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rate patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 772件
To provide a channel coding and decoding device for a wireless unit, that reduces the quantity of a parameter arithmetic operation for coding/ decoding processing including a rate so as to reduce the current consumption and uses a memory of a small capacity and a decoder with a small scale to cope with a mask pattern for different coding.例文帳に追加
無線装置におけるチャネル符号化及び復号化装置に関し、レートを含む符号/復号処理のパラメータ演算を削減して消費電流を削減し、また、異なる符号化用のマスクパターンに対して、小容量のメモリ及び小規模の復号器よって対応可能にする。 - 特許庁
A geometric configuration pattern whose opening rate is 50% or more is formed at the time of forming the conductive metal layer 3 and the black color layer 2 by a vacuum process.例文帳に追加
導電性金属層3と黒色層2と透明プラスチック支持体1からなる構成体において、真空プロセスによって導電性金属層3及び黒色層2形成の際に開口率が50%以上である幾何学図形模様を形成させることを特徴とする電磁波遮蔽部材。 - 特許庁
To provide an etching method applicable in a process for etching an organic material film with an inorganic material film serving as a mask, capable of maintaining a high etching rate according to a pattern to be etched with a superior result in shape and in in-plane uniformity, and which is free of inorganic material film exfoliation.例文帳に追加
無機材料膜をマスクとして有機材料膜をエッチングする場合に、エッチングパターンに対応して、高いエッチングレートを維持しつつ、良好なエッチング形状で、良好な面内均一性でかつ無機材料膜の膜剥がれが生じずにエッチングすることができるエッチング方法を提供すること。 - 特許庁
Furthermore, a second laminated insulation film 8 of which etching rate is smaller than that of first laminated insulation film 7 is formed, and the first and second laminated insulation films 7 and 8 are etched at the same time under the same condition, so as to form a pattern groove 9 for a second wiring layer 10.例文帳に追加
さらに、第1および第1の積層絶縁膜7よりもエッチングレートが小さい第2の積層絶縁膜8を形成し、第1および第2の積層絶縁膜7、8を同じ条件で一度にエッチングし、第2の配線層10用のパターン溝9を形成する。 - 特許庁
Herein a pattern of a change in the moving speed of the scraper in the coating process is set in accordance with "the rate of the thickness of the film printed before the start of the coating process at a position in the substrate H corresponding to the plate opening part, to the thickness of the plate opening part 21a etc.".例文帳に追加
ここで、コート工程におけるスクレッパ移動速度の変化パターンが、「製版開口部21a等の厚さに対する、基板Hにおける同製版開口部に対応する位置にて同コート工程開始前に既に印刷されている膜の厚さの割合」に応じて設定される。 - 特許庁
To provide an exposure system capable of effectively cooling an optical material without vibration, a detrerioration in positional stability, response to a positional control, or the like to decrease a failure rate of the wafer by precisely exposure transcribing a circuit pattern, which manufactures a high performance device.例文帳に追加
光学部材を、振動・位置安定性・位置制御の応答性の悪化等を伴わずに効果的に冷却することができ、その結果、高精度に回路パターンを露光転写することができてウエハの不良率を低減し、また高性能のデバイスを作成することができる露光装置を提供すること。 - 特許庁
To reduce tone quality deterioration by setting a basic frequency pattern being a synthetic object so that a basic frequency change rate of a voice element used for synthesis becomes as small as possible within the range that an intonation doesn't become unnatural.例文帳に追加
合成目的とする基本周波数パターンを、イントネーションが不自然にならない範囲内で、なるべく合成に用いる音声素片の基本周波数変更率が少なくなるように設定することで、音質劣化を軽減できる音声合成方法とその装置を提供する。 - 特許庁
To provide a metal abrasive solution which is capable of polishing tantalum, a tantalum alloy, tantalum nitride, or other tantalum compounds used as a barrier layer conductor at a higher rate than a wiring metal film and forming a buried metal film pattern of high reliability and a method of polishing a board with the same.例文帳に追加
バリア層導体として用いられるタンタルやタンタル合金及び窒化タンタルやその他のタンタル化合物の研磨速度が配線金属膜よりも大きく、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属用研磨液及びそれを用いた基板の研磨方法を提供する。 - 特許庁
In this on-glass antenna on a window glass, the longitudinal length y of the pattern of the on-glass antenna from a feeding portion is set at y≤λ/4×α, where λ is a wavelength of a reception frequency and α is a compression rate of a glass, and the lateral length x is set at 60cm-y≥x.例文帳に追加
ウインドガラス上において、給電部からのガラスアンテナのパターンの縦方向長さyが、受信周波数の波長をλ、ガラス短縮率をαとすると、y≦λ/4・αに設定され、横方向長さxが、60cm−y≧xに設定されたガラスアンテナ。 - 特許庁
This avoids alloying the Au layer 32 with the Cr layer 31 and hence suppresses the growth of residues due to the reduction of the etching rate while ensuring the light reflectivity, thus preventing an electrode pattern from being short-circuited, etc. to obtain a light emitter 1 superior in reliability.例文帳に追加
このような構成によると、Au層32とCr層31とが合金を生じることがないため、光反射性を確保しながらエッチングレートの低下に伴う残差の発生を抑制でき、電極パターンの短絡等を防いで信頼性に優れる発光装置1が得られる。 - 特許庁
The extrusion molded product having a woodgrain pattern is produced from a molding material prepared by mixing at least two resin compositions having different hue from each other, and the ratio of the maximum value to the minimum value of the melt flow rate of the resin compositions is 3-10,000.例文帳に追加
2種以上の異なる色調を有する樹脂組成物が混合された成形材料から得られる押出成形品であって、該樹脂組成物のメルトフローレイトの最大値と最小値との比が3〜10000であることを特徴とする、木目調模様を有する押出成形品。 - 特許庁
The game data collecting device has a means for specifying the kind of the "shifted game state" based on the game data (such as the number of safes, the ball discharge rate, the frequency of pattern variation) collected from the game machine while the game state shifted from the special bonus state is maintained.例文帳に追加
そして、この遊技データ収集装置は、特賞状態から移行した遊技状態の持続中に当該遊技機から収集される遊技データ(例えばセーフ数、出玉率、図柄変動回数)に基づいて、当該「移行した遊技状態」の種類を特定する手段を有する。 - 特許庁
To provide a resist pattern forming method for exactly indicating a difference in the developing method and a difference in the resist size due to the non-homogeneity of the developer and applying these information for the optimization of the developing conditions by taking into consideration a change in the concentration when the developer has a flow rate and incorporating the change in the concentration into a development model formula.例文帳に追加
現像液に流速がある場合の濃度変化を考慮し、現像モデル式に組み込むことで、現像方法の違いや、現像液の不均一性によるレジスト寸法の違いを正確に表し、現像条件の最適化に適用し、レジストパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁
To provide an etching method for a thin film composed of zinc-oxide based crystal, wherein the method suppresses side etching and anisotropic etching, and suppresses occurrence of etching residues, not depending on coarseness or fineness of wiring patterns and on pattern geometry, while the method performs etching treatment with the optimum etching rate.例文帳に追加
酸化亜鉛系結晶からなる薄膜のエッチングにおいて、最適なエッチング速度でエッチング処理を施すことができ、配線パターンの粗密やパターン形状に依存せず、サイドエッチングや異方性エッチングを抑制し、且つエッチング残渣の発生を抑制するエッチング方法を提供すること。 - 特許庁
As regards each transmission pattern wherein the number of terminals does not exceed the minimum integer number n_m, the wireless access point calculates an expected value t_n of the number of times of success in reception or interception and a distribution rate d_n of each terminal on the basis of the link loss rates L_i and the maximum number M of times of transmission in unicast communication (steps S6 to S10).例文帳に追加
無線アクセスポイントは、最小の整数n_mを超えない送信パターン各々について、リンクロス率L_iとユニキャスト通信の最大送信回数Mとに基づいて、端末各々の受信又は傍受の成功回数の期待値t_nと配信率d_nとを算出する(ステップS6〜S10)。 - 特許庁
The contraction rate for a semiconductor water is calculated before forming an alignment mark on the semiconductor wafer by irradiated it with beams and the projection magnification formed on a reticle is corrected, based on the calculated degree of reduction of the semiconductor wafer, thereby executing reduced projection of the pattern.例文帳に追加
ビームを照射することによって半導体ウェハにアライメントマークを形成する前に、前記半導体ウェハの伸縮率を算出し、算出された前記半導体ウェハの伸縮率に基づいてレチクルに形成されているパターンの投影倍率を補正することにより前記パターンを縮小投影する。 - 特許庁
The vehicular warning light device 1 informs the following vehicle of deceleration state of the own vehicle by selecting a predetermined lighting pattern from a plurality of lighting patterns and performing lighting operation of the warning light 5 based on the comparison result between a deceleration rate of the vehicle and a predetermined threshold.例文帳に追加
この車両用警告灯装置1は、車両の減速率と所定の閾値との比較結果に基づき複数の点灯パターンの中から所定の点灯パターンを選択して警告灯5の点灯動作を行うことにより、車両の減速状態を後続車に対して報知する。 - 特許庁
A circuit that detects a consecutive time of a signal pattern repetitively generated to properly decide for a current data rate of the data signal generates a regulation signal to regulate the magnitude of the delay generated by the variable delay circuit.例文帳に追加
データ信号の現在のデータレートに対して適切な遅延を決定するためのくり返し発生する信号セグメントの継続時間を示すデジタルデータ信号中の信号パターンの継続時間を検出する回路は、可変遅延回路が作成する遅延の大きさを調節するための調節信号を作成する。 - 特許庁
To provide an analyzer, capable of appropriately performing the detection of the presence of abnormality related to dispensing processing and the specifying of abnormal sites, even when the time rate of change of the pattern of the absorbance of a sample for precision management is not acquired, and to provide an analysis method and an analysis program.例文帳に追加
精度管理用試料の吸光度の時間変化パターンを取得しない場合であっても、分注処理に関する異常の有無の検出および異常個所の特定を適切に行うことができる分析装置、分析方法および分析プログラムを提供すること。 - 特許庁
In the discarding margin 7, a dummy conductor 11 for reducing a shrinkage rate difference with the product 5 at the baking time at least at 0.1 mm or more apart from the peripheral edge of the coupling ceramic wiring substrate 1 is provided in the form of a surface conductor pattern along the outer periphery of the product 5.例文帳に追加
捨て代部7には、当該連結セラミック配線基板1の外周縁から少なくとも0.1mm以上隔たって、焼成時における製品部5との収縮率差を減じるためのダミー導体11が、製品部5の外周に沿う面導体パターンの形で設けられている。 - 特許庁
The extraction rate of a jackpot pattern is set for each probability variation random number, and the probability of probability variation being judged as a jackpot is 27% for 000, the probability of probability variation (probability variation probability) is 50% for 111, and the probability of probability variation is 88% for 333.例文帳に追加
確変判定乱数毎に大当たり図柄の抽出率が設定されており、000については確率変動判定が当たりの確率(確変確率)は27%、111については確変確率は50%、333については確変確率は88%というように異なっている。 - 特許庁
When the degree of opening of the J-T valve 21 is adjusted along the predetermined change pattern with the control device 31, a change in the flow rate of refrigerant gas caused by a higher stage compressor 10 for example and so on are cancelled out to keep the temperature of a third heat station 18' unchanged.例文帳に追加
J−T弁21の開度が、予め定められた変化パターンに沿って制御装置31によって調節されると、例えば高段圧縮機10に起因する冷媒ガスの流量の変化等が打ち消されて、第3ヒートステーション18’の温度が一定になる。 - 特許庁
To obtain a metal-polishing liquid which can express a high polishing rate ration (Ta/Cu, TaN/Cu) of tantalum, tantalum nitride and copper, enables high flattening and dishing quantity reduction, and enables the formation of a highly reliable metal film embedded pattern, and to provide a method for polishing with the metal-polishing liquid.例文帳に追加
タンタル、窒化タンタルと銅の高い研磨速度比(Ta/Cu、TaN/Cu)を発現し、高平坦化及びディッシング量低減を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属研磨液及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁
This mobile station is provided with a control part for performing control that changes from the parameter of the transmission packet at least one parameter: a data modulation system; channel encoding rate; puncturing pattern; diffusion ratio; frequency bandwidth; frequency allocation position; and transmitting power about the retransmission packet.例文帳に追加
移動局は、再送パケットについて、データ変調方式;チャネル符号化率;パンクチャリングパターン;拡散率;周波数帯域幅;周波数割り当て位置;及び送信電力;のうち少なくとも1つのパラメータを送信パケットのパラメータから変更する制御を行う制御部を有する。 - 特許庁
To provide a form design device for easily designing a form, improving the recognition rate of an electronic pen by printing a dot pattern also in a peripheral area with a hiding ink, while solving design problems.例文帳に追加
帳票の設計を容易に行うと共に、ドットパターンを周辺領域分大きめに印刷し、当該周辺領域を隠蔽インキでさらに印刷することで電子ペンの認識率を向上させ、且つ、デザイン上の問題を解消することができる帳票設計装置を提供する。 - 特許庁
To provide a plasma display panel capable of suppressing voltage drop quantity by sustained discharge in an image display pattern with high lighting rate, in an electrode wiring direction in lighting the plasma display panel, and of maintaining high image quality having no difference in the intensity.例文帳に追加
本発明は、プラズマディスプレイパネルの点灯時において、電極配線方向の点灯率が高い画像表示パターンにおいても維持放電による電圧降下量を抑えることができ、輝度差のない高画像品質を維持できるプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an antireflection film for lithography having a high antireflection effect, free of intermixing with a photoresist layer, giving an excellent photoresist pattern, having a higher dry etching rate than the photoresist and ensuring a larger margin for the depth of a focus and higher resolution than a conventional antireflection film.例文帳に追加
反射光防止効果が高く、フォトレジスト層とのインターミキシングが起こらず、優れたフォトレジストパターンが得られ、フォトレジストに比較して大きなドライエッチング速度を有し、従来より広いフォーカス深度マージン及び高い解像度を有するリソグラフィー用反射防止膜を提供するものである。 - 特許庁
To provide a data storage system in consideration of the attributes (performance and cost), the operating rate and the data usage frequency of the storage device in a storage area network constituted of a plurality of the storage devices that have different attributes and are used in a business pattern of a storage service provider or the like.例文帳に追加
ストレージサービスプロバイダなどのビジネス形態で利用する、複数の異なる属性を有する記憶装置で構成されるストレージエリアネットワークにおいて、記憶装置の属性(性能やコスト)や稼働率およびデータの利用頻度を考慮したデータの保持方式を提供することを目的とする。 - 特許庁
The defect part is detected from the changing rate of a brightness gradient of a gradation pattern acquired by projecting the inspection object surface through a screen 3 where plural regular-hexagonal patterns are printed closely in the honeycomb shape and the concentric gradation patterns are printed on the respective regular-hexagonal patterns.例文帳に追加
複数個の正六角形のパターンが隙間なくハニカム状に印刷されて、これら正六角形の個々のパターンに同心円状のグラデーションパターンが印刷されたスクリーン3を介して検査対象面を投影して得られるグラデーションパターンの明暗勾配の変化率から欠陥部分を検出する。 - 特許庁
To provide a speech recognition device preventing excessive pruning due to mismatching of partial distances and having a high recognition rate by virtually calculating the accumulative distance of the whole words by consid ering an accumulative distance at the time of studying a standard pattern and comparing a threshold value to the whole words.例文帳に追加
標準パタン学習時の累積距離を加味して仮想的に単語全体の累積距離を算出し、単語全体に対する閾値と比較することにより、部分距離の不整合による過剰な枝刈りを防止し、認識率の高い音声認識装置を提供する。 - 特許庁
Estrangement rate is calculated by a load pattern identifying part 3, and adjusted electrical power and a target coefficient are calculated in an adjusted electric power computing part 5 and a target coefficient computing part 7, based on sample data stored in a sample data storing part 2 on service electrical energy in an electric power load.例文帳に追加
サンプルデータ蓄積部2に蓄積された、電力負荷における使用電力量のサンプルデータに基づいて、負荷パターン認識部3で乖離率が算出されると共に、調整電力量演算部5および目標係数演算部7で調整電力量と目標係数が算出される。 - 特許庁
When discriminating that a channel and a transmission rate are revised in a step S1, a CPU in the mobile communication terminal controls a blink pattern and a color of an LED notice section depending on whether acquired channel information indicates a notice channel, a call channel, a shared channel or an individual channel.例文帳に追加
携帯通信端末内のCPUは、ステップS1でチャネル及び伝送レートが変更されたと判定した時は、取得したチャネル情報が報知チャネル、呼出チャネル、共通チャネル、個別チャネルのいずれであるかに応じて、LED通知部の点滅パターン及び色を制御する。 - 特許庁
This safety monitoring device is provided with a microwave Doppler sensor, so that it can calculate the body motion count and respiratory rate of a subject by using a microwave Doppler shift signal output by the microwave Doppler sensor, and then it can monitor the safety of the subject based upon a safety indicator pattern which is a combination of these two factors.例文帳に追加
本発明の安否監視装置は、マイクロ波ドップラセンサを備えており、マイクロ波ドップラセンサが出力するマイクロ波ドップラシフト信号を用いて体動数と呼吸数とを算出し、これら2つの上方の組み合わせである安否パターンから被検者の安否を監視する。 - 特許庁
The transparent electromagnetic wave shield member employs the mesh conductive pattern with dimensions within a range of 5 to 30μm in the line width, 0.5 to 5.0μm in the average film thickness, and 72 to 95% in the aperture rate, and has an electromagnetic wave shield effect of 40 dB or over against electromagnetic waves with 10 to 200MHz or over.例文帳に追加
網目状の導電性パターンが、線幅5〜30μm、平均膜厚0.5〜5.0μm、開口率72〜95%の範囲内にあり、10〜200MHzの電磁波に対して40dB以上の電磁波シールド効果を有する透光性電磁波シールド部材。 - 特許庁
To obtain an etching agent which is capable of etching a copper film at a high etching rate by a simple chemical etching method of immersing the low-resistance copper film in a static state into an aqueous solution of an inexpensive and easily available reagent when this copper film is used as a wiring material and hardly gives rise to the occurrence of abnormal etching and pattern thinning.例文帳に追加
低抵抗の銅膜を配線材料として用いる場合に、安価で入手容易な試薬の水溶液に静止状態で浸漬するという簡便なケミカルエッチング法により銅膜を高いエッチングレートでエッチングでき、しかも異常エッチングやパターン細りが起こり難いエッチング剤を得る。 - 特許庁
To provide a method for growing a high quality SiC single crystal at a high growth rate, in which an ideal flow of a solution is achieved by finding an ideal ACRT (Accelerated Crucible Rotation Technique) pattern of so called an ACRT, in the production of a SiC single crystal by a solution growth method.例文帳に追加
溶液成長法によるSiC単結晶の製造において、いわゆる坩堝加速回転法(ACRT:Accelerated Crucible Rotation Technique)の理想的なACRTパターンを見いだして、理想的な溶液の流れを実現し、高速成長かつ高品質のSiC単結晶を成長させる方法を提供する。 - 特許庁
An alienation rate is computed by a load pattern recognition part 3 based on the sample data of the electric power in the power load accumulated in a sample data accumulation part 2, and adjusted electric power and a target coefficient are computed by an adjusted electric power computing part 5 and a target coefficient computing part 7.例文帳に追加
サンプルデータ蓄積部2に蓄積された、電力負荷における使用電力量のサンプルデータに基づいて、負荷パターン認識部3で乖離率が算出されると共に、調整電力量演算部5および目標係数演算部7で調整電力量と目標係数が算出される。 - 特許庁
Upon the receipt of a switching request signal 302, a controller 13 controls switching of a changeover switch 15 to provide an output of a switching output signal 305 resulting from smoothly selecting a 64fs rate reproduction signal 300, a 64fs cross fade signal 310 and then a 64fs mute pattern signal 308.例文帳に追加
コントローラ13は、切り替え要求信号302がくると、切り替えスイッチ15の切り替えを制御して64fsレート再生信号300から64fsクロスフェード信号310、そして64fsミュートパターン信号308へとスムーズに切り替えた切り替え出力信号305を出力させる。 - 特許庁
A seat belt wind-up device 4 is controlled in accordance with a control pattern based on determined action timing by changing action timing or a belt winding amount (S120, S124) of a seat belt winding device in correspondence to a change in deceleration rate due to vehicle driving operation operated in the vicinity of a predicted collision point.例文帳に追加
予測衝突時点近傍にてなされる車両操縦操作に起因する減速率の変動に応じてシートベルト巻き上げ装置の動作タイミングや造作量を変更し(S120、S124)、決定された動作タイミングにて制御パターンに従ってシートベルト巻き上げ装置4を制御する。 - 特許庁
(a) A pattern of a main magnetic pole 14 is formed, then (b) a non-magnetic film 16 formed of a non-magnetic material, which has a slow ion milling rate compared with a magnetic metal material forming the main magnetic pole, is deposited to embed the main magnetic pole, and then (c) polishing is performed until at least the main magnetic pole is exposed.例文帳に追加
(a)主磁極14のパターン形成後、(b)主磁極を構成する磁性金属材料よりもイオンミリングレートの遅い非磁性材料からなる非磁性膜16を堆積させて主磁極を埋め込み、次いで、(c)少なくとも主磁極が露出するまで研磨を行う。 - 特許庁
Further, each manufacturing-error correcting pattern has such a deformed shape that its conductive line portion has adjacent portions to each other, and the spaces between the adjacent portions are so varied gradually that the rate of the adjacent portions being contacted with each other is controlled correspondingly to the manufacturing accuracy of the element.例文帳に追加
そして製造誤差補正パターンの形状は、導電ライン部が隣り合う部分を有するように変形したパターンであって、その隣り合う部分の間隔が暫時変化しており、製造精度に応じて隣り合う部分の接触割合が制御されるようにしている。 - 特許庁
This peel liner having on one surface a microembossed pattern comprising many mutually connected linear protuberances is characterized in that the rate of the total area of land portions defined by the above-mentioned protuberances on the basis of the total area of the surface is 60 to 97 %.例文帳に追加
相互に接続している多数の線状隆起部により構成される微細エンボスパターンを一表面に有する剥離ライナーであって、前記表面の総面積に対する前記隆起部により規定されるランド部の面積の割合が60〜97%であることを特徴とする剥離ライナー。 - 特許庁
To provide a compound electronic component which is equipped with a capacity element and an inductor pattern and has their capacity precision and inductance precision improved and can have the inductance value easily adjusted as a compound electronic component, which is suitable for a semiconductor laser module capable of communicating a large amount of data by increasing a bit rate.例文帳に追加
ビットレートをより増大させて高速に大容量のデータを通信できる半導体レーザモジュール用として好適な複合電子部品であり、容量素子とインダクタパターンを具備し、これらの容量精度およびインダクタンス精度が向上し、またインダクタンス値を容易に調整できるものとすること。 - 特許庁
To provide a scanning charged-particle microscope in which distortion of measurement, even of an insulator pattern, in the field of view can be suppressed by suppressing the impact of charging due to primary charged-particle beam irradiation during photographing, and suppressing change in the detection rate of secondary charged-particles.例文帳に追加
絶縁体パターンであっても,撮影中一次荷電粒子線照射起因帯電の影響を抑制し,二次荷電粒子の検出率の変化を抑制することにより視野内の計測歪みを抑制することのできる走査型荷電粒子顕微鏡を提供する。 - 特許庁
The base station 801 receives the signal so as to transmit data to the wireless terminal 802 with the beam pattern in the same direction as the direction of transmitting the pilot signal, by using a data channel of a second slot after a predetermined slot from the first slot corresponding to the requested data rate (S313, S325).例文帳に追加
基地局801が、その信号を受信し、要求されたデータレートに従い、第1のスロットから予め定められたスロット後の第2のスロットのデータチャネルを用いて、パイロット信号を送信した方向と同じ方向のビームパターンで、データを無線端末802に送信する(S313、S325)。 - 特許庁
When the wavelength of a receiving frequency is defined as λ and a glass reduction rate is defined as α, on window glass, the longitudinal length y of a pattern of the glass antenna from a power feeding part is set to y≤(λ/4)α, the a lateral length (x) is set to 60cm-y≥x.例文帳に追加
ウインドガラス上において、給電部からのガラスアンテナのパターンの縦方向長さyが、受信周波数の波長をλ、ガラス短縮率をαとすると、y≦λ/4・αに設定され、横方向長さxが、60cm−y≧xに設定されたガラスアンテナ。 - 特許庁
The technology disclosed herein secures a sufficient output data level through increase in a slew rate in a weak data transmission cycle following after by tracing the pattern of the transmission data so as to ensure a driving force applied to the output terminal associated with weak data in advance in a strong data transmission cycle.例文帳に追加
本発明では伝送データのパターンを追跡して強いデータ伝送サイクルで予め弱いデータに対する出力端の駆動力を確保することで、その後に続く弱いデータ伝送サイクルでスルーレートの増大を通して充分な出力データレベルを確保する技術である。 - 特許庁
At least one layer of conductive film is formed on an insulating surface, a resist pattern is formed thereon, and then the conductive film having the resist pattern is etched to form a metallized wiring having a tapering angle αcontrolled depending on the bias power density, ICP power density, temperature of a lower electrode, pressure, total flow rate of etching gas, and the ratio of oxygen or chlorine in the etching gas.例文帳に追加
本発明は、絶縁表面上に少なくとも一層の導電膜を形成し、前記導電膜上にレジストパターンを形成し、前記レジストパターンを有する導電膜にエッチングを行い、バイアス電力密度、ICP電力密度、下部電極の温度、圧力、エッチングガスの総流量、エッチングガスにおける酸素または塩素の割合に応じてテーパー角αが制御された金属配線を形成することを特徴としている。 - 特許庁
Control is performed such that a decision rate of a subsequent game state differs between decision of transition to a specific game state and then decision of transition to a high-probability state in decision of variable display of a second special pattern, and decision of transition to a specific game state and then decision of transition to a high-probability state in decision of variable display of a first special pattern.例文帳に追加
第2特別図柄の変動表示の決定において、特定遊技状態に移行させると決定し、かつ高確率状態に移行させると決定した場合と、第1特別図柄の変動表示の決定において、特定遊技状態に移行させると決定し、かつ高確率状態に移行させると決定した場合とで、その後の遊技状態の決定割合が異なるように制御する。 - 特許庁
A method for forming a resist pattern includes steps of: forming on a substrate 1 a resist layer 3 containing a polymer of α-chloromethacrylate and α-methylstyrene and not containing a fluorine atom; performing rendering or exposure of a predetermined pattern shape by irradiating the resist layer with an energy beam; and developing the rendered or exposed resist layer with a fluorocarbon-containing developer having a dissolution rate of an insoluble part of less than about 0.5 Å/h.例文帳に追加
基板1上に、α−クロロメタクリレートとα−メチルスチレンとの重合体を含みかつフッ素を含有しないレジスト層3を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターン形状の描画又は露光を行う工程と、非溶解部の溶解速度が1時間あたり約0.5Å未満であるフルオロカーボンを含む現像剤によって、前記描画又は露光されたレジスト層を現像する現像工程と、を含む。 - 特許庁
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