気体中の有機塩素化合物濃度を所定値以下に維持できる超臨界水反応装置を提供する。 - 特許庁

To provide a process and apparatus that converts wastes and low-value feedstocks to produce useful materials, including carbon solids, gas, oil and specialty chemicals, at acceptable cost and with high energy efficiency, without producing malodorous emissions.例文帳に追加

悪臭排気を生成することなく、高いエネルギー効率で受容可能な費用で廃棄物や低価値材料を炭素固体、気体、油、およびスペシャルティーケミカルを含む有用な材料を生成する方法および装置を提供する。 - 特許庁

Image data of the surrounding pixel including the noticed pixel are to perform a weighted average process using each weighting factor in every surrounding pixel by a weighted average processing circuit 60, and its processing result is made a pixel value of the noticed pixel.例文帳に追加

加重平均処理回路60は、上記算出された各周辺画素毎の重み付け係数を用いて、注目画素を含む周辺画素の画像データを加重平均処理し、その処理結果を注目画素の画素値とする。 - 特許庁

A value of strain tensor is not simply converted to Raman shift, but a microscopic spectroscopic measurement process is simulated in combination with an electromagnetic field analysis, thereby enabling more accurate simulation, such as polarization direction dependence.例文帳に追加

歪みテンソルの値をラマンシフトに単純に変換するのではなく、電磁場解析と組み合わせて顕微分光計測過程をシミュレートすることにより、偏光方向依存性等、より精密なシミュレートを可能にしたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an energy effective use device simply and efficiently converting energy of surplus steam used for driving a steam turbine or process demand into power of high utility value or electric power generation energy via the steam turbine.例文帳に追加

蒸気タービンの駆動やプロセス需要に利用した余剰蒸気のエネルギーを、簡便かつ効率よく、蒸気タービンを介して利用価値の高い動力や発電エネルギーに変換するエネルギー有効利用装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which contains an I/O buffer or an output buffer which can control a switching speed of a buffer transistor to be an appropriate value even when process conditions and/or temperatures, etc., change.例文帳に追加

プロセス条件及び/又は温度等が変化した場合にも、バッファ用トランジスタのスイッチング速度を適正値に制御することができる入出力バッファ又は出力バッファを含む半導体装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

This manufacturing method of the coil spring comprises a shot peening process of applying surface compressive residual stress larger than the other part to a part larger than a reference value in stress amplitude in use among a coil spring stranded wire.例文帳に追加

コイルばね素線のうち、使用時における応力振幅が基準値より大きい部位に、他の部位よりも大きい表面圧縮残留応力を付与するショットピーニング工程を有することを特徴とするコイルばねの製造方法。 - 特許庁

To provide a method for producing a pleat product, with which an operation process is simplified and pleats made by pleat processing are excellently maintained over a long period of time so that a value as a pleat product is increased.例文帳に追加

作業工程を簡略化するとともに、プリーツ加工により施されたプリーツを長期にわたって良好な状態に維持することでプリーツ製品としての価値を高めることが可能なプリーツ製品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thinned bimetal having a precise curvature value manufactured by a simplified inexpensive production process, by forming an iron-nickel (Fe-Ni) alloy layer by means of an electric plating system, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

電気メッキ方式により鉄-ニッケル(Fe-Ni)合金層を形成させることで、より単純化された、安価な製造工程により、精密な湾曲値を持つ薄膜化されたバイメタルとこれを製造するための方法とを提供する。 - 特許庁

To provide a novel method for producing a syngas capable of upgrading raw material unit consumptions in kerosene/gas oil producing process from natural gas by achieving a specific reuse of a light hydrocarbon of a low added value byproduct.例文帳に追加

天然ガスからの灯軽油製造プロセスにおいて、付加価値が低い副産物である軽質炭化水素の具体的な再利用化を図り、原料原単位を上げることのできる新規な合成ガスの製造方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, as Figure 2.1.67 shows, it is necessary to keep in mind that intellectual assets originally are of equal rank with tangible assets and that they are generically termed as a process inherent in each individual company that integrates both intellectual and tangible assets to produce enterprise value.例文帳に追加

したがって、第2-1-67図にあるように、本来知的資産は、有形資産と同列に並べられるものと、これらを統合して企業価値をもたらす企業固有のプロセスを総称したものであることに留意する必要がある。 - 経済産業省

Corrected measured transmission speed Vc is calculated by correcting measured transmission speed Va which is ultrasonic wave transmission speed in fuel 8 calculated during liquid level detection process by fuel temperature Tf to a value at 20°C.例文帳に追加

液面検出過程で算出された燃料8中の超音波伝播速度である測定伝播速度Vaを、燃料温度Tfにより20℃における値に補正して補正測定伝播速度Vcとして算出している。 - 特許庁

For decompression controlling a piezoelectric element, when the displacement of the piezoelectric element is measured by the voltage while applying charging process to it, the displacement can not be measured as a unique value because of voltage vibration of the piezoelectric element.例文帳に追加

ピエゾ素子を伸長制御すべく、これに充電処理を施しているときに電圧によってピエゾ素子の変位量を計測すると、ピエゾ素子の電圧振動に起因して変位量を一義的な値として計測できない。 - 特許庁

The lookup table comprises a lookup table which stores a set value at which a nonlinear process for suppressing noise is started for an edge signal extracted from a video signal and gain characteristics of each signal intensity.例文帳に追加

このルックアップテーブルは、前記映像信号から抽出した輪郭信号に対して、ノイズを抑圧するための非線形処理を開始する設定値と、信号強度毎ゲインの特性とを記憶したルックアップテーブルを具備するものである。 - 特許庁

[2] In the furnace pressure control process in a waste disposal furnace provided with a boiler, the air flow rate or vapor flow rate during the soot blow conducted in the boiler is adjusted based on a measurement value of the pressure in the waste disposal furnace.例文帳に追加

[2]ボイラが併設された廃棄物処理炉における炉内圧の制御方法であって、前記ボイラ内でのスートブローの空気流量又は蒸気流量を、前記廃棄物処理炉内の圧力の計測値に基づき調節する。 - 特許庁

Since the process gas is supplied only from the outermost ports 22d and 22e, the outermost peripheral section of the wafer W is only doped automatically and the impurity concentration in the epitaxial layer on the whole surface of the wafer W can be suppressed to a low value.例文帳に追加

かかる構成においては、外側のガス供給口22d,22eからは処理ガスのみが流れるため、ウェハ最外周部はオートドープのみとなり、ウェハ全面のエピタキシャル層の不純物濃度を低く抑えることができる。 - 特許庁

To provide a structure which enables minimum shape and size required for performance of generator and dispenses with deformation correcting process for an aperture of generator rotor by maintaining moment of inertia of an outer-rotor rotating machine to a constant value.例文帳に追加

アウタロータ型回転電機用ロータの慣性モーメントを一定として、発電機性能に必要な最小形状、最小寸法を可能とすると共に、発電機ロータ開口部の変形修正工程を不要とする構造とする。 - 特許庁

例文

The priority order of every manufacturing facility and process is calculated by (a processing time)×(the number of processing validating processes)×(the number of available devices), and the assignment of processing scheduled lots is executed under such conditions that the smaller this numerical value is, the higher the priority is.例文帳に追加

まず製造設備・工程別の優先順位を、処理時間×処理可能工程数×使用可能装置数によって算出し、この数値が小さいほど優先度が高いものとして処理予定ロットの割り当てを行う。 - 特許庁




  
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